JP2002032910A - 記録媒体の製造方法と製造装置 - Google Patents

記録媒体の製造方法と製造装置

Info

Publication number
JP2002032910A
JP2002032910A JP2000216121A JP2000216121A JP2002032910A JP 2002032910 A JP2002032910 A JP 2002032910A JP 2000216121 A JP2000216121 A JP 2000216121A JP 2000216121 A JP2000216121 A JP 2000216121A JP 2002032910 A JP2002032910 A JP 2002032910A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
medium
recording medium
manufacturing
surface smoothing
smoothing process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000216121A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4135301B2 (ja
Inventor
Koichiro Kijima
公一朗 木島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2000216121A priority Critical patent/JP4135301B2/ja
Priority to TW090117093A priority patent/TW501111B/zh
Priority to US09/905,443 priority patent/US6592435B2/en
Publication of JP2002032910A publication Critical patent/JP2002032910A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4135301B2 publication Critical patent/JP4135301B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/04Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces
    • B24B21/06Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces involving members with limited contact area pressing the belt against the work, e.g. shoes sweeping across the whole area to be ground
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録媒体製造の研磨加工において、表面層に
対するスクラッチ等の欠陥発生の問題を改善し、歩留り
の向上、量産化を阻害はかる。 【解決手段】 媒体40の表面の被表面平滑化処理面3
に表面平滑化処理を施して記録媒体を得る記録媒体の製
造方法にあって、媒体40の被表面平滑化処理面3に対
して研磨加工テープ41を、媒体の回転に対するラジア
ル方向とタンジェンシャル方向の双方に関して1mm以
下、更に好ましくは0.5mm以下の局部的加圧によっ
て行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、記録媒体、例えば
磁気記録記録媒体、光記録媒等の各種記録媒体の製造方
法と製造装置に関わる。
【0002】
【従来の技術】例えば光記録媒体における記録密度は、
一般に、照射されるレーザスポット径に依存し、レーザ
スポット径が小さいほど記録密度を高めることが可能と
なる。レーザスポット径はλ/NA(λ:レーザ光の波
長、NA:対物レンズの開口数)に比例する。したがっ
て、光記録媒体の記録密度を高めるにはレーザ光を短波
長化し、NAを高くすることが要求される。
【0003】高NA化を実現する方法として、近年、テ
ラスター社から光ディスクと光学レンズとの距離が20
0nm以下であるニアフィールド光ディスクが提唱され
ている。また、Quinta社からはスライダー上に光
学レンズが搭載され、光ディスクとスライダーとの距離
が100nm以下となる光ハードディスク等が提唱され
ている。このように、光学系と記録媒体との間の間隔が
狭小化されるに伴い、その光記録媒体の表面が高度な平
滑面とされることが要求される。また、光学系の高NA
化により、トラッキング方向に関しても、より狭いピッ
チあるいはトラック幅が要求されて来ている。現状の光
ディスクの製造方法においては、光ディスクの記録ピッ
トあるいはトラッキング用のガイド溝等を構成する表面
の微細凹凸は、基板の成型と共に射出成型によって形成
することが一般に行われているが、この場合において
も、表面の平滑化処理がなされる。
【0004】また、従来のハードディスク装置に組み込
まれている磁気記録媒体において、その表面の仕上げ
は、図5にその概略斜視図を示すように、その媒体40
を、その表面平滑化処理がなされる表面(以下被表面平
滑化処理面という)と直交する軸心に関して例えば矢印
aに示す方向に高速回転させる。一方、研磨加工テープ
