JP2002100725A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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JP2002100725A JP2000290862A JP2000290862A JP2002100725A JP 2002100725 A JP2002100725 A JP 2002100725A JP 2000290862 A JP2000290862 A JP 2000290862A JP 2000290862 A JP2000290862 A JP 2000290862A JP 2002100725 A JP2002100725 A JP 2002100725A
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隆三 深尾
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高密度にして接合部やスルーホールが存在せ
ず、小型で信頼性に優れた半導体装置を提供すること、
並びに、この種の半導体装置を高精度かつ高能率に製造
する方法を提供すること。 【解決手段】 ICチップ1、コンデンサ2及びフィル
タ3と、これらの各回路部品1,2,3を一体に保持す
る絶縁性のチップ保持体4と、当該チップ保持体の表面
に電解鋳造され、前記各回路部品の端子部と電気的に接
続された回路パターン5とをもって半導体装置を構成す
る。チップ保持体は、前記各回路部品の周囲を囲繞する
枠体4aと当該枠体内にポッティングされたポッティン
グ樹脂4bとから構成する。製造方法については、バン
プ1a,2a,3aが電解鋳造された回路部品をベース
板21上に仮搭載した後、当該ベース板上に枠体4aを
設置し、当該枠体4aに開設された透孔22a内に樹脂
23をポッティングする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ICチップとこれ
に接続された回路パターンとを有する半導体装置と、当
該半導体装置の製造方法とに係り、特に、ICチップを
含む所要の回路部品を一体に保持するチップ保持体の構
成に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、小型電子部品等の実装におい
て、ICチップとこれに接続された回路パターンとを有
する半導体装置としては、金属箔エッチングや導電ペー
スト印刷などによって所要の回路パターンが形成された
回路基板上にICチップをフェースダウン実装し、回路
パターンとICチップのパッド部(端子部)に施された
バンプとをはんだ、導電ペースト或いは異方性導電接着
剤などを介して電気的に接続したものや、前記と同一構
成の回路基板上にICチップをフェースアップ実装し、
回路パターンとICチップのパッド部とをワイヤボンデ
ィングによって電気的に接続したものなどが知られてい
る。
【0003】また、アンテナコイルを有する無線通信用
の半導体装置においては、アンテナコイルを金属箔エッ
チングや導電ペースト印刷などによって回路パターンと
一体に形成したもののほか、巻線コイルをもってアンテ
ナコイルを形成し、当該巻線コイルをICチップのパッ
ド部又は回路基板上に形成された回路パターンに接続し
たものや、ICチップ上に絶縁層を介してアンテナコイ
ルを直接パターン形成したものが提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におけ
る各種電子機器の小型化及び高密度化の進展に伴い、こ
れらの各種電子機器に搭載又は接続される半導体装置の
小型化及び高密度化が強く求められている。半導体装置
の小型化及び高密度化を図るためには、配線の高密度化
と配線長の短縮による遅延やノイズの低減が重要な課題
となるが、特に、数百MHz以上の周波数の無線を利用
する高周波対応型の半導体装置においては、配線又は接
合部に生じる微小な容量成分が通信特性に影響を及ぼす
ため、配線長の短縮化と接合部の微小化及び均質化がき
わめて重要な課題となる。なお、各種電子機器に搭載又
は接続されない半導体装置、例えば非接触通信式ICカ
ードや非接触通信式ICタグにおいても、特性の改善を
図るためには、配線長の短縮化と接合部の微小化及び均
質化を図る必要がある。
【0005】金属箔エッチングや導電ペースト印刷によ
る回路パターンの加工精度は、通常数十μmが最小限度
であるため、これらの方法によっては、要求される半導
体装置の小型化及び高密度化を図ることができない。な
お、最近では、ウエハ中に貫通孔を開設して所要の配線
を立体的に行ういわゆる三次元実装も研究されている
が、未だ実用の域に達していない。
【0006】また、前記したように、従来の半導体装置
においては、ICチップのパッド部と回路基板に形成さ
れた回路パターンや巻線コイルとが、はんだや導電ペー
スト或いは異方性導電接着剤などの異種材料を介して接
合されているので、接合状態が不安定になりやすく、イ
ンピーダンスが増加したり寄生容量が発生したりして、
特性が劣化しやすいという問題がある。
【0007】さらに、複数ターンのアンテナコイルが所
望の配線と共に回路基板上にパターン形成される従来の
半導体装置にあっては、必然的に回路基板にスルーホー
ルやビアを形成せざるを得ず、基板設計や製造工程が複
雑化して製品コストが高価になるばかりでなく、特性に
対する信頼性が低下するおそれがある。
【0008】本発明は、かかる従来技術の不備を解消す
るためになされたものであって、高密度にして接合部や
スルーホールが存在せず、小型で信頼性に優れた半導体
装置を定供すこと、並びに、この種の半導体装置を高精
度かつ高能率に製造する方法を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するため、半導体装置に関して、第1に、少なくとも
1つのICチップを含む1乃至複数個の回路部品と、当
該回路部品の端子部に形成されたバンプと、前記回路部
品を保持する絶縁性のチップ保持体と、当該チップ保持
体の表面に電解鋳造され、前記バンプと電気的に接続さ
れた回路パターンとを有し、前記チップ保持体が、前記
回路部品を囲繞する枠体と当該枠体内に充填されたポッ
ティング樹脂とからなるという構成にした。
【0010】回路パターンの電解鋳造は、チップ保持体
の表面に導体膜をスパッタ形成した後、当該導電膜上に
フォトレジストを塗布し、次いで、当該フォトレジスト
の露光と現像とを行ってフォトレジスト層に所要の回路
パターン(アンテナを含むこともできる。)に相当する
くぼみを形成して当該部分の導体膜を露出し、しかる後
に、前記導体膜を一方の電極として電解鋳造を行い、前
記露出された導体膜に選択的にメッキ層を形成するの
で、金属箔エッチングや導電ペースト印刷などによって
