JP2002057566A - 出力バッファ回路 - Google Patents

出力バッファ回路

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JP2002057566A
JP2002057566A JP2000241089A JP2000241089A JP2002057566A JP 2002057566 A JP2002057566 A JP 2002057566A JP 2000241089 A JP2000241089 A JP 2000241089A JP 2000241089 A JP2000241089 A JP 2000241089A JP 2002057566 A JP2002057566 A JP 2002057566A
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Kazuhiro Komatsu
和弘 小松
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Denso Ten Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 EMIとEMSといった相反する両特性を共
に改善することのできる出力バッファ回路を提供するこ
と。 【解決手段】 入力信号に応じて高電圧信号、低電圧信
号の2値信号を出力する出力回路を備えた2値信号出力
用の出力バッファ回路において、出力信号OUTの反転
時に出力信号OUTの維持時に比べて、出力回路のドラ
イブ能力を低能力状態とするドライブ能力の制御手段1
を装備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロコンピュ
ータ(マイコン)やCMOSIC等の出力段に用いられ
る出力バッファ回路に関する。
【0002】
【従来の技術】マイコンやCMOSIC等の出力段に
は、後段回路との緩衝のために出力バッファ回路が使用
されている。図7は、従来の出力バッファ回路の一例を
示しており、CMOSを用いた反転型の出力バッファ回
路の例を示している。
【0003】電源Vccと接地間には、入力信号INに
より導通状態が制御されるPチャネルMOSFET(p
MOS)とNチャネルMOSFET(nMOS)が直列
接続されており、pMOSとnMOSとの接続点が出力
端子OUTとなっている。従って、入力信号INが高電
圧状態(H信号)の時には、pMOSは遮断され、nM
OSは導通し、出力は低電圧状態(L信号)となり、逆
に入力信号INがL信号の時には、pMOSは導通し、
nMOSは遮断され、結果、出力は電源Vccが印加さ
れたH信号となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような出力バッフ
ァ回路において、ドライブ能力を上げると、つまりpM
OSとnMOSの導通時の抵抗(オン抵抗)を小さくす
ると、出力信号の反転時に流れる電流が大きくなり、出
力バッファ回路から放射される電波、所謂不要輻射(E
MI)が増加し、他の回路等に悪影響を及ぼす可能性が
高くなる。逆に、ドライブ能力を下げると、つまりpM
OSとnMOSの導通時の抵抗(オン抵抗)を大きくす
ると、ノイズの影響を大きく受けるようになり、誤動作
を起こし易くなり、所謂耐妨害感度(EMS)が悪化す
ることになる。すなわち、通常の出力バッファ回路にお
いては、EMIに対して良ければEMSに対しては悪
く、EMSに対して良ければEMIに対しては悪いとい
った関係が成立する。このため、従来はこれらEMIと
EMSとの両者の関係を考慮した上での妥協点という意
味から、出力バッファ回路のドライブ能力が設定されて
いた。
【0005】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、EMIとEMSといった相反する両特性を共に改
善することのできる出力バッファ回路を提供することを
目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段及びその効果】上記課題を
解決するために、本発明に係る出力バッファ回路(1)
は、入力信号に応じて高電圧信号、低電圧信号の2値信
号を出力する出力回路を備えた2値信号出力用の出力バ
ッファ回路において、入力信号の反転時に出力信号の維
