JP2002031899A - レジスト洗浄剤組成物 - Google Patents
レジスト洗浄剤組成物Info
- Publication number
- JP2002031899A JP2002031899A JP2000214341A JP2000214341A JP2002031899A JP 2002031899 A JP2002031899 A JP 2002031899A JP 2000214341 A JP2000214341 A JP 2000214341A JP 2000214341 A JP2000214341 A JP 2000214341A JP 2002031899 A JP2002031899 A JP 2002031899A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- hydroxyisobutyrate
- cleaning composition
- bromide
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 人体に対する毒性や安全性に問題がなく、環
境にも害がなく、しかもレジストに対して高い溶解力を
洗浄剤を提供する。 【解決手段】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化
アルキル類とからなるレジスト洗浄剤組成物。
境にも害がなく、しかもレジストに対して高い溶解力を
洗浄剤を提供する。 【解決手段】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化
アルキル類とからなるレジスト洗浄剤組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレジストを除去する
ための洗浄剤組成物に関するものであり、更に詳しくは
金属、プラスチックス、硝子、セラミックス、精密機
械、塗装機器、電機・電子部品、光学部品などの製造時
に用いられるレジストの除去・洗浄に適したレジスト洗
浄剤組成物に関する。
ための洗浄剤組成物に関するものであり、更に詳しくは
金属、プラスチックス、硝子、セラミックス、精密機
械、塗装機器、電機・電子部品、光学部品などの製造時
に用いられるレジストの除去・洗浄に適したレジスト洗
浄剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】レジストを使用した製品、機器類、工具
類、容器類等は使用後、各種の有機溶剤にて洗浄され保
存される。従来この洗浄に用いるレジスト洗浄剤組成物
としてアルコール類、ケトン類、エステル類、そして塩
素系、フッ素系の有機溶剤が多量に使用されてきた。
類、容器類等は使用後、各種の有機溶剤にて洗浄され保
存される。従来この洗浄に用いるレジスト洗浄剤組成物
としてアルコール類、ケトン類、エステル類、そして塩
素系、フッ素系の有機溶剤が多量に使用されてきた。
【0003】特開昭60−149675号公報には塩化
メチレン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤が、特開平
1−132694号公報では1,2−ジフルオロエタン
が、特開平2−178396号公報には1,1−ジクロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタンとジメトキシメタ
ンとの混合物が、そして特開平3−167298号公報
にはヘキサフルオロベンゼンを主成分とするものなど多
くの塩素系及びフロン系溶剤がレジスト洗浄剤として紹
介されている。これら塩素系及びフロン系溶剤は、発ガ
ン性の疑い、及びオゾン層の破壊等の懸念が払拭された
わけではなく、環境及び地球温暖化問題と安全性の観点
から使用規制される方向に進んでいる。この問題点を克
服するために、グリコールエーテル類或いはグリコール
エーテル類と水との混合物(特開平4−4299号公
報)、グリコールエーテル類と炭化水素の混合物(特開
平5−239495号公報)が紹介されている。しか
し、これらグリコールエーテル類を含むレジスト洗浄剤
組成物には沸点が高く蒸発速度が遅い等の問題が残され
ている。同様の観点から、特開平8−165495号公
報にはN−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド及びプロピレングリコールモノア
ルキルエーテル、ブチレングリコールモノアルキルエー
テル、ペンタングリコールモノアルキルエーテルから成
るポリイミド洗浄剤を提案している。しかしこれらは、
比較的洗浄溶液として粘度が高く、液切れが悪く、且つ
乾燥性に問題がある。
メチレン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤が、特開平
1−132694号公報では1,2−ジフルオロエタン
が、特開平2−178396号公報には1,1−ジクロ
ロ−2,2,2−トリフルオロエタンとジメトキシメタ
ンとの混合物が、そして特開平3−167298号公報
にはヘキサフルオロベンゼンを主成分とするものなど多
くの塩素系及びフロン系溶剤がレジスト洗浄剤として紹
介されている。これら塩素系及びフロン系溶剤は、発ガ
ン性の疑い、及びオゾン層の破壊等の懸念が払拭された
わけではなく、環境及び地球温暖化問題と安全性の観点
から使用規制される方向に進んでいる。この問題点を克
服するために、グリコールエーテル類或いはグリコール
エーテル類と水との混合物(特開平4−4299号公
報)、グリコールエーテル類と炭化水素の混合物(特開
平5−239495号公報)が紹介されている。しか
し、これらグリコールエーテル類を含むレジスト洗浄剤
組成物には沸点が高く蒸発速度が遅い等の問題が残され