41を、その研磨材面を媒体40の被表面平滑化処理面
に近接して、媒体40の回転方向にそって矢印bに示す
ように、媒体40の回転線速度より充分小さい線速度を
もって移行する。
【0005】そして、この研磨加工テープ41上から、
ラジアル方向に、軸方向を配置した加圧ローラ42を媒
体40の被表面平滑化処理面に向かって加圧する。この
加圧ローラ42は、研磨加工テープ41の移行に伴って
回転するものの、その回転軸は移動することがないよう
になされている。この場合、研磨加工テープ41による
媒体40に対する加圧領域43は、加圧ローラ40の軸
方向に沿う直線的領域となる。この直線的加圧領域43
は、媒体40の表面平滑化処理を必要とするラジアルの
全域に渡るようになされるものである。このような、方
法によって表面平滑化処理、すなわち表面の凹凸除去が
なされた記録媒体は、表面のいわゆるグライドハイトは
100nm以下、例えば30nm程度にも平滑化するこ
とができる。
【0006】しかしながら、このような方法による場
合、図6に研磨加工テープ41の、媒体40に対する押
圧状態を示すように、研磨加工テープ41側に突起44
が存在したり、固い異物が巻き込まれたりした場合、こ
の突起44や異物によって、被表面平滑化処理面3に、
逆に引っ掻き傷すなわちスクラッチ45が発生する。本
発明者は、このスクラッチ45の発生について、研究考
察を行った結果、研磨加工テープ41の加圧状態が大き
く影響していることを究明した。
【0007】すなわち、上述したように、加圧ローラ4
2によって直線的加圧領域43が、形成された場合、こ
れによる加圧領域43は、ラジアル方向に、広範に渡っ
て形成されており、図6に矢印cをもって示すように、
その全域でほぼ一様な押圧力が与えられることから、こ
の押圧力は、被表面平滑化処理面3に向かって突出する
突起44あるいは巻き込まれた異物の被表面平滑化処理
面3に衝き当たる先端に集中することになる。これによ
って被表面平滑化処理面3にスクラッチが発生し易くな
ることを究明した。
【0008】本発明は、この究明に基いて、このような
スクラッチの発生を効果的に回避することができるよう
にした記録媒体の製造方法と製造装置を提供する。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明による記録媒体の
製造方法は、この記録媒体を構成する媒体表面に表面平
滑化処理を施して記録媒体を得る記録媒体の製造方法に
あって、媒体を、その表面平滑化処理が施される面、す
なわち被表面平滑化処理面に対し直交する軸を中心に回
転させ、その被表面平滑化処理面に研磨加工テープを部
分的微小領域における加圧によって摺接させて表面平滑
化処理を行う。そして、特に本発明においては、その部
分的加圧領域を、媒体の回転に対するラジアル方向とタ
ンジェンシャル方向の双方に関して1mm以下、更に好
ましくは0.5mm以下に選定するものである。
【0010】また、本発明による記録媒体の製造装置
は、媒体表面に表面平滑化処理を施して記録媒体を得る
記録媒体の製造装置にあって、その媒体を、その被表面
平滑化処理面に直交する軸を中心に回転させる回転手段
と、研磨加工テープと、この研磨加工テープを、媒体の
被表面平滑化処理面に部分的に加圧させる加圧手段とを
有する構成とする。そして、特にその加圧手段を、これ
による部分的加圧領域が、媒体の回転に対するラジアル
方向とタンジェンシャル方向の双方に関して1mm以
下、更に好ましくは0.5mm以下となる構成とするも
のである。
【0011】上述したように、研磨加工テープの、媒体
表面に対する加圧領域を特定したことにより、スクラッ
チの発生を激減することができた。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明によって得る記録媒体は、
例えばハードディスク装置に組み込まれる磁気記録記録
媒体、あるいは光記録媒体すなわち例えば光照射により
情報の記録および再生の少なくとも一方を行う光学系と
の距離が200nm以下のニアフィールド記録、再生が
なされる光記録媒体等に適用することができる。例えば
少なくとも記録層を有する光記録媒体、例えば相変化型
光記録媒体、磁気光学効果を利用する光磁気記録媒体、
色素記録層を有する色素記録媒体等、各種記録媒体の製
造に適用することができる。また、本発明によって得る
記録媒体は、ディスクのみならず、カード、シート等種
々の形態をとる記録媒体ことができる。
【0013】図1は、目的とする記録媒体を構成する媒
体40の概略断面図で、この記録媒体40は、基板例え
ばポリカーボネート(PC)、あるいはポリエーテルサ
ルフォン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)樹
脂等より成る樹脂基板、あるいはガラス基板等による基
板1上に、記録層例えば磁気記録層、光記録層、表面保
護層等の各種材料層2が形成され、その表面を、被表面
平滑化処理面3とするものであり、この被表面平滑化処
理面3の平滑化がなされて、目的とする記録媒体が構成
されるものである。
【0014】本発明による光記録媒体の製造装置一例を
用いて、本発明製造方法によって例えば図1で示した媒
体40の被表面平滑化処理面3に対して表面平滑化処理
を行って目的とする記録媒体を得る場合の一実施形態の
一例を説明する。図2は、これに用いる本発明装置の一
例の概略斜視図を示す。本発明装置においては、媒体4
0を、その被表面平滑化処理面3に直交する軸を中心に
