JP2002056509A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気抵抗効果素子によって情報を確実に読み
出すことができ、狭トラック化を実現することの可能な
薄膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 非磁性基板２上に、下地絶縁層３、磁気
シールド層４、磁気抵抗効果素子１２が埋設された非磁
性絶縁層５、下部磁気コア層６、ギャップ層７、下部コ
イル絶縁層８、コイル層９、上部コイル絶縁層１０及び
上部磁気コア層１１が順次積層して形成され、磁気抵抗
効果素子１２よりも矢印Ｙ方向の上部磁気コア層１１の
他端部側の位置において、下地絶縁層３に第１の凹部３
ａを形成することにより、下部コイル絶縁層８には第２
の凹部８ａが設けられ、この第２の凹部８ａ内にコイル
層９を収容するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に対
し情報の書き込み及び読み出しを行う薄膜磁気ヘッドに
係り、さらに詳しくは、磁気抵抗効果素子を用いて磁気
記録媒体に書き込まれた情報の読み出し行う薄膜磁気ヘ
ッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】図８乃至図１４は、この種の薄膜磁気ヘ
ッドの従来技術を説明するためのものであり、図８に示
すように、この薄膜磁気ヘッド２１は、Ａｌ２Ｏ３−Ｔ
ｉＣセラミック等からなる非磁性基板２２上に、順に、
アルミナ等からなる下地絶縁層２３、Ｆｅ−Ｎｉ合金等
からなる磁気シールド層２４、アルミナ等からなり磁気
抵抗効果素子３３が埋設された非磁性絶縁層２５、Ｆｅ
−Ｎｉ合金等からなる下部磁気コア層２６が積層され
て、下部磁気コア層２６上に、Ｆｅ−Ｎｉ合金等からな
る下部磁極層２７とノボラック樹脂等からなる下部コイ
ル絶縁層２８とが設けられており、下部磁極層２７及び
下部コイル絶縁層２８上には、アルミナ等からなるギャ
ップ層２９が下部コイル絶縁層２８に形成された凹部２
８ａ内に至るように設けられている。

【０００３】そして、ギャップ層２９に下部コイル絶縁
層２８の凹部２８ａの形状が反映された凹部２９ａが設
けられ、この凹部２９ａ内に配設されたコイル層３０上
に上部コイル絶縁層３１が形成されており、上部コイル
絶縁層３１上には、上部磁気コア層３２が一端部をギャ
ップ層２９を介して下部磁極層２７に対向させ他端部を
下部磁気コア層２６に接触させて設けられ、媒体対向面
３４側の上部磁気コア層３２と下部磁極層２７との間が
磁気ギャップＧとされ、上部コイル絶縁層３１の一端部
に形成された傾斜面３１ａが上部磁気コア層３２によっ
て覆われた状態となっている。

【０００４】このように構成された薄膜磁気ヘッド２１
は、そのコイル層３０に記録電流が与えられると、下部
磁気コア層２６、下部磁極層２７及び上部磁気コア層３
２に記録磁界が誘導され、媒体対向面３４における磁気
ギャップＧからの漏れ磁界により磁気記録媒体に対し情
報の書き込みが行われ、また、この書き込まれた情報は
磁気抵抗効果素子３３によって読み出されるようになっ
ている。

【０００５】この薄膜磁気ヘッド２１の製造は、先ず、
図９に示すように、非磁性基板２２に設けられた下地絶
縁層２３上に磁気シールド層２４から下部磁極層２７ま
での各層を順次形成し、次いで、図１０に示すように、
下部磁気コア層２６上に下部磁極層２７を覆うように下
部コイル絶縁層２８を設ける。次に、図１１に示すよう
に、ＣＭＰ法（ケミカル・メカニカル・ポリッシング）
により、下部コイル絶縁層２８の膜厚と下部磁極層２７
の膜厚とが等しくなるように下部コイル絶縁層２８を研
磨し、次いで、図１２に示すように、イオンミリング法
により下部コイル絶縁層２８に凹部２８ａを形成する。

【０００６】次に、図１３に示すように、スパッタリン
グ法により下部磁極層２７及び下部コイル絶縁層２８上
にギャップ層２９を下部コイル絶縁層２８の凹部２８ａ
内に至るように形成し、次いで、スパッタリング法、電
解めっき法及びフォトリソグラフィー技術を組み合わせ
ることによりギャップ層２９の凹部２９ａ内にコイル層
３０を設け、コイル層３０上に上部コイル絶縁層３１を
形成する。

