JP2002117802A - 垂直加速型飛行時間型質量分析装置 - Google Patents
垂直加速型飛行時間型質量分析装置Info
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- JP2002117802A JP2002117802A JP2000308631A JP2000308631A JP2002117802A JP 2002117802 A JP2002117802 A JP 2002117802A JP 2000308631 A JP2000308631 A JP 2000308631A JP 2000308631 A JP2000308631 A JP 2000308631A JP 2002117802 A JP2002117802 A JP 2002117802A
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Abstract
グリッドが帯電しても、マススペクトルの分解能や感度
が低下するのを防止することができるOA−TOFMS
を提供する。 【解決手段】外部イオン源と、外部イオン源で発生した
イオンを滞在させる空間と、該空間からイオンをパルス
的に加速して取り出すために該空間を挟んで対向配置さ
れるイオン押し出しプレートとグリッドにより構成され
るイオン溜と、グリッドを介して取り出されたイオンを
質量分離する飛行時間型分光部と、質量分離されたイオ
ンを検出するイオン検出器とを備えた垂直加速型飛行時
間型質量分析装置において、前記イオン押し出しプレー
トおよび/またはグリッドにオフセット電圧を印加する
ようにした。
Description
間型質量分析装置に関し、特に、イオン溜を構成するイ
オン押し出しプレートやグリッドの帯電によってマスス
ペクトルの分解能が低下するのを、未然に防止すること
ができる垂直加速型飛行時間型質量分析装置に関する。
ンを真空中で飛行させ、飛行の過程で質量の異なるイオ
ンを分離して、スペクトルとして記録する装置である。
質量分析装置には、扇形磁場を用いてイオンの質量分散
を行なわせる磁場型質量分析装置、四重極電極を用いて
質量によるイオンの選別(フィルタリング)を行なわせ
る四重極質量分析装置(QMS)、質量によるイオンの
飛行時間の違いを利用してイオンを分離する飛行時間型
質量分析装置(TOFMS;time of flight MS)な
どが知られている。
析装置とQMSは、連続的にイオンを生成するタイプの
イオン源に適合しているのに対し、TOFMSは、パル
ス状にイオンを生成するタイプのイオン源に適合してい
る。従って、連続型のイオン源をTOFMSに利用しよ
うとすれば、イオン源の利用のしかたに工夫が必要であ
る。垂直加速型飛行時間型質量分析装置(OA−TOF
MS;orthogonal acceleration TOFMS)は、連続
型のイオン源からパルス状のイオンを射出することがで
きるように工夫されたTOFMSの一例である。
を示す。OA−TOFMSは、電子衝撃(EI)イオン
源、化学イオン化(CI)イオン源、電界脱離(FD)
イオン源、エレクトロスプレイ(ESI)イオン源、高
速原子衝撃(FAB)イオン源などの連続型の外部イオ
ン源1と、第1および第2の隔壁および図示しない真空
ポンプによって構成される差動排気壁10と、該差動排
気壁10の第1の隔壁上に設けられた第1のオリフィス
2と、該差動排気壁10内に置かれたリングレンズ3
と、該差動排気壁10を構成する第2の隔壁上に設けら
れた第2のオリフィス4と、イオンガイド5が置かれた
中間室11と、集束レンズおよび偏向器から成るレンズ
群6、イオン押し出しプレートと加速レンズ(グリッ
ド)から成るランチャー7、イオンを反射するリフレク
ター8、およびイオン検出器9などのイオン光学系を構
成する構成物が置かれた測定室13とを備えている。
において試料から生成したイオンは、まず最初に、第1
のオリフィス2を通って差動排気壁10に導入される。
そして、差動排気壁10内で拡散しようとするイオン