回路パターンを形成する場合に比べて、回路パターンを
格段に高精度に形成することができる。よって、回路パ
ターンを高密度化することができると共に配線長を短縮
することができ、半導体装置の小型化と遅延やノイズの
低減を図ることができる。また、回路部品の端子部にバ
ンプを形成し、当該バンプに電解鋳造により回路パター
ンを接続すると、バンプと回路パターンとの間に異物が
介在されず、その接続状態を安定化することができるの
で、インピーダンスの増加や寄生容量の発生による特性
劣化を防止することができる。さらに、チップ保持体の
表面に回路パターン電解鋳造したので、回路パターンが
形成された回路基板上に回路部品を搭載してポッティン
グする場合に比べて半導体装置を薄形化することがで
き、この点からも半導体装置の小型化を図ることができ
る。加えて、チップ保持体を、枠体と当該枠体内に充填
されたポッティング樹脂とから構成したので、ポッティ
ング樹脂の使用量を減少することができ、半導体装置の
製造コストを低減できると共に、枠体を切断することに
よって半導体装置の整形を行うことにより、半導体装置
の整形を高精度に行うことができるので、寸法精度の高
い半導体装置を得ることができる。なお、本構成によれ
ば、1ターンのアンテナコイルを備えた無線通信用の半
導体装置を得ることができる。
【0011】本発明は、半導体装置に関して、第2に、
少なくとも1つのICチップを含む1乃至複数個の回路
部品と、当該回路部品の端子部に形成されたバンプと、
前記回路部品を保持する絶縁性のチップ保持体と、当該
チップ保持体の表面に電解鋳造され、前記バンプと電気
的に接続された第1回路パターンと、当該第1回路パタ
ーンの一部を覆う絶縁層と、当該絶縁層の表面側に電解
鋳造され、前記第1回路パターンと電気的に接続された
第2回路パターンとを有し、前記チップ保持体が、前記
回路部品を囲繞する枠体と当該枠体内に充填されたポッ
ティング樹脂とからなるという構成にした。
【0012】本構成によると、前記第1の手段と同様の
作用効果を奏するほか、バンプと電気的に接続された第
1回路パターンの上に、絶縁層を介して第2回路パター
ンを形成するので、スルーホールやビアを形成すること
なく、回路パターンを2層に形成することができ、例え
ば2ターン以上の巻線数を有するアンテナコイルを備え
た無線通信用の半導体装置を得ることができる。そし
て、スルーホールやビアを有しないので、基板設計や製
造工程の複雑化を防止できると共に、特性に対する信頼
性の低下も防止できる。
【0013】本発明は、半導体装置に関して、第3に、
前記枠体をガラス質材料をもって形成するという構成に
した。
【0014】本構成によると、枠体がダイシング容易な
ガラス質材料をもって形成されているので、半導体装置
の整形を容易かつ高精度に行うことができ、寸法精度の
高い半導体装置を得ることができる。
【0015】本発明は、半導体装置に関して、第4に、
回路パターン中にアンテナを形成するという構成にし
た。
【0016】本構成によると、回路パターン中にアンテ
ナを形成したので、無線通信式の半導体装置を得ること
ができる。
【0017】本発明は、半導体装置に関して、第5に、
回路パターンが形成されたチップ保持体の外周を絶縁性
の外装材でカバーするという構成にした。
【0018】本構成によると、回路パターンが形成され
たチップ保持体の外周を絶縁性の外装材でカバーしたの
で、取り扱いを容易化することができ、実用性を高める
ことができる。
【0019】一方、本発明は、前記目的を達成するた
め、半導体装置の製造方法に関して、第1に、端子部に
形成されたバンプを上向きにして、回路部品をベース板
に仮搭載する工程と、前記ベース板の回路部品搭載面に
枠体を設置し、半導体装置に搭載される所要の回路部品
の周囲を当該枠体にて囲繞する工程と、前記枠体内にポ
ッティング樹脂をポッティングして、前記バンプの先端
部を覆うする工程と、前記ポッティング樹脂の表面を機
械研磨して、当該ポッティング樹脂の片面に前記バンプ
を露出させる工程と、前記ポッティング樹脂の表面に、
前記バンプと電気的に接続された回路パターンを電解鋳
造する工程と、前記枠体及びポッティング樹脂並びに回
路部品と前記ベース板との界面を剥離する工程と、前記
枠体を切断して所要形状及び所要サイズの半導体装置を
得る工程とを含む工程を経て半導体装置を製造する構成
にした。
【0020】本構成によると、バンプを上向きにして回
路部品をベース板に仮搭載するので、仮搭載された回路
部品の安定性が高く、当該回路部品に対する樹脂のポッ
ティングを容易に行うことができる。また、ベース板の
回路部品搭載面に枠体を設置して半導体装置に搭載され
る所要の回路部品の周囲を当該枠体にて囲繞した後、当
該枠体内に樹脂をポッティングするので、各半導体装置
に搭載される所要の回路部品を正確にポッティングする
ことができ、良品の歩留りを改善できると共に、ポッテ
ィング樹脂の使用量を減少できて、半導体装置の製造コ
ストを低減することができる。加えて、枠体を切断する
ことによって半導体装置の整形を行うことができるの
で、半導体装置の整形を高精度に行うことができ、寸法
精度の高い半導体装置を得ることができる。さらに、本
構成によると、ポッティング樹脂の機械研磨をベース板
に取り付けたまま行うことができるので、研磨加工を効
率的に行うことができる。なお、本構成によれば、1タ
ーンのアンテナコイルを備えた無線通信用の半導体装置
を製造することができる。
【0021】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第2に、端子部に形成されたバンプを上向きにし
て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、前記ベー
ス板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体装置に搭
載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて囲繞する
工程と、前記枠体内にポッティング樹脂をポッティング
して、前記バンプの先端部を覆うする工程と、前記ポッ
ティング樹脂の表面を機械研磨して、当該ポッティング
樹脂の片面に前記バンプを露出させる工程と、前記ポッ
ティング樹脂の表面に、前記バンプと電気的に接続され
た第1回路パターンを電解鋳造する工程と、前記第1回
路パターン上に絶縁層を選択的に形成する工程と、前記
絶縁層の表面側に前記第1回路パターンと電気的に接続
された第2回路パターンを電解鋳造する工程と、前記枠
体及びポッティング樹脂並びに回路部品と前記ベース板
との界面を剥離する工程と、前記枠体を切断して所要形
状及び所要サイズの半導体装置を得る工程とを含む工程
を経て半導体装置を製造するという構成にした。
【0022】本構成によると、前記第1の手段と同様の
作用効果を奏するほか、バンプと電気的に接続された第