【０００７】次に、図１４に示すように、ギャップ層２
９上から上部コイル絶縁層３１上にわたりＦｅ−Ｎｉ合
金等からなるめっき下地層３５形成して、めっき下地層
３５上にレジスト層３６を塗布形成する。次いで、フォ
トリソグラフィー技術を用いてこのレジスト層３６を露
光・現像しレジスト層３６を部分的に除去することによ
り、上部磁気コア層３２の形状に対応するパターンをレ
ジスト層３６に形成したのち、レジスト層３６が除去さ
れた前記パターン部分に電解めっきを施して上部磁気コ
ア層３２を形成する。そして、残ったレジスト層３６を
除去して薄膜磁気ヘッド２１の製造が完了する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の薄膜磁気ヘッド２１にあっては、ギャップ層２
９の凹部２９ａからコイル層３０が上方に突出している
ため、ギャップ層２９の上面から上部コイル絶縁層３１
の上面までの膜厚寸法Ｔ１が大きなものとなり、めっき
下地層３５上に塗布されるレジスト層３６は流動性を有
することから、図１４に示すように、ギャップ層２９の
一端部上から上部コイル絶縁層３１の傾斜面３１ａにか
けてのレジスト層３６の膜厚寸法Ｔ２が厚くなって、こ
の部分においてフォトリソグラフィー技術による解像度
が極端に悪くなり、その結果、レジスト層３６に形成さ
れる前記パターンの寸法精度が著しく低下し、図示Ｘ方
向（図８の紙面に向かう）における上部磁気コア層３２
の一端部の幅、すなわちトラック幅を精度良く形成する
ことができず、狭トラック化を実現することができない
という問題があった。

【０００９】この問題の原因となっている凹部２９ａか
らのコイル層３０の突出は、下部磁極層２７及び下部コ
イル絶縁層２８の両膜厚をより厚くして、その分下部コ
イル絶縁層２８の凹部２８ａを深く形成することによっ
て抑えることができるが、このようにすると、磁気ギャ
ップＧと磁気抵抗効果素子３３との間隔Ｓが大きくなっ
て、この薄膜磁気ヘッド２１が磁気ディスク装置に備わ
る回動アーム式のヘッド移送機構に支持されて使用され
たときに、磁気ギャップＧによって磁気記録媒体（磁気
ディスク）に書き込まれた情報を磁気抵抗効果素子３３
によって読み出すことができなくなるという不具合が生
ずることとなる。

【００１０】本発明は上述した従来技術の事情に鑑みて
なされたもので、その目的は、磁気抵抗効果素子によっ
て情報を確実に読み出すことができ、狭トラック化を実
現することの可能な薄膜磁気ヘッドを提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板と、この非
磁性基板上に形成された下地絶縁層と、この下地絶縁層
上に形成された磁気シールド層と、この磁気シールド層
上に形成され磁気抵抗効果素子が埋設された非磁性絶縁
層と、この非磁性絶縁層上に形成された下部磁気コア層
と、この下部磁気コア層上に形成されたギャップ層と、
このギャップ層上に形成された下部コイル絶縁層と、こ
の下部コイル絶縁層上に形成されたコイル層と、このコ
イル層上に形成された上部コイル絶縁層と、この上部コ
イル絶縁層上に設けられ一端部が前記ギャップ層を介し
て前記下部磁気コア層と対向して磁気ギャップを形成し
他端部が前記下部磁気コア層と接する上部磁気コア層と
を備えてなり、前記磁気抵抗効果素子が前記上部磁気コ
ア層の一端部と対向して配置され、前記下地絶縁層には
前記磁気抵抗効果素子よりも前記上部磁気コア層の他端
部側の位置において第１の凹部が形成されているととも
に、前記下部コイル絶縁層には前記第１の凹部の形状が
反映された第２の凹部が設けられ、この第２の凹部内に
前記コイル層が配設されていることを最も主要な特徴と
している。

【００１２】また、上記構成において、前記コイル層の
上面が、前記上部磁気コア層の一端部に対向する前記下
部磁気コア層の対向面と同じ高さにあるか、若しくは前
記対向面よりも下方に位置している構成とした。

【００１３】さらに、上記構成において、前記磁気抵抗
効果素子の一端部は磁気記録媒体と対向する媒体対向面
に露出されており、前記下部磁気コア層は、前記磁気抵
抗効果素子の一端部と対向する前記磁気記録媒体の対向
部分以外の領域からの磁界を前記磁気抵抗効果素子から
遮断する磁気シールド機能を果たすようにした。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の薄膜磁気ヘッドの
一実施形態を図１乃至図７に基づいて説明する。

