JP2002093843A - Apparatus and method of mounting metal ball - Google Patents

Apparatus and method of mounting metal ball

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JP2002093843A
JP2002093843A JP2000285586A JP2000285586A JP2002093843A JP 2002093843 A JP2002093843 A JP 2002093843A JP 2000285586 A JP2000285586 A JP 2000285586A JP 2000285586 A JP2000285586 A JP 2000285586A JP 2002093843 A JP2002093843 A JP 2002093843A
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JP
Japan
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metal
metal sphere
gas
storage container
metal ball
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Application number
JP2000285586A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinya Amami
真也 雨海
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Ueno Seiki Co Ltd
Original Assignee
Ueno Seiki Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method of mounting metal balls, with which the suction efficiency of metal balls by a suction head can be increased. SOLUTION: In a gas blow-up space 15 located below a ventilating partition plate 11, a plurality of straightening vanes 17 are disposed aslantedly, in parallel with each other. The gas blow-up space 15 is connected to a source of gas (not shown) via a gas entrance 19. When the suction head 1 sucks the metal balls 3, a gas flown into the space 15 through the gas entrance 9 becomes a gas flow directed upwards on the slant by means of the straightening vanes 17 to be blown against the metal balls, which are then caused to float obliquely upwardly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置を高密
度実装する技術の一つである、エリア・アレイ接続技術
において、外部電極としての金属球を半導体装置または
電子回路基板上に設けられた電極に搭載する金属球搭載
装置および搭載方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an area array connection technique, which is one of techniques for mounting a semiconductor device at high density, in which a metal ball as an external electrode is provided on a semiconductor device or an electronic circuit board. The present invention relates to a metal ball mounting device and a mounting method for mounting on an electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップ、半導体パッケージ、電子
回路基板上に設けられたパッド電極上に金属球を密着さ
せ、ボール、バンプと呼ばれる電極を形成する方法が多
く設けられている。これは、数多くの金属球をあらかじ
め決められた配列に従って整列させてピックアップし、
パッド電極に一括して搭載したのち、加熱処理、または
導電性ペースト、導電性接着剤による接着などによって
金属球を密着させる方法である。
2. Description of the Related Art There are many methods in which a metal ball is brought into close contact with a pad electrode provided on a semiconductor chip, a semiconductor package, or an electronic circuit board to form an electrode called a ball or a bump. This is to pick up a number of metal balls aligned in accordance with a predetermined arrangement,
This is a method in which, after being mounted on a pad electrode at a time, a metal ball is adhered by heat treatment or bonding with a conductive paste or a conductive adhesive.

【0003】これに供される金属球搭載装置として、あ
らかじめ決められた配列に従って設けられた複数の吸着
孔を下面に有する吸着ヘッドに複数の金属球を吸着する
と同時に整列させ、ピックアップしたのち、半導体チッ
プ、半導体パッケージ、電子回路基板に設けられた電極
に搭載する、金属球の搭載装置が特開昭61−2427
59号公報に開示されている。
[0003] As a metal ball mounting device to be provided for this, a plurality of metal balls are suctioned to a suction head having a plurality of suction holes provided in accordance with a predetermined arrangement on a lower surface, and are aligned and picked up. Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-2427 discloses an apparatus for mounting a metal ball mounted on an electrode provided on a chip, a semiconductor package, or an electronic circuit board.
No. 59 is disclosed.

【0004】この従来の金属球の搭載装置においては、
吸着孔に金属球が吸着されない吸着ミスが発生すると、
金属球が搭載されないパッド電極が発生するという問題
を含んでいる。また、その一方、吸着孔が開けられてい
ない部分に静電気などにより金属球が付着する余剰ボー
ルが発生すると、パッド電極以外の部位に金属球が搭載
されてしまう虞を含んでいる。いずれの場合も搭載ミス
であり、搭載工程における歩留まり低下の大きな要因と
なる。
In this conventional metal ball mounting device,
If an adsorption error occurs in which the metal sphere is not adsorbed to the adsorption hole,
There is a problem that a pad electrode on which a metal ball is not mounted occurs. On the other hand, if a surplus ball to which a metal ball adheres due to static electricity or the like is generated in a portion where the suction hole is not formed, there is a possibility that the metal ball is mounted on a portion other than the pad electrode. Either case is a mounting error, which is a major factor in reducing the yield in the mounting process.

【0005】金属球を吸着孔に確実に吸着させるため、
金属球を貯留する容器にガスを導入し、吸着工程におい
て金属球貯留容器内の金属球を半ば浮遊状態にする吸着
容器が特開平5−259224号公報に開示されてい
る。この容器は、本件明細書に図7として引用するよう
に容器3内に微細多孔質板2を設け、その上に金属球1
を貯留し、送風機4により容器下部6に空気を導入し
て、金属球1を浮遊させるようにしている。この状態で
吸着ヘッド7を金属球貯留容器3内に導入し、吸着ヘッ
ド7に設けた複数の吸着孔9に金属球1を吸着し、整列
させてピックアップするようにしたものである。
[0005] In order to ensure that metal spheres are adsorbed to the adsorption holes,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-259224 discloses an adsorption container in which a gas is introduced into a container for storing metal spheres so that the metal spheres in the metal sphere storage container are in a semi-floating state in the adsorption step. This container is provided with a microporous plate 2 in a container 3 as shown in FIG.
Is stored, and air is introduced into the container lower part 6 by the blower 4 to float the metal sphere 1. In this state, the suction head 7 is introduced into the metal sphere storage container 3, and the metal spheres 1 are sucked into the plurality of suction holes 9 provided in the suction head 7, aligned and picked up.

【0006】また、特開平7−307340号公報にお
いては、金属球の貯留容器上部に設けたスリット状のガ
ス吹出部72(本件明細書に図8として引用)から金属
球1をガスと共に噴出させ、吸着ヘッド3下面に吹付け
る金属球の搭載装置が開示されている。これは、メッシ
ュ75の全領域で、その上に貯留された金属球1を下部
からガスで吹き上げ、更にその一部を吹出部72から上
方に噴出させて、吸着ヘッド3の下部に設けられた吸着
孔4に吸着させるものであり、そして、吸着ヘッド3を
水平方向に移動させることにより、吸着ヘッドの吸着孔
4の全てに金属球を吸着させるものである。
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-307340, a metal sphere 1 is blown out together with gas from a slit-shaped gas blowing section 72 (referred to as FIG. 8 in the present specification) provided in the upper portion of a metal sphere storage container. A device for mounting a metal ball sprayed on the lower surface of the suction head 3 is disclosed. This is provided in the lower part of the suction head 3 by blowing up the metal spheres 1 stored on the whole area of the mesh 75 from below with a gas, and further blowing a part of the metal spheres 1 upward from the blowing part 72. The suction holes 4 are to be adsorbed, and by moving the suction head 3 in the horizontal direction, metal balls are adsorbed to all of the suction holes 4 of the suction head.

