JP2002126856A - 連続鋳造方法と鋳片 - Google Patents
連続鋳造方法と鋳片Info
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- JP2002126856A JP2002126856A JP2000321137A JP2000321137A JP2002126856A JP 2002126856 A JP2002126856 A JP 2002126856A JP 2000321137 A JP2000321137 A JP 2000321137A JP 2000321137 A JP2000321137 A JP 2000321137A JP 2002126856 A JP2002126856 A JP 2002126856A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 微細な等軸晶で充填された鋳片を連続鋳造で
製造する。 【解決手段】 鋳型１内溶鋼プール中の水平断面内で攪
拌流を形成する際、電磁撹拌装置４のコイル中心高さＤ
（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）の比Ｄ／Ｖが０．２以下
の領域に電磁撹拌装置４を設置し、かつ攪拌流の流速Ｕ
（ｍ／秒）を０．７ｍ／秒以上とする。攪拌流速、流動
方向を時間変化させること、その際、通電時間（ｔｏ
ｎ）、停止時間（ｔｏｆｆ）が下記関係式を満足するこ
とが好ましい。 ｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦２ ｔｏｆｆ≦１ Ｌ：鋳片サイズ（ｍ）、Ｄ：湯面から電磁攪拌コイルの
中心までの距離（ｍ）、Ｕｍａｘ：コイル中心での攪拌
流速の最大値（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータ
製造する。 【解決手段】 鋳型１内溶鋼プール中の水平断面内で攪
拌流を形成する際、電磁撹拌装置４のコイル中心高さＤ
（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）の比Ｄ／Ｖが０．２以下
の領域に電磁撹拌装置４を設置し、かつ攪拌流の流速Ｕ
（ｍ／秒）を０．７ｍ／秒以上とする。攪拌流速、流動
方向を時間変化させること、その際、通電時間（ｔｏ
ｎ）、停止時間（ｔｏｆｆ）が下記関係式を満足するこ
とが好ましい。 ｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦２ ｔｏｆｆ≦１ Ｌ：鋳片サイズ（ｍ）、Ｄ：湯面から電磁攪拌コイルの
中心までの距離（ｍ）、Ｕｍａｘ：コイル中心での攪拌
流速の最大値（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータ
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は等軸晶率が高くかつ
等軸晶径が小さい鋳片の連続鋳造方法とその鋳片に関す
る。
等軸晶径が小さい鋳片の連続鋳造方法とその鋳片に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ブルーム鋳造においては、例えば特開平
６−１２６４０５号公報、特開平６−１２６４０６号公
報に示されているように、中心部の偏析・ポロシティを
防止するため、電磁攪拌を適用することや溶鋼過熱度を
低くすることで凝固組織の等軸晶化をはかるとともに、
凝固末期部位において鋳片の厚み方向に圧下し凝固収縮
による流動を防止することが図られてきた。
６−１２６４０５号公報、特開平６−１２６４０６号公
報に示されているように、中心部の偏析・ポロシティを
防止するため、電磁攪拌を適用することや溶鋼過熱度を
低くすることで凝固組織の等軸晶化をはかるとともに、
凝固末期部位において鋳片の厚み方向に圧下し凝固収縮
による流動を防止することが図られてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】鋳片サイズを大断面の
ブルームから小断面のビレットとし、鋳造後の分塊圧延
を省略することができれば、大幅な製造コストの低減が
図れる。しかしながら、ビレット鋳造においては、鋳造
後の圧延率がブルーム材に比べて小さいため、偏析粒径
をさらに小さくする必要がある。加えて、ブルーム鋳造
のように凝固末期軽圧下にて偏析粒径を低減しようとす
ると、ビレットの場合、鋳片断面形状が小さいため、圧
下効率がブルーム材と比較して悪いため、偏析やポロシ
ティの低減効果が不十分となりやすい。
ブルームから小断面のビレットとし、鋳造後の分塊圧延
を省略することができれば、大幅な製造コストの低減が
図れる。しかしながら、ビレット鋳造においては、鋳造
後の圧延率がブルーム材に比べて小さいため、偏析粒径
をさらに小さくする必要がある。加えて、ブルーム鋳造