1回路パターンを電解鋳造した後、絶縁層を介して第2
回路パターンを電解鋳造するので、スルーホールやビア
を形成することなく、回路パターンを2層に形成するこ
とができ、例えば2ターン以上の巻線数を有するアンテ
ナコイルを備えた無線通信用の半導体装置を得ることが
できる。そして、スルーホールやビアを有しないので、
基板設計や製造工程の複雑化を防止できると共に、特性
に対する信頼性の低下も防止できる。
【0023】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第3に、端子部に形成されたバンプを下向きにし
て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、前記ベー
ス板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体装置に搭
載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて囲繞する
工程と、前記枠体内にポッティング樹脂をポッティング
して、前記回路部品全体を覆う工程と、前記枠体及びポ
ッティング樹脂並びに回路部品と前記ベース板との界面
を剥離する工程と、前記ポッティング樹脂の表面に、前
記バンプと電気的に接続された回路パターンを電解鋳造
する工程と、前記枠体を切断して所要形状及び所要サイ
ズの半導体装置を得る工程とを含む工程を経て半導体装
置を製造するという構成にした。
【0024】本構成によると、前記第1の手段と同様の
作用効果を奏するほか、バンプを下向きにして回路部品
をベース板に仮搭載するので、ポッティング工程の段階
でバンプの先端位置を揃えることができ、かつポッティ
ング樹脂の表面からバンプの先端部を露出させることが
できるので、研磨加工を容易化又は省略することができ
る。
【0025】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第4に、端子部に形成されたバンプを下向きにし
て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、前記ベー
ス板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体装置に搭
載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて囲繞する
工程と、前記枠体内にポッティング樹脂をポッティング
して、前記回路部品全体を覆う工程と、前記枠体及びポ
ッティング樹脂並びに回路部品と前記ベース板との界面
を剥離する工程と、前記ポッティング樹脂の表面に、前
記バンプと電気的に接続された第1回路パターンを電解
鋳造する工程と、前記第1回路パターン上に絶縁層を選
択的に形成する工程と、前記絶縁層の表面側に前記第1
回路パターンと電気的に接続された第2回路パターンを
電解鋳造する工程と、前記枠体を切断して所要形状及び
所要サイズの半導体装置を得る工程とを含む工程を経て
半導体装置を製造するという構成にした。
【0026】本構成によると、前記第3の手段と同様の
作用効果を奏するほか、バンプと電気的に接続された第
1回路パターンを電解鋳造した後、絶縁層を介して第2
回路パターンを電解鋳造するので、スルーホールやビア
を形成することなく、回路パターンを2層に形成するこ
とができ、例えば2ターン以上の巻線数を有するアンテ
ナコイルを備えた無線通信用の半導体装置を得ることが
できる。そして、スルーホールやビアを有しないので、
基板設計や製造工程の複雑化を防止できると共に、特性
に対する信頼性の低下も防止できる。
【0027】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第5に、ベース板として、回路部品の搭載位置及び
/又は枠体の設置位置を表示するマーキングが施された
ものを用い、当該マーキングを基準として、ベース板に
対する回路部品の仮搭載及び/又は前記枠体の設置を行
うという構成にした。
【0028】本構成によると、ベース板に施されたマー
キングを基準として、ベース板に対する回路部品の仮搭
載及び/又は枠体の設置を行うことができるので、回路
部品の搭載精度及び/又は枠体の設置精度を高めること
ができ、良品の歩留まりを改善できると共に、作業能率
の改善を図ることができる。
【0029】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第6に、枠体として、回路パターンの形成位置を表
示するマーキングが施されたものを用い、当該マーキン
グを基準として、枠体及び/又はポッティング樹脂に対
する回路パターンの形成を行うという構成にした。
【0030】本構成によると、枠体に施されたマーキン
グを基準として、枠体及び/又はポッティング樹脂に対
する回路パターンの形成を行うことができるので、回路
パターンの形成精度を高めることができ、良品の歩留ま
りを改善できると共に、作業能率の改善を図ることがで
きる。
【0031】本発明は、半導体装置の製造方法に関し
て、第7に、回路部品をベース板に仮搭載する工程で、
ベース板上に半導体装置複数個分の回路部品を仮搭載
し、その後の各工程で、これら半導体装置複数個分の回
路部品を一体に取り扱うという構成にした。
【0032】本構成によると、1回の製造工程で所要の
半導体装置を多数個取りすることができるので、半導体
装置の製造効率を高めることができる。
【0033】
【発明の実施の形態】まず、本発明に係る半導体装置の
第1実施形態例を、図1乃至図4に基づいて説明する。
図1は第1実施形態例に係る半導体装置の断面図、図2
は第2実施形態例に係る半導体装置の断面図、図3は第
3実施形態例に係る半導体装置の断面図、図4は第4実
施形態例に係る半導体装置の断面図である。
【0034】図1に示すように、第1実施形態例に係る
半導体装置は、ICチップ1と、コンデンサ2と、フィ
ルタ3と、これら各回路部品1,2,3を一体に保持す
る絶縁性のチップ保持体4と、当該チップ保持体4の表
面に電解鋳造され、前記各回路部品1,2,3の端子部
と電気的に接続された回路パターン5とから構成されて
いる。
【0035】ICチップ1、コンデンサ2、フィルタ3
の各端子部には、それぞれバンプ1a,2a,3aが電
解鋳造されており、これらの各バンプ1a,2a,3a
間が回路パターン5にて接続されている。これらのバン
プ1a,2a,3aは、銅をもって形成されており、一
辺が約100μmの大きさのパッド部を有するICチッ
プ1については、縦、横、高さがそれぞれ約70μmの
バンプ1aが形成される。コンデンサ2のバンプ2a及
びフィルタ3のバンプ3aについても、これとほぼ同一
サイズに形成される。
【0036】チップ保持体4は、回路部品1,2,3の
周囲を囲繞する枠体4aと当該枠体4a内に充填された
