JP2002059101A - 紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置 - Google Patents
紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置Info
- Publication number
- JP2002059101A JP2002059101A JP2000252671A JP2000252671A JP2002059101A JP 2002059101 A JP2002059101 A JP 2002059101A JP 2000252671 A JP2000252671 A JP 2000252671A JP 2000252671 A JP2000252671 A JP 2000252671A JP 2002059101 A JP2002059101 A JP 2002059101A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultraviolet lamp
- ultraviolet
- monitoring
- lamp
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線洗浄装置の紫外線ランプの光量変化を
モニターし、紫外線ランプの光強度を一定に維持する紫
外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法を提
供する。 【解決手段】 被洗浄基板の表面に付着する有機汚染物
を紫外線ランプから照射される光により分解して洗浄す
る紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法
であって、前記紫外線ランプの光強度を一定に維持し、
紫外線ランプの交換周期を正確に行なうために、前記紫
外線ランプの背面側に順次配置される捕集電極および比
較電極を備えており、前記紫外線ランプの光量変化を捕
集電極で検出する光電子電流でモニターしている。
モニターし、紫外線ランプの光強度を一定に維持する紫
外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法を提
供する。 【解決手段】 被洗浄基板の表面に付着する有機汚染物
を紫外線ランプから照射される光により分解して洗浄す
る紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法
であって、前記紫外線ランプの光強度を一定に維持し、
紫外線ランプの交換周期を正確に行なうために、前記紫
外線ランプの背面側に順次配置される捕集電極および比
較電極を備えており、前記紫外線ランプの光量変化を捕
集電極で検出する光電子電流でモニターしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は紫外線洗浄装置にお
ける紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置
に関する。さらに詳しくは、紫外線洗浄装置における紫
外線ランプの光量変化をモニターする方法および紫外線
洗浄装置に関する。
ける紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置
に関する。さらに詳しくは、紫外線洗浄装置における紫
外線ランプの光量変化をモニターする方法および紫外線
洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線洗浄装置では、紫外線ランプの光
を被洗浄基板に照射すると、紫外線が大気中の酸素分子
に作用して、励起された酸素原子（活性酸素）とオゾン
が発生する。そして、活性酸素の作用によって被洗浄基
板の照射表面上の有機物を酸化し揮発分子に変化させる
ことにより、被洗浄基板に付着している有機物を除去し
ている。
を被洗浄基板に照射すると、紫外線が大気中の酸素分子
に作用して、励起された酸素原子（活性酸素）とオゾン
が発生する。そして、活性酸素の作用によって被洗浄基
板の照射表面上の有機物を酸化し揮発分子に変化させる
ことにより、被洗浄基板に付着している有機物を除去し
ている。
【０００３】前記紫外線ランプは使用により劣化し、照
射強度が低下するため、一定使用時間で紫外線ランプを
交換している。しかし、紫外線ランプ間のバラツキや、
紫外線ランプの交換までに生じる照度低下により、被洗
浄基板の洗浄度は影響される。
射強度が低下するため、一定使用時間で紫外線ランプを
交換している。しかし、紫外線ランプ間のバラツキや、
紫外線ランプの交換までに生じる照度低下により、被洗
浄基板の洗浄度は影響される。
【０００４】このため、従来より、紫外線（波長１８５
ｎｍ、２５４ｎｍ）を安定して照射するために、紫外光
を光電変換素子で検出し、紫外線洗浄装置の紫外線ラン
プの光量変化をモニターする方法がある（特開昭６２−
