JP2002124775A - 多層プリント配線基板 - Google Patents

多層プリント配線基板

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JP2002124775A
JP2002124775A JP2000316356A JP2000316356A JP2002124775A JP 2002124775 A JP2002124775 A JP 2002124775A JP 2000316356 A JP2000316356 A JP 2000316356A JP 2000316356 A JP2000316356 A JP 2000316356A JP 2002124775 A JP2002124775 A JP 2002124775A
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Toshio Niwa
寿雄 丹羽
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ユニットの直近に送信側終端抵抗体を
配置できず配線が長くなる場合でも、半導体ユニットの
構成を変えずに、信号品質の劣化を抑えることができる
ようにした終端構造をもつ多層プリント配線基板を提供
する。 【解決手段】 基板2に搭載した半導体ユニット1から
の電気信号を伝送する基板上の配線の特性インピーダン
ス整合を得るための終端構造をもつ多層プリント配線基
板において、半導体ユニット1の出力ピン7とインピー
ダンス整合の目的で前記出力ピン7の近傍に配置される
ダンピング抵抗5の一方の端子との間に接続される第1
の配線3の特性インピーダンスを、前記ダンピング抵抗
5の他方の端子と少なくとも一つ以上の他の半導体ユニ
ットの信号入力ピンの間に接続される第2の配線4の特
性インピーダンスよりも低く設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、電気的信号を伝
送する配線の特性インピーダンス整合を得るための終端
構造をもつ多層プリント配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電気部品の高密度化及び高速処理
化に伴って、信号伝送レートの高速化が求められてい
る。プリント配線基板の設計では、伝送レートの高速化
に伴う反射やリンギング等のノイズを抑えて伝送信号の
品質を確保するため、配線を終端させて特性インピーダ
ンスの整合が施されている。例えば、プリント配線基板
の信号伝送路は、ストリップライン構造又はマイクロス
トリップライン構造と呼ばれる基板層構造及び信号配線
幅により決定される特性インピーダンスをコントロール
することにより、上記ノイズを抑える手法が一般的に行
われている。
【0003】図9は、例えば特開平11−177189
号における従来技術の項で述べられている終端方式であ
り、図10はこの終端方式を採用しているプリント配線基
板の断面概略図を示している。この終端方式は送信側で
終端を行う方式であり、送信側バッファ101 と配線102
の間にダンピング抵抗(終端抵抗)103 が直列的に接続
されており、このダンピング抵抗103 は送信側バッファ
101 の直近に配置されている。QFPやSOPなどのパ
ッケージを用いた半導体ユニット104 内にある送信側バ
ッファ101 からの出力信号は、ダンピング抵抗103 及び
配線102 を介して、図示していない別の半導体ユニット
内に設けられている受信側バッファ105に伝送されるよ
うになっている。また配線102 は、GND層106 を含め
た基板層構造107 により、その特性インピーダンスがコ
ントロールされている。この終端方式では、受信側で信
号が反射しても、ダンピング抵抗103 により送信側での
再反射を抑制できるので、信号波形の品質が確保される
ようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近はBG
Aに代表されるように、IC(半導体ユニット)パッケ
ージの多ピン化、高密度化が進んでおり、図10に示した
従来例のICパッケージのように、送信側バッファ101
の直近にダンピング抵抗103 を配置することが、レイア
ウト的に困難になっている。したがって、図10の送信側
バッファ101 から終端抵抗103 までの配線108 の配線長
を長くせざるを得ず、この配線108 の特性インピーダン
スの不整合の影響で、ダンピング抵抗(終端抵抗)が正
常に機能しない場合がある。また、前記特開平11−1
77189号では、半導体ユニットの内部にダンピング
抵抗を設けて、送信側バッファからダンピング抵抗まで
の配線長を最小にする方式を開示しているが、汎用IC
を使う場合はこの技術を利用できないだけでなく、利用
できるカスタムICやMCM(マルチチップモジュー
ル)でも、ダンピング抵抗の半導体ユニットへの内装化
に伴うI/O又はモジュールの複雑化は否めない。