ている。同様の観点から、特開平8−165495号公
報にはN−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド及びプロピレングリコールモノア
ルキルエーテル、ブチレングリコールモノアルキルエー
テル、ペンタングリコールモノアルキルエーテルから成
るポリイミド洗浄剤を提案している。しかしこれらは、
比較的洗浄溶液として粘度が高く、液切れが悪く、且つ
乾燥性に問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように当該技術分
野では人体に対する毒性や安全性に問題がなく、環境に
も害がなく、しかもレジストに対して高い溶解力を有す
る洗浄剤の開発が重要な課題になっている。
野では人体に対する毒性や安全性に問題がなく、環境に
も害がなく、しかもレジストに対して高い溶解力を有す
る洗浄剤の開発が重要な課題になっている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来のレ
ジスト洗浄剤が有する欠点を解消し前記の好ましい性質
を有するレジスト洗浄剤組成物を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化ア
ルキル類とからなる組成物が優れた洗浄能力を持つこと
を見いだし、本発明に到達した。即ち、本発明はα−ヒ
ドロキシイソ酪酸エステルと臭化アルキル類とからなる
レジスト洗浄剤組成物に関する。
ジスト洗浄剤が有する欠点を解消し前記の好ましい性質
を有するレジスト洗浄剤組成物を開発すべく鋭意研究を
重ねた結果、α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化ア
ルキル類とからなる組成物が優れた洗浄能力を持つこと
を見いだし、本発明に到達した。即ち、本発明はα−ヒ
ドロキシイソ酪酸エステルと臭化アルキル類とからなる
レジスト洗浄剤組成物に関する。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明で使用されるα−ヒドロキ
シイソ酪酸エステルとしては、α−ヒドロキシイソ酪酸
メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル及びα−ヒドロ
キシイソ酪酸イソプロピルが例示され、このうちの1種
類をあるいは2種類以上を混合物として使用する。
シイソ酪酸エステルとしては、α−ヒドロキシイソ酪酸
メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル及びα−ヒドロ
キシイソ酪酸イソプロピルが例示され、このうちの1種
類をあるいは2種類以上を混合物として使用する。
【0007】本発明で使用する臭素化アルキル類として
は、1,4−ジブロモブタン、1,3−ジブロモプロパ
ン、2,3−ジブロモー1−プロパノール、臭化n−プ
ロピル、臭化ブチル、臭化オクチルが例示され、このう
ちの1種類をあるいは2種類以上を混合物として使用す
る。
は、1,4−ジブロモブタン、1,3−ジブロモプロパ
ン、2,3−ジブロモー1−プロパノール、臭化n−プ
ロピル、臭化ブチル、臭化オクチルが例示され、このう
ちの1種類をあるいは2種類以上を混合物として使用す
る。
【0008】本発明の組成物のα−ヒドロキシイソ酪酸
エステルと臭化アルキル類との重量比は9:1〜4:6
が好ましい。本発明の組成物の粘度は0.5〜2.5m
Pa・ sの範囲であることが好ましい。また本発明の組
成物の揮発性に関しては、酢酸ブチルの蒸発速度を10
0とした場合、本発明の組成物の相対蒸発速度(比揮発
度)は100〜300であることが好ましい。
エステルと臭化アルキル類との重量比は9:1〜4:6
が好ましい。本発明の組成物の粘度は0.5〜2.5m
Pa・ sの範囲であることが好ましい。また本発明の組
成物の揮発性に関しては、酢酸ブチルの蒸発速度を10
0とした場合、本発明の組成物の相対蒸発速度(比揮発
度)は100〜300であることが好ましい。
【0009】本発明の組成物は水を60重量%まで含む
ことができ、また場合によっては界面活性剤や、酸化防
止剤、着色剤及びその他添加剤を併用することができ
る。次に、本発明のレジスト洗浄剤組成物の洗浄効果に
ついて代表的な実施例をもって示すが、本発明はこれら
だけに限定されるものではい。
ことができ、また場合によっては界面活性剤や、酸化防
止剤、着色剤及びその他添加剤を併用することができ
る。次に、本発明のレジスト洗浄剤組成物の洗浄効果に
ついて代表的な実施例をもって示すが、本発明はこれら
だけに限定されるものではい。
【0010】
【実施例】実施例1〜8及び比較例1〜8洗浄試験各種
洗浄剤を用いて洗浄試験を行った。洗浄試験には汎用レ
ジストと同様の組成を持つUV硬化型樹脂を用いて行っ
た。具体的にはエポキシアクリレート樹脂〔(大日本イ
ンキ工業製 、ユニディックV−5502)、表中
「E」と表現している〕、およびウレタンアクリレート
樹脂〔(三井化学製、オレスターRA−1458)、表
中「U」と表現している〕を使用した。これら樹脂を酢
酸エチルにて40%NVMになるように溶解させ、試験
用樹脂用液とした。この樹脂用液を鋼板(パルテックス
社製、PB−3118)にバーコーダ(No.20、厚
さ25μm)で塗布し、室温にて1時間風乾して試験片
とした。この試験片を各種洗浄剤溶液に1分から5分間
浸漬し、目視にてその洗浄状態を確認した。結果を表1
から表3にまとめた。
洗浄剤を用いて洗浄試験を行った。洗浄試験には汎用レ
ジストと同様の組成を持つUV硬化型樹脂を用いて行っ
た。具体的にはエポキシアクリレート樹脂〔(大日本イ
ンキ工業製 、ユニディックV−5502)、表中
「E」と表現している〕、およびウレタンアクリレート
