JP2002071820A - 光学処理デバイス及び光学処理方法、撮影用カセッテ、線量計測モジュール、並びに放射線装置 - Google Patents
光学処理デバイス及び光学処理方法、撮影用カセッテ、線量計測モジュール、並びに放射線装置Info
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Classifications
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/30—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from X-rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 画質を改善するためにＸ線から得られた光を
処理するデバイスおよび方法する。 【解決手段】 光放出体により放出される光のうち温度
に依存しないスペクトルの第１の部分が保存され、かつ
温度に依存するシフトを表している光スペクトルの第２
の部分が阻止されるようなカットオフ周波数により光を
フィルタリングする手段を設ける。本発明はさらに、こ
のようなフィルタリング手段を含む撮影用カセッテ、線
量計測モジュールおよび放射線装置を提供する。
処理するデバイスおよび方法する。 【解決手段】 光放出体により放出される光のうち温度
に依存しないスペクトルの第１の部分が保存され、かつ
温度に依存するシフトを表している光スペクトルの第２
の部分が阻止されるようなカットオフ周波数により光を
フィルタリングする手段を設ける。本発明はさらに、こ
のようなフィルタリング手段を含む撮影用カセッテ、線
量計測モジュールおよび放射線装置を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、全般的には光の処
理に関する。
理に関する。
【０００２】本発明は、Ｘ線を可視光または可視光領域
に近い光に変換する段階を経てＸ線の検出を行う放射線
学の分野で応用可能である。
に近い光に変換する段階を経てＸ線の検出を行う放射線
学の分野で応用可能である。
【０００３】
【発明の背景】フランス国特許ＦＲ−Ａ−２，７５３，
８１１には、Ｘ線源と、Ｘ線撮影する臓器を維持させる
手段と、着脱可能な撮影デバイスとを備える放射線装置
に挿入するための着脱可能なディジタル式撮影デバイス
が記載されている。
８１１には、Ｘ線源と、Ｘ線撮影する臓器を維持させる
手段と、着脱可能な撮影デバイスとを備える放射線装置
に挿入するための着脱可能なディジタル式撮影デバイス
が記載されている。
【０００４】マンモグラフィ装置は、Ｘ線撮影しようと
する臓器の一方の側に配置したＸ線源と、Ｘ線撮影しよ
うとする臓器のもう一方の側に配置したＸ線に関して透
明な（Ｘ線を通過させる）支持テーブルと、臓器をこの
支持テーブル上にあてがうための調節可能な支持プレー
トと、感光可能なフィルムまたはディジタル式撮影手段
を包含した撮影用カセッテを受け入れるためのハウジン
グとを含んでいる。
する臓器の一方の側に配置したＸ線源と、Ｘ線撮影しよ
うとする臓器のもう一方の側に配置したＸ線に関して透
明な（Ｘ線を通過させる）支持テーブルと、臓器をこの
支持テーブル上にあてがうための調節可能な支持プレー
トと、感光可能なフィルムまたはディジタル式撮影手段
を包含した撮影用カセッテを受け入れるためのハウジン
グとを含んでいる。
【０００５】ディジタル撮影用カセッテは、その内部に
放射線撮影信号検出デバイスを配置したケースを備えて
いる。このデバイスはＸ線放射を蛍光放射に変換するこ
とができるシンチレータと、このシンチレータを横切る
Ｘ線放射の大部分をフィルタリングしてその後ろ側に位
置するコンポーネントを保護している光ファイバと、感
応ゾーンを形成する電荷転送素子（ＣＣＤ）を有するマ
トリックス・カメラとを含むことができる。
放射線撮影信号検出デバイスを配置したケースを備えて
いる。このデバイスはＸ線放射を蛍光放射に変換するこ
とができるシンチレータと、このシンチレータを横切る
Ｘ線放射の大部分をフィルタリングしてその後ろ側に位
置するコンポーネントを保護している光ファイバと、感
応ゾーンを形成する電荷転送素子（ＣＣＤ）を有するマ
トリックス・カメラとを含むことができる。
【０００６】しかし、こうしたタイプのデバイスにより
提供される画像では、その画質が常にユーザが望む程の
高画質となる訳ではない。
提供される画像では、その画質が常にユーザが望む程の
高画質となる訳ではない。
【０００７】
【発明の概要】したがって、本発明により、出力から得
られる画質を改善させることができる光学処理デバイス