【００１５】図１に示すように、この薄膜磁気ヘッド１
は、非磁性基板２上に第１の凹部３ａが形成された下地
絶縁層３が設けられ、下地絶縁層３上に、磁気シールド
層４、磁気抵抗効果素子１２が埋設された非磁性絶縁層
５、下部磁気コア層６、ギャップ層７及び下部コイル絶
縁層８が順次積層して形成されて、下部コイル絶縁層８
に第１の凹部３ａの形状が反映された第２の凹部８ａが
設けられており、第２の凹部８ａ内に配設されたコイル
層９上には上部コイル絶縁層１０が形成されて、上部コ
イル絶縁層１０上に上部磁気コア層１１が一端部１１ａ
をギャップ層７を介して下部磁気コア層６に対向させ他
端部１１ｂを下部磁気コア層６に接触させて設けられ、
磁気記録媒体に対向する媒体対向面１３側の上部磁気コ
ア層１１と下部磁気コア層６との間が磁気ギャップＧと
されている。

【００１６】非磁性基板２は、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣセラ
ミック等の導電性を有する非磁性体からなるものであ
る。

【００１７】下地絶縁層３は、磁気シールド層４及び非
磁性基板２との密着性のよいアルミナ等の絶縁材料から
なるもので、磁気抵抗効果素子１２よりも図示Ｙ方向の
上部磁気コア層１１の他端部１１ｂ側の位置において第
１の凹部３ａが形成されて、非磁性基板２に接する下面
と第１の凹部３ａの内底面との間の膜厚が５μｍ程度と
なっている。

【００１８】磁気シールド層４は、Ｆｅ−Ｎｉ合金等の
軟磁性材料から形成され、媒体対向面１３に露出して設
けられた磁気抵抗効果素子１２の一端部と対向する磁気
記録媒体の対向部分以外の領域からの磁界を磁気抵抗効
果素子１２から遮断する磁気シールドとしての機能を果
たす。

【００１９】非磁性絶縁層５は、アルミナ等の非磁性絶
縁材料からなる一対の絶縁層を積み重ねてなるもので、
これら一対の絶縁層で磁気抵抗効果素子１２を挟持する
ことにより、磁気抵抗効果素子１２が一端部を媒体対向
面１３に露出させて図示Ｚ方向に上部磁気コア層１１の
一端部１１ａと対向し非磁性絶縁層５に埋設された状態
となっている。

【００２０】下部磁気コア層６は、Ｆｅ−Ｎｉ合金等の
軟磁性材料から形成されてなるもので、上部磁気コア層
１１の他端部１１ｂと磁気的に結合されており、上部磁
気コア層１１とで磁気ギャップＧを有する磁気回路を構
成するとともに、磁気シールド層４と同様に、磁気抵抗
効果素子１２の一端部と対向する磁気記録媒体の対向部
分以外の領域からの磁界を磁気抵抗効果素子１２から遮
断する磁気シールドとしての機能を果たす。

【００２１】ギャップ層７は、ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３等
の非磁性絶縁材料からなるもので、上部磁気コア層１１
の一端部１１ａが接触された状態となっている。

【００２２】下部コイル絶縁層８は、ノボラック樹脂等
の絶縁材料から形成されてなるもので、下地絶縁層３の
第１の凹部３ａの形状が反映されて、従来技術に示した
凹部２９ａよりも遙かに深い第２の凹部８ａが設けら
れ、媒体対向面１３側の傾斜面８ｂが形成された一端部
で磁気ギャップＧのギャップ深さゼロの位置を規定して
いる。

【００２３】コイル層９は、Ｃｕ等の電気抵抗の低い導
電材料からなり、第２の凹部８ａ内の下部コイル絶縁層
８上に平面視渦巻状に形成されて、その上面９ａが上部
磁気コア層１１の一端部１１ａに対向する下部磁気コア
層６の対向面６ａよりも下方に位置した状態となってい
る。

【００２４】上部コイル絶縁層１０は、ノボラック樹脂
等の絶縁材料から形成されてなるもので、媒体対向面１
３側の一端部には傾斜面１０ａが形成されており、ま
た、コイル層９の上面９ａから上部磁気コア層１１に接
する上面までの膜厚が１μｍ程度とされ、これにより、
コイル層９と上部磁気コア層１１との絶縁が充分に確保
されている。