【0007】特開平5−259224号公報、特開平7
−307340号公報に開示された技術は、いずれも吸
着時に金属球を浮遊させて移動させることにより、吸着
孔に金属球が遭遇する確率を高めたものである。
JP-A-5-259224, JP-A-7-259
In any of the techniques disclosed in Japanese Patent No. 307340, the probability that the metal sphere encounters the suction hole is raised by floating and moving the metal sphere at the time of suction.

【0008】しかしながら、上記の従来技術では以下に
挙げるような問題点があった。
[0008] However, the above-mentioned prior art has the following problems.

【0009】特開平5−259224号公報に開示され
ている金属球貯留容器を使用した場合、金属球貯留容器
内に貯留した金属球すべてが、同時に、一様に浮遊す
る。そのため、金属球同士がこすれ合い、表面にキズが
付いたり、酸化膜が形成されるという問題があった。
When the metal sphere storage container disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-259224 is used, all the metal spheres stored in the metal sphere storage container simultaneously float uniformly. For this reason, there has been a problem that the metal balls rub against each other, the surface is scratched, and an oxide film is formed.

【0010】金属球貯留容器に貯留された状態からパッ
ド電極に密着させられるまでに金属球表面にキズが発生
したり、酸化膜が形成されると、加熱溶融時に金属球と
パッド電極間で発生する合金化反応を抑制し、密着性不
良を発生する。また、酸化膜は一般に導電率が低く、電
気抵抗が大きいため、金属球表面に形成された場合には
抵抗が増加し、導通不良を発生する。一方、キズが発生
した場合には、金属球とパッド電極間の接触面積が減少
して抵抗が増加し、酸化膜発生時と同様な導通不良が発
生する。同様な不良は、金属球を導電性ペースト、導電
性接着剤により密着させる場合にも発生する。
If the surface of the metal sphere is scratched or an oxide film is formed before the metal sphere is stored in the metal sphere storage container and brought into close contact with the pad electrode, an oxide film is formed between the metal sphere and the pad electrode during heating and melting. Alloying reaction, which causes poor adhesion. In addition, since the oxide film generally has a low conductivity and a large electric resistance, when formed on the surface of the metal sphere, the resistance increases and a conduction failure occurs. On the other hand, when a flaw is generated, the contact area between the metal ball and the pad electrode is reduced, the resistance is increased, and the same conduction failure as that when an oxide film is generated occurs. Similar defects also occur when metal balls are brought into close contact with a conductive paste or a conductive adhesive.

【0011】また、貯留容器内の金属球すべてが浮遊す
るため、浮遊状態下での金属球の水平方向の移動が制限
される。そのため、吸着孔に向けて金属球が飛来しない
場合は、吸着孔が金属球を吸着出来ないという問題があ
った。
Further, since all the metal balls in the storage container float, the horizontal movement of the metal balls in the floating state is restricted. Therefore, when the metal sphere does not fly toward the suction hole, there is a problem that the suction hole cannot absorb the metal sphere.

【0012】さらに、同公報(特開平5−259224
号公報)に開示されている技術では、金属球貯留容器内
に貯留されている金属球が多すぎた場合、金属球が過密
な状態で浮遊する。その場合、一つの塊となって複数の
金属球が飛来すると、金属球はお互いに進路を妨害しあ
って一部の吸着孔に金属球が吸着されないという問題が
発生し易くなる。一方、金属球貯留容器内に貯留されて
いる金属球が少ない場合、金属球が疎な状態で浮遊す
る。その場合、金属球が吸着孔に到達するには水平方向
に長い距離を移動する必要があり、金属球が到達しない
吸着孔が生じるという問題が起こり易くなる。このた
め、金属球貯留容器内に貯留する金属球を厳密に管理す
る必要があった。
Further, the publication (Japanese Patent Laid-Open No. 5-259224)
In the technique disclosed in Japanese Unexamined Patent Application, First Publication No. H11-268, when there are too many metal balls stored in the metal ball storage container, the metal balls float in an overcrowded state. In this case, when a plurality of metal spheres fly as one lump, a problem that the metal spheres hinder each other's course and the metal spheres are not adsorbed to some of the suction holes easily occurs. On the other hand, when there are few metal balls stored in the metal ball storage container, the metal balls float in a sparse state. In this case, the metal sphere needs to move a long distance in the horizontal direction in order to reach the suction hole, and the problem that the suction hole where the metal sphere does not reach is likely to occur. For this reason, it was necessary to strictly control the metal balls stored in the metal ball storage container.

【0013】すなわち、疎の状態で金属球を浮遊させな
いために、金属球貯留容器内には一定量以上の金属球を
常に貯留する必要がある。吸着工程のたびに金属球は浮
遊させられるため、お互いにこすれ合い、キズが入った
り、酸化膜が形成される。貯留量が多い場合には、金属
球は貯留容器内に貯留される時間が長くなり、吸着工程
によって擦れ合う回数が増える。その結果、キズ発生、
酸化膜形成が多くなるという問題点を含んでいる。
That is, in order to prevent metal balls from floating in a sparse state, it is necessary to always store a certain amount or more of metal balls in the metal ball storage container. Since the metal spheres are floated every time the adsorption process is performed, the metal spheres are rubbed with each other, scratched, and an oxide film is formed. When the storage amount is large, the time for which the metal spheres are stored in the storage container becomes longer, and the number of times of rubbing by the adsorption process increases. As a result,
There is a problem that oxide film formation is increased.

【0014】また、同公報(特開平5−259224号
公報)に開示されている技術では、金属球貯留容器内に
貯留されている多量の金属球を同時に、一様に浮遊させ
る。そのため、容器内に導入する窒素、アルゴンなどの
不活性ガスまたは乾燥空気を大量に使用する必要があっ
た。これらの不活性ガス、乾燥空気は金属球表面の酸化
膜形成を抑制するためには必須であるが、高価であるた
め、ランニング・コストが高くなるという問題点があっ
た。
According to the technique disclosed in the publication (JP-A-5-259224), a large amount of metal spheres stored in a metal sphere storage container are simultaneously and uniformly floated. Therefore, it was necessary to use a large amount of an inert gas such as nitrogen or argon or dry air introduced into the container. These inert gas and dry air are indispensable for suppressing the formation of an oxide film on the surface of the metal sphere, but they are expensive and have a problem of increasing running cost.

【0015】一方、特開平7−307340号公報に開
示されている装置においては、金属球が吹付けられる範
囲が限られているため、水平方向における移動に対する
制限が少なくなる。その結果、吸着歩留まりを上げるこ
とができる上、使用ガス量を抑制してランニング・コス
トを抑制できた。
On the other hand, in the apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-307340, the range in which the metal sphere is sprayed is limited, so that the restriction on the movement in the horizontal direction is reduced. As a result, the adsorption yield could be increased, and the running gas could be suppressed by suppressing the amount of gas used.