回転させる回転手段50と、研磨加工テープ41と、こ
の研磨加工テープ41を、媒体40の被表面平滑化処理
面3に部分的に加圧させる加圧手段51とを有して成
る。そして、特にその加圧手段51を、これによる部分
的加圧領域53が、媒体30の回転に対するラジアル方
向とタンジェンシャル方向の双方に関して1mm以下、
更に好ましくは0.5mm以下となるようにする。
【0015】回転手段50は、図示しないが駆動モータ
によって回転駆動される回転ステージ50を有して成
り、媒体40を、例えば矢印aで示す方向に回転させ
る。加圧手段51は、気体例えばエアの吹きつけを行う
例えばエアノズルより構成される。このノズルは、例え
ば内径2mmのノズルより成り、媒体40の被表面平滑
化処理面3との距離が400μmに設置され、これによ
って、研磨加工テープ41の被表面平滑化処理面3に対
する加圧領域53の大きさを、上述したラジアル方向と
タンジェンシャル方向の双方に関して1mm以下とする
ことができる。
【0016】研磨加工テープ41は、例えばアルミナA
2 3 あるいはグリーンカーバイトを主成分とする♯
5000〜♯15000のテープ状研磨シートによる。
そして、この研磨加工テープ41を、媒体40の回転の
タンジェンシャル方向に、媒体40の回転と同じ向き
に、矢印bに示すように、移行させる。このとき、媒体
40は高速回転させ、その線速度が、研磨加工テープ4
1の移行速度より充分早くなるようにする。
【0017】そして、上述したように、加圧手段51、
すなわちこの例ではエアノズルからエアを研磨加工テー
プ41上より噴出することによって、研磨加工テープ4
1を、媒体40の被表面平滑化処理面3に向かって押圧
する。この場合、加圧手段51は、図2中矢印dをもっ
て示すように、ラジアル方向に往復移動させる。このよ
うにすると、被表面平滑化処理面3と研磨加工テープ4
1とが、その加圧領域53において摺接して被表面平滑
化処理面3の研磨がなされる。
【0018】この研磨によるスクラッチ等の欠陥の発生
は効果的に抑制され、被表面平滑化処理面3の研磨、す
なわちこの被表面平滑化処理面3の平滑化が良好になさ
れる。
【0019】このようなスクラッチ等の欠陥の発生を効
果的に回避できた理由は、図3に研磨部分の概略断面図
を示すように、本発明による場合、加圧領域3を小に、
特にラジアルおよびタンジェンシャル方向に関して、そ
れぞれ1mm以下、すなわち1mm2 以下としたことに
よって、この領域3全体の加圧力は、この小領域におい
て研磨がなされる程度の小圧力となることから、仮にこ
の領域3内において、研磨加工テープ41の研磨面に突
起44が存在していても、この突起44には、その極く
近傍に与えられる加圧力のみであるので、この突起44
の先端の被表面平滑化処理面3との当接圧力は、小さく
なる。したがって、突起ないしは異物に対する押圧力の
集中を小さく抑えることができてスクラッチの発生が、
回避もしくは減少する。
【0020】尚、上述した例では、微小な加圧領域53
を形成する加圧手段51を、エアノズルによって構成し
た場合であるが、図4に示すように、微小ローラによる
加圧手段とすることもできる。この微小ローラは、被表
面平滑化処理面3の回転中心軸と直交し、かつ相互に直
交する2軸以上に関して回転する構成とする。このロー
ラは、例えばボールポイント構造、すなわち微小ボール
51Bが、筒状先端の絞り部に配置されて2軸以上のい
わば無限軸に関して回転自在に保持された構成とするこ
ともできる。
【0021】また、加圧手段としては、上述した例に限
らず例えばプラテン状とすることもできるなど種々の構
成とすことができる。また、微小加圧領域53は、単数
形成する場合に限られるものではなく、例えば多数個形
成されるようにするもの、全数が同一ラジアル線に存在
することがないように、全てについてあるいは一部が、
タンジェンシャル方向に齟齬して配列されるようにする
ものの、例えばこれら複数の微小加圧領域によって、結
果的に被表面平滑化処理面3の回転によって、そのラジ
アル方向の全幅に微小加圧領域が配列されて、加圧手段
のラジアル方向移動を回避、もしくは小とする構成とす
ることができる。したがって、この構成とするときは作
業時間の向上を図ることができる。
【0022】また、媒体40は、高速回転されるもので
あるが、その外周と内周とでは媒体40の大きさが大き
くなるにつれ線速度の大きさが変化する。そこで、例え
ば上述したエアノズルにおいて、その供給する気体の圧
力、供給量等を変えて、その加圧力を、線速度に応じて
すなわち線速度が大きくなる外周方向の位置に対して加
圧力を大きくするように調整する構成とすることによっ
て、各部一様の加圧力を与えるようにすることができ
る。
【0023】上述したように、本発明によれば、各種記
録媒体、例えば光記録媒体、磁気記録媒体、ハードディ
スク等各種のスクラッチ等の欠陥の発生が効果的に改善
された記録媒体を構成することができる。
【0024】因みに、本発明装置においては、より具体
的には、被表面平滑化処理面として窒化シリコン材質よ
り成る媒体に対して、加工シートとして♯10000の
グリーンカーバイドを用いた場合において、加圧領域の
大きさをラジアル方向、タンジェンシャル方向の双方に
関して1mm以下とすることにより、5枚の試料(媒
体)に対してスクラッチを発生させることなく、加工処
理を行うことができた。尚、従来方法においては、5枚
の試料、すなわち加工枚数の場合において、1〜2枚程
度の媒体にスクラッチがみられた。また、更には表面平
滑化処理面として酸化シリコン材質より成る媒体に対し