ポッティング樹脂4bとからなる。枠体4aは、所要の
剛性を有し、かつ、ポッティング樹脂4bとの接着性が
良好であれば、任意の材料からなるものを用いることが
できるが、切断が容易で整形性に優れることから、例え
ばアクリルシリコンなどのガラス質のものを用いること
が特に好ましい。一方、ポッティング樹脂4bとして
は、硬化後に所要の剛性を有し、枠体4aとの接着性が
良好で、吸水性及び透水性の小さい樹脂材料が用いられ
る。この種の樹脂材料としては、例えばエポキシ樹脂、
アクリル樹脂、アクリルシリコン樹脂、ウレタン樹脂又
はポリイミド樹脂などを挙げることができる。
【0037】なお、チップ保持体4の剛性をより一層高
めるため、ポッティング樹脂4bをフィラー添加樹脂よ
りなるフィラー添加部とフィラーが添加されていない樹
脂よりなる樹脂単体部との二層構造とすることもでき
る。この場合、フィラー添加部は、ICチップ1、コン
デンサ2、フィルタ3のうちのバンプ1a,2a,3a
の先端部を除く部分に設けられ、樹脂単体部は、その表
面が前記各バンプ1a,2a,3aの先端部と同一平面
をなすように形成される。フィラー添加部の厚さは、製
品である半導体装置に要求される剛性を考慮して、適宜
調整することができる。フィラー添加部及び樹脂単体部
を構成する樹脂材料としては、前記したエポキシ樹脂、
アクリル樹脂、アクリルシリコン樹脂、ウレタン樹脂又
はポリイミド樹脂などを用いることができ、フィラー添
加部を構成する樹脂材料に添加されるフィラーとして
は、シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、シリコンビー
ズ又はガラス繊維等を用いることができる。
【0038】回路パターン5は、電解鋳造によって形成
され、メッキ時の電極として使用するシード層と電解鋳
造によってシード層上に積層されるメッキ層とからな
る。シード層及びメッキ層を構成する金属材料として
は、銅やニッケルなどを用いることができるが、メッキ
応力を抑制するため、シード層を構成する金属材料とメ
ッキ層を構成する金属材料とは、同種のものを用いるこ
とが好ましい。回路パターン5には、所要の配線パター
ンのほか、例えばGHz帯といった高周波を用いる無線
通信式の半導体装置については、アンテナコイルやスト
リップアンテナそれにダイポールアンテナ等を形成する
ことができる。
【0039】本例の半導体装置は、回路パターン5を電
解鋳造により形成するので、金属箔エッチングや導電ペ
ースト印刷などによって回路パターンを形成する場合に
比べて、回路パターン5を格段に高精度に形成すること
ができる。よって、回路パターン5の高密度化と配線長
の短縮化を図ることができ、半導体装置の小型化と遅延
やノイズの低減を図ることができる。また、回路部品
1,2,3の端子部にバンプ1a,2a,3aを形成
し、当該バンプ1a,2a,3aに電解鋳造により回路
パターン5を接続したので、バンプ1a,2a,3aと
回路パターン5との間に異物が介在されず、インピーダ
ンスの増加や寄生容量の発生による特性劣化を防止する
ことができる。さらに、チップ保持体4の表面に回路パ
ターン5を電解鋳造したので、回路パターンが形成され
た回路基板上に回路部品を搭載してポッティングする場
合に比べて半導体装置を薄形化することができる。加え
て、チップ保持体4を、枠体4aと当該枠体4a内に充
填されたポッティング樹脂4bとから構成したので、ポ
ッティング樹脂4bの使用量を減少することができ、半
導体装置の製造コストを低減できると共に、枠体4aを
切断することによって半導体装置の整形を行うことによ
り、半導体装置の整形を高精度に行うことができるの
で、寸法精度の高い半導体装置を得ることができる。
【0040】図2に示すように、第2実施形態例に係る
半導体装置は、第1実施形態例に係る半導体装置の外周
を外装材8で密封したことを特徴とする。外装材8とし
ては、透湿性が低いことなどから、ホットメルト接着剤
が塗布されたPETフィルムなどを用いることができ
る。その他については、第1実施形態例に係る半導体装
置と同じであるので、重複を避けるために説明を省略す
る。
【0041】本例の半導体装置は、外周を外装材8で密
封したので、強度及び耐久性に優れ、より実用に適す
る。
【0042】図3に示すように、第3実施形態例に係る
半導体装置は、第1実施形態例に係る半導体装置におけ
る回路パターン(本例においては、「第1回路パター
ン」という。)5の表面側に、絶縁層6を介して第2回
路パターン7を形成し、第1回路パターン5間を電気的
に接続したことを特徴とする。この第2回路パターン7
も、第1回路パターン5と同様に、電解鋳造法にて形成
される。また、絶縁層6は、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、アクリルシリコン樹脂、ウレタン樹脂又はポリイミ
ド樹脂などの樹脂材料を用いて形成することができる。
その他については、第1実施形態例に係る半導体装置と
同じであるので、重複を避けるために説明を省略する。
【0043】本例の半導体装置は、第1回路パターン5
の表面側に絶縁層6を介して第2回路パターン7を形成
したので、スルーホールやビアを形成することなく、回
路パターンを2層に形成することができ、例えば複数タ
ーンの巻線数を有するアンテナコイルを容易に形成する
ことができる。
【0044】図4に示すように、第4実施形態例に係る
半導体装置は、第3実施形態例に係る半導体装置の外周
を外装材8で密封したことを特徴とする。その他につい
ては、第2実施形態例に係る半導体装置と同じであるの
で、重複を避けるために説明を省略する。
【0045】本例の半導体装置も、第2実施形態例に係
る半導体装置と同様に、外周を外装材8で密封したの
で、強度及び耐久性に優れ、実用に適する。
【0046】以下、本発明に係る半導体装置製造方法の
第1実施形態例を、図5乃至図12に基づいて説明す
る。図5はICチップにバンプを形成する工程を示す説
明図、図6はベース板及び枠体並びにこれらの各部材に
表示されるマーキングを示す平面図、図7はICチップ
を含む回路部品を一体化する工程を示す説明図、図8は
樹脂単体層の表面の平坦化処理方法を示す説明図、図9
は回路パターン(第1回路パターン)の形成工程を示す
説明図、図10は絶縁層の形成工程を示す説明図、図1
1は第2回路パターン及び保護層の形成工程を示す説明
図、図12はベース板から剥離された構造体の断面図で
ある。
【0047】ICチップにバンプを形成する工程を図5
にしたがって説明すると、まず、図5(a)に示すよう
に、所要のICパターンが形成されたシリコンウエハ1
1上のパッド部12以外の部分に、ポリイミド系の絶縁
膜13を約2μmの厚さに塗布する。次いで、図5
(b)に示すように、当該絶縁膜13の上に銅製の第1
シード層14をスパッタによって約5000Åの厚さに