【0016】しかしながら、同公報(特開平7−307
340号公報)に開示されている装置においては、金属
球は吹出部を経て吸着ヘッドに吹付けられるようになっ
ているため、吸着ヘッドに吹付けられ、吸着孔に吸着さ
れなかった金属球は、貯留部70の上部に設けられた覆
い74上を転がり、覆い74外周に設けられた開口部7
8を経ると言う長い経路を経て金属球貯留容器内に回収
される。さらに、金属球は吹出口から噴出される際、高
速で吹出口の内面とこすれ合う。このため、金属球表面
のキズ発生、酸化膜形成が発生し易くなるという問題を
含む。
However, the above publication (Japanese Patent Laid-Open No. 7-307)
No. 340), the metal sphere is blown to the suction head via the blowing section, so that the metal sphere blown to the suction head and not sucked to the suction hole is removed. , Rolls on a cover 74 provided on the upper portion of the storage section 70, and an opening 7 provided on the outer periphery of the cover 74.
8 and is collected in the metal sphere storage container through a long path. Further, when the metal sphere is ejected from the outlet, it rubs against the inner surface of the outlet at a high speed. For this reason, there is a problem that scratches on the surface of the metal sphere and formation of an oxide film are easily generated.

【0017】また、金属球を吸着ヘッドに設けられたす
べての吸着孔に吸着させるため、吸着時に吸着ヘッドを
水平方向に移動させるようになっているため、吸着ヘッ
ドと金属球貯留容器にて密閉構造を作れない。この結
果、吸着工程を非酸化雰囲気下で行うことができず、金
属球の表面には酸化膜が形成され易くなる。
Further, since the metal head is moved in the horizontal direction at the time of suction in order to cause the metal ball to be sucked into all the suction holes provided in the suction head, the metal head is sealed with the metal head storage container with the suction head. I can't make a structure. As a result, the adsorption step cannot be performed in a non-oxidizing atmosphere, and an oxide film is easily formed on the surface of the metal sphere.

【0018】加えて、吸着ヘッドと金属球貯留容器にて
密閉構造を作れないことから、外部に金属球が飛散する
という問題があった。さらに加えて、金属球貯留容器内
に導入されたガスは上部覆い外周の開口部78からも噴
出するため、吸着されなかった金属球が弾き出された
り、貯留容器内部の金属球が吹き出され、飛散するとい
う問題が内在している。
In addition, since a closed structure cannot be formed between the suction head and the metal sphere storage container, there is a problem that metal spheres scatter outside. In addition, since the gas introduced into the metal sphere storage container also blows out from the opening 78 on the outer periphery of the upper cover, the metal ball that has not been adsorbed is blown out, or the metal sphere inside the storage container is blown out and scattered. There is the problem of doing it.

【0019】さらに、同公報(特開平7−307340
号公報)の方式によれば、金属球が比較的高速で吸着ヘ
ッドに衝突することになるため、金属球が弾き返されて
しまう。その結果、吸着歩留まりの向上には限界があっ
た。
Further, the publication (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-307340)
According to the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-146, the metal ball collides with the suction head at a relatively high speed, and the metal ball is repelled. As a result, there is a limit in improving the adsorption yield.

【0020】以上挙げた他、近年の半導体装置製造方法
の発展により、新たな課題が生じた。すなわち、近年、
半導体素子あたりの電極数が増加する傾向がある。ま
た、コストダウンを目的として、多数の半導体装置をま
とめ、一括して金属球を搭載する製法が一般化してい
る。このため、一度に搭載される金属球の数は増加の一
途にある。さらに、近年は半導体素子をウェーハから切
り出す前にパッケージ加工する、ウェーハ・レベル・パ
ッケージ技術が注目され、実用化の目処が立ちつつあ
る。このため、3〜5万個の金属球を一括して搭載でき
る金属球搭載装置が近い将来必要になる。このため、現
在以上に歩留まりを高めて従来以上に高い吸着歩留まり
を実現し、キズ発生および酸化膜形成といった様々な問
題を引き起こす要因の発生を抑制できる金属球搭載装置
が求められるようになっている。
In addition to the above, new problems have arisen due to the recent development of semiconductor device manufacturing methods. That is, in recent years,
The number of electrodes per semiconductor element tends to increase. Further, for the purpose of cost reduction, a manufacturing method in which a large number of semiconductor devices are put together and metal balls are mounted collectively has been generalized. For this reason, the number of metal balls mounted at one time is constantly increasing. Further, in recent years, attention has been paid to wafer-level packaging technology for processing a semiconductor element before cutting it from a wafer, and the prospect of practical use is being established. For this reason, a metal sphere mounting device capable of mounting 30,000 to 50,000 metal spheres at a time will be required in the near future. For this reason, there is a demand for a metal ball mounting device that can increase the yield higher than the current one, realize a higher adsorption yield than before, and suppress the occurrence of factors that cause various problems such as scratch generation and oxide film formation. .

【0021】[0021]

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、吸
着ヘッドによる金属球の吸着効率を高めることのできる
金属球の搭載装置および搭載方法を提供することをその
課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a metal ball mounting apparatus and a mounting method capable of increasing the efficiency of metal ball suction by a suction head.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】かかる技術的課題は、本
発明の一つの局面によれば、通風性の仕切壁によって上
下に区画され、仕切壁の上の金属球貯留空間の中に金属
球を貯留する金属球貯留容器と、該金属球貯留容器内に
貯留された金属球を真空吸着するための複数の吸着孔を
下面に備えた吸着ヘッドとを有する金属球の搭載装置で
あって、前記金属球貯留容器の仕切壁の下に形成され、
ガス供給源に連結されたガス吹き上げ空間に、互いに並
置された複数の整流板が傾斜して設けられ、該整流板に
よって、前記ガス吹き上げ空間内のガスが斜め上方に差
し向けられることを特徴とする金属球の搭載装置を提供
することによって達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION According to one aspect of the present invention, such a technical problem is solved by providing a metal sphere in a metal ball storage space which is vertically divided by an air-permeable partition wall. Metal ball storage container, and a metal ball mounting device having a suction head provided on a lower surface with a plurality of suction holes for vacuum suction of the metal balls stored in the metal ball storage container, Formed below the partition wall of the metal sphere storage container,
A plurality of straightening plates juxtaposed to each other are provided in an inclined manner in a gas blowing space connected to a gas supply source, and the gas in the gas blowing space is directed obliquely upward by the straightening plates. This is achieved by providing a mounting device for a metal sphere that does the following.

【0023】また、本発明の他の局面によれば、通風性
の仕切壁によって上下に区画され、仕切壁の上の金属球
貯留空間の中に金属球を貯留する金属球貯留容器と、該
金属球貯留容器内に貯留された金属球を真空吸着するた
めの複数の吸着孔を下面に備えた吸着ヘッドとを有する
金属球の搭載装置であって、前記金属球貯留容器の仕切
壁の下に形成されたガス吹き上げ空間の中に、その吹出
口を上方に向けて配置され且つガス供給源に連結された
ガス吹出ノズルが揺動可能に設けられていることを特徴
とする金属球の搭載装置を提供することによって達成さ
れる。
According to another aspect of the present invention, there is provided a metal sphere storage container which is vertically divided by a ventilation partition wall and stores metal spheres in a metal sphere storage space above the partition wall. A mounting apparatus for a metal sphere having a suction head provided on a lower surface with a plurality of suction holes for vacuum-sucking the metal sphere stored in the metal sphere storage container, wherein the metal sphere storage device is provided under a partition wall of the metal sphere storage container. Mounting a metal sphere in a gas blow-up space formed at a position above, wherein a gas blow-out nozzle connected to a gas supply source is swingably provided with its outlet facing upward. This is achieved by providing a device.

