JP2002118079A - Method of manufacturing semiconductor device - Google Patents
Method of manufacturing semiconductor deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法に関し、特に、スクライブされたウェハが搭載され
たダイシングシートの補修方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a method for repairing a dicing sheet on which a scribed wafer is mounted.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、半導体のチップを製造する工程で
は、基板となるウェハをダイシングシートに搭載(固
定)する工程と、該ウェハを個別にフルカットする工程
と、該ウェハを延伸する工程と、チップをピックアップ
する工程とが必要であるが、このフルカットの工程で、
フルカットの実施状態や延伸の状態により、ダイシング
シートが破れることがあり、このような場合には、破れ
た部分をテープで補修したり、ウェハ全体を別のダイシ
ングシートに移し換えたりしていた。2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a semiconductor chip, a process of mounting (fixing) a wafer serving as a substrate on a dicing sheet, a process of individually full-cutting the wafer, and a process of extending the wafer are described. , A step of picking up chips is necessary, but in this full cut process,
The dicing sheet may be torn depending on the state of the full cut and the state of stretching, and in such a case, the torn portion was repaired with tape, or the entire wafer was transferred to another dicing sheet. .
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところが、ダイシング
シートが破れた場合、上記の従来の補修方法では、次の
工程、即ち、ウェハを延伸する工程で支障が出ることが
あった。However, when the dicing sheet is torn, the above-mentioned conventional repairing method may hinder the next step, that is, the step of extending the wafer.
【0004】即ち、延伸の際にダイシングシートの破れ
も拡大されるので、本来は良品となるべきチップの10
〜30%を歩留り処分としていた。また、別のダイシン
グシートに搭載する方法ではウェハの固定等に工数が掛
かり過ぎるといった問題点や、破れたダイシングシート
からウェハを手で剥がす時に、このウェハをチップ部分
も含めて破損してしまうといった問題点も有った。[0004] That is, since the tearing of the dicing sheet is enlarged during the stretching, the chip which should be a non-defective product is required.
Up to 30% had been discarded as yield. In addition, the method of mounting on a different dicing sheet takes too much time to fix the wafer, etc., and when the wafer is peeled off from the torn dicing sheet by hand, the wafer is damaged including the chip portion. There were also problems.
【0005】本発明は、以上のような従来の半導体装置
の製造方法における問題点に鑑みてなされたものであ
り、スクライブ済のウェハを搭載したダイシングシート
の破れを簡単に補修することができる半導体装置の製造
方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems in the conventional method of manufacturing a semiconductor device, and is intended to easily repair a broken dicing sheet on which a scribed wafer is mounted. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a device.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明では上記の課題を
解決するために、スクライブされたウェハが搭載されて
いるダイシングシートに生じた傷を補修する半導体装置
の製造方法に関し、傷を含む前記ダイシングシートの前
記ウェハ周辺の第1の領域を、前記ウェハの略中心を中
心として、かつ前記傷を含まないようにして切り取る工
程と、傷の無い新しいダイシングシートの略中心を中心
とする第2の領域を、前記第1の領域の面積よりも小さ
く、かつ前記ウェハの面積よりも大きく、かつ前記第1
の領域と合同な図形として切り取る工程と、前記第1の
領域を切り取ったダイシングシート上に、前記第2の領
域を切り取った新しいダイシングシートを重ね合わせる
工程と、前記第1の領域を切り取ったダイシングシート
と、前記第2の領域を切り取った新しいダイシングシー
トとの重ね合わせ部分を加熱して、前記重ね合わせ部分
を接合する工程とを有することを特徴とする半導体装置
の製造方法が提供される。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device for repairing a flaw generated on a dicing sheet on which a scribed wafer is mounted. A step of cutting a first area around the wafer of the dicing sheet around the center of the wafer so as not to include the scratch, and a second step of cutting around a center of a new scratch-free dicing sheet. Area is smaller than the area of the first area, larger than the area of the wafer, and
A step of cutting as a figure congruent with the area of the first area, a step of superposing a new dicing sheet of the second area on the dicing sheet of the first area, and dicing the first area. A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: heating a portion where a sheet is overlapped with a new dicing sheet obtained by cutting out the second region, and joining the overlapped portion.
【0007】即ち、本発明では、破れたダイシングシー
トからウェハを剥がすことなく、該ウェハ周辺の該ダイ
シングシートの傷を含まない中央領域を確保するように
して切り取り、この切り出したダイシングシート上に、
上記領域の面積よりも小さく、かつ上記ウェハの面積よ
りも大きい中央領域を切り取った新しいダイシングシー
トを重ね合わせ、その後、旧ダイシングシートと新ダイ
シングシートとの重ね合わせ部分を加熱して両者を接合
することにより、スクライブ済のウェハを搭載したダイ
シングシートの破れの簡単な補修を可能にしている。That is, according to the present invention, the dicing sheet is cut off without removing the wafer from the torn dicing sheet so as to secure a central area around the wafer which is free from scratches.
A new dicing sheet obtained by cutting a central area smaller than the area of the area and larger than the area of the wafer is superimposed, and then the superposed portion of the old dicing sheet and the new dicing sheet are heated to join the two. This makes it possible to easily repair a broken dicing sheet on which a scribed wafer is mounted.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態に係
る半導体装置の製造方法におけるダイシングシートの補
修方法の第1の工程(全体の1/5の工程)を示す平面
図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a first step (one-fifth of the entire process) of a method for repairing a dicing sheet in a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【0009】図1(a)は、本工程に入った時点での仕
掛かり製品の状態を示し、ウェハ1を搭載したダイシン
グシート2は、ディスコリング3に貼り付けられてい
る。また、ダイシングシート2には、シート破れ21が
存在している。FIG. 1A shows the state of a product in process at the time of entering this process. A dicing sheet 2 on which a wafer 1 is mounted is attached to a disco ring 3. The dicing sheet 2 has a sheet tear 21.
【0010】図1(b)に示す工程では、ダイシングシ
ート2のウェハ1の周辺が切り取られて、切り取ったダ
イシングシート22として示されている。切り取ったダ
イシングシート22の表面積は、当然ながら、ウェハ1
の表面積より大きくなるように切り取られている。実際
には、この表面積は担当者の目分量で切り取られる。ま
た、切り取る領域の図形は、円を含む任意の図形(ここ
では、略正方形)であるが、中心がウェハ1の中心に略
一致するように切り取る。In the step shown in FIG. 1 (b), the periphery of the wafer 1 of the dicing sheet 2 is cut out and shown as a dicing sheet 22 cut out. The surface area of the cut dicing sheet 22 is, of course,
It has been cut out to be larger than the surface area. In practice, this surface area is cut out by the person in charge. The figure of the region to be cut is an arbitrary figure including a circle (here, substantially a square), but is cut so that the center substantially matches the center of the wafer 1.
【0011】本実施の形態では、切り取ったダイシング
シート22は、シート破れ21を避けて切り取られてい
るが、シート破れ21がダイシングシート22の周辺に
接していてもよい。In this embodiment, the cut dicing sheet 22 is cut so as to avoid the sheet tear 21, but the sheet tear 21 may be in contact with the periphery of the dicing sheet 22.
【0012】図2は、本発明の実施の形態に係る半導体
装置の製造方法におけるダイシングシートの補修方法の
第2の工程(全体の1/5の工程)を示す平面図であ
る。図1の工程とは独立して、図2に示す工程では、補
修用の新しいダイシングシートを用意する。FIG. 2 is a plan view showing a second step (1/5 of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the method of manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention. Independently of the process of FIG. 1, in the process shown in FIG. 2, a new dicing sheet for repair is prepared.
【0013】まず、図2(a)に示す工程では、傷の無
い新しいダイシングシート23を用意する。次に、図2
(b)に示す工程では、新しいダイシングシート23の
切り取り部分221を切り取る。この切り取り部分22
1は、中心が新しいダイシングシート23の中心に略一
致するように切り取る。切り取る領域の図形は、円を含
む任意の図形(ここでは、略正方形)であるが、図1
(b)に示す切り取ったダイシングシート22の図形と
略合同となるように切り取る。First, in the step shown in FIG. 2A, a new dicing sheet 23 having no scratch is prepared. Next, FIG.
In the step shown in (b), the cutout portion 221 of the new dicing sheet 23 is cut out. This cut part 22
1 is cut so that the center substantially matches the center of the new dicing sheet 23. The shape of the region to be cut out is an arbitrary shape including a circle (here, substantially a square).
The dicing sheet 22 is cut out so as to be substantially congruent with the figure of the dicing sheet 22 shown in FIG.
【0014】図3は、本発明の実施の形態に係る半導体
装置の製造方法におけるダイシングシートの補修方法の
第3の工程(全体の1/5の工程)を示す平面図であ
る。ここでは、切り取ったダイシングシート22の上部
から切り取り後の新しいダイシングシート31(図2に
示す新しいダイシングシートから切り取り部分221を
切り取ったものであり、切り取り跡32は空洞である)
を被せて、両者を重ね合わせる。FIG. 3 is a plan view showing a third step (one-fifth of the whole) of the dicing sheet repairing method in the method of manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention. Here, a new dicing sheet 31 after being cut from the upper part of the cut dicing sheet 22 (the cut portion 221 is cut from the new dicing sheet shown in FIG. 2, and the cut mark 32 is a cavity).
And superimpose both.
【0015】図4は、本発明の実施の形態に係る半導体
装置の製造方法におけるダイシングシートの補修方法の
第4の工程(全体の1/5の工程)を示す平面図であ
る。図4(a)は、切り取ったダイシングシート22
と、切り取り後の新しいダイシングシート31とが重ね
合わされた状態、即ち、図3に示す工程が完了した直後
の仕掛かり製品の状態を示す。重なり部分4は、切り取
ったダイシングシート22と、切り取り後の新しいダイ
シングシート31との重なり部分の領域を示す。FIG. 4 is a plan view showing a fourth step (one-fifth of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the method of manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention. FIG. 4A shows the cut dicing sheet 22.
3 shows a state in which the new dicing sheet 31 after cutting is superimposed, that is, a state of the in-process product immediately after the step shown in FIG. 3 is completed. The overlapping portion 4 indicates a region of an overlapping portion between the cut dicing sheet 22 and the cut new dicing sheet 31.
【0016】図4(b)に示す工程では、重なり部分4
を電熱線5で加熱し、切り取ったダイシングシート22
と、切り取り後の新しいダイシングシート31とを接合
する。In the step shown in FIG.
Is heated by the heating wire 5 and the cut dicing sheet 22
And the new dicing sheet 31 after cutting.
【0017】この電熱線5としては、真空包装機等が利
用可能である。図5は、本発明の実施の形態に係る半導
体装置の製造方法におけるダイシングシートの補修方法
の第5の工程(全体の1/5の工程)を示す平面図であ
る。As the heating wire 5, a vacuum packing machine or the like can be used. FIG. 5 is a plan view showing a fifth step (one-fifth of the whole) of the dicing sheet repairing method in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention.
【0018】ここでは、図4の工程が完了した直後の仕
掛かり製品をディスコリング3に貼り付ける。これにて
全ての補修工程が完了となる。なお、本発明に係る上記
工程をダイシングシートの延伸工程の前工程とすること
ができる。Here, the in-process product immediately after the completion of the process of FIG. This completes all repair steps. In addition, the above process according to the present invention can be a process before the stretching process of the dicing sheet.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上に説明したとおり、本発明では、破
れたダイシングシートからウェハを剥がすことなく、該
ウェハ周辺の該ダイシングシートの傷を含まない中央領
域を確保するようにして切り取り、この切り出したダイ
シングシート上に、上記領域の面積よりも小さく、かつ
上記ウェハの面積よりも大きい中央領域を切り取った新
しいダイシングシートを重ね合わせ、その後、旧ダイシ
ングシートと新ダイシングシートとの重ね合わせ部分を
加熱して両者を接合するので、スクライブ済のウェハを
搭載したダイシングシートの破れの簡単な補修が可能と
なる。As described above, according to the present invention, the dicing sheet is cut out without removing the wafer from the torn dicing sheet so as to secure a central area around the wafer which is free from scratches on the dicing sheet. A new dicing sheet having a central area smaller than the area of the above area and larger than the area of the wafer cut out is superimposed on the dicing sheet, and thereafter, a superposed portion of the old dicing sheet and the new dicing sheet is heated. Then, the two are joined, so that the dicing sheet on which the scribed wafer is mounted can be easily repaired torn.
【図1】本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方
法におけるダイシングシートの補修方法の第1の工程
(全体の1/5の工程)を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a first step (1/5 of the entire process) of a dicing sheet repairing method in a method of manufacturing a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方
法におけるダイシングシートの補修方法の第2の工程
(全体の2/5の工程)を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a second step (2/5 of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the semiconductor device manufacturing method according to the embodiment of the present invention.
【図3】本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方
法におけるダイシングシートの補修方法の第3の工程
(全体の3/5の工程)を示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a third step (3/5 of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図4】本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方
法におけるダイシングシートの補修方法の第4の工程
(全体の4/5の工程)を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a fourth step (4/5 of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
【図5】本発明の実施の形態に係る半導体装置の製造方
法におけるダイシングシートの補修方法の第5の工程
(全体の5/5の工程)を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a fifth step (5/5 of the entire process) of the dicing sheet repairing method in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment of the present invention;
1……ウェハ、2……ダイシングシート、3……ディス
コリング、4……重なり部分、5……電熱線、21……
シート破れ、22……切り取ったダイシングシート、2
3……新しいダイシングシート1 ... wafer, 2 ... dicing sheet, 3 ... disco ring, 4 ... overlapping part, 5 ... heating wire, 21 ...
Sheet torn, 22 ... Dicing sheet cut out, 2
3. New dicing sheet
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat ゛ (Reference)
Claims (7)
るダイシングシートに生じた傷を補修する半導体装置の
製造方法に関し、 傷を含む前記ダイシングシートの前記ウェハ周辺の第1
の領域を、前記ウェハの略中心を中心として、かつ前記
傷を含まないようにして切り取る工程と、 傷の無い新しいダイシングシートの略中心を中心とする
第2の領域を、前記第1の領域の面積よりも小さく、か
つ前記ウェハの面積よりも大きく、かつ前記第1の領域
と合同な図形として切り取る工程と、 前記第1の領域を切り取ったダイシングシート上に、前
記第2の領域を切り取った新しいダイシングシートを重
ね合わせる工程と、 前記第1の領域を切り取ったダイシングシートと、前記
第2の領域を切り取った新しいダイシングシートとの重
ね合わせ部分を加熱して、前記重ね合わせ部分を接合す
る工程と、 を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。1. A method of manufacturing a semiconductor device for repairing a scratch generated on a dicing sheet on which a scribed wafer is mounted, the method comprising:
Cutting the area around the center of the wafer so as not to include the scratches, and the second area centering about the center of a new scratch-free dicing sheet as the first area A step of cutting as a figure smaller than the area of the wafer and larger than the area of the wafer and congruent with the first area; and cutting the second area on a dicing sheet obtained by cutting the first area. Superimposing a new dicing sheet, and heating a superimposed portion of the dicing sheet obtained by cutting out the first region and the new dicing sheet obtained by cutting out the second region to join the superposed portion. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
していることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の
製造方法。2. The method according to claim 1, wherein a peripheral portion of the first region is in contact with the flaw.
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方
法。3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein the figure in the first area is a substantially square.
円であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の
製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the figure in the first area is a substantially circle or a substantially ellipse.
を、それぞれ作業者の目分量で切り取ることを特徴とす
る請求項1記載の半導体装置の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the first region and the second region are cut by an operator's eye.
とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。6. The method according to claim 1, wherein a heating wire is used for the heating.
シングシートの破れ目であることを特徴とする請求項1
記載の半導体装置の製造方法。7. The dicing sheet according to claim 1, wherein the scratch on the dicing sheet is a break in the dicing sheet.
The manufacturing method of the semiconductor device described in the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000306238A JP2002118079A (en) | 2000-10-05 | 2000-10-05 | Method of manufacturing semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000306238A JP2002118079A (en) | 2000-10-05 | 2000-10-05 | Method of manufacturing semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=18786962
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JP (1) | JP2002118079A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011204850A (en) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Disco Corp | Method of manufacturing semiconductor device |
CN111128807A (en) * | 2019-12-27 | 2020-05-08 | 青岛歌尔微电子研究院有限公司 | Method, apparatus, device and medium for processing non-complete wafer |
-
2000
- 2000-10-05 JP JP2000306238A patent/JP2002118079A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011204850A (en) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Disco Corp | Method of manufacturing semiconductor device |
CN111128807A (en) * | 2019-12-27 | 2020-05-08 | 青岛歌尔微电子研究院有限公司 | Method, apparatus, device and medium for processing non-complete wafer |
CN111128807B (en) * | 2019-12-27 | 2023-06-23 | 青岛歌尔微电子研究院有限公司 | Incomplete wafer processing method, device, equipment and medium |
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