は、差動排気壁10内のリングレンズ3によって集束さ
れ、第2のオリフィス4を通って中間室11に導入され
る。中間室11に導入されたイオンは、中間室11内で
運動エネルギーを落とし、イオンガイド5から発生する
高周波電界によってイオンビーム径を小さくして、高真
空な測定室13へと誘導される。中間室11と測定室1
3を仕切る隔壁には、第3のオリフィス12が設けられ
ている。イオンガイド5から誘導されてきたイオンは、
この第3のオリフィス12によって、一定の径を持った
イオンビームに整形されて、測定室13に導入される。
器とから成るレンズ群6が設置されている。測定室13
に入ってきたイオンビームは、レンズ群6によりビーム
の拡散や偏向を是正され、ランチャー7に導入される。
ランチャー7内には、イオン押し出しプレートとグリッ
ドが対向配置されて成るイオン溜と、該イオン溜の軸方
向に対して直交する方向に並ぶ加速レンズとが設置され
ている。
に、イオン押し出しプレート14とグリッド15および
加速レンズ16によって挟まれたイオン溜17に向けて
平行に進入する。イオン溜17内を平行に移動する一定
の長さを持ったイオンビーム18は、イオン押し出しプ
レート14にパルス状の加速電圧を印加することによ
り、イオンビーム18の進入軸方向(Y軸方向)とは垂
直な方向(X軸方向)にパルス状に加速され、イオンパ
ルス19となって、イオン溜17と対向する位置に設け
られた図示しないリフレクターに向けて飛行を開始す
る。
3に導入されたときのY軸方向の速度と、それとは垂直
な方向にイオン押し出しプレート、グリッド、及び加速
レンズによって与えられたX軸方向の速度とが足し合わ
されるため、完全なX軸方向ではなく、わずかに斜めを
向いたX軸方向に飛行し、リフレクター8で反射され
て、イオン検出器9に到達する。
大小にかかわらず、同じ電位差がイオンに作用するた
め、軽いイオンほど速度が速くなり、重いイオンほど速
度が遅くなる。その結果、イオンの質量の違いがイオン
検出器8に到達するまでの到達時間の違いとなって現
れ、イオンの質量の違いをイオンの飛行時間の違いとし
て分離することができる。
生成したイオンビームを、イオン押し出しプレート、グ
リッド、及び加速レンズから成るランチャー7によって
パルス状に加速することにより、連続型のイオン源を、
パルス状のイオン源に対して適合性を持つTOFMSに
適用することができる。
−TOFMSでは、イオンをイオン溜に導入する際のイ
オンの運動エネルギーが50eV以下と非常に小さく設
定されている。従って、磁場型質量分析装置と比較した
場合、OA−TOFMSの方が、電極その他の帯電の影
響をはるかに受けやすい。その結果、イオン溜を構成す
る電極その他に帯電がわずかでも発生すると、イオン溜
に導入されたイオンビームは、図3に示すように、偏向
を受けて傾くことになり、OA−TOFMSの分解能や
感度に低下をもたらすことになる。このような帯電は、
試料イオンの残骸の有機物などが電極の表面などに付着
することによって、極めて容易に起こり得る。
は、OA−TOFMSのイオン溜の直前の位置に、集束
レンズと共に偏向器が設けてあった。あるいはまた、電
極その他の帯電の影響を小さくするために、イオン溜に
導入されるイオンビームのエネルギーを大きめに取った
りしていた。
偏向を是正することには効果があるが、それは、設けた
偏向器よりも手前でイオンビームが偏向している場合に
限られる。イオン溜のイオン押し出しプレートや加速レ
ンズ(グリッド)が帯電してしまったときには、偏向器
で偏向を矯正しようとしてもほとんど効果はない。
のエネルギー(インジェクション・エネルギー)を大き
くすることは、偏向器を設けるよりも効果がある。イオ
ン押し出しプレートの帯電電圧よりも相対的に大きいイ
ンジェクション・エネルギーのイオンならば、イオン押
し出しプレートの帯電によってもほとんど偏向されず
に、イオンビームは直進することができる。しかし、装
置全体の大きさを制限する要求が出たり、省スペースの