【0024】また、本発明の別の局面によれば、下面に
複数の吸着孔を備えた吸着ヘッドを用意し、金属球貯留
容器内に貯留された金属球を浮遊させ、該浮遊した金属
球を前記吸着ヘッドの吸着孔で吸着してピックアップ
し、半導体パッケージ、半導体チップ、電子回路基板上
の電極に前記金属球を搭載する金属球の搭載方法であっ
て、前記金属球貯留容器内に貯留した金属球に、斜め上
方に向かうガス流を当てて、該金属球を斜め上方に浮遊
させることを特徴とする金属球の搭載方法を提供するこ
とによって達成される。
According to another aspect of the present invention, a suction head having a plurality of suction holes on a lower surface is prepared, and the metal balls stored in the metal ball storage container are floated. A metal ball mounted on the semiconductor package, the semiconductor chip, and an electrode on an electronic circuit board, wherein the metal ball is mounted on an electrode on a semiconductor package, a semiconductor chip, and an electronic circuit board, wherein the metal ball is stored in the metal ball storage container. This is achieved by providing a method for mounting a metal sphere, characterized in that a gas flow directed obliquely upward is applied to the metal sphere, and the metal sphere is floated diagonally upward.

【0025】本発明によれば、通風性の仕切板上部に金
属球を貯留し、ガスを下方から通風性の仕切板を通し、
この仕切板を通じてガス流を斜めに差し向けて金属球に
当て、これにより金属球を斜め上方に浮遊させることが
できる。これにより、金属球は吸着ヘッド下面の上又は
近傍で吸着ヘッド下面に沿って横方向に移動することが
できるため、吸着ヘッド下面に設けられた吸着孔に金属
球が遭遇する確率を高めることができる。その結果、吸
着ヘッド下面に設けられた複数の吸着孔すべてが確実に
金属球を吸着させることができ、吸着された金属球を半
導体回路素子、半導体パッケージ、基板に一括して搭載
する際の歩留まりを向上することができる。
According to the present invention, the metal spheres are stored in the upper part of the ventilation partition, and the gas is passed through the ventilation partition from below,
The gas flow is directed obliquely to the metal sphere through the partition plate, whereby the metal sphere can be suspended obliquely upward. This allows the metal sphere to move laterally along the lower surface of the suction head on or near the lower surface of the suction head, thereby increasing the probability that the metal ball encounters the suction hole provided on the lower surface of the suction head. it can. As a result, all of the plurality of suction holes provided on the lower surface of the suction head can surely adsorb the metal spheres, and the yield when mounting the adsorbed metal spheres on the semiconductor circuit element, the semiconductor package, and the substrate at one time. Can be improved.

【0026】また、本発明によれば、金属球のキズ発
生、酸化膜形成を少なく出来、歩留まりの高い金属球搭
載工程を提供できる金属球搭載装置が実現できる。
Further, according to the present invention, it is possible to realize a metal ball mounting apparatus which can reduce the occurrence of scratches on the metal ball and the formation of an oxide film and can provide a metal ball mounting step with a high yield.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を好ま
しい実施例に基づき添付の図面を参照して詳述する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings based on preferred embodiments.

【0028】第一実施例 本発明の第一実施例の金属球搭載装置を図1に示す。同
図に示す参照符号1は吸着ヘッドであり、その下面つま
り吸着面には、金属球3を吸着するための数多くの吸着
孔5が設けられている。吸着ヘッド1は、その上部に排
気口7を有し、この排気口7を通じて真空排気手段(図
示せず)に連結されている。
First Embodiment FIG. 1 shows a metal ball mounting device according to a first embodiment of the present invention. Reference numeral 1 shown in FIG. 1 is a suction head, and a number of suction holes 5 for sucking metal balls 3 are provided on the lower surface, that is, the suction surface. The suction head 1 has an exhaust port 7 at an upper portion thereof, and is connected to a vacuum exhaust unit (not shown) through the exhaust port 7.

【0029】参照符号9は、金属球3を貯留する金属球
貯留容器を示す。金属球貯留容器9は、通風性の仕切板
11によって内部が上下に区分されている。仕切板11
の上方には、金属球3を貯留するための貯留空間13が
形成され、仕切板11の下方には、ガス吹き上げ空間1
5が形成されている。通風性の仕切板11として、金属
又は非金属からなるメッシュ材料又は多孔性材料などの
材料を用いることができる。
Reference numeral 9 denotes a metal sphere storage container for storing the metal spheres 3. The inside of the metal sphere storage container 9 is vertically divided by a ventilation partition plate 11. Partition plate 11
A storage space 13 for storing the metal spheres 3 is formed above the gas blow-up space 1 below the partition plate 11.
5 are formed. As the ventilation partition plate 11, a material such as a mesh material or a porous material made of metal or nonmetal can be used.

【0030】ガス吹き上げ空間15には、傾斜して並置
された複数の整流板17が配設されており、このガス吹
き上げ空間15は、ガス入口19を介してガス供給源
(図示せず)に連結されている。
The gas blow-up space 15 is provided with a plurality of straightening plates 17 which are juxtaposed and inclined. The gas blow-up space 15 is connected to a gas supply source (not shown) via a gas inlet 19. Are linked.

【0031】次に動作を説明する。吸着ヘッド1が図1
に(II)で示す上昇位置から、(I)で示す下降位置つ
まり吸着位置まで、金属球貯留容器9に向かって下降
し、排気口7を通じて吸着ヘッド1に接続された真空排
気手段(図示せず)を作動させることによって吸着ヘッ
ド1の吸着面に設けられた吸着孔5に金属球3aを吸着
する。
Next, the operation will be described. The suction head 1 is shown in FIG.
The vacuum evacuation means (shown in FIG. 1) descends toward the metal sphere storage container 9 from the raised position shown in (II) to the lowered position shown in (I), that is, the suction position, and is connected to the suction head 1 through the exhaust port 7. The metal ball 3a is sucked into the suction hole 5 provided on the suction surface of the suction head 1 by operating the metal ball 3a.

【0032】金属球3aを吸着した吸着ヘッド1は、上
昇位置(II)に上昇した後、図1の(III)の搭載位置
まで移動する。吸着ヘッド1が搭載位置(III)まで移
動して半導体装置20の上に位置すると、排気口7を通
じた真空引きが解除されて吸着ヘッド1が保持していた
金属球3aは、半導体装置20の上に設けられたパッド
電極上に移載される。
The suction head 1 that has picked up the metal ball 3a moves to the mounting position (III) in FIG. 1 after rising to the raising position (II). When the suction head 1 moves to the mounting position (III) and is positioned above the semiconductor device 20, the evacuation through the exhaust port 7 is released and the metal sphere 3 a held by the suction head 1 is removed from the semiconductor device 20. It is transferred onto the pad electrode provided above.