【００２５】上部磁気コア層１１は、Ｆｅ−Ｎｉ合金等
の軟磁性材料から形成されてなるもので、図示Ｘ方向
（図１の紙面に向かう）における上部磁気コア層１１の
一端部１１ａの幅、すなわち図２に示す一端部１１ａの
幅がトラック幅Ｔｗとされている。

【００２６】次に、このように構成された薄膜磁気ヘッ
ド１の製造方法について説明すると、先ず、図３に示す
ように、非磁性基板２上に下地絶縁層３をスパッタリン
グ法によって形成し、次いで、図４に示すように、この
下地絶縁層３にイオンミリング法を用いて第１の凹部３
ａを形成する。

【００２７】次に、図５に示すように、下地絶縁層３上
に、磁気シールド層４、非磁性絶縁層５の一方の絶縁
層、磁気抵抗効果素子１２、非磁性絶縁層５の他方の絶
縁層、下部磁気コア層６、ギャップ層７及び下部コイル
絶縁層８をスパッタリング法等を用いて順次積層し、下
部コイル絶縁層８に下地絶縁層３の第１の凹部３ａの形
状が反映された第２の凹部８ａを形成する。このとき、
磁気抵抗効果素子１２は、下地絶縁層３の第１の凹部３
ａよりも上部磁気コア層１１の一端部１１ａ側の、非磁
性絶縁層５の一方の絶縁層の平坦面上に形成されるの
で、磁気抵抗効果素子１２を寸法精度良く形成すること
ができ、このため、磁気抵抗効果素子１２による磁気記
録媒体に書き込まれた情報の読み出し特性を良好なもの
とすることができる。

【００２８】次に、図６に示すように、スパッタリング
法、電解めっき法及びフォトリソグラフィー技術を組み
合わせることにより、第２の凹部８ａ内の下部コイル絶
縁層８上にコイル層９を形成し、次いで、コイル層９上
に上部コイル絶縁層１０を形成する。

【００２９】次に、図７に示すように、ギャップ層７上
から上部コイル絶縁層１０上にわたりＦｅ−Ｎｉ合金等
の軟磁性材料からなるめっき下地層１４を形成し、この
めっき下地層１４上に流動性を有するレジスト層１５を
塗布形成する。次に、フォトリソグラフィー技術を用い
てこのレジスト層１５を露光・現像してレジスト層１５
を部分的に除去し、上部磁気コア層１１の形状に対応す
るパターンをレジスト層１５に形成したのち、レジスト
層１５が除去された前記パターン部分に電気めっきを施
して、ギャップ層７上及び上部コイル絶縁層１０上に上
部磁気コア層１１を形成する。そして、残ったレジスト
層１５を除去することにより、薄膜磁気ヘッド１の製造
が完了する。

【００３０】このように構成・製造された薄膜磁気ヘッ
ド１は、例えば、磁気ディスク装置に組み込まれ回動ア
ーム式のヘッド移送機構に支持されて使用され、そのコ
イル層９に記録電流が与えられると、下部磁気コア層６
及び上部磁気コア層１１に記録磁界が誘導され、媒体対
向面１３における磁気ギャップＧからの漏れ磁界により
磁気記録媒体（磁気ディスク）に対し情報の書き込みが
行われ、また、この書き込まれた情報は磁気抵抗効果素
子１２によって読み出されるようになっている。

【００３１】しかして、この薄膜磁気ヘッド１にあって
は、下地絶縁層３に第１の凹部３ａを形成することによ
って、下部コイル絶縁層８には従来技術に示した凹部２
９ａよりも遙かに深い第２の凹部８ａを形成することが
できるため、磁気ギャップＧと磁気抵抗効果素子１２と
の間隔Ｓを変えることなく、第２の凹部８ａ内にコイル
層９の全体を収容することができ、第２の凹部８ａから
コイル層９が突出するのを抑えることができるので、そ
の結果、図７に示すように、ギャップ層７の上面から上
部コイル絶縁層１０の上面までの膜厚寸法Ｔ１を小さく
することができ、ギャップ層７の一端部上から上部コイ
ル絶縁層１０の傾斜面１０ａにかけてのレジスト層１５
の膜厚寸法Ｔ２を薄く形成できることから、レジスト層
１５に形成される前記パターンの寸法精度の低下を招く
ことなく、上部磁気コア層１１の一端部１１ａの幅、す
なわちトラック幅Ｔｗを狭トラック化に対応して精度良
く形成することができるとともに、磁気ディスク装置に
備わる回動アーム式のヘッド移送機構に支持されて使用
されたときに、磁気ギャップＧによって磁気記録媒体
（磁気ディスク）に書き込まれた情報を磁気抵抗効果素
子１２によって読み出すことができなくなるという不具
合を解消することができる。

【００３２】そして、第１の凹部３ａの深さが下地絶縁
層３の膜厚寸法よりも浅く形成され、下地絶縁層３が非
磁性基板２と磁気シールド層４とを完全に絶縁している
ことにより、磁気ディスク装置等にこの薄膜磁気ヘッド
１を組み込む際に、これを取り扱う作業者に帯電した静
電気が磁気抵抗効果素子１２に及ぼす損傷を防止できる
ようになっている。

【００３３】また、コイル層９の上面９ａが、上部磁気
コア層１１の一端部１１ａに対向する下部磁気コア層６
の対向面６ａよりも下方に位置した状態となっているの
で、コイル層９と上部磁気コア層１１との絶縁を充分に
確保しつつ、ギャップ層７の上面から上部コイル絶縁層
１０の上面までの膜厚寸法Ｔ１をより薄くすることがで
きるため、トラック幅Ｔｗを狭トラック化に対応して一
層精度良く形成することができる。

【００３４】尚、この実施形態では、コイル層９の上面
９ａが、下部磁気コア層６の対向面６ａよりも下方に位
置した状態となっているもので説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではなく、第１，第２の凹部３ａ，
８ａの深さを調節することにより、コイル層９の上面９
ａが、上部磁気コア層１１の一端部１１ａに対向する下
部磁気コア層６の対向面６ａと同じ高さとなるようにし
てもよく、このようにしても、コイル層９と上部磁気コ
ア層１１との絶縁を充分に確保しつつ、ギャップ層７の
上面から上部コイル絶縁層１０の上面までの膜厚寸法Ｔ
１をより薄くすることができるため、トラック幅Ｔｗを
狭トラック化に対応して一層精度良く形成することがで
きる。

【００３５】

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。

【００３６】本発明の薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板
と、この非磁性基板上に形成された下地絶縁層と、この
下地絶縁層上に形成された磁気シールド層と、この磁気
シールド層上に形成され磁気抵抗効果素子が埋設された
非磁性絶縁層と、この非磁性絶縁層上に形成された下部
磁気コア層と、この下部磁気コア層上に形成されたギャ
ップ層と、このギャップ層上に形成された下部コイル絶
縁層と、この下部コイル絶縁層上に形成されたコイル層
と、このコイル層上に形成された上部コイル絶縁層と、
この上部コイル絶縁層上に設けられ一端部が前記ギャッ
プ層を介して前記下部磁気コア層と対向して磁気ギャッ
プを形成し他端部が前記下部磁気コア層と接する上部磁
気コア層とを備えてなり、前記磁気抵抗効果素子が前記
上部磁気コア層の一端部と対向して配置され、前記下地
絶縁層には前記磁気抵抗効果素子よりも前記上部磁気コ
ア層の他端部側の位置において第１の凹部が形成されて
いるとともに、前記下部コイル絶縁層には前記第１の凹
部の形状が反映された第２の凹部が設けられ、この第２
の凹部内に前記コイル層が配設されているので、前記磁
気ギャップと前記磁気抵抗効果素子との間隔を変えるこ
となく、前記第２の凹部から前記コイル層が突出するの
を抑えることができるので、前記上部磁気コア層の一端
部の幅、すなわちトラック幅を狭トラック化に対応して
精度良く形成することができるとともに、前記磁気ギャ
ップによって磁気記録媒体に書き込まれた情報を前記磁
気抵抗効果素子によって読み出すことができなくなると
いう不具合を解消することができる。

【００３７】また、前記コイル層の上面が、前記上部磁
気コア層の一端部に対向する前記下部磁気コア層の対向
面と同じ高さにあるか、若しくは前記対向面よりも下方
に位置しているので、前記コイル層と前記上部磁気コア
層との絶縁を充分に確保しつつ、前記トラック幅を狭ト
ラック化に対応して一層精度良く形成することができ
る。

【００３８】また、前記磁気抵抗効果素子の一端部は磁
気記録媒体と対向する媒体対向面に露出されており、前
記下部磁気コア層は、前記磁気抵抗効果素子の一端部と
対向する前記磁気記録媒体の対向部分以外の領域からの
磁界を前記磁気抵抗効果素子から遮断する磁気シールド
機能を果たすので、前記磁気記録媒体に対する情報の読
み出し特性を良好なものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図。

