JP2002124525A - Semiconductor chip separating device and method therefor - Google Patents
Semiconductor chip separating device and method thereforInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置に係
わり、特に半導体製造工程においてテープ上に貼り付け
られた個片化された半導体チップをテープから剥離する
ための半導体チップ剥離装置及び方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus and, more particularly, to a semiconductor chip peeling apparatus and method for peeling individualized semiconductor chips stuck on a tape from a tape in a semiconductor manufacturing process.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置製造工程において、ウェハ上
に形成された複数の半導体チップは、ダイシング等によ
り個々の半導体チップに分離される。すなわち、ダイシ
ング工程において、ウェハは粘着材が設けられたテープ
(ダイシングテープ)に貼り付けられたまま、個々の半
導体チップに分離され個片化される。したがって、この
ように個片化された半導体チップを使用するには、個々
の半導体チップをテープから剥離しなければならない。2. Description of the Related Art In a semiconductor device manufacturing process, a plurality of semiconductor chips formed on a wafer are separated into individual semiconductor chips by dicing or the like. That is, in the dicing step, the wafer is separated into individual semiconductor chips and singulated while being attached to a tape (dicing tape) provided with an adhesive. Therefore, in order to use the semiconductor chips thus singulated, the individual semiconductor chips must be separated from the tape.
【0003】テープに貼り付けられた半導体チップを剥
離するには、剥離すべき半導体チップをコレットにより
真空吸着しながら、テープの下側からニードルで半導体
チップを突き上げることにより半導体チップをテープか
ら剥離する方法が一般的に用いられている。そして、テ
ープから剥離された半導体チップはコレットに吸着保持
されたまま所望の位置に搬送される。In order to peel a semiconductor chip attached to a tape, the semiconductor chip to be peeled is vacuum-adsorbed by a collet while the semiconductor chip is pushed up from below the tape with a needle to peel the semiconductor chip from the tape. The method is commonly used. Then, the semiconductor chip separated from the tape is conveyed to a desired position while being held by suction at the collet.
【0004】上述の剥離方法では、テープの表面に貼り
付けられている半導体チップを、テープの裏面側から突
上ピンで突き上げる。すなわち、先端の尖ったニードル
状の突上ピンをテープを介して半導体チップに押し付け
ることにより、突上ピンの先端がテープを貫通して半導
体チップに突き当たる。そして、更に突上ピンを半導体
チップに押し付けることにより、半導体チップをテープ
から持ち上げて、半導体チップをテープから剥離するも
のである。In the above-described peeling method, a semiconductor chip attached to the surface of the tape is pushed up from the back side of the tape by a push-up pin. That is, by pressing the needle-shaped protrusion pin having a sharp tip against the semiconductor chip via the tape, the tip of the protrusion pin penetrates the tape and hits the semiconductor chip. Then, the push-up pins are further pressed against the semiconductor chip, thereby lifting the semiconductor chip from the tape and peeling the semiconductor chip from the tape.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述の剥離方法に使用
される突上ピンは、テープを貫通して半導体チップに突
き当たる必要があるため、先端は数十μm程度の鋭利な
形状とされている。したがって、突上ピンの先端が当接
することにより、半導体チップの面に小さな傷がついて
しまう。一般的に、テープに貼り付けられた半導体チッ
プは、その裏面(回路形成面と反対側の面)がテープに
貼り付けられている。したがって、突上ピンが当接する
ことにより半導体チップの裏面にある程度の傷がついて
も、回路形成面には影響はない。Since the push-up pins used in the above-described peeling method need to penetrate the tape and hit the semiconductor chip, the tips have a sharp shape of about several tens of μm. . Therefore, a small scratch is made on the surface of the semiconductor chip due to the contact of the tip of the push-up pin. Generally, the back surface (the surface opposite to the circuit forming surface) of a semiconductor chip attached to a tape is attached to the tape. Therefore, even if the back surface of the semiconductor chip is damaged to some extent due to the contact of the push-up pins, the circuit forming surface is not affected.
【0006】ところが、近年半導体チップの薄型化が進
んでおり、従来の半導体チップでは影響の無いような傷
であっても、半導体チップの大きな損傷につながる可能
性が生じている。すなわち、厚みの薄い半導体チップを
鋭利な突上ピンで突き上げた場合、半導体チップが割れ
てしまうおそれがある。また、突上ピンにより傷がつい
た半導体チップは、外力により変形した際にその傷が起
点となって容易に割れてしまったり、クラックが発生し
たりするといった問題がある。また、半導体チップを封
止して半導体装置を形成した後に、半導体装置に対して
外力が加わった場合でも、内部の半導体チップに同様に
クラックが生じるといった問題もある。However, in recent years, semiconductor chips have become thinner, and there is a possibility that even a scratch that has no effect on a conventional semiconductor chip may lead to significant damage to the semiconductor chip. That is, when a thin semiconductor chip is pushed up by a sharp protrusion pin, the semiconductor chip may be broken. Further, the semiconductor chip damaged by the push-up pins has a problem that when it is deformed by an external force, the scratch becomes a starting point and easily breaks or cracks occur. Another problem is that even when an external force is applied to the semiconductor device after the semiconductor device is formed by sealing the semiconductor chip, cracks are similarly generated in the internal semiconductor chip.
【0007】また、突上ピンの先端が鋭利なため、突き
上げの最中に先端が折れてしまう可能性がある。突上ピ
ンの先端が折れてしまうと、半導体チップを完全に剥離
できなかったり、隣接する半導体チップが飛散したりす
るといった問題を生じるおそれもある。Further, since the tip of the push-up pin is sharp, the tip may be broken during pushing up. If the tip of the push-up pin is broken, there is a possibility that a problem that the semiconductor chip cannot be completely peeled off or an adjacent semiconductor chip scatters may occur.
【0008】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、鋭利な突上ピンを使用しないで半導体チップを確
実に剥離することのできる半導体チップ剥離装置及び方
法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor chip peeling apparatus and method capable of reliably peeling a semiconductor chip without using a sharp protrusion pin. I do.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明では、次に述べる各手段を講じたことを特徴
とするものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the present invention is characterized by taking the following means.