形成した後、図5(c)に示すように、パッド部12以
外の部分に第1フォトレジスト層15を形成する。な
お、かかる第1のフォトレジスト層15は、シリコンウ
エハ11上にフォトレジストを均一に塗布した後、パッ
ド部12に対応する部分を選択的に露光し、現像処理に
て当該露光部分を除去することにより形成できる。次い
で、前記第1のシード層14を一方の電極として電解鋳
造を行い、パッド部12に銅バンプ1aを形成する。次
いで、第1のフォトレジスト層15の除去と当該第1の
フォトレジスト層15にて覆われていた部分の第1シー
ド層14の除去とを行い、図5(d)に示すように、パ
ッド部12に高さが約50μmの銅バンプ1aが形成さ
れたシリコンウエハ11を得る。最後に、シリコンウエ
ハ11をダイシングして、図5(e)に示すように、パ
ッド部12に銅バンプ1aが形成されたICチップ1を
取り出す。なお、本例においては、シリコンウエハ11
の段階で銅バンプ1aの形成を行ったが、ダイシングに
より取り出された個々のICチップに銅バンプ1aを形
成することもできる。また、図示は省略するが、コンデ
ンサ2やフィルタ3等の他の回路部品についても、同様
の方法で端子部に銅バンプ2a,3aが形成される。
【0048】次に、ICチップ1、コンデンサ2、フィ
ルタ3を一体化する工程を図6乃至図8にしたがって説
明する。
【0049】まず、図6(a)に示すように、表面に各
搭載部品1,2,3の仮搭載位置を表示する第1のマー
キング21a及び枠体4aの設置位置を表示する第2の
マーキング21bが施された平行平板状のベース板21
を用意する。また、これと並行して、図6(b)に示す
ように、前記ベース板21とほぼ同形同大の平面形状を
有し、1つの半導体装置に搭載すべき所要の搭載部品
1,2,3を収納可能な複数個の透孔22aが開設さ
れ、かつ、片面に前記第2のマーキング21bと照合す
るための第3のマーキング22b及び回路パターン5を
形成する際の基準となる第4のマーキング22cが施さ
れた格子状の枠体4aを用意する。なお、ベース板21
は、ステンレス等の金属板又はセラミック板或いは硬質
樹脂板等を用いて形成することができ、枠体4aは、ア
クリルシリコン等のガラス質材料を用いて形成すること
ができる。
【0050】しかる後に、図7(a)に示すように、第
1のマーキング21aを基準としてベース板21に対す
る各搭載部品1,2,3の位置決めを行い、ベース板2
1上に所要の搭載部品1,2,3をフェースアップで仮
搭載する。次に、図6(b)に示すように、ベース板2
1に表示された第2のマーキング21bと枠体4aに表
示された第3のマーキング22bとを照合することによ
ってベース板21に対する枠体4aの位置決めを行い、
第3のマーキング22b及び第4のマーキング22cを
上向きにして、ベース板21の部品搭載面に枠体4aを
設置する。なお、搭載部品は、ICチップ1、コンデン
サ2及びフィルタ3の組み合わせに限定されるものでは
なく、少なくとも1個のICチップ1を含む任意の回路
部品の組み合わせとすることができる。ベース板21に
所要の回路部品1,2,3及び枠体4aを取り付けた
後、図7(c)に示すように、枠体4aに開設された各
透孔22a内にポッティング樹脂4bをポッティング
し、各搭載部品1,2,3に形成されたバンプ1a,2
a,3aの先端部を当該ポッティング樹脂4bにて完全
に覆う。樹脂硬化後、当該ポッティング樹脂4bの表面
を機械研磨し、図7(d)に示すように、ポッティング
樹脂4bの樹脂面を平坦化すると共にバンプ1a,2
a,3aを外部に露出させてる。
【0051】この状態では、図8(a)に拡大して示す
ように、ポッティング樹脂23の表面には、機械研磨に
伴う微細な凹凸24が形成されているので、この面に精
密な回路パターン5を断線等の不都合なく形成すること
が困難な場合を生じる。そこで、かかる不都合を除去す
るため、図8(b)に示すように、機械研磨終了後、ポ
ッティング樹脂4bのバンプ露出面にポッティング樹脂
4bの溶剤25を塗布することにより、凹凸24を除去
してポッティング樹脂4bの表面を平坦化することが好
ましい。なお、溶剤24の塗布方法としては、スピン塗
布、ロール塗布、スプレー塗布など任意の手段をとるこ
とができるが、樹脂面に溶剤を均一かつ速やかに塗布す
ることができて樹脂面の平滑化を高能率かつ高精度に行
うことができ、かつ、余剰の溶剤を遠心力によって除去
することができて溶剤の塗布と余剰の溶剤の除去とを1
工程で行うことができ、樹脂面の平滑化を高能率に行う
ことができることから、スピン塗布法を用いることが特
に好ましい。
【0052】次に、回路パターン(第1回路パターン)
5の形成工程を図9にしたがって説明すると、まず、図
9(a)に示すように、枠体4a及びポッティング樹脂
4bの表面に第1シード層14と同様の第2シード層3
1を形成する。次いで、当該第2シード層31上にフォ
トレジスト層を均一に形成した後、前記枠体4aに表示
された第4のマーキング22cを基準として当該フォト
レジスト層の露光を行い、図9(b)に示すように、第
2シード層31の回路パターン(第1回路パターン)5
を形成しない部分に第2フォトレジスト層32を形成す
る。次いで、前記第2シード層31のうちの前記第2フ
ォトレジスト層32が形成されていない部分の除去と、
残存した第2フォトレジスト層32の除去とを順次行
う。しかる後に、残存した第2シード層31を一方の電
極として第2フォトレジスト層32の形成面に電解鋳造
を行い、図9(c)に示す回路パターン5を形成する。
なお、典型的な配線の幅は50μmであり、配線ピッチ
は10μmとした。この段階でベース板21を除去し、
所要の整形を施せば、図1に示した第1実施例に係る半
導体装置が得られる。また、これを外装体8で密封すれ
ば、図2に示した第2実施例に係る半導体装置が得られ
る。
【0053】次に、絶縁層6の形成工程を図10にした
がって説明すると、まず、図10(a)に示すように、
前記回路パターン5上の導通端子となる部分に第3のフ
ォトレジスト層41を形成した後、図10(b)に示す
ように、該レジスト41が塗布された部分以外の領域に
例えばアクリルシリコン樹脂からなる絶縁層6を約5μ
mの厚さに塗布する。しかる後に、前記第3のフォトレ
ジスト層41を除去し、図10(c)に示すように、第
2回路パターン7の接続部42を作製する。なお、当該
絶縁層6の表面についても、必要に応じて、当該絶縁層
6を構成する樹脂材料の溶剤を塗布することによって、
平滑化することができる。
【0054】次に、第2回路パターン5及び保護層9の
形成工程を図11にしたがって説明すると、まず、図1
1(a)に示すように、前記絶縁層6の表面に、前記第
1シード層14と同様の第3シード層51を形成する。
次いで、図11(b)に示すように、当該第3シード層
51の回路パターン(第2回路パターン)7を形成しな