のように凝固末期軽圧下にて偏析粒径を低減しようとす
ると、ビレットの場合、鋳片断面形状が小さいため、圧
下効率がブルーム材と比較して悪いため、偏析やポロシ
ティの低減効果が不十分となりやすい。
【０００４】そのため、本発明は偏析・ポロシティを低
減するため微細な等軸晶で充填された鋳片を製造するた
めの連続鋳造方法とその鋳片を提供する。
減するため微細な等軸晶で充填された鋳片を製造するた
めの連続鋳造方法とその鋳片を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下の〜
のとおりである。
のとおりである。
【０００６】 鋳型内溶鋼プール中の水平断面内で攪
拌流を形成するに際し、電磁撹拌装置のコイル中心高さ
Ｄ（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）の比Ｄ／Ｖが０．２以
下の領域に電磁撹拌装置を設置し、かつ攪拌流の流速Ｕ
（ｍ／秒）を０．７ｍ／秒以上とすることで凝固組織の
微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
拌流を形成するに際し、電磁撹拌装置のコイル中心高さ
Ｄ（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）の比Ｄ／Ｖが０．２以
下の領域に電磁撹拌装置を設置し、かつ攪拌流の流速Ｕ
（ｍ／秒）を０．７ｍ／秒以上とすることで凝固組織の
微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
【０００７】 前記の連続鋳造方法において、攪拌
流速、流動方向を時間変化させ凝固組織の微細等軸晶化
を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
流速、流動方向を時間変化させ凝固組織の微細等軸晶化
を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
【０００８】 前記の連続鋳造方法において、攪拌
流速、流動方向を時間変化させる際に、通電時間（ｔｏ
ｎ）、停止時間（ｔｏｆｆ）が下記関係式を満足するこ
とを特徴とする連続鋳造方法。 ｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦２ ｔｏｆｆ≦１ ここで、Ｌ：鋳片サイズ（ｍ）、Ｄ：湯面から電磁攪拌
コイルの中心までの距離（ｍ）、Ｕｍａｘ：コイル中心
での攪拌流速の最大値（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータであ
る。
流速、流動方向を時間変化させる際に、通電時間（ｔｏ
ｎ）、停止時間（ｔｏｆｆ）が下記関係式を満足するこ
とを特徴とする連続鋳造方法。 ｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦２ ｔｏｆｆ≦１ ここで、Ｌ：鋳片サイズ（ｍ）、Ｄ：湯面から電磁攪拌
コイルの中心までの距離（ｍ）、Ｕｍａｘ：コイル中心
での攪拌流速の最大値（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータであ
る。
【０００９】 前記〜のいずれかの連続鋳造方法
において、電磁攪拌装置下方で幅方向にほぼ一様な磁束
密度分布を有する直流磁界を厚み方向に印加し凝固組織
の微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
において、電磁攪拌装置下方で幅方向にほぼ一様な磁束
密度分布を有する直流磁界を厚み方向に印加し凝固組織
の微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。
【００１０】 前記〜のいずれかの連続鋳造方法
で鋳造された鋳片厚み方向の中央部位が等軸晶径が２ｍ
ｍ以下の組織で充填されていることを特徴とする鋳片。
で鋳造された鋳片厚み方向の中央部位が等軸晶径が２ｍ
ｍ以下の組織で充填されていることを特徴とする鋳片。
【００１１】
【発明の実施の形態】発明者らは、表１、表２に示す様
々な条件で鋳造実験を行い凝固組織との関係を調査解析
した。その結果、鋳型内湯面近傍を強攪拌することで、
凝固組織が極めて微細な等軸晶で満たされた鋳片が得ら
れることを見いだした。
々な条件で鋳造実験を行い凝固組織との関係を調査解析
した。その結果、鋳型内湯面近傍を強攪拌することで、
凝固組織が極めて微細な等軸晶で満たされた鋳片が得ら
れることを見いだした。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【表２】
【００１４】その条件としては、図１に示すようにコイ
ル中心高さＤ（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）との比であ
るＤ／Ｖが０．２以下の領域に電磁攪拌装置４を設置し