持時に比べて、前記出力回路のドライブ能力を低能力状
態とするドライブ能力制御手段を備えていることを特徴
としている。上記出力バッファ回路(1)によれば、入
力信号の反転時には前記出力回路のドライブ能力を低能
力状態とすることができるので、EMIの発生を抑制し
て他の回路等への悪影響を少なくし、他方、出力信号の
維持時には出力回路のドライブ能力を高く維持しておく
ことができるので、EMS耐性は高く維持しておくこと
ができる。
【0007】また、本発明に係る出力バッファ回路
(2)は、上記出力バッファ回路(1)において、前記
ドライブ能力制御手段が、入力信号の反転を検出して前
記出力回路のドライブ能力を低能力状態とする低能力化
手段と、出力信号の反転を検出して前記出力回路のドラ
イブ能力を高能力状態とする高能力化手段とを備えてい
ることを特徴としている。上記出力バッファ回路(2)
によれば、出力信号の反転を検出しているので、前記出
力回路のドライブ能力を高能力状態とするタイミングを
適切に制御することができ、制御精度を上げることがで
きる。
【0008】また、本発明に係る出力バッファ回路
(3)は、上記出力バッファ回路(2)において、前記
高能力化手段が、前記出力信号の反転を、該出力信号電
圧を基準電圧と比較するコンパレータにより検出するも
のであることを特徴としている。
【0009】上記出力バッファ回路(3)によれば、比
較的簡単に構成できるコンパレータにより前記出力信号
の反転を検出することができ、また基準電圧の設定の仕
方により前記出力回路を構成するトランジスタの特性に
適した検出を行うことが可能となる。
【0010】また、本発明に係る出力バッファ回路
(4)は、上記出力バッファ回路(3)において、前記
コンパレータが、ヒステリシス特性を有するものである
ことを特徴としている。上記出力バッファ回路(4)に
よれば、出力信号の反転方向に応じて反転検出のタイミ
ングを異ならせることができ、例えば電源と接地間に2
個のスイッチング素子を直列に接続してその接続点から
出力信号を取り出すプッシュプル型の出力回路において
も、前記2個のスイッチング素子が同時に導通状態とな
って大電流が流れる、所謂貫通電流の発生を阻止するこ
とができる。
【0011】また、本発明に係る出力バッファ回路
(5)は、上記出力バッファ回路(2)〜(4)のいず
れかにおいて、前記ドライブ能力制御手段が、出力信号
の反転を検出して所定の遅延時間を経過させた後、前記
出力回路のドライブ能力を高能力状態とする高能力化手
段を備えていることを特徴としている。上記出力バッフ
ァ回路(5)によれば、出力信号が確実に維持状態とな
った後に前記出力回路のドライブ能力を上げることがで
きるので、EMIの発生を確実に抑制することができ
る。
【0012】また、本発明に係る出力バッファ回路
(6)は、上記出力バッファ回路(1)〜(5)のいず
れかにおいて、前記出力回路が、電源と接地間に接続さ
れ、導通状態に応じて前記出力信号を切り換えるオン抵
抗の大きい第1のスイッチング素子と、該第1のスイッ
チング素子と並列接続されたオン抵抗の小さい第2のス
イッチング素子とからなり、前記ドライブ能力制御手段
が、前記入力信号の反転時に前記第1のスイッチング素
子を反転させ、その後遅れて前記第2のスイッチング素
子を反転させるものであることを特徴としている。上記
出力バッファ回路(6)によれば、集積回路化が比較的
容易なMOSFET等を用いて回路を実現することがで
きる。
【0013】また、本発明に係る出力バッファ回路
(7)は、上記出力バッファ回路(1)〜(5)のいず
れかにおいて、前記出力回路が、電源と出力端子間に接
続され、導通状態に応じて前記出力信号を切り換えるオ
ン抵抗の大きい第3のスイッチング素子と、該第3のス
イッチング素子と並列接続されたオン抵抗の小さい第4
のスイッチング素子と、前記出力端子と接地間に接続さ
れ、導通状態に応じて前記出力信号を切り換えるオン抵
抗の大きい第5のスイッチング素子と、該第5のスイッ
チング素子と並列接続されたオン抵抗の小さい第6のス
イッチング素子とからなり、前記ドライブ能力制御手段
が、出力信号を高電圧信号に反転させる時には、前記第
3のスイッチング素子を導通状態、前記第5のスイッチ
ング素子と前記第6のスイッチング素子とを非導通状態
にすると共に、その後遅れて前記第4のスイッチング素
子を導通状態にし、出力信号を低電圧信号に反転させる