【0033】吸着ヘッド1が金属球3を吸着する際、ガ
ス入口9からガス吹き上げ空間15に流入したガスは、
整流板17によって斜め上方に向けて流れるガス流とな
って金属球3に吹付けられ、金属球3は傾斜角をもった
状態つまり斜め上方に浮遊させられる。これにより、金
属球3は吸着ヘッド1下面に達し、吸着孔に金属球3a
が吸着される。
When the adsorption head 1 adsorbs the metal ball 3, the gas flowing into the gas blowing space 15 from the gas inlet 9 is
A gas flow flowing obliquely upward by the rectifying plate 17 is sprayed on the metal spheres 3, and the metal spheres 3 are floated obliquely upward with an inclined angle. As a result, the metal ball 3 reaches the lower surface of the suction head 1 and the metal ball 3a
Is adsorbed.

【0034】本実施例によれば、ガス入口9から空間1
5に流入したガスは、整流板17によって斜め上方へ向
かうガス流となって流動する。このため図2(b)に示
すように、貯留容器9内に貯留された金属球3は傾斜角
を持って浮遊し、吸着ヘッド1の下面及びその近傍にお
いて、斜め又は横方向へ移動し易くなる。
According to this embodiment, the space 1 is connected to the gas inlet 9.
The gas that has flowed into 5 flows as a gas flow directed obliquely upward by the flow straightening plate 17. For this reason, as shown in FIG. 2B, the metal balls 3 stored in the storage container 9 float with an inclination angle, and easily move obliquely or laterally on the lower surface of the suction head 1 and its vicinity. Become.

【0035】すなわち、図2(a)に示すような、一塊
りの状態で金属球3が吸着ヘッド1の下面に向けて斜め
上方に吹き上げられた場合、吸着ヘッド1の下面まで移
動する過程で個々に分離し易くなる。更に、吸着ヘッド
1の下面に接した状態であっても、吸着ヘッド1の下面
で横方向に移動する傾向を有するので、吸着孔5に出会
う確率が高くなる。この結果、吸着効率つまり吸着歩留
まりを高めることができる。
That is, as shown in FIG. 2A, when the metal balls 3 are blown up obliquely upward toward the lower surface of the suction head 1 in a lump state, the metal balls 3 move to the lower surface of the suction head 1 It becomes easy to separate them individually. Furthermore, even when the suction head 1 is in contact with the lower surface, the lower surface of the suction head 1 has a tendency to move laterally, so that the probability of encountering the suction holes 5 is increased. As a result, the adsorption efficiency, that is, the adsorption yield can be increased.

【0036】また、吸着ヘッド1下面に沿って金属球3
が移動することにより、金属球3が吸着孔5と出会う確
率が高くなることから、吸着工程に要する時間を短くす
ることができる。その結果、金属球3が浮遊する時間が
短くなり、浮遊により金属球3が受けるダメージを少な
くすることができ、表面のキズ発生、酸化膜形成を抑制
できる。そのため、金属球3の密着性劣化、導電性劣化
をなくすることができる。
A metal ball 3 is provided along the lower surface of the suction head 1.
Is moved, the probability that the metal ball 3 meets the suction hole 5 is increased, so that the time required for the suction step can be shortened. As a result, the floating time of the metal sphere 3 is shortened, and the damage to the metal sphere 3 due to the floating can be reduced, and the generation of scratches on the surface and the formation of an oxide film can be suppressed. Therefore, it is possible to eliminate the deterioration of the adhesion and the conductivity of the metal ball 3.

【0037】上記の第一実施例で説明した整流板17に
おいては、複数の整流板17を同一角度で同じ方向に傾
斜した状態となるように並置して、この整流板17を通
過することにより生成されるガス流が一方向に向けて吹
き上がるようにしたが、変形例として、図3(a)又は
(b)に示すように、金属球貯留容器9のガス吹き上げ
空間15において、互いに異なる方向に向けて吹き上が
る複数のガス流を生成するようにしてもよい。例えば、
図3(a)に示すように、ガス吹き上げ空間15を2つ
の領域に分け、一方の領域に設けた互いに平行に傾斜し
て配置された複数の整流板17の組23、他方の領域に
設けた互いに平行に傾斜して配置された整流板17の組
25とが、例えば互いに同一の角度で反対の方向に傾斜
するように配置してもよい。
In the rectifying plate 17 described in the first embodiment, a plurality of rectifying plates 17 are juxtaposed so as to be inclined at the same angle and in the same direction and pass through the rectifying plate 17. Although the generated gas flow is blown up in one direction, as a modified example, as shown in FIG. 3A or 3B, the gas flow is different from each other in the gas blow-up space 15 of the metal sphere storage container 9. A plurality of gas streams that blow up in a direction may be generated. For example,
As shown in FIG. 3A, the gas blow-up space 15 is divided into two regions, and a set 23 of a plurality of straightening plates 17 provided in one region and inclined in parallel to each other is provided in the other region. For example, the sets 25 of the flow straightening plates 17 that are arranged to be inclined in parallel with each other may be arranged to be inclined in the opposite direction at the same angle, for example.

【0038】また、他の変形例として、図3(b)に示
すように、横断面矩形のガス吹き上げ空間15の四つの
側壁21の各々に沿って配置された、互いに平行に傾斜
して配置された整流板17の組27、29、31、33
の各々に属する整流板17を、これに隣接する側壁21
に向かってみたときに、同じ方向に傾斜して配置するよ
うにしてもよい。これによれば、整流板17の四つの組
27、29、31、33によって、ガス吹き上げ空間1
5の中に螺旋状に上昇するガス流を生成することができ
る。
As another modified example, as shown in FIG. 3 (b), the gas blow-up space 15 having a rectangular cross section is disposed along each of the four side walls 21 and inclined in parallel to each other. Sets 27, 29, 31, 33 of the rectifying plates 17
Of the current plate 17 belonging to each of the
When viewed toward, they may be arranged to be inclined in the same direction. According to this, the four sets 27, 29, 31, and 33 of the current plate 17 allow the gas blow-up space 1 to be formed.
A spirally rising gas stream in 5 can be generated.