【0010】請求項1記載の発明は、テープに貼り付け
られた半導体チップをテープから剥離する半導体チップ
剥離装置であって、中央に向かって次第に低くなるよう
に傾斜が設けられた上面と、該上面の中央に形成された
開口とを有し、半導体チップが貼り付けられたテープが
該上面に載置される真空ホルダと、前記真空ホルダの前
記開口内に配置され、垂直方向に移動可能であって、前
記半導体チップより小さい面積の頂面を有する剥離台
と、該剥離台の上に位置する半導体チップを前記剥離台
の反対側から吸着保持するコレットと、前記真空ホルダ
上に配置されたテープに貼り付けられた半導体チップの
位置を検出する位置検出手段とを有することを特徴とす
るものである。[0010] The invention according to claim 1 is a semiconductor chip peeling apparatus for peeling a semiconductor chip attached to a tape from the tape, wherein the upper surface is provided with a slope that becomes gradually lower toward the center. A vacuum holder having an opening formed in the center of the upper surface, and a tape to which a semiconductor chip is attached is placed on the upper surface, and the vacuum holder is disposed in the opening of the vacuum holder, and is movable in a vertical direction. A peeling table having a top surface having an area smaller than the semiconductor chip, a collet for sucking and holding the semiconductor chip located on the peeling table from the opposite side of the peeling table, and being disposed on the vacuum holder. And a position detecting means for detecting a position of the semiconductor chip attached to the tape.
【0011】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体チップ剥離装置であって、前記剥離台の上死点位置
及び下死点位置のうち少なくとも一方は可変であること
を特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided the semiconductor chip separating apparatus according to the first aspect, wherein at least one of a top dead center position and a bottom dead center position of the separation table is variable. Things.
【0012】請求項3記載の発明は、請求項1記載の半
導体チップ剥離装置であって、前記剥離台の移動速度は
可変であることを特徴とするものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor chip separating apparatus according to the first aspect, wherein a moving speed of the separating table is variable.
【0013】請求項4記載の発明は、半導体チップをテ
ープから剥離するための半導体チップ剥離方法であっ
て、中央に向かって次第に低くなるように傾斜が設けら
れた上面と、該上面の中央に形成された開口とを有し、
前記半導体チップより小さい面積の頂面を有する剥離台
が前記開口内で垂直移動可能に配置された真空ホルダの
前記上面に、半導体チップが貼り付けられた該テープを
配置し、剥離すべき半導体チップが前記剥離台の上に配
置されるように前記テープを移動し、前記半導体チップ
が前記テープを介して前記剥離台の上に配置されている
状態で、前記真空ホルダにより前記テープを吸引するこ
とにより、前記半導体チップの周囲部分を前記テープか
ら剥離し、前記半導体チップを前記剥離台に支持された
位置に保持し、前記剥離台を下降させて半導体チップを
テープから完全に剥離する各工程を有することを特徴と
するものである。上記した各手段は、次のように作用す
る。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor chip separating method for separating a semiconductor chip from a tape, wherein the upper surface is provided with an inclination so as to gradually decrease toward the center, and the center of the upper surface is provided at the center. Having an opening formed,
A semiconductor chip to be peeled, wherein the tape to which the semiconductor chip is attached is arranged on the upper surface of a vacuum holder in which a peeling table having a top surface having an area smaller than the semiconductor chip is vertically movable within the opening. The tape is moved by moving the tape so that the tape is disposed on the peeling table, and suctioning the tape by the vacuum holder in a state where the semiconductor chip is disposed on the peeling table via the tape. According to each step of peeling the peripheral portion of the semiconductor chip from the tape, holding the semiconductor chip at a position supported by the peeling table, lowering the peeling table to completely peel the semiconductor chip from the tape It is characterized by having. Each of the means described above operates as follows.
【0014】請求項1記載及び請求項4記載の発明によ
れば、剥離台及びコレットにより半導体チップを所定の
位置に保持し、傾斜により半導体チップから離間した真
空ホルダの上面に対してテープを引きよせることによ
り、半導体チップはテープから剥離する。したがって、
鋭利な突上ピンを使用することなく半導体チップを容易
に剥離することができる。According to the first and fourth aspects of the present invention, the semiconductor chip is held at a predetermined position by the peeling table and the collet, and the tape is pulled on the upper surface of the vacuum holder separated from the semiconductor chip by inclination. As a result, the semiconductor chip peels off from the tape. Therefore,
The semiconductor chip can be easily peeled off without using a sharp protrusion pin.
【0015】請求項2記載の発明によれば、剥離台の上
死点位置及び/又は下死点の位置を可変とすることによ
り、半導体チップのサイズやテープの材質あるいは粘着
材の剥離強度等が変わった場合でも、最適な剥離を実現
することができる。According to the second aspect of the present invention, the position of the top dead center and / or the position of the bottom dead center of the peeling table are made variable, so that the size of the semiconductor chip, the material of the tape or the peel strength of the adhesive material, etc. Even if the value changes, optimal peeling can be realized.
【0016】請求項3記載の発明によれば、剥離台の移
動速度を可変とすることにより、様々な剥離条件に対応
して最適な剥離速度を実現することができる。According to the third aspect of the present invention, by making the moving speed of the peeling table variable, it is possible to realize an optimum peeling speed corresponding to various peeling conditions.
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面と共に説明する。Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0017】図1は本発明の一実施例による半導体チッ
プ剥離装置の全体構成を示す斜視図である。図2は図1
に示す半導体チップ剥離装置の主要部を示す簡略断面図
である。FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of a semiconductor chip peeling apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 shows FIG.
FIG. 2 is a simplified cross-sectional view showing a main part of the semiconductor chip peeling device shown in FIG.