時には、前記第5のスイッチング素子を導通状態、前記
第3のスイッチング素子と前記第4のスイッチング素子
とを非導通状態にすると共に、その後遅れて前記第6の
スイッチング素子を導通状態にするものであることを特
徴としている。上記出力バッファ回路(7)によれば、
集積回路化が比較的容易なMOSFET等を用いて回路
を実現することができ、また出力信号の反転方向のそれ
ぞれに適した制御が可能となる。
【0014】また、本発明に係る出力バッファ回路
(8)は、上記出力バッファ回路(7)において、前記
ドライブ能力制御手段が、前記第3のスイッチング素子
に対する前記第4のスイッチング素子の遅延導通制御タ
イミングと、前記第5のスイッチング素子に対する前記
第6のスイッチング素子の遅延導通制御タイミングとを
それぞれ別々に設定するものであることを特徴としてい
る。上記出力バッファ回路(8)によれば、出力信号の
反転方向のそれぞれに適した制御がより高精度に行わ
れ、EMIの発生を確実に阻止できるとともに、EMS
耐性を向上させることができる。
【0015】また、本発明に係る出力バッファ回路
(9)は、上記出力バッファ回路(2)において、前記
低能力化手段が、前記出力回路のドライブ能力を、徐々
に複数段階で低下させるものであることを特徴としてい
る。上記出力バッファ回路(9)によれば、EMIの発
生を確実に阻止しながら、出力信号の反転速度(出力バ
ッファ回路の応答速度)の低下を可能な限り抑えるよう
な制御が可能となる。
【0016】また、本発明に係る出力バッファ回路(1
0)は、上記出力バッファ回路(1)において、前記ド
ライブ能力制御手段が、入力信号の反転を検出して前記
出力回路のドライブ能力を低能力状態とする低能力化手
段と、前記入力信号の反転を検出して所定の遅延時間を
経過させた後、前記出力回路のドライブ能力を高能力状
態とする高能力化手段とからなることを特徴としてい
る。上記出力バッファ回路(10)によれば、出力信号
の反転の検出を必要とせず、入力信号の反転だけを検出
すればよいので回路構成の簡略化を図ることができる。
【0017】また、本発明に係る出力バッファ回路(1
1)は、上記出力バッファ回路(10)において、入力
信号の反転後に入力されたクロック信号を計数すること
により前記遅延時間をデジタル的に計時するタイマ回路
を備えていることを特徴としている。上記出力バッファ
回路(11)によれば、デジタル回路により遅延時間を
計時するので、大面積の必要なコンデンサ等を構成する
必要がなく、集積回路の小型化を図ることができ、また
遅延時間の制御も簡単に自在に行うことが可能となる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る出力バッファ
回路の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は実
施の形態に係る出力バッファ回路の構成を示す回路構成
図であり、本実施の形態ではプッシュプル型の反転出力
バッファ回路の例を示している。
【0019】電源Vccと接地との間には、入力信号I
N(マイコン等からの出力信号)により導通状態が制御
されるPチャネルMOSFET(pMOS)1とNチャ
ネルMOSFET(nMOS)1とが直列接続されてお
り、pMOS1とnMOS1との接続点が出力端子OU
Tとなっている。そして、これらpMOS1、nMOS
1のゲートにはそれぞれ入力信号INが入力されるよう
になっている。
【0020】また、pMOS1には並列にpMOS2が
接続され、nMOS1には並列にnMOS2が接続され
ている。そして、これらpMOS2、nMOS2のゲー
トには制御手段1の端子c、dが接続され、pMOS
2、nMOS2の導通状態は制御手段1により制御され
るようになっている。制御手段1の端子a、b(a、b
は共用可)には入力信号INが入力され、端子eには出
力信号OUTが入力されるようになっており、制御手段
1は入力信号IN、出力信号OUTの状態に応じてpM
OS2、nMOS2の導通状態を制御するようになって
いる。
【0021】具体的には、入力信号INがH信号からL
信号に変化した場合には、端子dの出力を直ぐにL信号
とする一方、端子cの出力を所定の遅延時間をおいて
(あるいは出力信号OUTがL信号からH信号に変化し
てから、あるいは出力信号OUTのH信号への変化後所
定の遅延時間をおいて)、L信号とするようになってい