【0039】第二実施例 図4は、本発明の第二実施例の金属球搭載装置の要部を
示すものである。第二実施例にあっては、金属球貯留容
器9内の通風性の仕切板11の上に貯留された金属球3
の表面を均すための手段として、貯留空間13の中に均
し板35が設けられ、この均し板35を横方向(水平方
向)に移動させることによって、貯留空間13内に貯留
されている数多くの金属球3の表面を均一にし、これに
より貯留されている金属球3の深さを均一にするように
なっている。他の構成は、上述した第一実施例と同様で
あるので、第一実施例に含まれる要素と同一の要素には
同一の参照符号を付すことによりその説明を省略する。
Second Embodiment FIG. 4 shows a main part of a metal ball mounting apparatus according to a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the metal balls 3 stored on the air-permeable partition plate 11 in the metal ball storage container 9
As means for leveling the surface, a leveling plate 35 is provided in the storage space 13, and by moving the leveling plate 35 in the horizontal direction (horizontal direction), the leveling plate 35 is stored in the storage space 13. The surface of many metal spheres 3 is made uniform so that the depth of the stored metal spheres 3 is made uniform. The other configuration is the same as that of the above-described first embodiment. Therefore, the same components as those included in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0040】次に動作を説明すると、先に第一実施例で
説明した動作を実行する前段階つまり吸着ヘッド1によ
る金属球3の吸着に先立って、均し板35により金属球
3の貯留深さを均一化させる。その後の工程は、先に説
明した第一実施例の工程と同一である。
Next, the operation will be described. Before the operation described in the first embodiment is executed, that is, prior to the suction of the metal ball 3 by the suction head 1, the storage depth of the metal ball 3 is adjusted by the leveling plate 35. Uniformity. Subsequent steps are the same as those of the first embodiment described above.

【0041】この第二本実施例によれば、金属球3の貯
留深さが均一となるため、局部的な貯留深さの不均一に
伴う金属球3の浮遊状態の変化が無くなり、吸着ヘッド
1の下面つまり吸着面の全ての領域で、金属球3を同じ
密度で浮遊させることができる。これにより、吸着ヘッ
ド1下面のいずれの箇所においても金属球3を最適条件
下で浮遊させることができ、これにより吸着効率すなわ
ち吸着歩留まりを向上することができる。
According to the second embodiment, since the storage depth of the metal spheres 3 is uniform, the floating state of the metal spheres 3 does not change due to the local unevenness of the storage depth. The metal spheres 3 can be floated at the same density on the lower surface of 1, ie, the entire area of the suction surface. Thereby, the metal balls 3 can be floated under the optimum conditions at any point on the lower surface of the suction head 1, and thereby the suction efficiency, that is, the suction yield can be improved.

【0042】なお、第一実施例と同様にガス吹き上げ空
間15に傾斜して配置した整流板17を設けた場合に
は、金属球3が斜め上方に浮遊することになり、この結
果、金属球貯留容器9内の金属球3の貯留状態が片寄っ
てしまう傾向になる可能性を含んでいるが、この第二実
施例のように均し板35で、貯留した金属球3は表面を
均すことで、常に均一な貯留状態を保つことができる。
When the rectifying plate 17 is provided obliquely in the gas blow-up space 15 as in the first embodiment, the metal ball 3 floats obliquely upward. Although there is a possibility that the storage state of the metal spheres 3 in the storage container 9 tends to be offset, the stored metal spheres 3 are leveled by the leveling plate 35 as in the second embodiment. Thus, a uniform storage state can be always maintained.

【0043】第三実施例 図5は、本発明の第三実施例の金属球搭載装置の要部を
示すものである。この第三実施例にあっては、金属球貯
留容器9のガス吹き上げ空間15には、その中央部分
に、ガス供給源に連結されたガス吹出ノズル39が配設
されている。ガス吹出ノズル39は、上方に向けて開口
するスリット状の吹出口39aを有している。このガス
吹出ノズル39は、下端部分を中心にして揺動可能であ
り、図外の駆動手段によって、吹出口39aが左右に揺
動するようになっている。また、ガス吹出ノズル39
は、図外の別の駆動手段によって、水平方向に、つまり
吸着ヘッド1の下面と平行方向に移動可能とされてい
る。つまり、ガス吹出ノズル39は、図5において、ガ
ス吹き上げ空間15の中を水平方向に左右に移動でき、
また、そのスリット状の吹出口39aは左右に揺動でき
る。スリット状細長い吹出口39aは、ノズル39の移
動方向と交差する方向に延び、吸着ヘッド1の吸着面の
有効長さと実質的に同じ長さを備えている。このこと以
外の構成は、先に説明した第一実施例と同様である。
Third Embodiment FIG. 5 shows a main part of a metal ball mounting apparatus according to a third embodiment of the present invention. In the third embodiment, a gas blowing nozzle 39 connected to a gas supply source is provided at the center of the gas blowing space 15 of the metal ball storage container 9. The gas blowing nozzle 39 has a slit-shaped outlet 39a that opens upward. The gas blowing nozzle 39 can swing about the lower end portion, and the outlet 39a swings right and left by a driving unit (not shown). In addition, the gas blowing nozzle 39
Can be moved in a horizontal direction, that is, in a direction parallel to the lower surface of the suction head 1 by another driving means (not shown). That is, the gas blowing nozzle 39 can move horizontally in the gas blowing space 15 in FIG.
The slit-shaped outlet 39a can swing right and left. The slit-shaped elongated outlet 39a extends in a direction intersecting with the moving direction of the nozzle 39, and has substantially the same length as the effective length of the suction surface of the suction head 1. Other configurations are the same as those of the first embodiment described above.

【0044】次に動作を説明する。吸着ヘッド1が金属
球貯留容器9まで下降して金属球3を吸着する工程にお
いて、ガス吹出ノズル39は、ガス吹き上げ空間15の
中を左右に移動し且つ吹出口39aを左右に揺動させな
がら、金属球3に向かってガスを吹付ける。これによ
り、ガス吹付ノズル39の吹出口39aからのガス流を
受けた金属球3は上方に浮遊することになるが、ガス流
が横方向に移動し且つその方向が変化することから、順
次浮遊した金属球3は、吸着ヘッド1の吸着面に設けら
れた数多くの吸着孔5の全てに向かって金属球3が移動
することになる。
Next, the operation will be described. In the step in which the suction head 1 descends to the metal ball storage container 9 to suction the metal balls 3, the gas blowing nozzle 39 moves left and right in the gas blowing space 15 and swings the blowout port 39a left and right. Then, gas is blown toward the metal ball 3. As a result, the metal ball 3 receiving the gas flow from the outlet 39a of the gas blowing nozzle 39 floats upward, but the gas flow moves in the horizontal direction and the direction changes, so that the metal ball 3 sequentially floats. The metal ball 3 moves toward all of the many suction holes 5 provided on the suction surface of the suction head 1.

【0045】この第三実施例によれば、貯留空間13内
の金属球3は、常に移動しながら、その方向が変わるガ
ス流によって順次吹き上げられるため、吸着ヘッド下面
に沿って移動する金属球の移動距離を大きくすることが
でき、これにより金属球が吸着孔5と出会う確率を高め
ることができる。その結果、ヘッド1の金属球の吸着効
率つまり吸着歩留まりを向上することができる。
According to the third embodiment, since the metal spheres 3 in the storage space 13 are constantly moved and are sequentially blown up by the gas flow whose direction changes, the metal spheres 3 moving along the lower surface of the suction head are moved. The moving distance can be increased, thereby increasing the probability that the metal ball meets the suction hole 5. As a result, the adsorption efficiency of the metal sphere of the head 1, that is, the adsorption yield can be improved.