て、加工シートとして♯10000のグリーンカーバイ
ドを用いた場合において、加圧領域の大きさをラジアル
方向、タンジェンシャル方向の双方に関して0.5mm
以下とする本発明においては、同様に、5枚の媒体に対
してスクラッチを発生させることなく、加工処理を行う
ことができた。これに対して従来の方法においては、こ
のように加工表面材質が比較的柔らかい場合において
は、5枚の加工枚数で、殆ど全部においてスクラッチが
発生した。
【0025】
【発明の効果】上述したように、本発明方法によれば、
各種記録媒体において、スクラッチ等の欠陥の発生が効
果的に改善された記録媒体を構成することができ、信頼
性の高い記録媒体を得ることができる。
【0026】また、本発明装置によれば、研磨加工テー
プを媒体の被表面平滑化処理面に特定された小面積、す
なわち1mm以下、好ましくは0.5mm以下の加圧領
域が得られる加圧手段を具備する構成とすることによっ
てスクラッチの発生を改善でき、歩留りの向上、量産性
の向上を図ることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用する記録媒体の一例の概略断面図
である。
【図2】本発明装置の一例の概略斜視図である。
【図3】本発明の説明に供する研磨加工時の概略断面図
である。
【図4】本発明装置の他の一例の概略斜視図である。
【図5】本発明装置の他の一例の概略斜視図である。
【図6】従来方法の説明に供する研磨加工時の概略断面
図である。
【符号の説明】
1・・・基板、2・・・材料層、3・・・被表面平滑化
処理面、40・・・媒体、41・・・研磨加工テープ、
42・・・加圧ローラ、43,53・・・加圧領域、4
4・・・突起、45・・・スクラッチ、50・・・回転
手段、51・・・加圧手段

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 媒体表面に表面平滑化処理を施して記録
    媒体を得る記録媒体の製造方法にあって、 上記媒体を、その表面平滑化処理が施される面に対し直
    交する軸を中心に回転させ、 上記媒体の表面平滑化処理が施される面に研磨加工テー
    プを部分的加圧によって摺接させて表面平滑化処理を行
    い、 上記部分的加圧領域を、上記媒体の回転に対するラジア
    ル方向とタンジェンシャル方向の双方に関して1mm以
    下に選定したことを特徴とする記録媒体の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記部分的加圧領域を、上記媒体の回
    転に対するラジアル方向とタンジェンシャル方向の双方
    に関して0.5mm以下に選定したことを特徴とする請
    求項1に記載の記録媒体の製造方法。
  3. 【請求項3】 上記媒体の表面平滑化処理が施される面
    に研磨加工テープの部分的加圧を、移動させながら上記
    表面平滑化処理を行うことを特徴とする請求項1に記載
    の記録媒体の製造方法。
  4. 【請求項4】 上記部分的加圧を、気体の吹きつけによ
    って行うことを特徴とする請求項1に記載の記録媒体の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 媒体表面に表面平滑化処理を施して記録
    媒体を得る記録媒体の製造装置にあって、 上記媒体を、その表面平滑化処理が施される面に直交す
    る軸を中心に回転させる回転手段と、 研磨加工テープと、 該研磨加工テープを、上記媒体の表面平滑化処理が施さ
    れる面に部分的に加圧させる加圧手段とを有し、 該加圧手段による部分的加圧領域を、上記媒体の回転に
    対するラジアル方向とタンジェンシャル方向の双方に関
    して1mm以下に選定することを特徴とする記録媒体の
    製造装置。
  6. 【請求項6】 上記加圧手段による部分的加圧領域を、
    上記媒体の回転に対するラジアル方向とタンジェンシャ
    ル方向の双方に関して0.5mm以下に選定することを
    特徴とする請求項5に記載の記録媒体の製造装置。
  7. 【請求項7】 上記加圧手段が、気体噴出ノズルより成
    ることを特徴とする請求項5に記載の記録媒体の製造装
    置。
  8. 【請求項8】 上記加圧手段が、ローラによることを特
    徴とする請求項5に記載の記録媒体の製造装置。
  9. 【請求項9】 上記加圧手段が、上記媒体の表面平滑化
    処理が施される面に沿い、互いに直交する2軸以上の回
    りに回転するローラより成ることを特徴とする請求項5
    に記載の記録媒体の製造装置。
  10. 【請求項10】 上記加圧手段が、上記媒体の表面平滑
    化処理が施される面の位置に応じて調整するようになさ
    れたことを特徴とする請求項5に記載の記録媒体の製造
    装置。
JP2000216121A 2000-07-17 2000-07-17 記録媒体の製造方法と製造装置 Expired - Fee Related JP4135301B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000216121A JP4135301B2 (ja) 2000-07-17 2000-07-17 記録媒体の製造方法と製造装置
TW090117093A TW501111B (en) 2000-07-17 2001-07-12 Method of and apparatus for manufacturing recording medium