る。また、入力信号INがL信号からH信号に変化した
場合には、端子cの出力を直ぐにH信号とする一方、端
子dの出力を所定の遅延時間をおいて(あるいは出力信
号OUTがL信号に変化してから、あるいは出力信号O
UTのL信号への変化後所定の遅延時間をおいて)、H
信号とするようになっている。ここで、pMOS1、n
MOS1のオン抵抗は比較的大きく設定され、pMOS
2、nMOS2のオン抵抗は比較的小さく設定されてい
る。制御手段1の具体例は後述するが、デジタル回路
(論理回路)等で構成されている。
【0022】次に、図1に示した出力バッファ回路の基
本的動作について説明する。図2は、この出力バッファ
回路の基本的動作を示すタイミングチャートである。入
力信号INがL信号の時には、pMOS1、pMOS2
が導通(端子c出力はL信号)、nMOS1、nMOS
2が遮断(端子d出力はL信号)となり、出力信号OU
TはH信号となる。時刻t1(t5)で、入力信号IN
がL信号からH信号に反転すると、pMOS1が遮断さ
れる一方、nMOS1が導通し、また端子cからの出力
はH信号となってpMOS1は遮断される。ここで、n
MOS1はオン抵抗が大きく設定されているので、電流
は比較的小さく(ドライブ能力が低く)、出力信号OU
Tの電圧は徐々に低下する。このためEMIの発生は抑
えられる。そして、出力信号OUT電圧が充分低下、つ
まり反転した後、時刻t2(時刻t6)に端子dからの
出力はH信号となってnMOS2は導通される。ここ
で、nMOS2はオン抵抗が小さく設定されているの
で、電流容量は比較的大きく(ドライブ能力が高く)、
出力信号OUTはEMS耐性が高い状態でL信号に維持
される(出力インピ−ダンスが低い状態になり、EMS
耐性が向上する)。時刻t3で、入力信号INがH信号
からL信号に反転すると、pMOS1が導通する一方、
nMOS1は遮断され、また端子dからの出力はL信号
となってpMOS2も遮断される。ここで、pMOS1
のオン抵抗は大きく設定されているので、電流は比較的
小さく(ドライブ能力が低く)、出力信号OUTの電圧
は徐々に上昇する。このためEMIの発生が抑えられ
る。そして、出力信号OUT電圧が充分上昇、つまり反
転した後、時刻t4に端子cからの出力はH信号からL
信号に反転してpMOS2は導通する。ここで、pMO
S2はオン抵抗が小さく設定されているので、電流容量
は比較的大きく(ドライブ能力が高く)、出力信号OU
TはEMS耐性が高い状態でH信号に維持される。
【0023】次に、制御手段の具体的回路構成例につい
て説明する。図3は制御手段の具体的回路構成例を示す
回路図であり、図1に示した構成部品と同じ機能を有す
る構成部品については同じ符号を付し、その説明を省略
する。
【0024】制御手段1Aの端子eには、シュミットト
リガインバータ(反転型のヒステリシス回路)HINの
入力が接続され、このシュミットトリガインバータHI
Nの出力は、NOR回路およびNAND回路の一方の入
力にそれぞれ接続されている。シュミットトリガインバ
ータHINは、出力信号OUTの電圧が上側閾値以上に
なるとその出力をL信号に反転させ、出力信号OUTの
電圧が下側閾値以下となるとその出力をH信号に反転さ
せる。またNOR回路の他方の入力には端子aが接続さ
れ、NAND回路の他方の入力には端子bが接続されて
いる。そして、NOR回路およびNAND回路の出力は
各々反転回路IN1、IN2で反転され、端子c、dを
介してpMOS2、nMOS2のゲートに出力されるよ
うになっている。
【0025】次に、図3に示した出力バッファ回路の動
作について説明する。図4は、この出力バッファ回路の
動作を示すタイミングチャートである。入力信号INが
H信号の時には、pMOS1、pMOS2は遮断(端子
cからの出力はH信号)される一方、nMOS1、nM
OS2は導通(端子dからの出力はH信号)し、出力信
号OUTはL信号となる。
【0026】時刻t10(t20)で、入力信号INが
H信号からL信号に反転すると、pMOS1は導通する
一方、nMOS1は遮断される。またNAND回路の端
子b側からの入力がL信号となるので、NAND回路か
らの出力はH信号となり、反転回路IN2からの出力は
L信号となり、nMOS2のゲートにはL信号が入力さ
れてnMOS2は遮断される。ここで、pMOS1のオ
ン抵抗は大きく設定されているため、pMOS1を流れ