【0018】本発明の一実施例による半導体チップ剥離
装置10は、図1に示すように、剥離機構12、コレッ
ト14、及び光学式カメラ16より構成される。剥離さ
れる半導体チップはUV(紫外線硬化型)テープ等のテ
ープに貼り付けられたままの状態で、剥離機構12とコ
レット14との間に配置される。光学式カメラ16はコ
レット14の上方に配置されており、半導体チップを画
像認識してその位置を検出する。光学式カメラ16は半
導体チップの位置検出手段として機能する。図1におい
て、略正方形の半導体チップが剥離機構12の中央部分
に斜線を施して示されているが、実際は図2に示すよう
にテープに貼り付けられた状態で剥離機構12の上に配
置される。なお、一般的に半導体チップの裏面をUVテ
ープから剥離することとなるが、半導体チップの裏面に
両面接着テープが設けられることがあり、この場合は、
両面接着テープをUVテープから剥離することとなる。A semiconductor chip peeling apparatus 10 according to one embodiment of the present invention comprises a peeling mechanism 12, a collet 14, and an optical camera 16, as shown in FIG. The semiconductor chip to be peeled is disposed between the peeling mechanism 12 and the collet 14 while being kept attached to a tape such as a UV (ultraviolet curing type) tape. The optical camera 16 is disposed above the collet 14 and detects the position of the semiconductor chip by recognizing an image of the semiconductor chip. The optical camera 16 functions as means for detecting the position of the semiconductor chip. In FIG. 1, a substantially square semiconductor chip is shown with diagonal lines in the center of the peeling mechanism 12, but is actually placed on the peeling mechanism 12 in a state of being attached to a tape as shown in FIG. You. In general, the back surface of the semiconductor chip will be peeled off from the UV tape, but a double-sided adhesive tape may be provided on the back surface of the semiconductor chip. In this case,
The double-sided adhesive tape is peeled off from the UV tape.
【0019】図2に示すように、テープ18に貼り付け
られた半導体チップ20は、剥離機構12の上に配置さ
れ、XYテーブル等により水平方向(XY方向)に移動
可能とされる。剥離機構12は、真空ホルダ22と、剥
離台24とを有する。真空ホルダ22は中央部に開口2
2aを有しており、開口22aに剥離台24が挿入され
た状態で設けられている。As shown in FIG. 2, the semiconductor chip 20 attached to the tape 18 is disposed on the peeling mechanism 12, and can be moved in a horizontal direction (XY directions) by an XY table or the like. The peeling mechanism 12 has a vacuum holder 22 and a peeling table 24. The vacuum holder 22 has an opening 2 at the center.
2a, and is provided in a state where the peeling table 24 is inserted into the opening 22a.
【0020】剥離台24は、半導体チップ20の形状に
対応した略正方形の頂面及び断面を有している。真空ホ
ルダ22の開口22aは剥離台24の断面形状より大き
い略正方形であり、開口22aと剥離台24との間に所
定の空間が形成される。また、剥離台24は、移動機構
(図示せず)により開口22a内で垂直方向(Z方向)
に移動可能である。The peeling table 24 has a substantially square top surface and a cross section corresponding to the shape of the semiconductor chip 20. The opening 22a of the vacuum holder 22 has a substantially square shape larger than the cross-sectional shape of the separation table 24, and a predetermined space is formed between the opening 22a and the separation table 24. The peeling table 24 is moved vertically (Z direction) in the opening 22a by a moving mechanism (not shown).
Can be moved to
【0021】真空ホルダ22は真空ポンプ等の真空源
(図示せず)に接続されており、真空ホルダ22の上面
22b上に配置されたテープ18を吸引するように構成
されている。真空吸引の際、剥離台24と開口22aと
の間の空間を介して真空引きが行われるが、真空ホルダ
22の上面22bに多数の細かい孔を設けて上面22b
全面で真空引きを行うこととしてもよい。The vacuum holder 22 is connected to a vacuum source (not shown) such as a vacuum pump, and is configured to suck the tape 18 placed on the upper surface 22b of the vacuum holder 22. At the time of vacuum suction, vacuum evacuation is performed through the space between the peeling table 24 and the opening 22a.
The entire surface may be evacuated.
【0022】真空ホルダ22の上面22bは、その中央
に向かって次第に低くなるように傾斜(テーパ)が設け
られている。傾斜の角度は水平方向(XY面)に対して
数度であり、テープ18が真空ホルダ22に吸着された
ときに、テープ18が上面22bに沿った状態に変形可
能な角度に設定されている。具体的には、テープ18の
伸縮性及び剥離性を考慮すると、真空ホルダ22の上面
22bの角度(図2においてαで示す)を170〜17
9度とすることが好ましい。なお、図1において真空ホ
ルダ22の上面22bには多数の同心円が描かれている
が、これは上面22bの細かい凹部を表している。すな
わち、隣接する同心円の間は非常に小さい凹みとなって
いる。このような構成の面にしておくことで、テープ1
8の全面を効率よく吸引保持することができる。The upper surface 22b of the vacuum holder 22 is provided with a slope (taper) so as to gradually decrease toward the center. The inclination angle is several degrees with respect to the horizontal direction (XY plane), and is set to an angle at which the tape 18 can be deformed along the upper surface 22b when the tape 18 is sucked by the vacuum holder 22. . Specifically, considering the elasticity and peelability of the tape 18, the angle of the upper surface 22 b of the vacuum holder 22 (indicated by α in FIG. 2) is 170 to 17.
Preferably, it is 9 degrees. Although a large number of concentric circles are drawn on the upper surface 22b of the vacuum holder 22 in FIG. 1, this represents a fine concave portion on the upper surface 22b. That is, there is a very small dent between adjacent concentric circles. By keeping such a configuration, the tape 1
8 can be efficiently suction-held.
【0023】コレット14は真空ポンプ等の真空源(図
示せず)に接続されており、半導体チップ20を吸引固
定して保持し、所定の位置まで搬送するために設けられ
ている。すなわち、コレット14は垂直方向(Z方向)
及び水平方向に移動可能であり、半導体チップ20の剥
離を行うときは、真空ホルダ22の中央、すなわち剥離
台24の真上に配置される。そして、コレット14は剥
離台24の真上に位置する半導体チップ20を吸着保持
して持ち上げる。The collet 14 is connected to a vacuum source (not shown) such as a vacuum pump, and is provided for holding the semiconductor chip 20 by suction and holding it, and transporting the semiconductor chip 20 to a predetermined position. That is, the collet 14 is in the vertical direction (Z direction).