い部分に、第1フォトレジスト層15と同様にして第4
フォトレジスト層52を形成する。しかる後に、前記第
3シード層51を一方の電極として電解鋳造を行い、前
記第3シード層51の第4フォトレジスト層52にて覆
われていない部分に第2回路パターン7を形成する。次
いで、第4フォトレジスト層52の除去と当該第4フォ
トレジスト層52にて覆われていた部分の第3シード層
51の除去とを行い、図11(c)に示すように、第1
回路パターン5が第2回路パターン7にて電気的に接続
されたものを得る。最後に、図11(d)に示すよう
に、第2回路パターン7上に例えばシリコーン樹脂等の
保護層9を形成する。
【0055】以下、ベース板21を除去して図12に示
す構造体61を得、この構造体61を枠体4aの部分で
スクライビングすることにより、図3に示した第3実施
例に係る半導体装置が得られる。また、これを外装体8
で密封すれば、図4に示した第4実施例に係る半導体装
置が得られる。
【0056】本例の製造方法によると、バンプ1a,2
a,3aを上向きにして回路部品1,2,3をベース板
21に仮搭載するので、仮搭載された回路部品1,2,
3の安定性が高く、当該回路部品のポッティングを容易
に行うことができる。また、回路部品1.2.3をポッ
ティングした樹脂の研磨をベース板21に取り付けたま
ま行うことができるので、研磨加工を効率化することが
できる。さらに、ベース板21の回路部品搭載面に枠体
4aを設置して半導体装置に搭載される所要の回路部品
1,2,3の周囲を当該枠体4aにて囲繞した後、当該
枠体4a内に樹脂4bをポッティングするので、各半導
体装置に搭載される所要の回路部品を正確にポッティン
グすることができ、良品の歩留りを改善できると共に、
ポッティング樹脂の使用量を減少できて、半導体装置の
製造コストを低減することができる。加えて、枠体4a
を切断することによって製品である半導体装置を切り出
すので、半導体装置の整形を高精度に行うことができ、
寸法精度の高い半導体装置を得ることができる。また、
ベース板21に半導体装置複数個分の回路部品1,2,
3を仮搭載し、以下の工程でこれら半導体装置複数個分
の回路部品1,2,3を一体に取り扱うので、一連の製
造工程で製品である半導体装置を多数個取りすることが
でき、半導体装置の製造効率を高めることができる。ま
た、ベース板21に表示された第1及び第2のマーキン
グ21a,21b並びに枠体4aに表示された第3及び
第4のマーキング22b,22cを基準として、ベース
板21に対する各搭載部品1,2,3及び枠体4aの位
置決め、並びに枠体4a及びポッティング樹脂4bに対
する回路パターン5の形成を行うので、作業能率の改善
を図ることができるほか、各部の寸法精度が高い半導体
装置を得ることができる。
【0057】なお、本例の製造方法とは異なり、図13
に示すように、ベース板21に回路部品1,2,3をフ
ェースダウンで仮搭載することもできる。
【0058】この場合には、枠体4aに開設された各透
孔22a内に樹脂4bをポッティングした後、枠体4a
及びポッティング樹脂4b並びにバンプ1a,2a,3
aとベース板21との界面を剥離し、剥離によって露出
した面に回路パターン5の形成を行う。その他について
は、前記実施形態例に係る製造方法と同じであるので、
重複を避けるために説明を省略する。なお、ベース板2
1を剥離した後、必要に応じて、ポッティング樹脂4b
の表面に溶剤を塗布して、その表面を平滑化することも
できる。
【0059】本構成によると、前記実施形態例と同様の
効果を奏するほか、バンプ1a,2a,3aを下向きに
して各回路部品1,2,3をベース板21に仮搭載する
ので、樹脂のポッティング工程でバンプ1a,2a,3
aの先端位置とポッティング樹脂4bの表面とを同一面
上に揃えることができ、研磨加工を容易化又は省略する
ことができる。
【0060】なお、本例の場合には、ポッティングされ
た構造体の剥離を容易にするため、ベース板21に所要
の離型処理61を施しておくことが好ましい。また、こ
の方法によるときは、ベース板21を除去した後に構造
体の研磨を行うので、構造体保護のため、研磨加工時、
構造体を所要のホルダに取り付けることが好ましい。
【0061】
【発明の効果】請求項1に記載の発明は、回路パターン
を電解鋳造により形成するので、金属箔エッチングや導
電ペースト印刷などによって回路パターンを形成する場
合に比べて回路パターンを格段に高精度に形成すること
ができ、回路パターンの高密度化と配線長の短縮化を図
ることができて、半導体装置の小型化と遅延やノイズの
低減を図ることができる。また、各回路部品の端子部に
バンプを形成し、当該バンプに電解鋳造により回路パタ
ーンを接続したので、バンプと回路パターンとの間に異
物が介在されず、インピーダンスの増加や寄生容量の発
生による特性劣化を防止することができる。さらに、チ
ップ保持体の表面に回路パターンを電解鋳造したので、
回路パターンが形成された回路基板上に回路部品を搭載
してポッティングする場合に比べて半導体装置を薄形化
することができる。加えて、チップ保持体を、枠体と当
該枠体内に充填されたポッティング樹脂とから構成した
ので、ポッティング樹脂の使用量を減少することがで
き、半導体装置の製造コストを低減できると共に、枠体
を切断することによって半導体装置の整形を行うことに
より、半導体装置の整形を高精度に行うことができるの
で、寸法精度の高い半導体装置を得ることができる。
【0062】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、バンプと電気的に接
続された第1回路パターンの上に、絶縁層を介して第2
回路パターンを形成するので、スルーホールやビアを形
成することなく、回路パターンを2層に形成することが
でき、例えば2ターン以上の巻線数を有するアンテナコ
イルを備えた無線通信用の半導体装置を得ることができ
る。そして、スルーホールやビアを有しないので、基板
設計や製造工程の複雑化を防止できると共に、特性に対
する信頼性の低下も防止できる。
【0063】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、枠体をダイシング容
易なガラス質材料をもって形成したので、半導体装置の
整形を容易かつ高精度に行うことができ、寸法精度の高
い半導体装置を得ることができる。
【0064】請求項4に記載の発明は、回路パターン中
にアンテナを形成したので、無線通信式の半導体装置を
得ることができる。
【0065】請求項5に記載の発明は、請求項1に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、回路パターンが形成
されたチップ保持体の外周を絶縁性の外装材でカバーし
たので、取り扱いを容易化することができ、実用性を高
めることができる。
【0066】請求項6に記載の発明は、バンプを上向き