る電流により出力信号OUTの電圧は徐々に上昇するこ
とになる。しかし、出力信号OUTの電圧がシュミット
トリガインバータHINの上側閾値VTH以下の場合に
は、シュミットトリガインバータHINからの出力はH
信号のままで維持され、NOR回路からの出力はL信号
となり、反転回路IN1からの出力はH信号となり、p
MOS2は遮断状態に維持される。このため、この領域
におけるドライブ能力は低く維持され、EMIの発生は
低く抑えられる。
【0027】時刻t11(t21)で、出力信号OUT
からの電圧がシュミットトリガインバータHINの上側
閾値VTH以上に達すると、シュミットトリガインバー
タHINの出力はH信号からL信号に反転する。そうす
ると、NOR回路からの出力はH信号となり、反転回路
IN1からの出力はL信号に反転し、pMOS2は導通
状態となる。このため、この時点におけるドライブ能力
は高くなり、EMS耐性が高い状態となる。つまり、p
MOS1、pMOS2が導通し、nMOS1、nMOS
2は遮断され、出力信号OUTはH信号で安定する。
【0028】時刻t12(t22)で、入力信号INが
L信号からH信号に反転すると、pMOS1が遮断さ
れ、nMOS1は導通する。ここでnMOS1のオン抵
抗は大きく設定されているため、nMOS1を流れる電
流により出力信号OUTの電圧は徐々に下降することに
なる。しかし、出力信号OUTの電圧がシュミットトリ
ガインバータHINの下側閾値VTL以下に達しない場
合には、シュミットトリガインバータHINからの出力
はL信号のままで維持され、NOR回路からの出力はL
信号、反転回路IN1からの出力はH信号となり、pM
OS2は遮断状態に維持される。このため、この時点に
おけるドライブ能力は低く、EMIの発生は低く抑えら
れる。
【0029】時刻t13(t23)で、出力信号OUT
からの電圧がシュミットトリガインバータHINの下側
閾値VTL以下になると、シュミットトリガインバータ
HINからの出力はL信号からH信号に反転する。そう
すると、NAND回路からの出力はL信号となり、反転
回路IN2からの出力はH信号に反転し、nMOS2は
導通状態となる。このため、この時点におけるドライブ
能力は高くなり、EMR耐性が高い状態となる。つま
り、pMOS1、pMOS2が遮断され、nMOS1、
nMOS2は導通し、出力信号OUTはL信号で安定す
る。
【0030】また、本出力バッファ回路によれば、オン
抵抗の小さいpMOS2が導通状態となる期間は時刻t
11〜t12(t21〜t22)であり、nMOS2が
導通状態となる期間は時刻t13〜t20であって、シ
ュミットトリガインバータHINのヒステリシス特性に
基づいてこれら期間が重なることはないので、pMOS
2とnMOS2とが同時に導通状態となって、電源から
接地に向けて大きな電流(貫通電流)が流れるといった
事態の発生を阻止することができる。尚、シュミットト
リガインバータHINの代わりに、通常のヒステリシス
特性のない反転型コンパレータ(インバータでも可)を
採用することも可能であるが、この場合には貫通電流の
発生阻止効果を期待することはできない。
【0031】尚、上記した実施の形態では、pMOS2
とnMOS2とを、導通、遮断状態の2段階で切り換え
る例を示したが、別の実施の形態では、導通状態にする
時に徐々に抵抗値を低下させていく(導通度を徐々に向
上させる)方法でも適切な制御を行うことができ、その
場合にはpMOS2とnMOS2へのゲート印加電圧を
徐々に変化させるようにしてやれば良い。
【0032】また、上記した実施の形態では、プッシュ
プル型の出力バッファ回路を例に挙げて説明したが、別
の実施の形態では、出力端子OUTの電源側のpMOS
1、pMOS2、あるいは出力端子OUTの接地側のn
MOS1、nMOS2を抵抗素子に置き換える等により
構成した型の出力バッファ回路でも良く、また、さらに
別の実施の形態では、電源側のpMOS2、あるいは接
地側のnMOS2を省略し、電源側のpMOS1、ある
いは接地側のnMOS1へのゲート電圧の印加の仕方に
より同様にドライブ能力の制御を行い、同様の効果を生
じさせることも可能である。
【0033】次に、制御手段の別の具体的回路構成例に
ついて説明する。図5は別の制御手段1Bの具体的回路
構成例を示す回路図であり、図1、図3に示した構成部
品と同じ機能を有する構成部品については同じ符号を付