を提供する。
られる画質を改善させることができる光学処理デバイス
を提供する。
【０００８】本発明の一態様によれば、光学処理デバイ
スは、光放出体により放出される光のうち温度に依存し
ない光スペクトルの第１の部分を保存し、かつ温度に依
存するシフトを表している光スペクトルの第２の部分を
阻止するように、光をフィルタリングする手段を備えて
いる。
スは、光放出体により放出される光のうち温度に依存し
ない光スペクトルの第１の部分を保存し、かつ温度に依
存するシフトを表している光スペクトルの第２の部分を
阻止するように、光をフィルタリングする手段を備えて
いる。
【０００９】本発明はさらに、光学処理デバイスを含む
放射線撮影用カセッテに関するものである。
放射線撮影用カセッテに関するものである。
【００１０】本発明はさらに、光学処理デバイスを含む
線量計測モジュールに関するものである。
線量計測モジュールに関するものである。
【００１１】本発明はさらに、光学処理デバイスを装備
した放射線撮影用カセッテ及び／または光学処理デバイ
スを備えた線量計測モジュールを含んでいる放射線装置
に関するものである。
した放射線撮影用カセッテ及び／または光学処理デバイ
スを備えた線量計測モジュールを含んでいる放射線装置
に関するものである。
【００１２】本発明はさらに、光放出体により放出され
る光のうち温度に依存しないスペクトルの第１の部分が
保存され、かつ温度に依存するシフトを表している光ス
ペクトルの第２の部分が阻止されるようなカットオフ周
波数により光をフィルタリングする光学処理方法に関す
るものである。
る光のうち温度に依存しないスペクトルの第１の部分が
保存され、かつ温度に依存するシフトを表している光ス
ペクトルの第２の部分が阻止されるようなカットオフ周
波数により光をフィルタリングする光学処理方法に関す
るものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】第１の波長の入射放射線を別の波
長の放射線（例えば、概ね可視光の放射）に変換するこ
とができる撮影手段の温度は、画質に望ましくない影響
を及ぼす可能性があることが判った。
長の放射線（例えば、概ね可視光の放射）に変換するこ
とができる撮影手段の温度は、画質に望ましくない影響
を及ぼす可能性があることが判った。
【００１４】波長の変更は生ずるが光子数の増加を可能
にするインテンシファイアと、このインテンシファイア
から受け取った光子を電気信号を形成させるための電子
に変換することを可能にする光電子倍増管とを含んでい
る放射線機器において、受け取った放射線量を計測する
ための線量計の場合、インテンシファイアの特性が温度
に極めて敏感であること、とりわけ、出力として放出さ
れる光子数と入力として受け取った入射光子数の比が温
度に極めて敏感であることが知られている。
にするインテンシファイアと、このインテンシファイア
から受け取った光子を電気信号を形成させるための電子
に変換することを可能にする光電子倍増管とを含んでい
る放射線機器において、受け取った放射線量を計測する
ための線量計の場合、インテンシファイアの特性が温度
に極めて敏感であること、とりわけ、出力として放出さ
れる光子数と入力として受け取った入射光子数の比が温
度に極めて敏感であることが知られている。
【００１５】図１に示すように、放射線システムは、放
射線装置１と、穿刺システム２と、ディジタルまたはア
ナログ撮影用カセッテ３と、制御／処理手段とを備えて
いる。放射線装置１は、放射線装置１の対称垂直面に対
して傾斜させることができる乳房支持プレート６および
Ｘ線源７を支持している、床面上に置かれたベース５を
備えている。このＸ線源７は支柱８により支持されてい
る。
射線装置１と、穿刺システム２と、ディジタルまたはア
ナログ撮影用カセッテ３と、制御／処理手段とを備えて
いる。放射線装置１は、放射線装置１の対称垂直面に対
して傾斜させることができる乳房支持プレート６および
Ｘ線源７を支持している、床面上に置かれたベース５を
備えている。このＸ線源７は支柱８により支持されてい
る。
【００１６】カセッテ３は、図１の矢印の方向に従って
穿刺システム２のハウジング内、または診断検査で使用
し乳房支持プレート６上に固着させるためのカセッテ・
ホルダー（図示せず）に設けられたハウジング内に挿入
することができる。
穿刺システム２のハウジング内、または診断検査で使用
し乳房支持プレート６上に固着させるためのカセッテ・
ホルダー（図示せず）に設けられたハウジング内に挿入
することができる。
【００１７】図２にその一部を示すように、カセッテ３
は、Ｘ線に対して透明な上壁１８と、Ｘ線を可視光に変