要求があることなどを考慮すると、イオン溜に導入され
たイオンを、できるだけイオン溜の導入軸に対して直交
する方向に加速することが望ましく、そのためには、高
いインジェクション・エネルギーに対して、より高い押
し出しのための加速電圧をイオン押し出しプレートに印
加する必要がある。
ギーを上昇させることが効果があると言っても、実用上
の限界があるし、また、帯電の影響は必ずしも恒常的な
ものではなく、装置の汚染度や時間経過などによって変
化しがちである。更に、帯電対策として、高圧電源や高
圧対応の検出器を採用すれば、それだけコストが高くな
るという問題を生じる。
ン溜を構成するイオン押し出しプレートやグリッドが帯
電しても、マススペクトルの分解能や感度が低下するの
を防止することができるOA−TOFMSを提供するこ
とにある。
め、本発明にかかるOA−TOFMSは、外部イオン源
と、外部イオン源で発生したイオンを滞在させる空間
と、該空間からイオンをパルス的に加速して取り出すた
めに該空間を挟んで対向配置されるイオン押し出しプレ
ートとグリッドにより構成されるイオン溜と、グリッド
を介して取り出されたイオンを質量分離する飛行時間型
分光部と、質量分離されたイオンを検出するイオン検出
器とを備えた垂直加速型飛行時間型質量分析装置におい
て、前記イオン押し出しプレートおよび/またはグリッ
ドにオフセット電圧を印加するようにしたことを特徴と
している。
実施の形態を説明する。図4は、本発明にかかるOA−
TOFMSの一実施例を表わしたものである。本実施例
は、電子衝撃(EI)イオン源、化学イオン化(CI)
イオン源、電界脱離(FD)イオン源、エレクトロスプ
レイ(ESI)イオン源、高速原子衝撃(FAB)イオ
ン源などの連続型の外部イオン源1と、第1および第2
の隔壁および図示しない真空ポンプによって構成される
差動排気壁10と、該差動排気壁10の第1の隔壁上に
設けられた第1のオリフィス2と、該差動排気壁10内
に置かれたリングレンズ3と、該差動排気壁10を構成
する第2の隔壁上に設けられた第2のオリフィス4と、
イオンガイド5が置かれた中間室11と、集束レンズお
よび偏向器から成るレンズ群6、イオン押し出しプレー
トと加速レンズ(グリッド)から成るランチャー7、イ
オンを反射するリフレクター8、およびイオン検出器9
などのイオン光学系を構成する構成物が置かれた測定室
13とを備えている。また、ランチャー7内のイオン押
し出しプレートには、直流電源20が接続されている。
において試料から生成したイオンは、まず最初に、第1
のオリフィス2を通って差動排気壁10に導入される。
そして、差動排気壁10内で拡散しようとするイオン
は、差動排気壁10内のリングレンズ3によって集束さ
れ、第2のオリフィス4を通って中間室11に導入され
る。中間室11に導入されたイオンは、中間室11内で
運動エネルギーを落とし、イオンガイド5から発生する
高周波電界によってイオンビーム径を小さくして、高真
空な測定室13へと誘導される。中間室11と測定室1
3を仕切る隔壁には、第3のオリフィス12が設けられ
ている。イオンガイド5から誘導されてきたイオンは、
この第3のオリフィス12によって、一定の径を持った
イオンビームに整形されて、測定室13に導入される。
器とから成るレンズ群6が設置されている。測定室13
に入ってきたイオンビームは、レンズ群6によりビーム
の拡散や偏向を是正され、ランチャー7に導入される。
ランチャー7内には、イオン押し出しプレートとグリッ
ドが対向配置されて成るイオン溜と、該イオン溜の軸方
向に対して直交する方向に並ぶ加速レンズとが設置され
ている。また、イオン溜の一方の壁部を構成するイオン
押し出しプレートには、任意の直流電圧(オフセット電
圧)を印加でき、極性の向きを自由に変更可能な直流電
源20が接続されている。このイオン溜の周辺を拡大し
て示すと、図5の通りである。
して用いられる。まず、イオンビームが、図6に示すよ
うに、イオン押し出しプレート14やグリッド15の帯
電によって偏向され、OA−TOFMSのマススペクト
ルの分解能や感度に対して深刻な影響を与えるような状
況になった場合には、直流電源20から適切な強度の直
流電圧をオフセット電圧としてイオン押し出しプレート
14に印加し、これによって、試料イオンの残骸の有機
物などが付着して起きた帯電の電圧を相殺させる。その
結果、イオン溜17内でのイオンビームの偏向は是正さ
れ、イオンビームは、図7に示すように、イオン溜17
の軸方向(Y軸方向)に沿ってまっすぐに導入されるよ
うになる。
ン検出器9によって検出されるマススペクトルのピーク
強度を指標に用い、マススペクトルのピーク強度が最大
となるようにオフセット電圧を設定することによって、
容易になされる。すなわち、コンピューターなどの制御
装置によって、マススペクトルのピーク強度をモニター
しながら、直流電源20の極性と出力電圧とを変化さ
せ、ピーク強度が最大となる値に出力電圧を設定するよ
うに動作させれば、直流電源20のチューニングを自動
的に行なわせることが可能である。
されるようになったイオンビーム18は、イオン押し出
しプレート14にパルス状の加速電圧を印加することに
より、図7のように、イオンビーム18の進入軸方向
(Y軸方向)とは垂直な方向(X軸方向)にパルス状に
加速され、イオンパルス20となって、イオン溜と対向
する位置に設けられた図示しないリフレクターに向けて
飛行を開始する。そして、リフレクターで反射されてイ
オン検出器に到達し、質量分析が行なわれる。
わち、本実施例では、イオン溜にオフセット電圧を印加
するための直流電圧20をイオン押し出しプレート14
に接続するように構成したが、この直流電源20は、図
8に示すように、グリッド15の側に接続しても良く、
あるいは、図9に示すように、イオン押し出しプレート
14とグリッド15の両方にそれぞれ接続しても良い。
FMSによれば、イオン溜の壁部を構成するイオン押し
出しプレートおよび/またはグリッドにオフセット電圧
を印加できる直流電源を接続したので、イオン押し出し
プレートやグリッドが有機物などの付着により帯電し
て、マススペクトルの分解能や感度が低下する状態にな
っても、その帯電電圧を相殺して、マススペクトルの分
解能や感度の低下を未然に防止することができる。
す図である。
オン溜近傍を示す図である。
オン溜近傍を示す図である。
装置の一実施例を示す図である。
装置のイオン溜近傍を示す図である。
装置のイオン溜近傍を示す図である。
装置のイオン溜近傍を示す図である。
装置の変形例を示す図である。
装置の変形例を示す図である。
ングレンズ、4・・・第2のオリフィス、5・・・イオンガイ
ド、6・・・レンズ群、7・・・ランチャー、8・・・リフレク
ター、9・・・イオン検出器、10・・・差動排気壁、11・・
・中間室、12・・・第3のオリフィス、13・・・測定室、
14・・・イオン押し出しプレート、15・・・グリッド、1
6・・・加速レンズ、17・・・イオン溜、18・・・イオンビ
ーム、19・・・イオンパルス、20・・・直流電源。
Claims (1)
- 【請求項1】外部イオン源と、外部イオン源で発生した
イオンを滞在させる空間と、該空間からイオンをパルス
的に加速して取り出すために該空間を挟んで対向配置さ
れるイオン押し出しプレートとグリッドにより構成され
るイオン溜と、グリッドを介して取り出されたイオンを
質量分離する飛行時間型分光部と、質量分離されたイオ
ンを検出するイオン検出器とを備えた垂直加速型飛行時
間型質量分析装置において、前記イオン押し出しプレー
トおよび/またはグリッドにオフセット電圧を印加する
ようにしたことを特徴とする飛行時間型質量分析装置。
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- 2000-10-10 JP JP2000308631A patent/JP3830344B2/ja not_active Expired - Fee Related
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