し、その説明を省略する。
【0034】本具体的回路構成例では、NOR回路とN
AND回路の前段に遅延制御手段2が介装されており、
その動作は出力端子OUTの出力信号の反転が検出され
た後、所定の遅延時間をおいてpMOS2、あるいはn
MOS2を導通状態に反転させるように構成されている
点が上述の出力バッファ回路と異なるだけで、基本的動
作は同じである。この遅延制御手段2は、出力端子OU
Tからの出力信号を遅延させて反転させるものである
が、この遅延制御手段2を図3に示したシュミットトリ
ガインバータHINと組み合わせて構成し、シュミット
トリガインバータHINからの出力信号をさらにこの遅
延制御手段2で遅延させる構成としても良い。この構成
によれば、出力端子OUTからの出力信号の反転が検出
された後、所定の遅延時間をおいてpMOS2、あるい
はnMOS2の導通状態を反転させることができるの
で、より一層確実にEMIの発生を抑制することができ
る。
【0035】図6は、遅延制御手段2の具体的構成を示
す回路図である。遅延制御手段2は基本的には図6
(A)に示すように構成されており、入力信号を所定ク
ロック数分だけ遅延させて出力する論理遅延回路tdと
反転回路IN3とを含んで構成されている。この際のク
ロックは、マイコンで用いられている発振回路等からの
クロック信号をそのまま取り込めば良い。この論理遅延
回路tdは、クロック信号を取り込む度に最初の段に取
り込み、以前に取り込んでいた信号の各段の値を次の段
にシフトさせ、最終段を出力とする直列型シフトレジス
タ等により構成することができる。
【0036】遅延制御手段2は、コンデンサと抵抗とを
用いてアナログ的に実現することも可能であるが、コン
デンサ等を集積回路に組み込むには遅延時間から計算す
るとかなり広い面積を必要としてしまう。これに対し、
上記したように遅延制御手段2を論理遅延回路tdで構
成すれば、狭い面積でこれを実現することができ、デバ
イス設計上有利となる。
【0037】図6(B)に示した構成は、NOR回路へ
信号を出力する論理遅延回路td1、反転回路IN4
と、NAND回路へ信号を出力する論理遅延回路td
2、反転回路IN5とが独立的に別々に設けられて遅延
制御手段2が構成されており、pMOS2、nMOS2
に対する遅延特性を別々に設定できる構成になってい
る。本実施の形態によれば、pMOS1、nMOS1の
特性等を考慮した遅延特性での制御が可能になり、より
望ましい動作特性を有する出力バッファ回路を実現する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る出力バッファ回路の
回路構成を示す回路図である。
【図2】図1に示した出力バッファ回路の基本的動作を
示すタイミングチャートである。
【図3】制御手段の具体的回路構成を示す回路図であ
る。
【図4】図3に示した出力バッファ回路の動作を示すタ
イミングチャートである。
【図5】遅延制御手段を用いた制御手段の具体的回路構
成を示す回路図である。
【図6】遅延制御手段の具体的構成を示す回路図であ
る。
【図7】従来の出力バッファ回路の構成を示す回路図で
ある。
【符号の説明】
1、1A、1B・・・制御手段 2・・・遅延制御手段 pMOS、pMOS1、pMOS2・・・PチャネルM
OSFET nMOS、nMOS1、nMOS2・・・NチャネルM
OSFET IN1〜5・・・反転回路 NOR・・・NOR回路 NAND・・・NAND回路
フロントページの続き Fターム(参考) 5J055 AX27 AX54 AX64 BX16 BX31 CX24 CX27 DX22 DX56 DX72 DX83 EX07 EX21 EY21 EZ07 EZ10 EZ25 EZ50 FX12 FX17 FX35 GX01 GX04 5J056 AA04 BB19 BB26 CC05 CC09 DD13 DD29 EE07 EE13 GG08 KK00

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力信号に応じて高電圧信号、低電圧信
    号の2値信号を出力する出力回路を備えた2値信号出力
    用の出力バッファ回路において、 入力信号の反転時に出力信号の維持時に比べて、前記出
    力回路のドライブ能力を低能力状態とするドライブ能力
    制御手段を備えていることを特徴とする出力バッファ回