【0046】また、本実施例によれば、同時に浮遊させ
られる金属球3の数は、貯留空間13内の全ての金属球
に対する割合が少ないため、浮遊した金属球3同士の擦
れ合いが少なくなる。このため、浮遊により金属球3が
受けるダメージを減らすことができ、表面のキズ発生、
酸化膜形成を抑制することができる。これにより、半導
体装置20への金属球3の密着性劣化、導電性劣化を低
減することができる。
Further, according to the present embodiment, the number of the metal spheres 3 that are floated at the same time is small relative to all the metal spheres in the storage space 13, so that the friction between the floating metal spheres 3 is reduced. . For this reason, the damage which the metal ball 3 receives by floating can be reduced, the generation of scratches on the surface,
Oxide film formation can be suppressed. Thereby, it is possible to reduce the deterioration of the adhesion of the metal ball 3 to the semiconductor device 20 and the deterioration of the conductivity.

【0047】この第三実施例において、ガス吹出ノズル
39の横方向での移動方向に応じて、ガス吹出口39a
の向きを反転させるようにしてもよい。すなわち、ガス
吹出ノズル39を傾斜させ、角度を固定させた状態で水
平移動させ、移動方向を切り替える際に傾斜角を変える
(反転させる)ようにしてもよい。この点につき、具体
的に説明すると、ガス吹出ノズル39が右方向に移動す
る際には、ガス吹出口39aを右に傾斜させた状態に維
持し、逆に、ガス吹出ノズル39が左方向に移動する際
には、ガス吹出口39aを左に傾斜させた状態に維持す
るようにしてもよい。これにより、金属球貯留容器9内
に貯留された金属球3が一カ所に吹き寄せられて吹き溜
まりを作るのを防止でき、容器9の中の金属球3の貯留
状態を均一化できる。
In the third embodiment, the gas outlet 39a is changed according to the lateral movement direction of the gas outlet nozzle 39.
May be reversed. That is, the gas blowing nozzle 39 may be tilted and horizontally moved with the angle fixed, and the tilt angle may be changed (reversed) when the moving direction is switched. To explain this point specifically, when the gas blowing nozzle 39 moves to the right, the gas blowing port 39a is maintained to be inclined rightward, and conversely, the gas blowing nozzle 39 moves to the left. When moving, the gas outlet 39a may be maintained in a state of being inclined to the left. Thereby, it is possible to prevent the metal balls 3 stored in the metal ball storage container 9 from being blown to one place and to form a pool, and to make the storage state of the metal balls 3 in the container 9 uniform.

【0048】なお、この第三実施例において、ガス吹き
上げ空間15のガス吹出ノズル39を複数設けてもよ
い。図6は、ガス吹き上げ空間15の中に2つのガス吹
出ノズル39を左右に離間して設けた例を示すものであ
る。この場合、左右のガス吹出ノズル39を同期して互
いに離間する方向又は互いに接近する方向に移動させ、
また、左右一対のガス吹出ノズル39の吹出口39aが
互いに接近する方向又は互いに離反する方向に揺動させ
るようにしてもよい。
In the third embodiment, a plurality of gas blowing nozzles 39 for the gas blowing space 15 may be provided. FIG. 6 shows an example in which two gas blowing nozzles 39 are provided in the gas blowing space 15 so as to be separated from each other in the left and right directions. In this case, the left and right gas blowing nozzles 39 are synchronously moved in a direction away from each other or in a direction approaching each other,
Alternatively, the outlets 39a of the pair of left and right gas blowing nozzles 39 may swing in directions approaching each other or moving away from each other.

【0049】他の方法として、左右のガス吹出ノズル3
9の揺動機構を省き、右のガス吹出ノズル39Rを左に
傾けて配置し、左のガス吹出ノズル39Lを右に傾けて
配置するようにしてもよい。この場合、左右のガス吹出
ノズル39のガス吹出を切り替えるようにし、例えば右
のノズル39Rを右方向に移動させるときには、この右
のノズル39Rからガスを吹き出させ、左のノズル39
Lを左に移動させるときには、この左のノズル39Lか
らガスを吹き出させるようにしてもよい。これにより、
金属球貯留容器9内に貯留された金属球3が吹き溜まり
を作るのを防止でき、容器9の中の金属球3の貯留状態
を均一化できる。
As another method, the left and right gas blowing nozzles 3
The swing mechanism 9 may be omitted, the right gas blowing nozzle 39R may be arranged to be inclined leftward, and the left gas blowing nozzle 39L may be arranged to be inclined rightward. In this case, the gas blowing of the left and right gas blowing nozzles 39 is switched. For example, when the right nozzle 39R is moved rightward, the gas is blown from the right nozzle 39R and the left nozzle 39R is blown.
When moving L to the left, gas may be blown out from the left nozzle 39L. This allows
The metal spheres 3 stored in the metal sphere storage container 9 can be prevented from forming a pool, and the storage state of the metal spheres 3 in the container 9 can be made uniform.

【0050】さらに本実施例においては、図6に示すよ
うに、2つのガス吹出ノズル39L、39Rを、それぞ
れのガス吹出方向を対称な方向に向けて設けることが出
来る。ここで、右方向に移動させる際には39Lからガ
スを吹き出し、左方向に移動させる際には39Rからガ
スを吹き出させる。この構成によれば、前段と同様、金
属球3の貯留状態を均一化できる。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 6, two gas blowing nozzles 39L and 39R can be provided with their respective gas blowing directions directed symmetrically. Here, when moving to the right, gas is blown from 39L, and when moving to the left, gas is blown from 39R. According to this configuration, the storage state of the metal spheres 3 can be made uniform as in the previous stage.

【0051】更に、上述した第二実施例で説明した均し
板35を第三実施例に適用して、容器9の中の金属球の
貯留状態を物理的に均一化するようにしてもよい。
Further, the leveling plate 35 described in the second embodiment described above may be applied to the third embodiment to physically uniform the state of storing metal balls in the container 9. .

【0052】なお、第三実施例の上述した説明におい
て、単一または一対のガス吹出ノズル39を例に説明し
たが、三以上又は複数対のガス吹出ノズルを採用しても
よい。このようにして数多くのガス吹出ノズル39を設
けることにより、金属球搭載工程を高速化することが可
能となる。
In the above description of the third embodiment, a single or a pair of gas blowing nozzles 39 has been described as an example, but three or more or a plurality of pairs of gas blowing nozzles may be employed. By providing a large number of gas blowing nozzles 39 in this way, it is possible to speed up the metal ball mounting process.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
吸着させる金属球を局部的に浮遊させて、吸着ヘッドに
吹付けて吸着させるようにしているので、吸着ヘッド下
面に吹付けられた状態で水平方向に移動できる。その結
果、金属球が吸着孔に吸着される確率を高めることが出
来、吸着工程における歩留まりを高めることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the metal sphere to be sucked is locally floated and sprayed to the suction head to be sucked, it can be moved in the horizontal direction while being sprayed on the lower surface of the suction head. As a result, the probability that the metal sphere is adsorbed by the adsorption hole can be increased, and the yield in the adsorption step can be increased.