When the semiconductor chip 20 is to be peeled off, the semiconductor chip 20 is disposed at the center of the vacuum holder 22, that is, just above the peeling table 24. Then, the collet 14 suction-holds and lifts the semiconductor chip 20 located right above the peeling table 24.
【0024】なお、コレット14の上方には図1に示す
ように光学式カメラ16が設けられており、半導体チッ
プ20を画像認識することにより半導体チップ20の位
置を検出する。検出結果はテープ18を水平方向に移動
するためのXYテーブル機構(図示せず)に供給され
る。したがって、テープ18は、剥離すべき半導体チッ
プ20が剥離台24の真上に位置するように移動可能で
ある。An optical camera 16 is provided above the collet 14 as shown in FIG. 1, and the position of the semiconductor chip 20 is detected by recognizing the image of the semiconductor chip 20. The detection result is supplied to an XY table mechanism (not shown) for moving the tape 18 in the horizontal direction. Therefore, the tape 18 can be moved so that the semiconductor chip 20 to be peeled is located right above the peeling table 24.
【0025】次に、半導体チップ剥離装置10の動作に
ついて、図3を参照しながら説明する。Next, the operation of the semiconductor chip peeling apparatus 10 will be described with reference to FIG.
【0026】まず、図3(a)に示すように、テープ1
8上に貼り付けられた個片化された半導体チップ20を
剥離機構12の真空ホルダ22上に配置する。この際、
光学式カメラ16により半導体チップ20の位置検出を
行いながら、剥離すべき半導体チップ20の位置決めを
行う。具体的には、剥離すべき半導体チップ20を真空
ホルダ22の中央に配置し、剥離すべき半導体チップ2
0の真下に剥離台24が位置するようにテープ18を移
動する。この際、剥離台24は真空ホルダ22の外周と
ほぼ同じ高さに位置している(この剥離台24の位置を
上死点とする)。したがって、剥離台24の先端は、真
空ホルダ22の中央に形成された開口22aから僅かに
突出した状態で、テープ18を下側から支持する状態と
なる。First, as shown in FIG.
The semiconductor chip 20 singulated on the surface 8 is placed on the vacuum holder 22 of the peeling mechanism 12. On this occasion,
The position of the semiconductor chip 20 to be separated is determined while the position of the semiconductor chip 20 is detected by the optical camera 16. Specifically, the semiconductor chip 20 to be peeled is arranged at the center of the vacuum holder 22, and the semiconductor chip 2 to be peeled is
The tape 18 is moved so that the peeling table 24 is located just below the zero. At this time, the peeling table 24 is located at substantially the same height as the outer periphery of the vacuum holder 22 (the position of the peeling table 24 is defined as a top dead center). Therefore, the tip of the peeling table 24 slightly projects from the opening 22a formed in the center of the vacuum holder 22, and supports the tape 18 from below.
【0027】剥離すべき半導体チップの位置決めが終了
すると、図3(b)に示すように真空ホルダ22の吸引
作用を起動し、真空ホルダ22の上面22bとテープ1
8との間に形成された空間の空気を吸引する。テープ1
8自体はある程度の伸縮性を有しているため、真空ホル
ダ22の上面22aに向かって引き寄せられる。When the positioning of the semiconductor chip to be peeled is completed, the suction action of the vacuum holder 22 is activated as shown in FIG.
8 to suck the air in the space formed. Tape 1
Since 8 itself has a certain degree of elasticity, it is drawn toward the upper surface 22 a of the vacuum holder 22.
【0028】ところが、真空ホルダ22の中央部分には
剥離台22が突出しているため、テープ18は中央部だ
けが真空ホルダ22の上面22aより高い位置に浮いた
状態となる。このような状態では、剥離すべき半導体チ
ップ20がテープ18を介して剥離台24により支持さ
れ、剥離台24と半導体チップ20との間に挟まれた部
分以外のテープ18は、真空ホルダ22の上面22aに
向かって引き寄せられる。However, since the peeling table 22 protrudes from the center of the vacuum holder 22, only the center of the tape 18 floats above the upper surface 22a of the vacuum holder 22. In such a state, the semiconductor chip 20 to be peeled is supported by the peeling table 24 via the tape 18, and the tape 18 other than the portion sandwiched between the peeling table 24 and the semiconductor chip 20 is It is drawn toward the upper surface 22a.
【0029】上述のように剥離台24の頂面すなわち断
面形状は、半導体チップ20の面より小さく設定されて
いる。このため、剥離台24と半導体チップ20との間
に挟まれていない部分のテープ18は、半導体チップ2
0から剥離する。すなわち、半導体チップ20の周囲か
らテープ18の剥離が開始される。As described above, the top surface, that is, the cross-sectional shape of the peeling table 24 is set smaller than the surface of the semiconductor chip 20. Therefore, the portion of the tape 18 that is not sandwiched between the peeling table 24 and the semiconductor chip 20 is
Peel from 0. That is, peeling of the tape 18 from the periphery of the semiconductor chip 20 is started.
【0030】次に、図3(c)に示すように、コレット
14を剥離すべき半導体チップ20に当接し、半導体チ
ップ20を吸引力によりコレット14に吸着し保持す
る。この状態では、半導体チップ20はテープ18を介
して剥離台24の上に配置されたままである。Next, as shown in FIG. 3C, the collet 14 is brought into contact with the semiconductor chip 20 to be peeled, and the semiconductor chip 20 is attracted and held on the collet 14 by a suction force. In this state, the semiconductor chip 20 remains disposed on the peeling table 24 via the tape 18.
【0031】次に、図3(d)に示すように、剥離台2
4を下方に移動する。これにより、半導体チップ20の
下に位置するテープ18は、剥離台24により支持され
なくなり、真空ホルダ22の開口22aに向かって引き
寄せられる。なお、図3(d)に示す剥離台24の位置
を下死点とする。このとき、半導体チップ20はコレッ
ト14に吸着保持されているため、そのままコレット1
4に保持された状態となり、テープ18だけが半導体チ
ップ20から剥離して下方に移動する。したがって、剥
離台24を下方に向けて移動することにより、半導体チ
ップ20はテープ18から完全に剥離した状態となる。Next, as shown in FIG.