    路。
  2. 【請求項2】 前記ドライブ能力制御手段が、 入力信号の反転を検出して前記出力回路のドライブ能力
    を低能力状態とする低能力化手段と、 出力信号の反転を検出して前記出力回路のドライブ能力
    を高能力状態とする高能力化手段とを備えていることを
    特徴とする請求項1記載の出力バッファ回路。
  3. 【請求項3】 前記高能力化手段が、前記出力信号の反
    転を、該出力信号電圧を基準電圧と比較するコンパレー
    タにより検出するものであることを特徴とする請求項2
    記載の出力バッファ回路。
  4. 【請求項4】 前記コンパレータが、ヒステリシス特性
    を有するものであることを特徴とする請求項3記載の出
    力バッファ回路。
  5. 【請求項5】 前記ドライブ能力制御手段が、 出力信号の反転を検出して所定の遅延時間を経過させた
    後、前記出力回路のドライブ能力を高能力状態とする高
    能力化手段を備えていることを特徴とする請求項2〜4
    のいずれかの項に記載の出力バッファ回路。
  6. 【請求項6】 前記出力回路が、 電源と接地間に接続され、導通状態に応じて前記出力信
    号を切り換えるオン抵抗の大きい第1のスイッチング素
    子と、 該第1のスイッチング素子と並列接続されたオン抵抗の
    小さい第2のスイッチング素子とからなり、 前記ドライブ能力制御手段が、前記入力信号の反転時に
    前記第1のスイッチング素子を反転させ、その後遅れて
    前記第2のスイッチング素子を反転させるものであるこ
    とを特徴とする請求項1〜5のいずれかの項に記載の出
    力バッファ回路。
  7. 【請求項7】 前記出力回路が、 電源と出力端子間に接続され、導通状態に応じて前記出
    力信号を切り換えるオン抵抗の大きい第3のスイッチン
    グ素子と、 該第3のスイッチング素子と並列接続されたオン抵抗の
    小さい第4のスイッチング素子と、 前記出力端子と接地間に接続され、導通状態に応じて前
    記出力信号を切り換えるオン抵抗の大きい第5のスイッ
    チング素子と、 該第5のスイッチング素子と並列接続されたオン抵抗の
    小さい第6のスイッチング素子とからなり、 前記ドライブ能力制御手段が、 出力信号を高電圧信号に反転させる時には、前記第3の
    スイッチング素子を導通状態、前記第5のスイッチング
    素子と前記第6のスイッチング素子とを非導通状態にす
    ると共に、その後遅れて前記第4のスイッチング素子を
    導通状態にし、 出力信号を低電圧信号に反転させる時には、前記第5の
    スイッチング素子を導通状態、前記第3のスイッチング
    素子と前記第4のスイッチング素子とを非導通状態にす
    ると共に、その後遅れて前記第6のスイッチング素子を
    導通状態にするものであること特徴とする請求項1〜5
    のいずれかの項に記載の出力バッファ回路。
  8. 【請求項8】 前記ドライブ能力制御手段が、前記第3
    のスイッチング素子に対する前記第4のスイッチング素
    子の遅延導通制御タイミングと、前記第5のスイッチン
    グ素子に対する前記第6のスイッチング素子の遅延導通
    制御タイミングとをそれぞれ別々に設定するものである
    ことを特徴とする請求項7記載の出力バッファ回路。
  9. 【請求項9】 前記低能力化手段が、 前記出力回路のドライブ能力を、徐々に複数段階で低下
    させるものであることを特徴とする請求項2記載の出力
    バッファ回路。
  10. 【請求項10】 前記ドライブ能力制御手段が、 入力信号の反転を検出して前記出力回路のドライブ能力
    を低能力状態とする低能力化手段と、 前記入力信号の反転を検出して所定の遅延時間を経過さ
    せた後、前記出力回路のドライブ能力を高能力状態とす
    る高能力化手段とからなることを特徴とする請求項1記
    載の出力バッファ回路。
  11. 【請求項11】 入力信号の反転後に入力されたクロッ
    ク信号を計数することにより前記遅延時間をデジタル的
    に計時するタイマ回路を備えていることを特徴とする請
    求項10記載の出力バッファ回路。
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