かつ攪拌流速Ｕを０．７ｍ／秒以上とすることで極めて
微細な等軸晶が形成される。ここでこの比は凝固時間を
意味し、これがこの値以下の領域であれば、凝固シェル
厚が薄くなり、熱抵抗が小さくなる。攪拌流７を付与す
ることで、溶鋼／凝固シェル間の熱流束を高めることが
できるが、この条件であれば、溶鋼／凝固シェル界面か
ら鋳型間のトータルの熱抵抗が小さくなり、鋳型１内で
溶鋼の持っている過熱度を急速に奪うことができる。よ
ってＤ／Ｖが０．２以下で攪拌流速が０．７ｍ／秒以上
とすることによって凝固組織の微細等軸晶化効果が顕著
となる。
ル中心高さＤ（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）との比であ
るＤ／Ｖが０．２以下の領域に電磁攪拌装置４を設置し
かつ攪拌流速Ｕを０．７ｍ／秒以上とすることで極めて
微細な等軸晶が形成される。ここでこの比は凝固時間を
意味し、これがこの値以下の領域であれば、凝固シェル
厚が薄くなり、熱抵抗が小さくなる。攪拌流７を付与す
ることで、溶鋼／凝固シェル間の熱流束を高めることが
できるが、この条件であれば、溶鋼／凝固シェル界面か
ら鋳型間のトータルの熱抵抗が小さくなり、鋳型１内で
溶鋼の持っている過熱度を急速に奪うことができる。よ
ってＤ／Ｖが０．２以下で攪拌流速が０．７ｍ／秒以上
とすることによって凝固組織の微細等軸晶化効果が顕著
となる。
【００１５】ただし、鋳造条件によっては強攪拌しすぎ
ることにより弊害が発生することもあるため、図２に示
すように、電磁攪拌装置４に印加する電流を時間変化さ
せることで、図３に示すように、攪拌流速並びに攪拌方
向を電磁攪拌の周波数と異なる周期で周期的に切り替え
付与しても構わない。このようにすることで、強攪拌に
よる湯面での乱れを抑制することができる。これは、電
磁攪拌装置４によってプール内に形成される攪拌流は、
粘性の影響で上下に伝わり、深さ方向の流動分布を形成
するため、電磁攪拌装置４に印加する電流を周期的に時
間変化させることで、例えば湯面位置での流動が発達す
る前にコイル中心位置での攪拌流の方向や流速が切り替
わるため、コイル中心位置で強攪拌しても湯面位置では
攪拌流速を小さくすることができることによる。
ることにより弊害が発生することもあるため、図２に示
すように、電磁攪拌装置４に印加する電流を時間変化さ
せることで、図３に示すように、攪拌流速並びに攪拌方
向を電磁攪拌の周波数と異なる周期で周期的に切り替え
付与しても構わない。このようにすることで、強攪拌に
よる湯面での乱れを抑制することができる。これは、電
磁攪拌装置４によってプール内に形成される攪拌流は、
粘性の影響で上下に伝わり、深さ方向の流動分布を形成
するため、電磁攪拌装置４に印加する電流を周期的に時
間変化させることで、例えば湯面位置での流動が発達す
る前にコイル中心位置での攪拌流の方向や流速が切り替
わるため、コイル中心位置で強攪拌しても湯面位置では
攪拌流速を小さくすることができることによる。
【００１６】また、電流の印加パターンについて様々な
条件で鋳造を行い凝固組織との関係を調査した。その結
果を表３に示すが、図２における通電時間ｔｏｎ、停止
時間ｔｏｆｆが下記関係式を満足するように電流を印加
することで一方向に攪拌する場合と比較しより微細な等
軸晶で充填された鋳片をえることができた。
条件で鋳造を行い凝固組織との関係を調査した。その結
果を表３に示すが、図２における通電時間ｔｏｎ、停止
時間ｔｏｆｆが下記関係式を満足するように電流を印加
することで一方向に攪拌する場合と比較しより微細な等
軸晶で充填された鋳片をえることができた。
【００１７】｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦１ ｔｏｆｆ≦１ ここで、Ｕｍａｘ：コイル中心での攪拌流速の最大値
（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータである。
（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータである。
【００１８】
【表３】
【００１９】このような印加パターンが適するのは、通
電時間が長くなると徐々に攪拌流速の影響範囲が拡大し
湯面まで流れの影響が伝わってくる。凝固組織の微細等
軸晶化を図る観点からすれば、この時間はある程度長く
とる必要があるが、一方湯面での攪拌流速が臨界値を越
えるとパウダー巻き込みや初期凝固の不均一が生じ割れ
性の欠陥が生じる。そのため、適正な通電時間が存在す
ることになる。ここで、パラメータＣとして０．００３
を用いると実際の傾向をよく説明できる。また、停止時
間が長くなれば凝固界面には電磁力は作用せず、凝固前
面の流体が慣性で回るのみとなる。加えて、流れの風上
の方向にデンドライトは傾くことが知られているが、停
止時間を短くし逆方向に攪拌することでデンドライトの
成長が不安定となり、デンドライトの溶断効果が一方向