Move 4 down. As a result, the tape 18 located below the semiconductor chip 20 is no longer supported by the peeling table 24 and is drawn toward the opening 22 a of the vacuum holder 22. The position of the peeling table 24 shown in FIG. At this time, since the semiconductor chip 20 is adsorbed and held by the collet 14, the collet 1 is left as it is.
4, and only the tape 18 is separated from the semiconductor chip 20 and moves downward. Therefore, the semiconductor chip 20 is completely separated from the tape 18 by moving the peeling table 24 downward.
【0032】図3(c)に示す状態において、半導体チ
ップ20の周囲から剥離が開始されているので、この剥
離した部分を起点として剥離が進行することとなり、確
実に半導体チップ20全体を剥離することができる。In the state shown in FIG. 3C, since the peeling has started from the periphery of the semiconductor chip 20, the peeling proceeds from the peeled portion as a starting point, and the entire semiconductor chip 20 is reliably peeled. be able to.
【0033】半導体チップ20がテープ18から完全に
剥離すると、図3(e)に示すように、コレット14は
半導体チップ20を吸着保持したまま上昇し、且つ水平
方向に移動して半導体チップ20を所望の位置まで移動
する。この際、真空ホルダ22に作用していた真空吸引
力は解除され、且つ下死点に移動していた剥離台24は
図3(a)に示す上死点まで上昇し、次の半導体チップ
20の剥離に備える。なお、真空ホルダ22の真空吸引
力を迅速に解除するために、真空引きのラインに真空破
壊弁を設けたり、強制的に空気を真空ホルダ22に供給
したりしてもよい。When the semiconductor chip 20 is completely separated from the tape 18, as shown in FIG. 3E, the collet 14 rises while holding the semiconductor chip 20 by suction, and moves in the horizontal direction to remove the semiconductor chip 20. Move to desired position. At this time, the vacuum suction force acting on the vacuum holder 22 is released, and the peeling table 24 that has moved to the bottom dead center rises to the top dead center shown in FIG. Prepare for peeling. In order to quickly release the vacuum suction force of the vacuum holder 22, a vacuum breaking valve may be provided in a vacuum evacuation line, or air may be forcibly supplied to the vacuum holder 22.
【0034】その後、図3(f)に示すように、光学式
カメラ16の画像認識結果に基づいてXYテーブルを駆
動してテープ18を移動し、次に剥離する半導体チップ
20が剥離台24の真上となるように配置する。この
際、光学式カメラにより半導体チップ20の不良品を検
出して、不良品は剥離せず次の半導体チップに移行する
ことが好ましい。通常、半導体チップはテープに貼り付
けられたまま最終試験が行われるが、最終試験で不合格
となった半導体チップには黒インク等でマークが付与さ
れる。したがって、この不良品を表すマークを光学式カ
メラ16により画像認識すれば、不良品と判定された半
導体チップを検出することができる。Thereafter, as shown in FIG. 3F, based on the image recognition result of the optical camera 16, the XY table is driven to move the tape 18, and the semiconductor chip 20 to be peeled next is Arrange so that it is directly above. At this time, it is preferable that a defective semiconductor chip 20 is detected by an optical camera, and the defective semiconductor chip 20 is transferred to the next semiconductor chip without being separated. Usually, the final test is performed with the semiconductor chip attached to the tape. However, the semiconductor chip that has failed in the final test is marked with black ink or the like. Therefore, if the mark representing the defective product is image-recognized by the optical camera 16, the semiconductor chip determined to be defective can be detected.
【0035】なお、上述の動作では、コレット14によ
り半導体チップ20を吸着保持した後に剥離台24を下
降させているが、剥離台24を下降させてから半導体チ
ップ20をコレット14に吸着保持することとしてもよ
い。すなわち、図3(b)に示す工程と、図3(c)に
示す工程とを入れ替えるものである。このように、最初
に剥離台24を下降させた場合、半導体チップ20が真
空ホルダ22の上面にテープ18を介して当接するが、
テープ18は更に開口22aに引き込まれるので、半導
体チップ20はテープ18から完全に剥離することとな
る。そして、半導体チップ20が完全に剥離したところ
で、コレット14を半導体チップ20に当接し、コレッ
ト14により吸引保持する。In the above-described operation, the peeling table 24 is lowered after the semiconductor chip 20 is sucked and held by the collet 14. However, the semiconductor chip 20 is sucked and held by the collet 14 after the peeling table 24 is lowered. It may be. That is, the process shown in FIG. 3B is replaced with the process shown in FIG. As described above, when the peeling table 24 is first lowered, the semiconductor chip 20 abuts on the upper surface of the vacuum holder 22 via the tape 18.
Since the tape 18 is further drawn into the opening 22a, the semiconductor chip 20 is completely separated from the tape 18. Then, when the semiconductor chip 20 is completely peeled off, the collet 14 is brought into contact with the semiconductor chip 20 and is sucked and held by the collet 14.
【0036】ただし、半導体チップ20が容易に剥離す
るような場合は、剥離台24が上死点に位置している状
態で真空ホルダ22による吸引を開始する前に、コレッ
ト14により半導体チップ20を吸着保持することが好
ましい。これにより、半導体チップ20はテープ18に
貼り付けられた状態でコレット14により吸着保持され
る。したがって、真空ホルダ22による吸引だけにより
半導体チップ20が剥離してしまうような場合でも、半
導体装置20の位置がずれてしまうことを防止すること
ができる。However, in the case where the semiconductor chip 20 is easily peeled off, the semiconductor chip 20 is moved by the collet 14 before the suction by the vacuum holder 22 is started in a state where the peeling table 24 is located at the top dead center. It is preferable to hold by suction. As a result, the semiconductor chip 20 is sucked and held by the collet 14 while being attached to the tape 18. Therefore, even when the semiconductor chip 20 is peeled off only by suction by the vacuum holder 22, it is possible to prevent the position of the semiconductor device 20 from shifting.