換することができるインテンシファイア１９と、検出素
子２０（例えば、ＣＣＤと呼ばれる複数の電荷転送素子
からなるマトリックス・カメラや感光性フィルム）とを
含んでいる。
は、Ｘ線に対して透明な上壁１８と、Ｘ線を可視光に変
換することができるインテンシファイア１９と、検出素
子２０（例えば、ＣＣＤと呼ばれる複数の電荷転送素子
からなるマトリックス・カメラや感光性フィルム）とを
含んでいる。
【００１８】動作時には、線源７（図１）によりＸ線が
放出され、穿刺システム２の支持プレート、Ｘ線撮影す
る臓器、カセッテ・ホルダー、カセッテ３の上壁１８を
透過して、インテンシファイア１９に届く。インテンシ
ファイア１９はＸ線を受け取ると、検出素子２０に伝達
される可視光を放出する。マトリックス・カメラによ
り、可視光の形態で受け取った情報を、電気ケーブル１
３により制御／処理手段４に伝達されるディジタル電気
信号の形態をした情報に変換することが可能となる。
放出され、穿刺システム２の支持プレート、Ｘ線撮影す
る臓器、カセッテ・ホルダー、カセッテ３の上壁１８を
透過して、インテンシファイア１９に届く。インテンシ
ファイア１９はＸ線を受け取ると、検出素子２０に伝達
される可視光を放出する。マトリックス・カメラによ
り、可視光の形態で受け取った情報を、電気ケーブル１
３により制御／処理手段４に伝達されるディジタル電気
信号の形態をした情報に変換することが可能となる。
【００１９】検出素子２０が感光性フィルムである場
合、カセッテ３と処理手段の間には一般にケーブルを設
けず、カセッテを後で装置１のハウジングから、あるい
は穿刺システム２から取り外して画像を視覚化させる。
合、カセッテ３と処理手段の間には一般にケーブルを設
けず、カセッテを後で装置１のハウジングから、あるい
は穿刺システム２から取り外して画像を視覚化させる。
【００２０】特に図２において分かるように、検出素子
２０は上壁１８とインテンシファイア１９の間に配置さ
せ、Ｘ線光子を受け取った際にインテンシファイア１９
が放出した光を受け取らせる。インテンシファイア１９
は、例えば、約５４５ｎｍを中心波長とする主光放出ピ
ークをもつガドリニウム・オキシサルファイト・テルビ
ウム（ｇａｄｏｌｉｎｉｕｍ ｏｘｙｓｕｌｆｉｔｅ
ｔｅｒｂｉｕｍ）・ベースで製作することができる。感
光性フィルムの場合、約５４５ｎｍの波長において良好
な感度を示すフィルムを使用することができる。さらに
一般的には、インテンシファイアとフィルムとを適当に
組み合わせて使用することが望ましい。フィルムは、Ｋ
ＯＤＡＫから「Ｍｉｎ−Ｒ ２０００」の名称で市販さ
れているフィルムであれば適当である。
２０は上壁１８とインテンシファイア１９の間に配置さ
せ、Ｘ線光子を受け取った際にインテンシファイア１９
が放出した光を受け取らせる。インテンシファイア１９
は、例えば、約５４５ｎｍを中心波長とする主光放出ピ
ークをもつガドリニウム・オキシサルファイト・テルビ
ウム（ｇａｄｏｌｉｎｉｕｍ ｏｘｙｓｕｌｆｉｔｅ
ｔｅｒｂｉｕｍ）・ベースで製作することができる。感
光性フィルムの場合、約５４５ｎｍの波長において良好
な感度を示すフィルムを使用することができる。さらに
一般的には、インテンシファイアとフィルムとを適当に
組み合わせて使用することが望ましい。フィルムは、Ｋ
ＯＤＡＫから「Ｍｉｎ−Ｒ ２０００」の名称で市販さ
れているフィルムであれば適当である。
【００２１】こうしたカセッテにおいて見られる温度シ
フトを回避するために、フィルタリング手段が鉱物顔料
の形態でインテンシファイア１９に組み込まれている。
有機顔料と鉱物顔料のいずれかを備えることができる。
こうした顔料により、インテンシファイア１９の主ピー
クの波長の近傍やこの波長より長い波長をもつ光子は出
現させ、より短い波長の光子はこのフィルタリング手段
により捕捉されるようにする。
フトを回避するために、フィルタリング手段が鉱物顔料
の形態でインテンシファイア１９に組み込まれている。
有機顔料と鉱物顔料のいずれかを備えることができる。
こうした顔料により、インテンシファイア１９の主ピー
クの波長の近傍やこの波長より長い波長をもつ光子は出
現させ、より短い波長の光子はこのフィルタリング手段
により捕捉されるようにする。
【００２２】インテンシファイア１９の出力と入力の比
の温度によるシフトの影響は、圧倒的に短い波長に及ぼ
されることが知られている。短い波長（特に、５００ｎ
ｍ未満、さらには４００ｎｍ未満）の光子をフィルタリ
ングすることにより、インテンシファイア１９の出力対
入力の伝達比の温度に関する相関を除く(decorrelate)
ことができる。一般にフィルムが短い波長に対して敏感