【0054】また、一度に浮遊させる金属球の量を少な
くすることができるため、金属球のキズ発生、酸化膜形
成を抑制することが出来、ひいては金属球の密着性の劣
化、導電性の劣化を防ぐことができる。更に、浮遊させ
る金属球を少なくすることが出来るため、必要なガス量
を少なくすることが出来、生産コストを低下させること
ができる。
In addition, since the amount of metal spheres floating at one time can be reduced, the occurrence of scratches on the metal spheres and the formation of an oxide film can be suppressed. Can be prevented. Furthermore, since the number of floating metal spheres can be reduced, the required gas amount can be reduced, and the production cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一実施例の金属球搭載装置の概略説
明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory view of a metal ball mounting device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第一実施例に関連して本発明の一つの作用の説
明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining one operation of the present invention in relation to the first embodiment.

【図3】本発明の第二実施例の金属球搭載装置の要部説
明図である。
FIG. 3 is an explanatory view of a main part of a metal ball mounting device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】第二実施例の変形例を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram for explaining a modification of the second embodiment.

【図5】本発明の第三実施例の金属球搭載装置の要部説
明図である。
FIG. 5 is an explanatory view of a main part of a metal ball mounting device according to a third embodiment of the present invention.

【図6】第三実施例の変形例を説明するための図であ
る。
FIG. 6 is a diagram for explaining a modification of the third embodiment.

【図7】従来の金属球搭載装置に含まれる吸着ヘッド及
び金属球貯留容器の概略構成図である。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a suction head and a metal ball storage container included in a conventional metal ball mounting device.

【図8】従来の別の金属球搭載装置に含まれる吸着ヘッ
ド及び金属球貯留容器の概略構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a suction head and a metal ball storage container included in another conventional metal ball mounting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 吸着ヘッド 3、3a 金属球 5 吸着孔 9 金属球貯留容器 11 通風性の仕切板 13 金属球貯留空間 15 ガス吹き上げ空間 17 整流板 35 均し手段(均し板) 39 ガス吹出ノズル 39a ガス吹出口 REFERENCE SIGNS LIST 1 suction head 3, 3 a metal ball 5 suction hole 9 metal ball storage container 11 ventilating partition plate 13 metal ball storage space 15 gas blow-up space 17 rectifying plate 35 leveling means (leveling plate) 39 gas blowing nozzle 39 a gas blowing exit

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 通風性の仕切壁によって上下に区画さ
れ、仕切壁の上の金属球貯留空間の中に金属球を貯留す
る金属球貯留容器と、該金属球貯留容器内に貯留された
金属球を真空吸着するための複数の吸着孔を下面に備え
た吸着ヘッドとを有する金属球の搭載装置であって、 前記金属球貯留容器の仕切壁の下に形成され、ガス供給
源に連結されたガス吹き上げ空間に、互いに並置された
複数の整流板が傾斜して設けられ、 該整流板によって、前記ガス吹き上げ空間内のガスが斜
め上方に差し向けられることを特徴とする金属球の搭載
装置。
1. A metal sphere storage container which is vertically divided by a ventilating partition wall and stores metal spheres in a metal sphere storage space above the partition wall, and a metal stored in the metal sphere storage container. A mounting device for a metal sphere having a plurality of suction holes for vacuum suction of a sphere on a lower surface thereof, wherein the mounting device is formed below a partition wall of the metal sphere storage container and connected to a gas supply source. A plurality of straightening plates juxtaposed to each other are provided in an inclined manner in the gas blowing space, and the gas in the gas blowing space is directed obliquely upward by the straightening plates. .
【請求項2】 前記金属球貯留容器の金属球貯留空間の
中に貯留された金属球の表面を均すための手段を更に有
することを特徴とする請求項1記載の金属球の搭載装
置。
2. The metal sphere mounting apparatus according to claim 1, further comprising: means for leveling the surface of the metal sphere stored in the metal sphere storage space of the metal sphere storage container.
【請求項3】 通風性の仕切壁によって上下に区画さ
れ、仕切壁の上の金属球貯留空間の中に金属球を貯留す
る金属球貯留容器と、該金属球貯留容器内に貯留された
金属球を真空吸着するための複数の吸着孔を下面に備え
た吸着ヘッドとを有する金属球の搭載装置であって、 前記金属球貯留容器の仕切壁の下に形成されたガス吹き
上げ空間の中に、その吹出口を上方に向けて配置され且
つガス供給源に連結されたガス吹出ノズルが揺動可能に
設けられていることを特徴とする金属球の搭載装置。
3. A metal sphere storage container that is vertically divided by a ventilation partition wall and stores metal spheres in a metal sphere storage space above the partition wall, and a metal stored in the metal sphere storage container. A mounting device for a metal sphere having a plurality of suction holes for suctioning the spheres on a lower surface thereof and a suction head having a plurality of suction holes on a lower surface thereof, wherein the metal sphere storage space is formed in a gas blowing space formed under a partition wall of the metal sphere storage container. A metal ball mounting device, wherein the gas outlet is arranged to face upward and a gas blowing nozzle connected to a gas supply source is swingably provided.
【請求項4】 前記ガス吹出ノズルが、前記吸着ヘッド
下面と平行方向に移動可能であることを特徴とする請求
項3記載の金属球の搭載装置。
4. The metal ball mounting device according to claim 3, wherein the gas blowing nozzle is movable in a direction parallel to a lower surface of the suction head.
【請求項5】 前記金属球貯留容器の金属球貯留空間の
中に貯留された金属球の表面を均すための手段を更に有
することを特徴とする請求項3又は4記載の金属球の搭
載装置。
5. The mounting of a metal sphere according to claim 3, further comprising means for leveling the surface of the metal sphere stored in the metal sphere storage space of the metal sphere storage container. apparatus.
【請求項6】 前記ガス吹出ノズルの吹出口が、該ガス
吹出ノズルの移動方向と交差する方向に延びる細長いス
リット状の形状を有することを特徴とする請求項4記載
の金属球の搭載装置。
6. The metal ball mounting device according to claim 4, wherein the outlet of the gas blowing nozzle has an elongated slit shape extending in a direction intersecting the moving direction of the gas blowing nozzle.
【請求項7】 下面に複数の吸着孔を備えた吸着ヘッド
を用意し、金属球貯留容器内に貯留された金属球を浮遊
させ、該浮遊した金属球を前記吸着ヘッドの吸着孔で吸
着してピックアップし、半導体パッケージ、半導体チッ
プ、電子回路基板上の電極に前記金属球を搭載する金属
球の搭載方法であって、 前記金属球貯留容器内に貯留した金属球に、斜め上方に
向かうガス流を当てて、該金属球を斜め上方に浮遊させ
ることを特徴とする金属球の搭載方法。
7. A suction head having a plurality of suction holes on a lower surface is prepared, a metal ball stored in a metal ball storage container is floated, and the floating metal ball is sucked by the suction hole of the suction head. And mounting the metal ball on an electrode on a semiconductor package, a semiconductor chip, and an electronic circuit board. The method for mounting a metal ball on a metal ball stored in the metal ball storage container, comprising: A method for mounting a metal ball, wherein the metal ball is floated obliquely upward by applying a flow.
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