樹脂〔(三井化学製、オレスターRA−1458)、表
中「U」と表現している〕を使用した。これら樹脂を酢
酸エチルにて40%NVMになるように溶解させ、試験
用樹脂用液とした。この樹脂用液を鋼板(パルテックス
社製、PB−3118)にバーコーダ(No.20、厚
さ25μm)で塗布し、室温にて1時間風乾して試験片
とした。この試験片を各種洗浄剤溶液に1分から5分間
浸漬し、目視にてその洗浄状態を確認した。結果を表1
から表3にまとめた。
【0011】なお、判定は以下の基準に従った。評価判
定; 溶液粘度:25℃でのB型粘度計による測定結果 (○)0.5〜2.5mPa4s (△)0.49mPa4s 以下、2.6〜5.0mPa4s 以上 (×)5.1mPa4s 以上 比揮発度:酢酸ブチルの蒸発速度を100としたときの
相対蒸発速度 (○)100〜300 (△)50〜99、301以上、 (×)49以下
定; 溶液粘度:25℃でのB型粘度計による測定結果 (○)0.5〜2.5mPa4s (△)0.49mPa4s 以下、2.6〜5.0mPa4s 以上 (×)5.1mPa4s 以上 比揮発度:酢酸ブチルの蒸発速度を100としたときの
相対蒸発速度 (○)100〜300 (△)50〜99、301以上、 (×)49以下
【0012】 表1 実施例 1 2 3 4 5 6 7 8 洗浄剤(Wt%) HBM 70 70 60 60 60 60 50 50 臭化プロピル 30 30 40 40 0 0 50 50 臭化イソプロピル 0 0 0 0 40 40 0 0 UV硬化樹脂 E U E U E U E U 洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 洗浄液粘度 2.11 2.11 1.87 1.87 1.8 1.8 1.63 1.63 (mPa・s/25℃) ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 比揮発度 203 203 278 278 280 280 338 338 ○ ○ ○ ○ ○ ○ △ △ 臭気 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 毒性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ 総合判定 ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ ○ ○ E:エポキシアクリレート樹脂(大日本インキ工業、ユニデックV−5502) U:ウレタンアクリレート樹脂(三井化学、オイレスターRA−1458) HBM:α−ヒドロキシイソ酪酸メチル
【0013】 表2 比較例 1 2 3 4 5 6 洗浄剤 PE PE BC BC NMP NMP UV硬化樹脂 E U E U E U 洗浄性 × × ○ ○ ○ ○ 洗浄液粘度 0.88 0.88 3.2 3.2 1.65 1.65 (mPa・s/25℃) ○ ○ △ △ ○ ○ 比揮発度 100 100 9 9 <1 <1 ○ ○ × × × × 臭気 △ △ △ △ △ △ 毒性 ○ ○ × × ○ ○ 総合判定 × × × × × × E:エポキシアクリレート樹脂(大日本インキ工業、ユニデックV−5502) U:ウレタンアクリレート樹脂(三井化学、オイレスターRA−1458) PE:パークロロエチレン BC:ブチルセロソルブ
【0014】 表3 比較例 7 8 9 10 洗浄剤 HBM HBM 乳酸エチル 乳酸エチル UV硬化樹脂 E U E U 洗浄性 ○ ○ ○ ○ 洗浄液粘度 2.82 2.82 2.71 2.71 (mPa・s/25℃) △ △ △ △ 比揮発度 37 37 22 22 × × × × 臭気 ○ ○ △ △ 毒性 ○ ○ ○ ○ 総合判定 × × × × E:エポキシアクリレート樹脂(大日本インキ工業、ユニデックV−5502) U:ウレタンアクリレート樹脂(三井化学、オイレスターRA−1458) HBM:α−ヒドロキシイソ酪酸メチル
【0015】
【発明の効果】本発明のレジスト洗浄剤は人体に対する
毒性や安全性に問題がなく、環境にも害がなく、レジス
ト洗浄剤として好適な粘度と揮発性を有し、しかもレジ
ストに対して高い溶解力を有する。
毒性や安全性に問題がなく、環境にも害がなく、レジス
ト洗浄剤として好適な粘度と揮発性を有し、しかもレジ
ストに対して高い溶解力を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/304 647 H01L 21/30 572B Fターム(参考) 2H096 AA25 AA26 AA27 AA28 LA03 LA16 4H003 DA05 DA09 DA12 DA14 DA15 DA16 ED27 ED28 FA01 FA03 FA30 5F046 MA02
Claims (6)
- 【請求項1】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化
アルキル類とからなることを特徴とするレジスト洗浄剤
組成物。 - 【請求項2】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルがα−
ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エ
チル、α−ヒドロキシイソ酪酸イソプロピル又はα−ヒ
ドロキシイソ酪酸ブチルである請求項1記載のレジスト
洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 臭化アルキル類が1,4−ジブロモブタ
ン、1,3−ジブロモプロパン、2,3−ジブロモ−1
−プロパノール、臭化n−プロピル、臭化ブチル又は臭
化オクチルである請求項1記載のレジスト洗浄剤組成
物。 - 【請求項4】 α−ヒドロキシイソ酪酸エステルと臭化
アルキル類との重量比が9:1〜4:6である請求項1
記載のレジスト洗浄剤組成物。 - 【請求項5】 洗浄剤組成物の粘度が0.5〜2.5m
Pa・ sである請求項1記載のレジスト洗浄剤組成物。 - 【請求項6】 酢酸ブチルの蒸発速度を100とした
時、洗浄剤組成物の相対蒸発速度(比揮発度)が100
〜300である請求項1記載のレジスト洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000214341A JP2002031899A (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | レジスト洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000214341A JP2002031899A (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | レジスト洗浄剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002031899A true JP2002031899A (ja) | 2002-01-31 |
Family
ID=18709933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000214341A Pending JP2002031899A (ja) | 2000-07-14 | 2000-07-14 | レジスト洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002031899A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005227770A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Samsung Electronics Co Ltd | シンナー組成物及びこれを用いたフォトレジストの除去方法 |
-
2000
- 2000-07-14 JP JP2000214341A patent/JP2002031899A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005227770A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Samsung Electronics Co Ltd | シンナー組成物及びこれを用いたフォトレジストの除去方法 |
JP4580249B2 (ja) * | 2004-02-10 | 2010-11-10 | 三星電子株式会社 | シンナー組成物及びこれを用いたフォトレジストの除去方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6200940B1 (en) | Paint stripper compositions | |
JPH07228895A (ja) | 溶剤組成物 | |
JP2022159483A (ja) | 組成物 | |
JP2870577B2 (ja) | 溶剤組成物 | |
JPH051840B2 (ja) | ||
WO1998050517A1 (en) | Environmentally-safe solvent compositions utilizing 1-bromopropane that are stabilized, non-flammable, and have desired solvency characteristics | |
JPH05171077A (ja) | ポリウレタンフォームを溶解させる方法 | |
WO1995028373A1 (fr) | Composition azeotrope | |
TWI331171B (ja) | ||
JP7372553B2 (ja) | 溶剤組成物、溶液、物品を洗浄する方法、及び塗膜を形成する方法 | |
JP2002031899A (ja) | レジスト洗浄剤組成物 | |
JP2869432B2 (ja) | 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法 | |
JP2011084660A (ja) | 洗浄用溶剤組成物 | |
JPH04211500A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JP2008007690A (ja) | 洗浄用溶剤およびこれを用いた洗浄方法ならびに乾燥方法 | |
JP3586512B2 (ja) | インキおよびペースト用洗浄剤組成物 | |
JPH06340895A (ja) | フラックス洗浄剤 | |
JPH11209798A (ja) | 付着水除去用溶剤組成物 | |
CN105316141A (zh) | 一种用于除去压敏胶的碳氢清洗剂及其应用 | |
JP2007092081A (ja) | 塗料用、コーティング用、接着剤用または印刷インキ用樹脂組成物の製造方法 | |
WO1992004436A1 (en) | Halogen-free detergent composition | |
JPH02286795A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
JP4297521B2 (ja) | 付着水除去用溶剤組成物 | |
JP7031412B2 (ja) | 洗浄剤組成物及びそれを用いた洗浄方法 | |
JPH11172290A (ja) | プラスチック用溶剤組成物 |