１２２１３０号公報参照）。
ｎｍ、２５４ｎｍ）を安定して照射するために、紫外光
を光電変換素子で検出し、紫外線洗浄装置の紫外線ラン
プの光量変化をモニターする方法がある（特開昭６２−
１２２１３０号公報参照）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では、照射強度が強いため光電変換素子が劣化し、
長期に渡って安定に検出することが困難であるため、干
渉フィルタを用いて、波長３１３ｎｍの光を検出する必
要がある。また使用する光電変換素子も紫外線の波長に
より選ぶ必要がある。
方法では、照射強度が強いため光電変換素子が劣化し、
長期に渡って安定に検出することが困難であるため、干
渉フィルタを用いて、波長３１３ｎｍの光を検出する必
要がある。また使用する光電変換素子も紫外線の波長に
より選ぶ必要がある。
【０００６】また従来の方法では、照射損傷の影響の小
さい紫外線より長波長ピークは低圧水銀ランプに限ら
れ、１７２ｍｍの単色光しか得られないエキシマランプ
では適用できるものではなかった。
さい紫外線より長波長ピークは低圧水銀ランプに限ら
れ、１７２ｍｍの単色光しか得られないエキシマランプ
では適用できるものではなかった。
【０００７】本発明は、叙上の事情に鑑み、紫外線洗浄
装置の紫外線ランプの光量変化をモニターし、紫外線ラ
ンプの光強度を一定に維持する紫外線洗浄装置における
紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置を提
供することを目的とする。
装置の紫外線ランプの光量変化をモニターし、紫外線ラ
ンプの光強度を一定に維持する紫外線洗浄装置における
紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置を提
供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の紫外線洗浄装置
における紫外線ランプのモニター方法は、被洗浄基板の
表面に付着する有機汚染物を紫外線ランプから照射され
る光により分解して洗浄する紫外線洗浄装置における紫
外線ランプのモニター方法であって、前記紫外線ランプ
の光強度を一定に維持し、紫外線ランプの交換周期を正
確に行なうために、前記紫外線ランプの背面側に順次配
置される捕集電極および比較電極を備えており、前記紫
外線ランプの光量変化を捕集電極で検出する光電子電流
でモニターすることを特徴とする。
における紫外線ランプのモニター方法は、被洗浄基板の
表面に付着する有機汚染物を紫外線ランプから照射され
る光により分解して洗浄する紫外線洗浄装置における紫
外線ランプのモニター方法であって、前記紫外線ランプ
の光強度を一定に維持し、紫外線ランプの交換周期を正
確に行なうために、前記紫外線ランプの背面側に順次配
置される捕集電極および比較電極を備えており、前記紫
外線ランプの光量変化を捕集電極で検出する光電子電流
でモニターすることを特徴とする。
【０００９】また本発明の紫外線洗浄装置は、被洗浄基
板の表面に付着する有機汚染物を紫外線ランプから照射
される光により分解して洗浄する紫外線洗浄装置であっ
て、前記被洗浄基板に対向して上方に配置される紫外線
ランプと、該紫外線ランプの背面側に順次配置される捕
集電極および比較電極と、前記紫外線ランプのための紫
外線ランプ電源と、前記捕集電極と比較電極とのあいだ
に接続されるバイアス電源および増幅器とからなること
を特徴とする。
板の表面に付着する有機汚染物を紫外線ランプから照射
される光により分解して洗浄する紫外線洗浄装置であっ
て、前記被洗浄基板に対向して上方に配置される紫外線
ランプと、該紫外線ランプの背面側に順次配置される捕
集電極および比較電極と、前記紫外線ランプのための紫
外線ランプ電源と、前記捕集電極と比較電極とのあいだ
に接続されるバイアス電源および増幅器とからなること
を特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、紫外線で発生する光電
子の電流で連続して紫外線ランプの光量変化をモニター
し、常に一定の紫外線の照度での洗浄を維持することが
できるとともに、紫外線ランプの寿命を正確に把握でき
る方法および紫外線洗浄装置である。
子の電流で連続して紫外線ランプの光量変化をモニター
し、常に一定の紫外線の照度での洗浄を維持することが
できるとともに、紫外線ランプの寿命を正確に把握でき
る方法および紫外線洗浄装置である。
【００１１】まず、本発明の方法を説明する前に本発明
の理論的背景について説明する。すなわち、金属表面に
紫外線を照射した場合に、金属表面の電子は紫外線の光
エネルギで励起され、光電子として金属表面から放出さ
れる。この金属表面の電子が放出される条件はつぎのと
おりである。ｈν−Φ＞０ただし、ｈはプランク定数で
あり、νは紫外線の波数であり、Φは金属の仕事関数で
ある。たとえばＦｅやＳｉなどの金属の仕事関数は４〜
５ｅＶの範囲である。紫外線洗浄で用いる光波長は２５