にして回路部品をベース板に仮搭載するので、仮搭載さ
れた回路部品の安定性が高く、当該回路部品に対する樹
脂のポッティングを容易に行うことができる。また、ベ
ース板の回路部品搭載面に枠体を設置して半導体装置に
搭載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて囲繞し
た後、当該枠体内に樹脂をポッティングするので、各半
導体装置に搭載される所要の回路部品を正確にポッティ
ングすることができ、良品の歩留りを改善できると共
に、ポッティング樹脂の使用量を減少できて、半導体装
置の製造コストを低減することができる。加えて、枠体
を切断することによって半導体装置の整形を行うことが
できるので、半導体装置の整形を高精度に行うことがで
き、寸法精度の高い半導体装置を得ることができる。さ
らに、本構成によると、ポッティング樹脂の機械研磨を
ベース板に取り付けたまま行うことができるので、研磨
加工を効率的に行うことができる。
【0067】請求項7に記載の発明は、請求項6に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、バンプと電気的に接
続された第1回路パターンを電解鋳造した後、絶縁層を
介して第2回路パターンを電解鋳造するので、スルーホ
ールやビアを形成することなく、回路パターンを2層に
形成することができ、例えば2ターン以上の巻線数を有
するアンテナコイルを備えた無線通信用の半導体装置を
得ることができる。そして、スルーホールやビアを有し
ないので、基板設計や製造工程の複雑化を防止できると
共に、特性に対する信頼性の低下も防止できる。
【0068】請求項8に記載の発明は、請求項6に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、バンプを下向きにし
て回路部品をベース板に仮搭載するので、ポッティング
工程の段階でバンプの先端位置を揃えることができ、か
つポッティング樹脂の表面からバンプの先端部を露出さ
せることができるので、研磨加工を容易化又は省略する
ことができる。
【0069】請求項9に記載の発明は、請求項6に記載
の発明と同様の効果を奏するほか、バンプと電気的に接
続された第1回路パターンを電解鋳造した後、絶縁層を
介して第2回路パターンを電解鋳造するので、スルーホ
ールやビアを形成することなく、回路パターンを2層に
形成することができ、例えば2ターン以上の巻線数を有
するアンテナコイルを備えた無線通信用の半導体装置を
得ることができる。そして、スルーホールやビアを有し
ないので、基板設計や製造工程の複雑化を防止できると
共に、特性に対する信頼性の低下も防止できる。
【0070】請求項10に記載の発明は、請求項6に記
載の発明と同様の効果を奏するほか、ベース板に施され
たマーキングを基準として、ベース板に対する回路部品
の仮搭載及び/又は枠体の設置を行うことができるの
で、回路部品の搭載精度及び/又は枠体の設置精度を高
めることができ、良品の歩留まりを改善できると共に、
作業能率の改善を図ることができる。
【0071】請求項11に記載の発明は、請求項6に記
載の発明と同様の効果を奏するほか、枠体に施されたマ
ーキングを基準として、枠体及び/又はポッティング樹
脂に対する回路パターンの形成を行うことができるの
で、回路パターンの形成精度を高めることができ、良品
の歩留まりを改善できると共に、作業能率の改善を図る
ことができる。
【0072】請求項12に記載の発明は、請求項6に記
載の発明と同様の効果を奏するほか、1回の製造工程で
所要の半導体装置を多数個取りすることができるので、
半導体装置の製造効率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態例に係る半導体装置の断面図であ
る。
【図2】第2実施形態例に係る半導体装置の断面図であ
る。
【図3】第3実施形態例に係る半導体装置の断面図であ
る。
【図4】第4実施形態例に係る半導体装置の断面図であ
る。
【図5】ICチップにバンプを形成する工程を示す説明
図である。
【図6】ベース板及び枠体並びにこれらの各部材に表示
されるマーキングを示す平面図である。
【図7】ICチップを含む回路部品を一体化する工程を
示す説明図である。
【図8】ポッティング樹脂の平滑化方法を示す説明図で
ある。
【図9】回路パターン(第1回路パターン)の形成工程
を示す説明図である。
【図10】絶縁層の形成工程を示す説明図である。
【図11】第2回路パターン及び保護層の形成工程を示
す説明図である。
【図12】ベース板から剥離された構造体の断面図であ
る。
【図13】本発明に係る半導体装置製造方法の他の例を
示す断面図である。
【符号の説明】
1 ICチップ 2 コンデンサ 3 フィルタ 1a,2a,3a バンプ 4 チップ保持体 4a 枠体 4b ポッティング樹脂 5 回路パターン(第1回路パターン) 6 絶縁層 7 第2回路パターン 8 外装材 21 ベース板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/522

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1つのICチップを含む1乃
    至複数個の回路部品と、当該回路部品の端子部に形成さ
    れたバンプと、前記回路部品を保持する絶縁性のチップ
    保持体と、当該チップ保持体の表面に電解鋳造され、前
    記バンプと電気的に接続された回路パターンとを有し、
    前記チップ保持体が、前記回路部品を囲繞する枠体と当
    該枠体内に充填されたポッティング樹脂とからなること
    を特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 少なくとも1つのICチップを含む1乃
    至複数個の回路部品と、当該回路部品の端子部に形成さ
    れたバンプと、前記回路部品を保持する絶縁性のチップ
    保持体と、当該チップ保持体の表面に電解鋳造され、前
    記バンプと電気的に接続された第1回路パターンと、当
    該第1回路パターンの一部を覆う絶縁層と、当該絶縁層
    の表面側に電解鋳造され、前記第1回路パターンと電気
    的に接続された第2回路パターンとを有し、前記チップ
    保持体が、前記回路部品を囲繞する枠体と当該枠体内に
    充填されたポッティング樹脂とからなることを特徴とす
    る半導体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載の半導体装置にお
    いて、前記枠体をガラス質材料をもって形成したことを
    特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2に記載の半導体装置にお
    いて、前記回路パターン中にアンテナを形成したことを