【0005】本発明は、従来のプリント配線基板の配線
終端構造における上記問題点を解消するためになされた
もので、半導体ユニットの直近に送信側終端抵抗が配置
できず配線が長くなる場合でも、半導体ユニットの構成
を変えることなく、信号の品質の劣化を最小限に抑える
ことができるようにした終端構造をもつ多層プリント配
線基板を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め、請求項1に係る発明は、半導体ユニットを搭載し、
該半導体ユニットからの電気信号を伝送する基板上の配
線の特性インピーダンス整合を得るための終端構造をも
つ多層プリント配線基板において、半導体ユニットの信
号出力端子とインピーダンス整合の目的で前記出力端子
の近傍に配置される終端抵抗体の一方の端子との間に接
続される第1の配線と、前記終端抵抗体の他方の端子と
少なくとも一つ以上の他の半導体ユニットの信号入力端
子の間に接続される第2の配線とを具備し、第1の配線
の特性インピーダンスが第2の配線の特性インピーダン
スよりも低く設定されていることを特徴とするものであ
る。
【0007】一般に、終端抵抗体(ダンピング抵抗)か
ら受信側半導体ユニット(受信側バッファ)までの配線
の特性インピーダンスは、送信側半導体ユニット(送信
側バッファ)の出力インピーダンスと終端抵抗体の値の
和であることが、インピーダンス整合条件とされてい
る。したがって、送信側半導体ユニットから終端抵抗体
までの配線長は短いと、その配線による特性インピーダ
ンスは特に考慮する必要がないが、その配線長が長くな
ると全体としての特性インピーダンスの整合に影響を与
える。そこで、請求項1に係る発明は上記のように、一
方の半導体ユニットの信号出力端子とその近傍に配置さ
れる終端抵抗体との間の第1の配線の特性インピーダン
スを、終端抵抗体と他方の半導体ユニットの入力端子と
の間の第2の配線の特性インピーダンスよりも低く設定
するもので、このように構成することにより、一方(送
信側)の半導体ユニットの端子の密度が高くて該半導体
ユニットの直近に終端抵抗体を配置できず、終端抵抗体
までの配線が長くなってしまう場合でも、一方(送信
側)の半導体ユニットから終端抵抗体までのインピーダ
ンスの急激な変化を防止することができ、反射による信
号波形の品質の劣化を抑制することができる。
【0008】請求項2に係る発明は、請求項1に係る多
層プリント配線基板において、前記半導体ユニットの信
号出力端子の近傍に配置される終端抵抗体がフェライト
ビーズで構成されていることを特徴とするものである。
このように、終端抵抗体をフェライトビーズで構成する
ことにより、立ち上がり時間及び立ち下がり時間が若干
劣化するが放射ノイズを軽減することができる。
【0009】請求項3に係る発明は、請求項1又は2に
係る多層プリント配線基板において、前記第1の配線と
前記第2の配線とは同一導電層で形成され、前記第1の
配線の配線幅が前記第2の配線の配線幅より太く設定さ
れていることを特徴とするものである。このように構成
することにより、第1の配線の特性インピーダンスを第
2の配線の特性インピーダンスより容易に低く設定する
ことができる。
【0010】請求項4に係る発明は、請求項1又は2に
係る多層プリント配線基板において、前記第1の配線の
直下に絶縁層を介してGND又はVDD電源に接続され
る導電層を形成していることを特徴とするものである。
このように構成することにより、第1の配線の特性イン
ピーダンスを第2の配線の特性インピーダンスより、配
線幅を変えることなく容易に低く設定することができ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、実施の形態について説明す
る。図1は、本発明に係る終端構造をもつ多層プリント
配線基板の第1の実施の形態を示す一部省略断面図で、
多層プリント配線基板に、BGAでパッケージされた半
導体ユニットを実装した態様を示している。図2は、そ
の上面図を示しており、図3は、その等価回路を示して
いる。図において、1はBGAでパッケージされた半導
体ユニット、2は多層プリント配線基板、3,4は第1
配線層(導電層)の第1及び第2の配線、5は第1及び
第2の配線3,4間に接続されたダンピング抵抗(送信
側終端抵抗体)、6はGND層、7は半導体ユニットの
出力ピン(ボール)である。BGAパッケージ半導体ユ
ニット1内の送信側バッファ8から出力された信号は、
出力ピン7,第1の配線3,ダンピング抵抗5,第2の
配線4を通って、図示しない別の半導体ユニットの入力
ピンに接続されている受信側バッファ9に伝送される。
なお、この実施の形態では、受信側バッファ9は一つだ
けになっているものを示したが、異なる複数の半導体ユ
ニットの受信側バッファに接続される場合もある。ま
た、この実施の形態では、第1の配線3の配線幅は第2
の配線4の配線幅より太く形成されており、またこれら