【0037】上述の剥離台24において、テープ18に
当接する頂面の平面形状は半導体チップ20の形状に対
応して略正方形とされている。しかし、半導体チップ2
0が長方形である場合は、剥離台24の頂面をこれに合
わせて略長方形としてもよい。また、正方形及び長方形
に限らず、四角形以上の多角形としてもよく、また円形
としてもよい。多角形の場合は、角部にある程度の丸み
をつけてテープ18に鋭利な角部が当たらないようにす
ることが好ましい。In the above-described peeling table 24, the planar shape of the top surface that comes into contact with the tape 18 is substantially square, corresponding to the shape of the semiconductor chip 20. However, the semiconductor chip 2
When 0 is a rectangle, the top surface of the peeling table 24 may be substantially rectangular in accordance with this. Further, the shape is not limited to a square and a rectangle, and may be a polygon such as a quadrangle or a circle. In the case of a polygon, it is preferable that the corners be rounded to some extent so that the tape 18 does not hit the sharp corners.
【0038】また、剥離台24の頂面と側面との角部は
面取り加工を施す等して、バリをなくしておくことが好
ましい。すなわち、テープ18に当接する部分はなるべ
く鋭利な部分がないように形成し、テープに損傷を与え
ないようにすることが好ましい。Further, it is preferable to eliminate burrs by chamfering the corner between the top surface and the side surface of the peeling table 24. That is, it is preferable that the portion in contact with the tape 18 be formed so as not to have a sharp portion as much as possible so as not to damage the tape.
【0039】また、剥離台24の頂面の大きさ(面積)
は、剥離すべき半導体チップの大きさ(面積)により決
定される。剥離台24の頂面の大きさが、剥離すべき半
導体チップの大きさより小さすぎると、剥離台24を下
降させる前に半導体チップが剥離してしまうおそれがあ
る。また、反対に大きすぎると、剥離台24が下降する
前の真空ホルダ22からの吸引による剥離部分が小さす
ぎて、剥離台24が下降しても完全に剥離しない可能性
がある。具体的には、剥離台24の頂面の大きさ(面
積)は、剥離すべき半導体チップの大きさ(面積)の1
/3〜2/3であることが好ましい。The size (area) of the top surface of the peeling table 24
Is determined by the size (area) of the semiconductor chip to be separated. If the size of the top surface of the separation table 24 is too small than the size of the semiconductor chip to be separated, the semiconductor chip may be separated before the separation table 24 is lowered. On the other hand, if the size is too large, the peeled portion by suction from the vacuum holder 22 before the peeling table 24 descends is too small, and there is a possibility that the peeling table 24 will not be completely peeled even if the peeling table 24 descends. Specifically, the size (area) of the top surface of the peeling table 24 is equal to the size (area) of the semiconductor chip to be peeled.
/ 3 to 2/3.
【0040】剥離台24の上死点の位置は、上述の例で
は真空ホルダ22の外周部の高さと同じとした。しか
し、剥離性が悪い場合は、剥離台24の上死点の位置を
真空ホルダ22の外周部の高さより高くすることによ
り、より剥離し易くすることができる。反対に、半導体
チップが剥離しやすい場合は、剥離台24の上死点の位
置を真空ホルダ22の外周部の高さより低くすること
で、剥離台が下降したときにうまく完全に剥離するよう
に調整することができる。The position of the top dead center of the peeling table 24 is the same as the height of the outer peripheral portion of the vacuum holder 22 in the above example. However, when the peeling property is poor, the peeling can be more easily performed by setting the position of the top dead center of the peeling table 24 higher than the height of the outer peripheral portion of the vacuum holder 22. Conversely, when the semiconductor chip is easily peeled, the position of the top dead center of the peeling table 24 is set lower than the height of the outer peripheral portion of the vacuum holder 22 so that the peeling table can be completely peeled off when the peeling table is lowered. Can be adjusted.
【0041】また、半導体チップを2値画像化して認識
する2値化検出により半導体チップを検出する場合は、
剥離台24の上死点の位置を真空ホルダ22の外周部の
高さより高くすることにより認識率を高めることができ
る。すなわち、2値化検出では、半導体チップからの反
射光を検出して半導体チップ20を白として認識する。
ここで、剥離台24上に配置された半導体チップ20を
周囲より僅かに高くすることで、周囲の半導体チップ2
0を僅かではあるが外側に向けて傾斜させることができ
る。これにより、周囲の半導体チップ20からの反射光
が光学式カメラ16に到達する量が減少し、剥離台24
上に位置する半導体チップ20のみを強調することがで
きる。したがって、剥離すべき半導体チップ20の認識
率を向上することができる。When a semiconductor chip is detected by binarization detection for recognizing a semiconductor chip by converting it into a binary image,
The recognition rate can be increased by setting the position of the top dead center of the separation table 24 higher than the height of the outer peripheral portion of the vacuum holder 22. That is, in the binarization detection, the semiconductor chip 20 is recognized as white by detecting the reflected light from the semiconductor chip.
Here, by making the semiconductor chip 20 placed on the peeling table 24 slightly higher than the surroundings, the surrounding semiconductor chips 2
The 0 can be slightly outwardly inclined. As a result, the amount of light reflected from the surrounding semiconductor chip 20 reaching the optical camera 16 is reduced, and
Only the upper semiconductor chip 20 can be emphasized. Therefore, the recognition rate of the semiconductor chip 20 to be separated can be improved.
【0042】以上のように、様々な条件に対応するため
に、剥離台24の上死点の位置は可変としておくことが
好ましい。As described above, in order to cope with various conditions, the position of the top dead center of the separation table 24 is preferably variable.
【0043】また、剥離台24の下死点の位置も可変と
することが好ましい。すなわち、剥離台24の下死点の
位置を、半導体チップ20がテープ18から完全に剥離
した状態となる位置とすることにより、剥離台24の不
要な下降を防止することができ、剥離工程の時間を短縮
することができる。ここで、半導体チップ20がテープ
18から完全に剥離した状態となる位置は、テープ18
の材質や半導体チップ20の形状、更には粘着材の剥離
強度などにより変化するため、剥離台24の下死点の位
置も可変とすることが好ましい。It is preferable that the position of the bottom dead center of the peeling table 24 is also variable. That is, by setting the position of the bottom dead center of the peeling table 24 to a position where the semiconductor chip 20 is completely peeled off from the tape 18, unnecessary lowering of the peeling table 24 can be prevented. Time can be reduced. Here, the position where the semiconductor chip 20 is completely separated from the tape 18 is the position of the tape 18.
It is preferable that the position of the bottom dead center of the peeling table 24 is also variable because it changes depending on the material of the semiconductor chip 20, the shape of the semiconductor chip 20, and the peel strength of the adhesive.
【0044】また、剥離台24の移動速度、特に下降速
度も可変とすることが好ましい。すなわち、剥離台24
の下降速度が速すぎると剥離が急激に進むため、剥離後
の半導体チップ20が衝撃で動いてしまうおそれがあ
る。しかし、剥離台24の下降速度を必要以上に遅くす
ることは、剥離工程の時間を増大させてしまう。ここ
で、半導体チップ20の剥離速度は、テープ18の材質
や半導体チップ20の形状、更には粘着材の剥離強度な
どにより変化するため、剥離台24の下降速度も可変と
することが好ましい。Further, it is preferable that the moving speed of the peeling table 24, particularly the descending speed, is also variable. That is, the peeling table 24
If the lowering speed of the semiconductor chip 20 is too fast, the peeling proceeds rapidly, and the semiconductor chip 20 after the peeling may move by an impact. However, making the descending speed of the peeling table 24 slower than necessary increases the time of the peeling step. Here, since the peeling speed of the semiconductor chip 20 changes depending on the material of the tape 18, the shape of the semiconductor chip 20, and the peeling strength of the adhesive, the descending speed of the peeling table 24 is also preferably made variable.
【0045】また、コレット14が半導体チップ20を
吸着固定する位置、すなわち、図3(c)に示すコレッ
ト14の位置(下死点位置)に停止している時間は、可
変とすることが好ましい。これは、半導体チップ20が
完全に剥離する時間は、テープ18の材質や半導体チッ
プ20の形状、更には粘着材の剥離強度などにより変化
するため、完全に剥離した状態となるまでコレットを上
昇させないようにするためである。It is preferable that the time during which the collet 14 stops at the position where the semiconductor chip 20 is suction-fixed, that is, the position (bottom dead center position) of the collet 14 shown in FIG. . This is because the time required for the semiconductor chip 20 to completely peel off varies depending on the material of the tape 18, the shape of the semiconductor chip 20, the peeling strength of the adhesive, and the like. Therefore, the collet is not raised until the semiconductor chip 20 is completely peeled off. That's why.
【0046】以上のように、上述の実施の形態による半
導体剥離装置10は、鋭利な突上ピンを使用することな
く、半導体チップ20の裏面に直接当接する部材を使用
しないので、半導体チップ20の裏面に傷をつけること
はない。したがって、このような傷に起因する半導体チ
ップ20の割れ及びクラック発生を防止することができ
る。また、半導体チップ剥離装置10に高価な突上ピン
を使用していないので、半導体チップ剥離装置の製造コ
ストを低減することができる。さらに、半導体チップサ
イズ毎の治具交換も少なくなり、作業効率が向上する。As described above, the semiconductor peeling device 10 according to the above-described embodiment does not use a member directly in contact with the back surface of the semiconductor chip 20 without using a sharp protrusion pin, so that the semiconductor chip 20 Does not scratch the back. Therefore, cracking and cracking of the semiconductor chip 20 due to such a scratch can be prevented. In addition, since an expensive bump pin is not used in the semiconductor chip peeling device 10, the manufacturing cost of the semiconductor chip peeling device can be reduced. Further, jig replacement for each semiconductor chip size is reduced, and work efficiency is improved.
【0047】また、上述の実施の形態において、剥離台
24の中央に垂直移動可能な小さな剥離台を更に設ける
こととすれば、剥離性をさらに向上することができる。In the above-described embodiment, if a small vertically movable stripping table is further provided at the center of the stripping table 24, the releasability can be further improved.
【0048】また、剥離台24を使用せずに真空ホルダ
22のみで半導体チップ20の剥離を行うこともでき
る。すなわち、図3(a)に示す状態で剥離台24のな
い状態としておき、コレット14を半導体チップ20に
当接して吸着保持する。そしてして、真空ホルダ22に
よりテープ18を吸引することにより、図3(d)のよ
うにテープ18を真空ホルダ22の上面22に引き寄せ
ることができる。半導体チップ20はコレット14によ
り吸着保持されているので、テープ18から剥離するこ
ととなる。このような剥離工程は、あらかじめ剥離台2
4のない剥離装置を準備するか、あるいは、図3(a)
に示す状態で剥離台24を下死点位置に固定しておくこ
とでも達成できる。Further, the semiconductor chip 20 can be peeled only by the vacuum holder 22 without using the peeling table 24. That is, the state shown in FIG. 3A is set without the peeling table 24, and the collet 14 is brought into contact with the semiconductor chip 20 to be suction-held. Then, by suctioning the tape 18 by the vacuum holder 22, the tape 18 can be drawn to the upper surface 22 of the vacuum holder 22 as shown in FIG. Since the semiconductor chip 20 is sucked and held by the collet 14, the semiconductor chip 20 is separated from the tape 18. Such a peeling step is performed in advance by the peeling table 2.
Prepare a peeling device without 4 or see Fig. 3 (a)
It can also be achieved by fixing the peeling table 24 at the bottom dead center position in the state shown in FIG.
【0049】また、上述の実施の形態において、剥離台
24は垂直方向のみに移動する構成であったが、水平方
向(XY方向)にも移動可能とすることにより、剥離を
より確実にすることもできる。In the above-described embodiment, the peeling table 24 is configured to move only in the vertical direction. However, the peeling table 24 can also be moved in the horizontal direction (XY directions), so that peeling can be more reliably performed. Can also.