４〜１７２ｎｍまであり、光電子（ｈν）を得るに必要
なエネルギは充分である。
の理論的背景について説明する。すなわち、金属表面に
紫外線を照射した場合に、金属表面の電子は紫外線の光
エネルギで励起され、光電子として金属表面から放出さ
れる。この金属表面の電子が放出される条件はつぎのと
おりである。ｈν−Φ＞０ただし、ｈはプランク定数で
あり、νは紫外線の波数であり、Φは金属の仕事関数で
ある。たとえばＦｅやＳｉなどの金属の仕事関数は４〜
５ｅＶの範囲である。紫外線洗浄で用いる光波長は２５
４〜１７２ｎｍまであり、光電子（ｈν）を得るに必要
なエネルギは充分である。
【００１２】本発明では光電子がもつエネルギではなく
光電子の量を利用している。
光電子の量を利用している。
【００１３】つぎに、添付図面に基づいて、本発明の紫
外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法およ
び紫外線洗浄装置を説明する。
外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法およ
び紫外線洗浄装置を説明する。
【００１４】図１は本発明の紫外線洗浄装置の一実施の
形態を示す主要部構成図、図２はランプ出力と光電子電
流をランプ寿命まで連続的に測定した図である。
形態を示す主要部構成図、図２はランプ出力と光電子電
流をランプ寿命まで連続的に測定した図である。
【００１５】図１において、紫外線洗浄装置１は、被洗
浄基板８の表面に付着する有機汚染物を洗浄するために
チャンバー１ａを備えており、前記被洗浄基板８に対向
して上方に配置される紫外線ランプ２と、該紫外線ラン
プ２の背面側に順次配置される捕集電極４および比較電
極３と、前記紫外線ランプ２のための紫外線ランプ電源
７と、前記捕集電極４と比較電極３とのあいだに接続さ
れるバイアス電源５および増幅器６とから構成されてい
る。また前記紫外線ランプ２の最大出力までは光電子電
流を一定値に維持するように紫外線ランプ電源７を制御
する制御回路９を備えている。
浄基板８の表面に付着する有機汚染物を洗浄するために
チャンバー１ａを備えており、前記被洗浄基板８に対向
して上方に配置される紫外線ランプ２と、該紫外線ラン
プ２の背面側に順次配置される捕集電極４および比較電
極３と、前記紫外線ランプ２のための紫外線ランプ電源
７と、前記捕集電極４と比較電極３とのあいだに接続さ
れるバイアス電源５および増幅器６とから構成されてい
る。また前記紫外線ランプ２の最大出力までは光電子電
流を一定値に維持するように紫外線ランプ電源７を制御
する制御回路９を備えている。
【００１６】本実施の形態では、前記紫外線洗浄装置１
内のチャンバー１ａにある紫外線ランプ２から発生する
波長１７２ｎｍのエキシマランプ光が比較電極３に照射
され、比較電極３の表面より発生した光電子電流Ｉｃを
捕集電極４で集める。この場合、捕集電極４には比較電
極３に対して正のバイアス電圧がバイアス電源５より掛
けられており、光電子電流Ｉｃは増幅器６で増幅された
上で一定値を維持するように紫外線ランプ電源７を制御
する。前記比較電極３の表面は、ＡｕやＰｔなどで被覆
されており、紫外線によって発生するオゾンや原子状酸
素による酸化で表面の仕事関数が変化しないようにされ
ている。
内のチャンバー１ａにある紫外線ランプ２から発生する
波長１７２ｎｍのエキシマランプ光が比較電極３に照射
され、比較電極３の表面より発生した光電子電流Ｉｃを
捕集電極４で集める。この場合、捕集電極４には比較電
極３に対して正のバイアス電圧がバイアス電源５より掛
けられており、光電子電流Ｉｃは増幅器６で増幅された
上で一定値を維持するように紫外線ランプ電源７を制御
する。前記比較電極３の表面は、ＡｕやＰｔなどで被覆
されており、紫外線によって発生するオゾンや原子状酸
素による酸化で表面の仕事関数が変化しないようにされ
ている。
【００１７】したがって、紫外線ランプ２の光量変化を
比較電極３で検出する光電子電流でモニターすることに
より、被洗浄基板８の表面に付着する有機汚染物を紫外
線ランプ２から照射される光により分解して洗浄するこ
とができる。
比較電極３で検出する光電子電流でモニターすることに
より、被洗浄基板８の表面に付着する有機汚染物を紫外
線ランプ２から照射される光により分解して洗浄するこ
とができる。
【００１８】ついで紫外線ランプの寿命まで連続的に紫
外線ランプのパワー出力Ｐと光電子電流Ｉｃの変化を測
定すると、図２に示されるように紫外線ランプの最大出
力Ｐmaxまでは光電子電流Ｉｃは一定値に維持され、被
洗浄基板８の洗浄を安定に処理できることがわかる。ま
た、光電子電流Ｉｃ一定に必要な紫外線ランプ出力でも
ってランプ寿命を決めることで、該紫外線ランプの交換
時期を正確に行なうことができる。
外線ランプのパワー出力Ｐと光電子電流Ｉｃの変化を測
定すると、図２に示されるように紫外線ランプの最大出
力Ｐmaxまでは光電子電流Ｉｃは一定値に維持され、被