US09/905,443 US6592435B2 (en) 2000-07-17 2001-07-13 Method of and apparatus for manufacturing recording medium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000216121A JP4135301B2 (ja) 2000-07-17 2000-07-17 記録媒体の製造方法と製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002032910A true JP2002032910A (ja) 2002-01-31
JP4135301B2 JP4135301B2 (ja) 2008-08-20

Family

ID=18711431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000216121A Expired - Fee Related JP4135301B2 (ja) 2000-07-17 2000-07-17 記録媒体の製造方法と製造装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6592435B2 (ja)
JP (1) JP4135301B2 (ja)
TW (1) TW501111B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103831693A (zh) * 2014-03-17 2014-06-04 成都浪度家私有限公司 便于调整磨削量的木料平整机砂纸带施压装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10234943B4 (de) * 2002-07-31 2004-08-26 Infineon Technologies Ag Bearbeitungsvorrichtung für Wafer und Verfahren zu ihrer Bearbeitung
US7682653B1 (en) * 2004-06-17 2010-03-23 Seagate Technology Llc Magnetic disk with uniform lubricant thickness distribution
JP2006127606A (ja) * 2004-10-27 2006-05-18 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ディスクの製造方法
US8079120B2 (en) * 2006-12-30 2011-12-20 General Electric Company Method for determining initial burnishing parameters
JP5393039B2 (ja) * 2008-03-06 2014-01-22 株式会社荏原製作所 研磨装置
US8192249B2 (en) * 2009-03-12 2012-06-05 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Systems and methods for polishing a magnetic disk
US8808459B1 (en) 2010-09-01 2014-08-19 WD Media, LLC Method for cleaning post-sputter disks using tape and diamond slurry
JP2014205233A (ja) * 2013-03-19 2014-10-30 パナソニック株式会社 部品の加工方法及び加工装置
US9296082B1 (en) 2013-06-11 2016-03-29 WD Media, LLC Disk buffing apparatus with abrasive tape loading pad having a vibration absorbing layer
CN205325427U (zh) * 2016-02-02 2016-06-22 北京京东方显示技术有限公司 一种基板研磨装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4347689A (en) * 1980-10-20 1982-09-07 Verbatim Corporation Method for burnishing
DE3103874A1 (de) * 1981-02-05 1982-09-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten der oberflaeche magnetischer aufzeichnungstraeger
JPS61136764A (ja) * 1984-12-04 1986-06-24 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置
JPS62277259A (ja) * 1986-05-26 1987-12-02 Hitachi Ltd 磁気デイスク表面加工残渣物除去方法
US4845816A (en) * 1986-07-18 1989-07-11 Xebec Corporation Burnishing head for memory disk drive