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、次に述べる
種々の効果を実現することができる。According to the present invention as described above, the following various effects can be realized.
【0050】請求項1記載及び請求項4記載の発明によ
れば、剥離台及びコレットにより半導体チップを所定の
位置に保持し、傾斜により半導体チップから離間した真
空ホルダの上面に対してテープを引きよせることによ
り、半導体チップはテープから剥離する。したがって、
鋭利な突上ピンを使用することなく半導体チップを容易
に剥離することができる。According to the first and fourth aspects of the present invention, the semiconductor chip is held at a predetermined position by the peeling table and the collet, and the tape is pulled on the upper surface of the vacuum holder separated from the semiconductor chip by inclination. As a result, the semiconductor chip peels off from the tape. Therefore,
The semiconductor chip can be easily peeled off without using a sharp protrusion pin.
【0051】請求項2記載の発明によれば、剥離台の上
死点位置及び/又は下死点の位置を可変とすることによ
り、半導体チップのサイズやテープの材質あるいは粘着
材の剥離強度等が変わった場合でも、最適な剥離を実現
することができる。According to the second aspect of the present invention, the position of the top dead center and / or the position of the bottom dead center of the peeling table are made variable, so that the size of the semiconductor chip, the material of the tape or the peeling strength of the adhesive material, etc. Even if the value changes, optimal peeling can be realized.
【0052】請求項3記載の発明によれば、剥離台の移
動速度を可変とすることにより、様々な剥離条件に対応
して最適な剥離速度を実現することができる。According to the third aspect of the present invention, by making the moving speed of the peeling table variable, it is possible to realize an optimum peeling speed corresponding to various peeling conditions.
【図1】本発明の一実施例による半導体チップ剥離装置
の全体構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an overall configuration of a semiconductor chip peeling apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図2】図1に示す半導体チップ剥離装置の主要部を示
す簡略断面図である。FIG. 2 is a simplified sectional view showing a main part of the semiconductor chip peeling apparatus shown in FIG.
【図3】図1に示す半導体チップ剥離装置の動作を説明
するための図である。FIG. 3 is a view for explaining the operation of the semiconductor chip peeling device shown in FIG. 1;
10 半導体チップ剥離装置 12 剥離機構 14 コレット 16 光学式カメラ 18 テープ 20 半導体チップ 22 真空ホルダ 22a 開口 22b 上面 24 剥離台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor chip peeling apparatus 12 Peeling mechanism 14 Collet 16 Optical camera 18 Tape 20 Semiconductor chip 22 Vacuum holder 22a Opening 22b Upper surface 24 Peeling table
Claims (4)
テープから剥離する半導体チップ剥離装置であって、 中央に向かって次第に低くなるように傾斜が設けられた
上面と、該上面の中央に形成された開口とを有し、半導
体チップが貼り付けられたテープが該上面に載置される
真空ホルダと、 前記真空ホルダの前記開口内に配置され、垂直方向に移
動可能であって、前記半導体チップより小さい面積の頂
面を有する剥離台と、 該剥離台の上に位置する半導体チップを前記剥離台の反
対側から吸着保持するコレットと、 前記真空ホルダ上に配置されたテープに貼り付けられた
半導体チップの位置を検出する位置検出手段とを有する
ことを特徴とする半導体チップ剥離装置。1. A semiconductor chip peeling device for peeling a semiconductor chip attached to a tape from a tape, comprising: an upper surface provided with an inclination so as to gradually decrease toward a center; and a center formed at the center of the upper surface. A vacuum holder on which a tape to which a semiconductor chip is attached is placed on the upper surface, and the semiconductor chip is disposed in the opening of the vacuum holder and is movable in a vertical direction. A peeling table having a top surface of a smaller area, a collet for sucking and holding a semiconductor chip located on the peeling table from the opposite side of the peeling table, and affixed to a tape placed on the vacuum holder. A semiconductor chip peeling device comprising: a position detecting means for detecting a position of a semiconductor chip.
あって、 前記剥離台の上死点位置及び下死点位置のうち少なくと
も一方は可変であることを特徴とする半導体チップ剥離
装置。2. The semiconductor chip peeling device according to claim 1, wherein at least one of a top dead center position and a bottom dead center position of said peeling table is variable.
あって、 前記剥離台の移動速度は可変であることを特徴とする半
導体チップ剥離装置。3. The semiconductor chip peeling device according to claim 1, wherein the moving speed of the peeling table is variable.
の半導体チップ剥離方法であって、 中央に向かって次第に低くなるように傾斜が設けられた
上面と、該上面の中央に形成された開口とを有し、前記
半導体チップより小さい面積の頂面を有する剥離台が前
記開口内で垂直移動可能に配置された真空ホルダの前記
上面に、半導体チップが貼り付けられた該テープを配置
し、 剥離すべき半導体チップが前記剥離台の上に配置される
ように前記テープを移動し、 前記半導体チップが剥離台の上に配置されている状態
で、前記真空ホルダにより前記テープを吸引することに
より、前記半導体チップの周囲部分を前記テープから剥
離し、 前記半導体チップを前記剥離台に支持された位置に保持
し、 前記剥離台を下降させて半導体チップをテープから完全
に剥離する各工程を有することを特徴とする半導体チッ
プ剥離方法。4. A semiconductor chip peeling method for peeling a semiconductor chip from a tape, comprising: an upper surface provided with an inclination so as to gradually decrease toward a center; and an opening formed at the center of the upper surface. The tape on which the semiconductor chip is attached is disposed on the upper surface of a vacuum holder in which a peeling table having a top surface having an area smaller than the semiconductor chip is vertically movable within the opening. By moving the tape so that the semiconductor chip to be placed on the peeling table, in a state where the semiconductor chip is placed on the peeling table, by suctioning the tape by the vacuum holder, Peeling off the peripheral portion of the semiconductor chip from the tape, holding the semiconductor chip at a position supported by the peeling table, lowering the peeling table to remove the semiconductor chip from the tape. The semiconductor chip peeling method characterized by having each step of completely peeled off.
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Cited By (4)
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080108 |