に攪拌した場合と比較し大きくなる。そのデンドライト
溶断効果と停止時間との関係を調査したところ１秒以下
にすることで凝固組織の微細等軸晶化を図ることができ
た。また、加速時間、減速時間についてはともに短けれ
ば短いほどよく、それぞれ通電時間、停止時間に含めて
考える。
電時間が長くなると徐々に攪拌流速の影響範囲が拡大し
湯面まで流れの影響が伝わってくる。凝固組織の微細等
軸晶化を図る観点からすれば、この時間はある程度長く
とる必要があるが、一方湯面での攪拌流速が臨界値を越
えるとパウダー巻き込みや初期凝固の不均一が生じ割れ
性の欠陥が生じる。そのため、適正な通電時間が存在す
ることになる。ここで、パラメータＣとして０．００３
を用いると実際の傾向をよく説明できる。また、停止時
間が長くなれば凝固界面には電磁力は作用せず、凝固前
面の流体が慣性で回るのみとなる。加えて、流れの風上
の方向にデンドライトは傾くことが知られているが、停
止時間を短くし逆方向に攪拌することでデンドライトの
成長が不安定となり、デンドライトの溶断効果が一方向
に攪拌した場合と比較し大きくなる。そのデンドライト
溶断効果と停止時間との関係を調査したところ１秒以下
にすることで凝固組織の微細等軸晶化を図ることができ
た。また、加速時間、減速時間についてはともに短けれ
ば短いほどよく、それぞれ通電時間、停止時間に含めて
考える。
【００２０】さらに、図４に示すように、電磁攪拌装置
４の下方に直流磁界発生装置１０を設置し、鋳片幅方向
にほぼ一様な磁束密度分布を有する直流磁界を厚み方向
に印加することでノズル吐出流の侵入を抑制した状態で
上部プール２０を強攪拌することができるので、溶鋼過
熱度を効率的に除去でき、下部プール２１の溶鋼過熱度
をさらに低減でき、等軸晶率の高いかつ微細な等軸晶を
多数生成させる上で有効である。
４の下方に直流磁界発生装置１０を設置し、鋳片幅方向
にほぼ一様な磁束密度分布を有する直流磁界を厚み方向
に印加することでノズル吐出流の侵入を抑制した状態で
上部プール２０を強攪拌することができるので、溶鋼過
熱度を効率的に除去でき、下部プール２１の溶鋼過熱度
をさらに低減でき、等軸晶率の高いかつ微細な等軸晶を
多数生成させる上で有効である。
【００２１】このようにして鋳造された鋳片は極めて微
細な等軸晶で充填されており、鋳片厚み方向中央部での
等軸晶の直径を安定的に２ｍｍ以下とすることができ、
偏析粒径を低減するとともにポロシティの発生を抑制す
ることができる。
細な等軸晶で充填されており、鋳片厚み方向中央部での
等軸晶の直径を安定的に２ｍｍ以下とすることができ、
偏析粒径を低減するとともにポロシティの発生を抑制す
ることができる。
【００２２】また、本発明は潤滑剤としてオイルを用い
かつ浸漬ノズルを用いずタンディッシュから鋳型内に溶
鋼を注入する方式においても適用できる。
かつ浸漬ノズルを用いずタンディッシュから鋳型内に溶
鋼を注入する方式においても適用できる。
【００２３】
【実施例】発明者らは、表４に示す様々な条件で鋳造実
験を行い凝固組織、偏析粒径との関係を調査解析した。
結果を表５、表６に示すが、本発明の方法を用いること
で、鋳片厚み中央部の凝固組織径を２ｍｍ以下にするこ
とができ、偏析粒径を小さくできることがわかる。
験を行い凝固組織、偏析粒径との関係を調査解析した。
結果を表５、表６に示すが、本発明の方法を用いること
で、鋳片厚み中央部の凝固組織径を２ｍｍ以下にするこ
とができ、偏析粒径を小さくできることがわかる。
【００２４】
【表４】
【００２５】
【表５】
【００２６】
【表６】
【００２７】
【発明の効果】本発明の方法を用いることで、凝固組織
が極めて微細な等軸晶で充填された鋳片を得ることが出
来る。そのため、凝固末期部での軽圧下を適用すること
なく、偏析やポロシティの発生を低減できる。このよう
な条件で凝固末期部に軽圧下装置を設置し軽圧下を行う
と、圧下装置がある領域の鋳片中心部が等軸晶で充填さ
れているため、安定して凝固収縮による流動を防止で
き、偏析粒径をさらに小さくすることができる。さら
に、Ｃ濃度が０．４５％近傍の等軸晶化し難い鋼種にお
いても高い等軸晶でかつ等軸晶径が小さな鋳片が得ら
れ、鋳片内部品位が大幅に向上する。このように様々な
鋼種で偏析粒径が制御できるので、分塊圧延を省略で
き、鋳片製造コストを削減できる。かつ、偏析粒径が低
減できるので、燐、硫黄濃度を高く設定でき、溶鋼コス
トを大幅に削減することもできる。
が極めて微細な等軸晶で充填された鋳片を得ることが出
来る。そのため、凝固末期部での軽圧下を適用すること
なく、偏析やポロシティの発生を低減できる。このよう
な条件で凝固末期部に軽圧下装置を設置し軽圧下を行う
と、圧下装置がある領域の鋳片中心部が等軸晶で充填さ
れているため、安定して凝固収縮による流動を防止で
き、偏析粒径をさらに小さくすることができる。さら
に、Ｃ濃度が０．４５％近傍の等軸晶化し難い鋼種にお
いても高い等軸晶でかつ等軸晶径が小さな鋳片が得ら