    特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2に記載の半導体装置にお
    いて、前記回路パターンが形成されたチップ保持体の外
    周を絶縁性の外装材でカバーしたことを特徴とする半導
    体装置。
  6. 【請求項6】 端子部に形成されたバンプを上向きにし
    て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、 前記ベース板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体
    装置に搭載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて
    囲繞する工程と、 前記枠体内にポッティング樹脂をポッティングして、前
    記バンプの先端部を覆うする工程と、 前記ポッティング樹脂の表面を機械研磨して、当該ポッ
    ティング樹脂の片面に前記バンプを露出させる工程と、 前記ポッティング樹脂の表面に、前記バンプと電気的に
    接続された回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記枠体及びポッティング樹脂並びに回路部品と前記ベ
    ース板との界面を剥離する工程と、 前記枠体を切断して所要形状及び所要サイズの半導体装
    置を得る工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
  7. 【請求項7】 端子部に形成されたバンプを上向きにし
    て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、 前記ベース板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体
    装置に搭載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて
    囲繞する工程と、 前記枠体内にポッティング樹脂をポッティングして、前
    記バンプの先端部を覆うする工程と、 前記ポッティング樹脂の表面を機械研磨して、当該ポッ
    ティング樹脂の片面に前記バンプを露出させる工程と、 前記ポッティング樹脂の表面に、前記バンプと電気的に
    接続された第1回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記第1回路パターン上に絶縁層を選択的に形成する工
    程と、 前記絶縁層の表面側に前記第1回路パターンと電気的に
    接続された第2回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記枠体及びポッティング樹脂並びに回路部品と前記ベ
    ース板との界面を剥離する工程と、 前記枠体を切断して所要形状及び所要サイズの半導体装
    置を得る工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
  8. 【請求項8】 端子部に形成されたバンプを下向きにし
    て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、 前記ベース板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体
    装置に搭載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて
    囲繞する工程と、 前記枠体内にポッティング樹脂をポッティングして、前
    記回路部品全体を覆う工程と、 前記枠体及びポッティング樹脂並びに回路部品と前記ベ
    ース板との界面を剥離する工程と、 前記ポッティング樹脂の表面に、前記バンプと電気的に
    接続された回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記枠体を切断して所要形状及び所要サイズの半導体装
    置を得る工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
  9. 【請求項9】 端子部に形成されたバンプを下向きにし
    て、回路部品をベース板に仮搭載する工程と、 前記ベース板の回路部品搭載面に枠体を設置し、半導体
    装置に搭載される所要の回路部品の周囲を当該枠体にて
    囲繞する工程と、 前記枠体内にポッティング樹脂をポッティングして、前
    記回路部品全体を覆う工程と、 前記枠体及びポッティング樹脂並びに回路部品と前記ベ
    ース板との界面を剥離する工程と、 前記ポッティング樹脂の表面に、前記バンプと電気的に
    接続された第1回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記第1回路パターン上に絶縁層を選択的に形成する工
    程と、 前記絶縁層の表面側に前記第1回路パターンと電気的に
    接続された第2回路パターンを電解鋳造する工程と、 前記枠体を切断して所要形状及び所要サイズの半導体装
    置を得る工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製
    造方法。
  10. 【請求項10】 請求項6乃至9に記載の半導体装置の
    製造方法において、前記ベース板として、前記回路部品
    の搭載位置及び/又は前記枠体の設置位置を表示するマ
    ーキングが施されたものを用い、当該マーキングを基準
    として、前記ベース板に対する前記回路部品の仮搭載及
    び/又は前記枠体の設置を行うことを特徴とする半導体
    装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項6乃至9に記載の半導体装置の
    製造方法において、前記枠体として、前記回路パターン
    の形成位置を表示するマーキングが施されたものを用
    い、当該マーキングを基準として、前記枠体及び/又は
    ポッティング樹脂に対する前記回路パターンの形成を行
    うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  12. 【請求項12】 請求項6乃至9に記載の半導体装置の
    製造方法において、前記回路部品をベース板に仮搭載す
    る工程で、ベース板上に半導体装置複数個分の回路部品
    を仮搭載し、その後の各工程で、これら半導体装置複数
    個分の回路部品を一体に取り扱うことを特徴とする半導
    体装置の製造方法。
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