の配線3,4は、プリント配線基板2内に配置されてい
るGND層などによっても、インピーダンス制御されて
いる。
【0012】一般的に、半導体ユニット1の送信側バッ
ファ8に接続されている第1の配線3の配線長が短く
て、特性インピーダンスによる信号波形の品質への影響
を無視できる場合は、他方の半導体ユニットの受信側バ
ッファ9に接続されている第2の配線4の特性インピー
ダンスZo と、送信側バッファ8の出力インピーダンス
Zout 及びダンピング抵抗5の抵抗値Rt との間の整合
条件は、次式(1)で表される。 Zo =Zout +Rt ・・・・・・・・・・(1)
【0013】ダンピング抵抗は、送信側バッファの直近
に配置することにより、送信側バッファの出力インピー
ダンスをコントロールして、配線の特性インピーダンス
と一致させる機能があり、反射を抑え信号波形の品質を
向上させる。しかし、BGAパッケージなどの採用によ
り送信側バッファの近傍にダンピング抵抗5を配置でき
ない場合がある。この場合は、配線長を長くせざるを得
ない送信側バッファに接続されている第1の配線の特性
インピーダンスを、受信側バッファに接続されている第
2の配線の特性インピーダンスよりも低く設定すること
により、送信側バッファからダンピング抵抗迄の急激な
インピーダンス変化を抑えることができる。その結果、
反射による信号波形の歪みを極力抑え、信号波形の品質
が確保される。このインピーダンスを低く設定する手法
の一つとして、本実施の形態においては、上記のように
送信側バッファ8に接続している第1の配線3の配線幅
を、第2の配線4の配線幅に比べて太くしている。
【0014】図4は、第1の配線3の配線幅を第2の配
線4の配線幅より太くした、上記第1の実施の形態に係
る終端構造をもつ多層プリント配線基板の信号特性に関
して行った、シミュレーション結果の一例を示す信号波
形図である。
【0015】また、これと対比するため、送信側バッフ
ァからダンピング抵抗までの第1の配線の配線幅と、ダ
ンピング抵抗から受信側バッファまでの第2の配線の配
線幅とを同一幅とした、配線終端構造の信号特性に関し
て行ったシミュレーション結果を示す信号波形を図5に
示す。
【0016】本実施の形態における第1及び第2の配線
3,4のように、配線が表面の第1配線層で形成されて
いる場合、その配線の特性インピーダンスZo は、配線
が表面マイクロストリップライン構造となるため、次式
(2)に示す近似式で表される。 Zo ={87/(εr+1.4)1/2 }・ln{5.98H/(0.8W+T)} ・・・・・・・・・(2) εr:絶縁層の比誘電率(ガラスエポキシ樹脂の場合4.
7 ) H :導電層間の絶縁層の厚さ(mm) W :配線幅(mm) T :配線の厚さ(mm)
【0017】上記第1の実施の形態の終端構造に対応す
るシミュレーションにおいては、送信側バッファ8から
ダンピング抵抗5までの第1の配線3の長さを、ダンピ
ング抵抗5から受信側バッファ9までの第2の配線4の
長さに比べて無視できない場合の例として5cmとし、第
2の配線4の長さは10cmとし、また第1の配線3の配線
幅Wは0.3mm としているのに対して第2の配線4の配線
幅Wは0.1mm とし、更に配線3,4の厚さTは0.048mm
とし、導電層間の絶縁層の厚さHは0.100mm とし、そし
てダンピング抵抗5の抵抗値は39Ωとして、シミュレー
ションを行っている。この設定による第1の配線3の特
性インピーダンスは34Ω程度となり、第2の配線4の特
性インピーダンスは60Ω程度となる。なお、実際のシミ
ュレーションでは経験則を加味して計算が行われるた
め、単純な近似式(2)による計算値とは、一致しない
場合がある。
【0018】一方、図5に示す信号波形結果を得るため
に行った対比シミュレーションにおいては、図6の等価
回路で示すように、送信側バッファ8からダンピング抵
抗5までの第1の配線3′と、ダンピング抵抗5から受
信側バッファ9までの第2の配線4′は、第1の実施の
形態に対応するシミュレーションと同様に、それぞれ5
cm,10cmとし、配線幅は第1の配線3′及び第2の配線
4′共に0.1mm とし、配線の厚さTは0.048mm とし、導
電層間の絶縁層の厚さHは0.100mm とし、特性インピー
ダンスはいずれも60Ωとしたものをモデルとしている。
【0019】信号特性における伝送信号波形の品質とし
ては、0レベルから1レベルに変動したときの上下変動
が小さいほど、望ましい。図4,5の信号波形を比較す
ると明らかなように、本発明の第1の実施の形態に対応
させて、送信側バッファ8からダンピング抵抗5までの
第1の配線3の特性インピーダンスを、第2の配線4の
特性インピーダンスより低減させた方が、信号波形品質
はよい結果になっている。これに対して、図5に示すよ
うに、双方の配線の特性インピーダンスを同一にした場
合は、第1の配線3′の特性インピーダンスによる不整
合の影響が無視できないため、波形品質が劣化してい
る。したがって、送信側バッファ8からダンピング抵抗
5までの第1の配線の特性インピーダンスを低減して、
インピーダンスの変化を抑制することにより、ノイズを
低減することが可能となる。
【0020】次に、第1の実施の形態の変形例について
説明する。図1に示した第1の実施の形態において、B
GAバッケージの半導体ユニット1周辺のプリント配線
基板2の配線の高密度化により、出力ピン(ボール)7
からダンピング抵抗5までの第1の配線3を、第1配線
層で形成することができない場合がある。この場合は、
図7に示すようにスルーホールと第2配線層を使用し
て、出力ピン7からダンピング抵抗5までの主たる第1
の配線を構成することもできる。図7において、11及び
12は第2配線層で形成した主たる第1及び第2の配線、
13はスルーホールで、第1配線層で形成した微小第1及
び第2の配線3,4と第2配線層で形成した主たる第1
及び第2の配線11,12とを、それぞれ接続するものであ
る。
【0021】この変形例で、主たる第1の配線11の特性
インピーダンスを、図1に示した第1の実施の形態の第
1の配線3と同程度に設定するには、第1の配線3の配
線幅に比べてこの変形例の第1の配線11の配線幅は細く
することができるので、配線の高密度化に適している。
すなわち、配線の特性インピーダンスを低減するには、
配線幅を大きくする必要があるが、上記式(2)から明
らかなように、導電層間の絶縁層の厚さHを小さくする
ことによっても、特性インピーダンスを小さくすること
ができる。上記変形例のように第2配線層で主たる第1
及び第2の配線を形成すると、第2配線層とGND層6
間は第1配線層とGND層6間より小さいので、第2配
線層で形成した配線の特性インピーダンスは小さくな
る。したがって、同程度のインピーダンス値とするには
配線の配線幅Wを小さくすることができることになる。
なお、この変形例では、主たる第2の配線12も第2配線
層で形成したものを示したが、この第2の配線12は第1
の実施の形態と同様に第1配線層で形成してもよいこと
は勿論である。
【0022】上記第1の実施の形態及びその変形例にお
いては、ダンピング抵抗としては、通常の抵抗体を用い
ることを想定しているが、フェライトビーズをダンピン
グ抵抗として用いても問題がないことは明らかであり、
このようにフェライトビーズをダンピング抵抗として用
いた場合は、立ち上がり及び立ち下がり波形がなまるの
で、立ち上がり及び立ち下がり時間が劣化するが、放射
ノイズが軽減されるという利点が得られる。
【0023】次に、第2の実施の形態について説明す
る。図8は第2の実施の形態に係る多層プリント配線基
板を示す図で、図1に示した第1の実施の形態に係る多
層プリント配線基板と同一又は対応する構成要素には同
一の符号を付して示している。この実施の形態では、送
信側バッファ8からダンピング抵抗5までの第1の配線
3の特性インピーダンスを低減させる手法として、送信
側バッファ8からダンピング抵抗5までの第1配線層で
形成された第1の配線3を含む半導体ユニット1の直下
の第2配線層に、面状のGND領域21を設け、このGN
D領域21をその下層に配置されているGND層6とスル
ーホール13で接続した構成を用いている。
【0024】このように構成した終端構造をもつ多層プ
リント配線基板においては、第1の配線3を形成してい
る第1配線層とGND層6との間に配置される第2配線
層に、面状のGND領域21が形成されているので、第1
の配線3とGND領域21との間の絶縁層の厚さが、第1
の配線3とGND層6との間の絶縁層の厚さより小さ
く、したがって上記(2)式より明らかなように、第1
の実施の形態のように第1の配線3の配線幅を大にしな
くても、その特性インピーダンスを低減させることがで
きる。
【0025】したがって、本実施の形態によれば、半導
体ユニット配置周辺のプリント配線基板における配線の
密度が高くて、第1の実施の形態又はその変形例のよう
に、配線幅を広げたり、スルーホールの設置が困難な場
合に、第1の配線3の特性インピーダンスを効果的に低
減させることができる。この場合、更に第1の実施の形
態のように、第1の配線3の配線幅を広げることによ
り、一層特性インピーダンスの低減を図ることができ
る。なお、この実施の形態においても、ダンピング抵抗
としてフェライトビーズを使用しても問題ないことは自
明である。また、図8に示した第2の実施の形態におい
ては、第2の配線4は第1配線層に形成したものを示し
たが、図7に示した第1の実施の形態の変形例のよう
に、主たる第2の配線を第2配線層に形成することもで
きる。また、この実施の形態では、第2配線層に面状の
GND領域21を設けたものを示したが、この領域21をV
DD電源に接続しても同様な効果が得られる。
【0026】また、配線の特性インピーダンスの低減す
る手法としては、上記各実施の形態に示した手法の他
に、上記(2)式から明らかなように、送信側バッファ