であるので、それだけこのフィルタリングは大きくな
る。
の温度によるシフトの影響は、圧倒的に短い波長に及ぼ
されることが知られている。短い波長（特に、５００ｎ
ｍ未満、さらには４００ｎｍ未満）の光子をフィルタリ
ングすることにより、インテンシファイア１９の出力対
入力の伝達比の温度に関する相関を除く(decorrelate)
ことができる。一般にフィルムが短い波長に対して敏感
であるので、それだけこのフィルタリングは大きくな
る。
【００２３】図３には、そのフィルタリング手段を、検
出素子２０とインテンシファイア１９の間に配置させた
薄い層２１の形態とした、本発明の実施の一形態を図示
している。この薄い層２１は、ガラス、ポリカーボネー
ト、またはさらには染料や顔料を装填させたアセテート
により製作し、光のうち望まない部分をフィルタリング
することができる。このフィルタリング手段はさらに、
干渉フィルタリングをさせるために複数の薄い層の形態
をとることもできる。
出素子２０とインテンシファイア１９の間に配置させた
薄い層２１の形態とした、本発明の実施の一形態を図示
している。この薄い層２１は、ガラス、ポリカーボネー
ト、またはさらには染料や顔料を装填させたアセテート
により製作し、光のうち望まない部分をフィルタリング
することができる。このフィルタリング手段はさらに、
干渉フィルタリングをさせるために複数の薄い層の形態
をとることもできる。
【００２４】図４には、インテンシファイア２３、光電
子倍増管２４およびフィルタ２５を支持しているフレー
ム２２を含んだ放射線量計測モジュールを図示してい
る。入射線束（例えば、Ｘ線）は矢印２６で示す方向か
ら到来し、インテンシファイア２３により可視光線、赤
外線、または紫外線に変換される。インテンシファイア
２３から発せられる光ビームは矢印２７の方向に向か
い、フィルタ２５を透過し、光の光子を電子に変換する
光電子倍増管２４に至り、矢印２８により表す出力とし
て放出される電気信号が生成される。フレーム２２は、
インテンシファイア２３から発せられる光ビームのため
のガイドを形成している。
子倍増管２４およびフィルタ２５を支持しているフレー
ム２２を含んだ放射線量計測モジュールを図示してい
る。入射線束（例えば、Ｘ線）は矢印２６で示す方向か
ら到来し、インテンシファイア２３により可視光線、赤
外線、または紫外線に変換される。インテンシファイア
２３から発せられる光ビームは矢印２７の方向に向か
い、フィルタ２５を透過し、光の光子を電子に変換する
光電子倍増管２４に至り、矢印２８により表す出力とし
て放出される電気信号が生成される。フレーム２２は、
インテンシファイア２３から発せられる光ビームのため
のガイドを形成している。
【００２５】換言すると、フレーム２２は、その壁面が
インテンシファイア２３上に到来する入射放射線に対し
ては透明であり、かつインテンシファイア２３が放出す
る光ビームに対しては不透明であるように配置させるこ
とができる。フィルタ２５は、インテンシファイア２３
と光電子倍増管２４の間の光ビームの光路上に位置さ
せ、例えば、糊付け、はんだ付け、クランプやその他適
当な任意のタイプの接続により装着されている。フィル
タ２５は、一般には可視光領域内（すなわち、４００ｎ
ｍと８００ｎｍの間）にある適当なカットオフ周波数を
示す。カットオフ周波数は、詳細には、４５０ｎｍと６
００ｎｍの間、好ましくは４８０ｎｍと５４０ｎｍの
間、特に好ましくは５００ｎｍと５３０ｎｍの間に設け
られる。例えば、ＧＥＮＴＥＸにより「Ｆｉｌｔｒｏｎ
Ｅ５２０」の名称で市販されているフィルタが適当で
ある。インテンシフイア２３は合成材料で製作してもよ
い。
インテンシファイア２３上に到来する入射放射線に対し
ては透明であり、かつインテンシファイア２３が放出す
る光ビームに対しては不透明であるように配置させるこ
とができる。フィルタ２５は、インテンシファイア２３
と光電子倍増管２４の間の光ビームの光路上に位置さ
せ、例えば、糊付け、はんだ付け、クランプやその他適
当な任意のタイプの接続により装着されている。フィル
タ２５は、一般には可視光領域内（すなわち、４００ｎ
ｍと８００ｎｍの間）にある適当なカットオフ周波数を
示す。カットオフ周波数は、詳細には、４５０ｎｍと６
００ｎｍの間、好ましくは４８０ｎｍと５４０ｎｍの
間、特に好ましくは５００ｎｍと５３０ｎｍの間に設け
られる。例えば、ＧＥＮＴＥＸにより「Ｆｉｌｔｒｏｎ
Ｅ５２０」の名称で市販されているフィルタが適当で
ある。インテンシフイア２３は合成材料で製作してもよ
い。
【００２６】図５には、横軸に波長をとった３本の曲線
を図示している。曲線２９は、インテンシファイアの放