洗浄基板８の洗浄を安定に処理できることがわかる。ま
た、光電子電流Ｉｃ一定に必要な紫外線ランプ出力でも
ってランプ寿命を決めることで、該紫外線ランプの交換
時期を正確に行なうことができる。
【００１９】なお、紫外線ランプが低圧水銀ランプ（波
長１６５ｎｍ、２５４ｎｍ）の場合でも同様の効果が期
待できる。
長１６５ｎｍ、２５４ｎｍ）の場合でも同様の効果が期
待できる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
紫外線ランプの光強度を一定に維持し、紫外線ランプの
交換周期を正確に行なうことができる。
紫外線ランプの光強度を一定に維持し、紫外線ランプの
交換周期を正確に行なうことができる。
【００２１】また常に安定した紫外線を照射できるた
め、被洗浄基板の洗浄度を安定させることができる。
め、被洗浄基板の洗浄度を安定させることができる。
【図１】本発明の紫外線洗浄装置の一実施の形態を示す
主要部構成図である。
主要部構成図である。
【図２】ランプ出力と光電子電流をランプ寿命まで連続
的に測定した図である。
的に測定した図である。
１ 紫外線洗浄装置 １ａ チャンバー ２ 紫外線ランプ ３ 比較電極 ４ 捕集電極 ５ バイアス電源 ６ 増幅器 ７ 紫外線ランプ電源 ８ 被洗浄基板 ９ 制御回路
Claims (6)
- 【請求項１】 被洗浄基板の表面に付着する有機汚染物
を紫外線ランプから照射される光により分解して洗浄す
る紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法
であって、前記紫外線ランプの光強度を一定に維持し、
紫外線ランプの交換周期を正確に行なうために、前記紫
外線ランプの背面側に順次配置される捕集電極および比
較電極を備えており、前記紫外線ランプの光量変化を捕
集電極で検出する光電子電流でモニターすることを特徴
とする紫外線洗浄装置の紫外線ランプのモニター方法。 - 【請求項２】 前記比較電極に対して正のバイアス電圧
が掛けられるバイアス電源が前記捕集電極に接続されて
いる請求項１記載のモニター方法。 - 【請求項３】 前記紫外線ランプの最大出力までは光電
子電流を一定値に維持するように制御する請求項２記載
のモニター方法。 - 【請求項４】 被洗浄基板の表面に付着する有機汚染物
を紫外線ランプから照射される光により分解して洗浄す
る紫外線洗浄装置であって、前記被洗浄基板に対向して
上方に配置される紫外線ランプと、該紫外線ランプの背
面側に順次配置される捕集電極および比較電極と、前記
紫外線ランプのための紫外線ランプ電源と、前記捕集電
極と比較電極とのあいだに接続されるバイアス電源およ
び増幅器とからなることを特徴とする紫外線洗浄装置。 - 【請求項５】 前記比較電極に対して正のバイアス電圧
が掛けられるバイアス電源が前記捕集電極に接続されて
なる請求項４記載の紫外線洗浄装置。 - 【請求項６】 前記紫外線ランプの最大出力までは光電
子電流を一定値に維持するように紫外線ランプ電源を制
御する制御回路を備えてなる請求項５記載の紫外線洗浄
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000252671A JP2002059101A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | 紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000252671A JP2002059101A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | 紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002059101A true JP2002059101A (ja) | 2002-02-26 |
Family
ID=18741874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000252671A Pending JP2002059101A (ja) | 2000-08-23 | 2000-08-23 | 紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002059101A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100879616B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2009-01-21 | 주식회사 아이엠티 | 세정 장치 |
| KR200453405Y1 (ko) | 2008-11-20 | 2011-05-03 | (주) 사운드웨이브 | 살균기를 내장한 욕실장 |
| CN113695279A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-26 | 浙江浙能技术研究院有限公司 | 一种自动在线清洗的中压紫外杀菌系统及运行工艺 |
| CN114682569A (zh) * | 2022-02-28 | 2022-07-01 | 歌尔股份有限公司 | Uv清洗验证设备及清洗验证方法 |
-
2000
- 2000-08-23 JP JP2000252671A patent/JP2002059101A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100879616B1 (ko) * | 2006-10-31 | 2009-01-21 | 주식회사 아이엠티 | 세정 장치 |
| KR200453405Y1 (ko) | 2008-11-20 | 2011-05-03 | (주) 사운드웨이브 | 살균기를 내장한 욕실장 |
| CN113695279A (zh) * | 2021-09-03 | 2021-11-26 | 浙江浙能技术研究院有限公司 | 一种自动在线清洗的中压紫外杀菌系统及运行工艺 |
| CN113695279B (zh) * | 2021-09-03 | 2023-12-08 | 浙江浙能技术研究院有限公司 | 一种自动在线清洗的中压紫外杀菌系统及运行工艺 |
| CN114682569A (zh) * | 2022-02-28 | 2022-07-01 | 歌尔股份有限公司 | Uv清洗验证设备及清洗验证方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6734435B2 (en) | Photo-ionization detector and method for continuous operation and real-time self-cleaning | |
| KR20040102031A (ko) | 장치, ｅｕｖ-리소그래픽 장치 및 광학요소의 오염 방지및 정제 방법 | |
| Yuldashev et al. | Investigation of background radiation and the possibility of its limitation in a semiconductor ionization system | |
| JP2002059101A (ja) | 紫外線洗浄装置における紫外線ランプのモニター方法および紫外線洗浄装置 | |
| Bhattacharya | Measurement of barium loss from a fluorescent lamp electrode by laser‐induced fluorescence | |
| Yavas et al. | Laser cleaning of field emitter arrays for enhanced electron emission | |
| JP3479002B2 (ja) | 光触媒を利用した空気清浄器 | |
| JPS6378530A (ja) | 紫外線洗浄装置 | |
| JP4091698B2 (ja) | 再結合ライフタイム測定装置 | |
| JP3087432B2 (ja) | 脱臭器及びそれの運転方法 | |
| KR950010713A (ko) | 플라즈마처리의 종점검출 방법 및 장치 | |
| JP3557992B2 (ja) | 電界放射型電子源の検査方法および電界放射型電子源の検査装置 | |
| JPS6251224A (ja) | 紫外線洗浄モニタ方法 | |
| JP2690572B2 (ja) | 表面状態評価方法およびその装置 | |
| Gotohl et al. | twk function measurement of an electrode in a low pressure Hg discharge by photoelectric method | |
| JP3818162B2 (ja) | 電子線照射処理装置 | |
| JP2004271468A (ja) | グロー放電発光分光分析方法及びグロー放電発光分光分析装置 | |
| JPH0290613A (ja) | 半導体装置の製造方法及びその製造装置 | |
| JPS63167254A (ja) | 電子計数装置 | |
| JPS62122130A (ja) | 紫外線洗浄装置の紫外線ランプのモニタ方法 | |
| JP2003302499A (ja) | 電子線照射処理装置 | |
| CN117766367A (zh) | 等离子刻蚀机清洁装置、方法及等离子刻蚀机 | |
| JP2005265673A (ja) | 有機材料の特性評価方法および特性評価装置 | |
| JP2000249599A (ja) | 紫外線照度計 | |
| RU2263898C2 (ru) | Способ атомно-эмиссионного анализа и устройство для его осуществления |