からダンピング抵抗までの第1の配線を含む半導体ユニ
ット直下のプリント配線基板を構成する絶縁層の比誘電
率を大にするとか、配線自体の層厚を大きくする手法に
よっても実現できることは言うまでもない。
【0027】
【発明の効果】以上実施の形態に基づいて説明したよう
に、請求項1に係る発明によれば、送信側の半導体ユニ
ットから終端抵抗体までの第1の配線が長くなってしま
う場合でも、該半導体ユニットから終端抵抗体までのイ
ンピーダンスの急激な変化を抑止することができ、反射
による信号波形の品質の劣化を抑制することができる終
端構造をもつ多層プリント配線基板を実現することがで
きる。また、請求項2に係る発明によれば、請求項1に
係る多層プリント配線基板の終端抵抗体における放射ノ
イズを軽減することができる。また、請求項3に係る発
明によれば、請求項1又は2に係る多層プリント配線基
板において、第1の配線の特性インピーダンスを第2の
配線の特性インピーダンスより容易に低く設定すること
ができる。また、請求項4に係る発明によれば、請求項
1又は2に係る多層プリント配線基板において、第1の
配線の特性インピーダンスを第2の配線の特性インピー
ダンスより、配線幅を変えることなく容易に低く設定す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る多層プリント配線基板の第1の実
施の形態を示す一部省略断面図である。
【図2】図1に示した第1の実施の形態の上面図であ
る。
【図3】図1に示した第1の実施の形態の等価回路を示
す図である。
【図4】図1に示した第1の実施の形態の多層プリント
配線基板における配線終端構造の信号特性に関するシミ
ュレーション結果を示す信号波形図である。
【図5】図4に示したシミュレーション結果と対比する
ため、従来の構成の配線終端構造の信号特性に関するシ
ミュレーション結果を示す信号波形図である。
【図6】従来の多層プリント配線基板の配線終端構造の
等価回路を示す図である。
【図7】図1に示した第1の実施の形態の変形例を示す
図である。
【図8】本発明の第2の実施の形態の一部省略断面図で
ある。
【図9】一般的なプリント配線基板上の配線の配線終端
構造の等価回路を示す図である。
【図10】一般的なプリント配線基板の配線態様を示す断
面図である。
【符号の説明】
1 半導体ユニット 2 多層プリント配線基板 3 第1の配線 4 第2の配線 5 ダンピング抵抗 6 GND層 7 出力ピン 8 送信側バッファ 9 受信側バッファ 11 第1の配線 12 第2の配線 13 スルーホール 21 面状GND領域

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ユニットを搭載し、該半導体ユニ
    ットからの電気信号を伝送する基板上の配線の特性イン
    ピーダンス整合を得るための終端構造をもつ多層プリン
    ト配線基板において、半導体ユニットの信号出力端子と
    インピーダンス整合の目的で前記出力端子の近傍に配置
    される終端抵抗体の一方の端子との間に接続される第1
    の配線と、前記終端抵抗体の他方の端子と少なくとも一
    つ以上の他の半導体ユニットの信号入力端子の間に接続
    される第2の配線とを具備し、第1の配線の特性インピ
    ーダンスが第2の配線の特性インピーダンスよりも低く
    設定されていることを特徴とする多層プリント配線基
    板。
  2. 【請求項2】 前記半導体ユニットの信号出力端子の近
    傍に配置される終端抵抗体が、フェライトビーズで構成
    されていることを特徴とする請求項1に係る多層プリン
    ト配線基板。
  3. 【請求項3】 前記第1の配線と前記第2の配線とは同
    一導電層で形成され、前記第1の配線の配線幅が前記第
    2の配線の配線幅より太く設定されていることを特徴と
    する請求項1又は2に係る多層プリント配線基板。
  4. 【請求項4】 前記第1の配線の直下に絶縁層を介して
    GND又はVDD電源に接続される導電層を形成してい
    ることを特徴とする請求項1又は2に係る多層プリント
    配線基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008044148A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Oki Data Corp 駆動装置、ledヘッド、及び画像形成装置
US7472410B2 (en) * 2001-03-02 2008-12-30 Hitachi Kokusai Electric Inc. Video transmission apparatus for connecting to a network

Cited By (2)

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