出スペクトルを模式的に表したものである。曲線３０は
感光性フィルムの感度を表したものである。曲線３１は
光ファイバの伝達の変化を示したものである。このイン
テンシファイアは、３００ｎｍの近傍の波長をもつ光子
は放出せず、また７００ｎｍの波長の光子も極く少量し
か放出させないため、約７００ｎｍにおける感度がゼロ
であるフィルムを感光させることがないことに留意され
たい。一方、このインテンシファイアでは、この例の場
合、５４５ｎｍを中心とする主放出ピークが、より短い
波長に対する２次ピーク並びにより長い波長に対する２
次ピークを伴って出現することに留意されたい。フィル
ムの感度は５４５ｎｍの近傍の波長、並びにこれより短
い概ね３００ｎｍまでの波長に対して良好である。６０
０と６５０ｎｍの間でフィルムの感度は減少してゼロに
なる。
を図示している。曲線２９は、インテンシファイアの放
出スペクトルを模式的に表したものである。曲線３０は
感光性フィルムの感度を表したものである。曲線３１は
光ファイバの伝達の変化を示したものである。このイン
テンシファイアは、３００ｎｍの近傍の波長をもつ光子
は放出せず、また７００ｎｍの波長の光子も極く少量し
か放出させないため、約７００ｎｍにおける感度がゼロ
であるフィルムを感光させることがないことに留意され
たい。一方、このインテンシファイアでは、この例の場
合、５４５ｎｍを中心とする主放出ピークが、より短い
波長に対する２次ピーク並びにより長い波長に対する２
次ピークを伴って出現することに留意されたい。フィル
ムの感度は５４５ｎｍの近傍の波長、並びにこれより短
い概ね３００ｎｍまでの波長に対して良好である。６０
０と６５０ｎｍの間でフィルムの感度は減少してゼロに
なる。
【００２７】インテンシファイアの温度シフトは、本質
的には、主ピーク波長未満の波長を放出する２次ピーク
に対して生じていることが知られている。したがって、
インテンシファイアの主放出ピークの波長の近傍の波長
をもつ光子は適正に伝達させることができ、かつ主放出
ピークの波長より短い波長をもつ２次放出ピークに対応
する波長の光子は捕捉させることができるようなフィル
タを設ける。この例では、４８０ｎｍ未満、またさらに
は４５０ｎｍ未満において、極めて低い伝達比率を与え
ている。
的には、主ピーク波長未満の波長を放出する２次ピーク
に対して生じていることが知られている。したがって、
インテンシファイアの主放出ピークの波長の近傍の波長
をもつ光子は適正に伝達させることができ、かつ主放出
ピークの波長より短い波長をもつ２次放出ピークに対応
する波長の光子は捕捉させることができるようなフィル
タを設ける。この例では、４８０ｎｍ未満、またさらに
は４５０ｎｍ未満において、極めて低い伝達比率を与え
ている。
【００２８】本発明の実施の一形態では、ある波長の放
射を受け取り別の波長の蛍光放射を放出する光学インテ
ンシファイアがもたらす問題を解決させることができる
光学処理手段が提供される。
射を受け取り別の波長の蛍光放射を放出する光学インテ
ンシファイアがもたらす問題を解決させることができる
光学処理手段が提供される。
【００２９】こうした光学処理手段は、放射線撮影用カ
セッテに対しても同様に適しており、例えば、こうした
カセッテが感光性フィルムを含むものであるか、ディジ
タル光検出手段を含むものであるかを問わない。光学処
理手段はさらに、受け取った放射線量を計測するモジュ
ールに対しても適している。
セッテに対しても同様に適しており、例えば、こうした
カセッテが感光性フィルムを含むものであるか、ディジ
タル光検出手段を含むものであるかを問わない。光学処
理手段はさらに、受け取った放射線量を計測するモジュ
ールに対しても適している。
【００３０】放射線装置では、これらのモジュールをＸ
線管の制御手段と接続させて、フィルムや患者が受ける
線量を調節または計測することができる。この光のうち
温度に対して敏感な部分、すなわち、その周波数に対す
る光子数が温度の関数として変動するようなλ周波数に
ついては、計測の際にシフトやエラーを起こさせないよ
うに簡便に捕捉させている。
線管の制御手段と接続させて、フィルムや患者が受ける
線量を調節または計測することができる。この光のうち
温度に対して敏感な部分、すなわち、その周波数に対す
る光子数が温度の関数として変動するようなλ周波数に
ついては、計測の際にシフトやエラーを起こさせないよ
うに簡便に捕捉させている。
【００３１】カットオフ周波数はスペクトルの第２の部
分をフィルタリングするように決定することができる。
分をフィルタリングするように決定することができる。
【００３２】したがって、温度に対してほとんど敏感で
ないような周波数値をもつ光子は保存させ、温度に対し