れ、鋳片内部品位が大幅に向上する。このように様々な
鋼種で偏析粒径が制御できるので、分塊圧延を省略で
き、鋳片製造コストを削減できる。かつ、偏析粒径が低
減できるので、燐、硫黄濃度を高く設定でき、溶鋼コス
トを大幅に削減することもできる。
【図１】本発明の連続鋳造方法の一方向の攪拌流を形成
する例を示す図である。
する例を示す図である。
【図２】電磁撹拌装置に印加する電流の時間変化（ａ）
並びにコイル中心位置での凝固シェル前面の流速の時間
変化（ｂ）をそれぞれ示す図である。
並びにコイル中心位置での凝固シェル前面の流速の時間
変化（ｂ）をそれぞれ示す図である。
【図３】本発明の連続鋳造方法の振動攪拌流を形成する
例を示す図である。
例を示す図である。
【図４】本発明の連続鋳造方法の一方向の攪拌流を形成
するとともにその下側に直流磁界を付与する例を示す図
である。
するとともにその下側に直流磁界を付与する例を示す図
である。
１ 鋳型 ２ 浸漬ノズル ３ パウダー ５ 凝固シェル ６ 等軸晶 ４ 電磁攪拌装置 ７ 攪拌流 １０ 直流磁界発生装置 １７ 振動攪拌流 ２０ 上部プール ２１ 下部プール
Claims (5)
- 【請求項１】 鋳型内溶鋼プール中の水平断面内で攪拌
流を形成するに際し、電磁撹拌装置のコイル中心高さＤ
（ｍ）と鋳造速度Ｖ（ｍ／分）の比Ｄ／Ｖが０．２以下
の領域に電磁撹拌装置を設置し、かつ攪拌流の流速Ｕ
（ｍ／秒）を０．７ｍ／秒以上とすることで凝固組織の
微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の連続鋳造方法において、
攪拌流速、流動方向を時間変化させ凝固組織の微細等軸
晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方法。 - 【請求項３】 請求項２記載の連続鋳造方法において、
攪拌流速、流動方向を時間変化させる際に、通電時間
（ｔｏｎ）、停止時間（ｔｏｆｆ）が下記関係式を満足
することを特徴とする連続鋳造方法。 ｜ｔｏｎ−ＬＤ2／２ＵｍａｘＣ｜≦２ ｔｏｆｆ≦１ ここで、Ｌ：鋳片サイズ（ｍ）、Ｄ：湯面から電磁攪拌
コイルの中心までの距離（ｍ）、Ｕｍａｘ：コイル中心
での攪拌流速の最大値（ｍ／秒）、Ｃ：パラメータであ
る。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか記載の連続鋳造
方法において、電磁攪拌装置下方で幅方向にほぼ一様な
磁束密度分布を有する直流磁界を厚み方向に印加し凝固
組織の微細等軸晶化を図ることを特徴とする連続鋳造方
法。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか記載の連続鋳造
方法で鋳造された鋳片厚み方向の中央部位が等軸晶径が
２ｍｍ以下の組織で充填されていることを特徴とする鋳
片。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000321137A JP2002126856A (ja) | 2000-10-20 | 2000-10-20 | 連続鋳造方法と鋳片 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000321137A JP2002126856A (ja) | 2000-10-20 | 2000-10-20 | 連続鋳造方法と鋳片 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002126856A true JP2002126856A (ja) | 2002-05-08 |
Family
ID=18799319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000321137A Withdrawn JP2002126856A (ja) | 2000-10-20 | 2000-10-20 | 連続鋳造方法と鋳片 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002126856A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017024037A (ja) * | 2015-07-21 | 2017-02-02 | 新日鐵住金株式会社 | 溶鋼の連続鋳造方法および連続鋳造鋳片 |
-
2000
- 2000-10-20 JP JP2000321137A patent/JP2002126856A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017024037A (ja) * | 2015-07-21 | 2017-02-02 | 新日鐵住金株式会社 | 溶鋼の連続鋳造方法および連続鋳造鋳片 |
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