【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドの媒体対向面側から見
た要部正面図。

【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、非磁性基板上に下地絶縁層を形成し
た状態を示す断面図。

【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下地絶縁層に第１の凹部を形成した
様態を示す断面図。

【図５】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下地絶縁層上に、磁気シールド層、
非磁性絶縁層、下部磁気コア層、ギャップ層及び下部コ
イル絶縁層を積層形成した状態を示す断面図。

【図６】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下部コイル絶縁層上にコイル層及び
上部コイル絶縁層を形成した状態を示す断面図。

【図７】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、上部コイル絶縁層上にめっき下地層
及びレジスト層を形成した状態を示す断面図。

【図８】従来の薄膜磁気ヘッドの断面図。

【図９】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明するた
めの図であって、非磁性基板上に、下地絶縁層、磁気シ
ールド層、非磁性絶縁層、下部磁気コア層及び下部磁極
層を形成した状態を示す断面図。

【図１０】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下部磁気コア層上に下部コイル絶縁
層を形成した状態を示す断面図。

【図１１】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下部コイル絶縁層を研磨した状態を
示す断面図。

【図１２】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下部コイル絶縁層に凹部を形成した
状態を示す断面図。

【図１３】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、下部コイル絶縁層及び下部磁極層上
にギャップ層を形成し、その上にコイル層及び上部コイ
ル絶縁層を形成した状態を示す断面図。

【図１４】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する
ための図であって、ギャップ層上及び上部コイル絶縁層
上にめっき下地層及びレジスト層を形成した状態を示す
断面図。

【符号の説明】

１ 薄膜磁気ヘッド ２ 非磁性基板 ３ 下地絶縁層 ３ａ 第１の凹部 ４ 磁気シールド層 ５ 非磁性絶縁層 ６ 下部磁気コア層 ６ａ 対向面 ７ ギャップ層 ８ 下部コイル絶縁層 ８ａ 第２の凹部 ８ｂ 傾斜面 ９ コイル層 ９ａ 上面 １０ 上部コイル絶縁層 １０ａ 傾斜面 １１ 上部磁気コア層 １１ａ 一端部 １１ｂ 他端部 １２ 磁気抵抗効果素子 １３ 媒体対向面 １４ めっき下地層 １５ レジスト層 Ｇ 磁気ギャップ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性基板と、この非磁性基板上に形成
   された下地絶縁層と、この下地絶縁層上に形成された磁
   気シールド層と、この磁気シールド層上に形成され磁気
   抵抗効果素子が埋設された非磁性絶縁層と、この非磁性
   絶縁層上に形成された下部磁気コア層と、この下部磁気
   コア層上に形成されたギャップ層と、このギャップ層上
   に形成された下部コイル絶縁層と、この下部コイル絶縁
   層上に形成されたコイル層と、このコイル層上に形成さ
   れた上部コイル絶縁層と、この上部コイル絶縁層上に設
   けられ一端部が前記ギャップ層を介して前記下部磁気コ
   ア層と対向して磁気ギャップを形成し他端部が前記下部
   磁気コア層と接する上部磁気コア層とを備えてなり、前
   記磁気抵抗効果素子が前記上部磁気コア層の一端部と対
   向して配置され、前記下地絶縁層には前記磁気抵抗効果
   素子よりも前記上部磁気コア層の他端部側の位置におい
   て第１の凹部が形成されているとともに、前記下部コイ
   ル絶縁層には前記第１の凹部の形状が反映された第２の
   凹部が設けられ、この第２の凹部内に前記コイル層が配
   設されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 前記コイル層の上面が、前記上部磁気コ
   ア層の一端部に対向する前記下部磁気コア層の対向面と
   同じ高さにあるか、若しくは前記対向面よりも下方に位
   置していることを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気
   ヘッド。
3. 【請求項３】 前記磁気抵抗効果素子の一端部は磁気記
   録媒体と対向する媒体対向面に露出されており、前記下
   部磁気コア層は、前記磁気抵抗効果素子の一端部と対向
   する前記磁気記録媒体の対向部分以外の領域からの磁界
   を前記磁気抵抗効果素子から遮断する磁気シールド機能
   を果たすことを特徴とする請求項２に記載の薄膜磁気ヘ
   ッド。