て敏感な周波数値をもつ光子は阻止することができる。
この光はＸ線から得ることができる。温度による光の強
度シフトは除去されるか、少なくとも著しく減少する。
ないような周波数値をもつ光子は保存させ、温度に対し
て敏感な周波数値をもつ光子は阻止することができる。
この光はＸ線から得ることができる。温度による光の強
度シフトは除去されるか、少なくとも著しく減少する。
【００３３】本発明の実施の一形態では、そのデバイス
はインテンシファイアと一体化されており、インテンシ
ファイアは、無機または有機顔料を組み込むことができ
る。
はインテンシファイアと一体化されており、インテンシ
ファイアは、無機または有機顔料を組み込むことができ
る。
【００３４】本発明の別の実施形態では、そのデバイス
は、光の経路上で光学インテンシファイアの下側に位置
させたフィルタリング手段を含んでいる。このフィルタ
リング手段は薄いフィルムまたはシートの形態をとるこ
とができる。そのフィルタリング用素子は、ガラス、ポ
リカーボネート、アセテートなどからなるベースで製作
することができ、無機または有機顔料を装填することが
できる。
は、光の経路上で光学インテンシファイアの下側に位置
させたフィルタリング手段を含んでいる。このフィルタ
リング手段は薄いフィルムまたはシートの形態をとるこ
とができる。そのフィルタリング用素子は、ガラス、ポ
リカーボネート、アセテートなどからなるベースで製作
することができ、無機または有機顔料を装填することが
できる。
【００３５】本発明の実施の一形態では、そのフィルタ
リング手段はインテンシファイアと接触して装着されて
いる。
リング手段はインテンシファイアと接触して装着されて
いる。
【００３６】本発明の実施の一形態では、そのカセッテ
はアナログ・フィルムを含んでいる。
はアナログ・フィルムを含んでいる。
【００３７】本発明の別の実施形態では、そのカセッテ
はディジタル光学検出器を含んでいる。
はディジタル光学検出器を含んでいる。
【００３８】モジュールは光電子倍増管を含み、デバイ
スを光電子倍増管の上側に装着すると有利である。
スを光電子倍増管の上側に装着すると有利である。
【００３９】そのモジュールは、光学インテンシファイ
アを含むと有利である。モジュールは光ガイドを含むこ
とができる。
アを含むと有利である。モジュールは光ガイドを含むこ
とができる。
【００４０】さらに、インテンシファイアを含む放射線
撮影用カセッテでは、そのインテンシファイアは温度の
影響に極めて敏感であることが知られている。
撮影用カセッテでは、そのインテンシファイアは温度の
影響に極めて敏感であることが知られている。
【００４１】当業者であれば、本発明の範囲を逸脱する
ことなく構造及び／またはステップ及び／または機能に
関して様々な修正をすることができる。
ことなく構造及び／またはステップ及び／または機能に
関して様々な修正をすることができる。
【図１】放射線装置全体の斜視図である。
【図２】撮影用カセッテの感応ゾーンの概略断面図であ
る。
る。
【図３】撮影用カセッテの感応ゾーンの別の概略断面図
である。
である。
【図４】線量計測モジュールの概略上部正面図である。
【図５】Ｘ線フィルムの感度を波長の関数として示した
グラフである。
グラフである。
１ 放射線装置 ２ 穿刺システム ３ 撮影用カセッテ ４ 制御／処理手段 ５ ベース ６ 乳房支持プレート ７ Ｘ線源 ８ 支柱 １３ 電気ケーブル １８ 上壁 １９ インテンシファイア ２０ 検出素子 ２１ 薄い層 ２２ フレーム ２３ インテンシファイア ２４ 光電子倍増管 ２５ フィルタ ２６、２７、２８ 矢印 ２９、３０、３１ 曲線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０１Ｔ 1/17 Ｇ０１Ｔ 1/17 Ｃ ５Ｃ０２４ Ｇ０３Ｂ 42/02 Ｇ０３Ｂ 42/02 Ｂ Ｆ 42/04 42/04 Ａ Ｇ２１Ｋ 4/00 Ｇ２１Ｋ 4/00 Ａ Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｈ０４Ｎ 5/321 Ｈ０４Ｎ 5/321 Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｋ Ｆターム(参考） 2G083 AA02 CC02 CC06 CC09 CC10 DD02 DD13 DD14 DD16 DD17 EE02 2G088 EE01 FF02 FF19 GG16 GG18 GG19 GG20 JJ05 JJ08 JJ09 LL11 LL12 LL21 2H013 AC01 AC03 BA02 4C093 AA01 CA01 CA36 DA06 EB02 EB30 ED30 EE30 FD01 4M118 AA10 AB01 BA10 CB11 FA06 GA10 5C024 AX12 BX02 CX37 EX51 GY01
Claims (12)
- 【請求項１】 光放出体により放出される光のうち温度
に依存しないスペクトルの第１の部分が保存され、かつ
温度に依存するシフトを表している光スペクトルの第２
の部分が阻止されるようなカットオフ周波数により光を
フィルタリングする方法。 - 【請求項２】 光放出体により放出される光のうち温度
に依存しないスペクトルの第１の部分を保存し、かつ温
度に依存するシフトを表している光スペクトルの第２の
部分を阻止するように光をフィルタリングする手段を備
える光学デバイス。 - 【請求項３】 前記デバイスがインテンシファイア（１
９）と一体化されている、請求項２に記載のデバイス。 - 【請求項４】 光路上で光学インテンシファイア（２
３）の下側に位置するように配置したフィルタリング手
段（２５）を含んでいる請求項２に記載のデバイス。 - 【請求項５】 前記フィルタリング手段が前記インテン
シファイアに接触して装着されている、請求項４に記載
のデバイス。 - 【請求項６】 前記請求項２〜５のいずれか一項に記載
のデバイスを含んでいる放射線撮影用カセッテ。 - 【請求項７】 アナログ・フィルムを含んでいる請求項
６に記載のカセッテ。 - 【請求項８】 ディジタル光学検出器を含んでいる請求
項６に記載のカセッテ。 - 【請求項９】 前記請求項２〜５のいずれか一項に記載
のデバイスを含んでいる線量計測モジュール。 - 【請求項１０】 その上側に前記デバイスを装着させた
光電子倍増管（２４）を含んでいる請求項９に記載のモ
ジュール。 - 【請求項１１】 光学インテンシファイアを含んでいる
請求項９または１０に記載のモジュール。 - 【請求項１２】 前記請求項５〜７のいずれか一項に記
載のカセッテ及び／または請求項８〜１１のいずれか一
項に記載のモジュールを含んでいる放射線装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0004407A FR2807602B1 (fr) | 2000-04-06 | 2000-04-06 | Dispositif et procede de traitement de lumiere, cassette de prise d'images, module de mesure de dose et appareil de radiologie |
| FR0004407 | 2000-04-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002071820A true JP2002071820A (ja) | 2002-03-12 |
Family
ID=8848944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001106580A Withdrawn JP2002071820A (ja) | 2000-04-06 | 2001-04-05 | 光学処理デバイス及び光学処理方法、撮影用カセッテ、線量計測モジュール、並びに放射線装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6918697B2 (ja) |
| JP (1) | JP2002071820A (ja) |
| FR (1) | FR2807602B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005087281A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ｘ線撮影装置 |
| JP2012112928A (ja) * | 2010-05-31 | 2012-06-14 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2684903C (en) * | 2007-05-02 | 2017-10-31 | St. Vincent's Hospital (Melbourne) Limited | Non-invasive measurement of blood oxygen saturation |
| US9480448B2 (en) | 2014-07-23 | 2016-11-01 | General Electric Company | System and method for use in mapping a radiation dose applied in an angiography imaging procedure of a patient |
| USD771089S1 (en) * | 2014-07-23 | 2016-11-08 | General Electric Company | Display screen or portion thereof with graphical user interface for a radiation dose mapping system |
| US9649079B1 (en) | 2014-10-09 | 2017-05-16 | General Electric Company | System and method to illustrate a radiation dose applied to different anatomical stages of an exposed subject |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1090493A (en) * | 1976-01-06 | 1980-11-25 | Alan W. Hoover | Temperature compensation circuit for image intensifiers |
| JP2526870B2 (ja) * | 1986-08-19 | 1996-08-21 | 株式会社島津製作所 | 放射線像撮像装置 |
| JP2535771B2 (ja) * | 1994-03-24 | 1996-09-18 | 広島大学長 | 逆光電子分光用帯域幅可変光検出器 |
| US6242114B1 (en) * | 1994-07-05 | 2001-06-05 | Optical Coating Laboratory | Solid fluorescence reference and method |
| FR2753811B1 (fr) * | 1996-09-24 | 1998-11-06 | Dispositif amovible de prise d'images numeriques destine a la radiologie | |
| US5734693A (en) * | 1996-10-02 | 1998-03-31 | American Medical Sales, Inc. | Radiation exposure system |
| JPH10260487A (ja) * | 1997-01-14 | 1998-09-29 | Canon Inc | 放射線画像撮影装置 |
| JPH11160818A (ja) * | 1997-11-25 | 1999-06-18 | Konica Corp | 放射線画像消去方法、放射線画像消去装置及び放射線画像読取装置 |
-
2000
- 2000-04-06 FR FR0004407A patent/FR2807602B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-04-04 US US09/826,202 patent/US6918697B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-05 JP JP2001106580A patent/JP2002071820A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005087281A (ja) * | 2003-09-12 | 2005-04-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Ｘ線撮影装置 |
| JP4501383B2 (ja) * | 2003-09-12 | 2010-07-14 | パナソニック株式会社 | Ｘ線撮影装置 |
| JP2012112928A (ja) * | 2010-05-31 | 2012-06-14 | Fujifilm Corp | 放射線撮影装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2807602B1 (fr) | 2002-07-05 |
| FR2807602A1 (fr) | 2001-10-12 |
| US20010038078A1 (en) | 2001-11-08 |
| US6918697B2 (en) | 2005-07-19 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080701 |