JPH06155271A (ja) * 1992-11-16 1994-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気ディスクのバーニッシュ方法および装置
JPH10244452A (ja) * 1997-02-28 1998-09-14 Hitachi Ltd 糸状支持体研磨テープ及び糸状支持体研磨テープを用いた磁気記録媒体の研磨方法
US6283838B1 (en) * 1999-10-19 2001-09-04 Komag Incorporated Burnishing tape handling apparatus and method

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103831693A (zh) * 2014-03-17 2014-06-04 成都浪度家私有限公司 便于调整磨削量的木料平整机砂纸带施压装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4135301B2 (ja) 2008-08-20
TW501111B (en) 2002-09-01
US20020045411A1 (en) 2002-04-18
US6592435B2 (en) 2003-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6521862B1 (en) Apparatus and method for improving chamfer quality of disk edge surfaces with laser treatment
US6971116B2 (en) Stamper for producing optical recording medium, optical recording medium, and methods of producing the same
US8408970B2 (en) Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk, method of manufacturing magnetic disk, and polishing apparatus of glass substrate for magnetic disk
US6073337A (en) Compressive stress treatment method for controlling curvature of a hydrodynamic bearing slider
JP4135301B2 (ja) 記録媒体の製造方法と製造装置
JP2002150546A (ja) 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び該製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板、並びに情報記録媒体
JPH0223583A (ja) 損傷したディジタル記録円盤を修復する方法及び装置
JP2506123B2 (ja) 光ディスク
US20070202260A1 (en) Method of manufacturing an information recording medium
US6960117B1 (en) Method to eliminate defects on the periphery of a slider due to conventional machining processes
JP2007317310A (ja) 情報媒体
JP2008105171A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板研磨装置および磁気ディスクの製造方法
JPH03295017A (ja) 磁気ヘッドスライダーの製造方法
JP2678416B2 (ja) 磁気記録媒体基板の製造方法と装置
JP5070091B2 (ja) 貼り合わせ磁気記録媒体及、ドライブおよびその製造方法
JPS59110546A (ja) 研磨ヘツド
JP2000293842A (ja) 磁気記録媒体、ディスク基板及びディスク基板製造用原盤
JPH06150402A (ja) 光ディスクの製造方法
JPS60219637A (ja) 磁気デイスクの表面平滑化方法
JPH06223524A (ja) 浮上型磁気ヘッド装置の製造方法
JP2714316B2 (ja) 磁気ディスク媒体の製造方法及び装置
JP2661361B2 (ja) 光ディスク用スタンパ研磨装置
JPH03130944A (ja) 光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方法
JP2009015915A (ja) 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法
JP2002032934A (ja) 光記録媒体とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080424

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080513

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080526

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees