JP2002031747A - Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it - Google Patents

Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it

Info

Publication number
JP2002031747A
JP2002031747A JP2000216724A JP2000216724A JP2002031747A JP 2002031747 A JP2002031747 A JP 2002031747A JP 2000216724 A JP2000216724 A JP 2000216724A JP 2000216724 A JP2000216724 A JP 2000216724A JP 2002031747 A JP2002031747 A JP 2002031747A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
optical
optical element
waveguide medium
type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000216724A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Onouchi
敏彦 尾内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2000216724A priority Critical patent/JP2002031747A/en
Publication of JP2002031747A publication Critical patent/JP2002031747A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a planar optical element mounted body having improved productivity by enhancing alignment precision between an optical waveguide medium and an optical element and facilitating the fixing operation of the waveguide medium. SOLUTION: On a first substrate 1, guiding means 9, 13 are formed, which is for fixing the waveguide medium 3 in a prescribed state. On the same face of the first substrate 1 as that the guiding means 9, 13 are formed, the planar optical element 4 is mounted. A second substrate 2 is provided with an optical path-changing function part 5 which is for optically coupling the waveguide medium 3 with the planar optical element 4 emitting or receiving light nearly vertically to the element-mounted face, and is adhered to the first substrate 1 at a position enabling the optical coupling.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、面型光素子と光フ
ァイバなどの光導波媒体を低コストで光学的に結合する
ことができる面型光素子実装体、その作製方法、および
それを用いた光配線装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface-type optical element package capable of optically coupling a surface-type optical element and an optical waveguide medium such as an optical fiber at low cost, a method of manufacturing the same, and a method of using the same. To an optical wiring device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、高速光接続のための光モジュール
が開発されているが、光素子と光ファイバなどの光伝送
媒体との結合に関しては、特に低コスト化、高性能化な
どの観点から課題が多い。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical module for high-speed optical connection has been developed. In connection with the coupling of an optical element and an optical transmission medium such as an optical fiber, particularly from the viewpoint of cost reduction and high performance. There are many issues.

【0003】光素子として受光素子では、作製の容易性
や感度などの点で面型の素子が主に使われている。しか
し、光ファイバと該面型素子の主面とを垂直入射形態で
結合させると、増幅回路などが実装された電子回路との
間の伝送路が長くなるため、高速化を阻害する原因にな
る。そこで、光結合部で45度ミラーを設けて、電子回
路基板と光ファイバとを平行に実装する方法が開発され
つつある。
[0003] In the light receiving element, a planar element is mainly used as an optical element in terms of ease of production and sensitivity. However, when the optical fiber and the main surface of the surface-type element are coupled in a vertical incidence mode, the transmission path between the electronic circuit on which the amplifier circuit and the like are mounted becomes longer, which causes a hindrance to high-speed operation. . Therefore, a method is being developed in which an electronic circuit board and an optical fiber are mounted in parallel by providing a 45-degree mirror at the optical coupling portion.

【0004】例えば、特開平6-151903号公報に開示され
ている様に、図9(A)にある如く、光軸を90度変化
させる45度ミラー101Aを光ファイバ101の端面
に形成したり、図10にあるように45度ミラー143
を形成した基板140−2に光ファイバ101を差し込
み、その上に、受光素子102や増幅回路103を平面
上に実装した回路基板120をスタックした構造が開発
されている。これらの例では光結合の効率を上昇させる
ために平板レンズ層131を設けている。また、ファイ
バ101を保持する基板140には、図9(B)にある
ように光ファイバをアレイ状に実装するためのガイド溝
141が設けられている。尚、図9と図10において、
118は接続用リード、142は光ファイバ用ガイド溝
である。
For example, as shown in FIG. 9A, a 45-degree mirror 101A that changes the optical axis by 90 degrees is formed on the end face of the optical fiber 101, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-151903. , A 45 degree mirror 143 as shown in FIG.
A structure has been developed in which the optical fiber 101 is inserted into a substrate 140-2 on which is formed, and a circuit substrate 120 on which a light receiving element 102 and an amplifier circuit 103 are mounted on a plane is stacked. In these examples, the flat lens layer 131 is provided to increase the efficiency of optical coupling. Further, a guide groove 141 for mounting optical fibers in an array is provided on the substrate 140 holding the fibers 101 as shown in FIG. 9B. Note that in FIGS. 9 and 10,
Reference numeral 118 denotes a connection lead, and 142 denotes an optical fiber guide groove.

【0005】一方、発光素子としての半導体レーザは、
一般に基板と平行に光を出射する端面発光レーザが用い
られており、該レーザを用いる限りにおいては上記のよ
うな45度ミラーは必要ない。しかしながら、これとは
出射方向が異なる垂直共振器型面発光レーザは、光伝送
モジュールの低消費電力化、低コスト化の観点で改善で
きる可能性があり、盛んに研究されている。該面発光レ
ーザは、1mA以下の低しきい値で駆動でき、ウエハレベ
ルの検査が可能で、へき開精度を必要としないため低コ
スト化が可能である。しかしながら、面発光レーザと光
ファイバとの結合では上記の面型受光素子と同様の問題
が生じ、高速駆動回路となるべく近距離に素子を実装す
るには、電子回路基板と同じ平面上にあることが望まし
く、そのためには45度ミラーの必要性がある。例え
ば、図11のように、特開平10-223985号公報で開示さ
れている例では、基板側出射の面発光レーザ(980nm
帯)201aを作製した基板201の裏面に、光ファイ
バ202hとこれを保持して45度ミラー202jをも
つ保持体202iが接着される形となっている。この場
合、アライメントマーカ201bを基板201の裏面に
形成することで該保持体202iとの光軸合わせを実現
している。尚、図11において、203fは電極配線、
201cは出射光ビーム、202cは導波光ビーム、2
02bは保持体202i側のアライメントマーカであ
る。
On the other hand, a semiconductor laser as a light emitting element is
Generally, an edge emitting laser that emits light in parallel with the substrate is used, and the 45-degree mirror as described above is not required as long as the laser is used. However, a vertical cavity surface emitting laser having an emission direction different from the above may be improved from the viewpoint of reducing the power consumption and cost of the optical transmission module, and has been actively studied. The surface emitting laser can be driven at a low threshold value of 1 mA or less, can perform inspection at a wafer level, and can be reduced in cost because cleavage accuracy is not required. However, coupling the surface emitting laser and the optical fiber causes the same problem as the above-mentioned surface type light receiving element. To mount the element as close as possible to a high-speed drive circuit, it must be on the same plane as the electronic circuit board. However, there is a need for a 45-degree mirror. For example, as shown in FIG. 11, in the example disclosed in JP-A-10-223985, a surface emitting laser (980 nm
An optical fiber 202h and a holder 202i holding the optical fiber 202h and having a 45-degree mirror 202j are bonded to the back surface of the substrate 201 on which the band 201a is formed. In this case, the alignment of the optical axis with the holder 202i is realized by forming the alignment marker 201b on the back surface of the substrate 201. In FIG. 11, 203f is an electrode wiring,
201c is an outgoing light beam, 202c is a guided light beam, 2
02b is an alignment marker on the holder 202i side.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとしている課題】しかし、上記の従
来方法では、45度ミラーや光ファイバを保持する溝な
どを形成した保持体と光素子の実装基板が別々に作られ
てアライメントを後から行うために、必ずしも作業が容
易でなく、組み立て工数も多いものであった。また、実
装する上で光素子と光ファイバとの間に挿入される基板
などが必要なため、光素子と光ファイバとの結合距離に
関して自由度が少なく、面発光レーザと光ファイバとを
レンズレスで結合する場合などに問題があった。また、
特開平10-223985号公報の例では、980nm帯の面発光
レーザには適用できるが、850nm帯のものには適用で
きないといった問題もあった。
However, in the above-described conventional method, a holder having a 45-degree mirror and a groove for holding an optical fiber and a mounting substrate for an optical element are separately formed, and alignment is performed later. Therefore, the work is not always easy and the number of assembling steps is large. In addition, since a substrate or the like inserted between the optical element and the optical fiber is required for mounting, the degree of freedom regarding the coupling distance between the optical element and the optical fiber is small, and the surface emitting laser and the optical fiber are lensless. There was a problem when combining with, for example. Also,
In the example of Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-223985, there is a problem that it can be applied to a surface emitting laser in the 980 nm band, but cannot be applied to a 850 nm band.

【0007】このような課題に鑑み、本発明の目的は、
光ファイバなどの光導波媒体を固定するガイド手段を形
成した基板の面と同一面上に面型光素子を実装して、光
導波媒体と光素子のアライメント精度を向上させ、光導
波媒体の固定作業も容易にして生産性を向上させた光素
子実装体を提供することにある。さらに、この様な光素
子実装体を量産できる作製方法、この様な低コスト化が
可能な光素子実装体を用いた光配線装置を提供すること
にある。
In view of these problems, an object of the present invention is to
A planar optical element is mounted on the same surface as the surface of the substrate on which the guide means for fixing the optical waveguide medium such as an optical fiber is formed, thereby improving the alignment accuracy between the optical waveguide medium and the optical element, and fixing the optical waveguide medium. It is an object of the present invention to provide an optical element mounting body which facilitates work and improves productivity. It is still another object of the present invention to provide a manufacturing method capable of mass-producing such an optical element mounting body and an optical wiring device using such an optical element mounting body capable of reducing costs.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成する本発明の面型光素子実装体は、光ファイバなどの
光導波媒体を所定の状態で固定する為のガイド溝などの
ガイド手段が形成された第1の基板上の該ガイド手段が
形成された面と同じ面に面型光素子が実装され、該面と
ほぼ垂直に発光または受光を行う該面型光素子と該光導
波媒体との光結合を行うために光路を変換する機能部を
設けた第2の基板が、該光結合を行うことができる位置
で該第1の基板と固定されていることを特徴とする。こ
の構成においては、例えば、光ファイバなどである光導
波媒体を固定するガイド溝などのガイド手段を形成する
際に、面型光素子を実装するための電極パッドやアライ
メントマーカ等をホトリソグラフィの精度で同一基板上
に作製できる。
In order to achieve the above object, the surface type optical element mounting body of the present invention has a guide means such as a guide groove for fixing an optical waveguide medium such as an optical fiber in a predetermined state. A surface-type optical element mounted on the same surface as the surface on which the guide means is formed on the formed first substrate, and emitting or receiving light substantially perpendicular to the surface; and the optical waveguide medium A second substrate provided with a function part for converting an optical path for optical coupling with the first substrate is fixed to the first substrate at a position where the optical coupling can be performed. In this configuration, for example, when forming a guide means such as a guide groove for fixing an optical waveguide medium such as an optical fiber, an electrode pad for mounting a surface-type optical element, an alignment marker, and the like are subjected to photolithographic accuracy. Can be manufactured on the same substrate.

【0009】上記基本構成に基づいて、以下の如き形態
が可能である。前記ガイド手段はガイド溝であり、該ガ
イド溝は前記光導波媒体が突き当てで実装できるように
前記面の一部の領域にのみ形成されていて、該面上の面
型光素子と該ガイド溝内に収められた光導波媒体の端部
との距離を一定に保てる段差部を有し得る。ガイド手段
は次の様な形態でもありうる。すなわち、前記面上に突
出して形成された並行して伸びる一対のガイド壁であ
り、該一対のガイド壁は前記光導波媒体の端面が突き当
てで実装できるように、端部に、互いに内方に折れ曲が
ったL字状の壁部を有し、該面上の面型光素子と該ガイ
ド壁内に収められた光導波媒体の端部との距離を一定に
保てる構造をも持ちうる。
The following forms are possible based on the above basic configuration. The guide means is a guide groove, and the guide groove is formed only in a partial area of the surface so that the optical waveguide medium can be mounted by abutment. It may have a step to keep the distance from the end of the optical waveguide medium housed in the groove constant. The guide means may be in the following forms. That is, there is a pair of parallel guide walls formed so as to protrude on the surface, and the pair of guide walls are inwardly attached to the ends so that the end surfaces of the optical waveguide medium can be mounted by abutment. It has a L-shaped wall portion bent so that the distance between the planar optical element on the surface and the end of the optical waveguide medium accommodated in the guide wall can be kept constant.

【0010】前記光結合を行うことができる位置での前
記第2の基板の前記第1の基板への固定の形態は、互い
に接着される面にアライメントマークとはんだ接着を兼
ねた金属膜を複数設けてあり、互いに対応する金属膜を
合わせてフリップチップ実装で接着される形態でありう
る。
The second substrate may be fixed to the first substrate at a position where the optical coupling can be performed by forming a plurality of metal films serving also as alignment marks and solder bonding on surfaces to be bonded to each other. It is possible to adopt a form in which the metal films corresponding to each other are provided together and bonded by flip-chip mounting.

【0011】前記第2の基板にも前記光導波媒体固定用
のガイド溝などのガイド手段が形成されてもよい。
The second substrate may be provided with guide means such as a guide groove for fixing the optical waveguide medium.

【0012】前記光導波媒体固定用のガイド手段が形成
された第1の基板には、該基板に実装された面型受光素
子のための増幅回路用ICまたは面型発光素子のための
駆動回路用ICが実装され、該ICと面型光素子との電
気配線が該第1の基板上に形成された配線パターンによ
って行われうる。
On the first substrate on which the guide means for fixing the optical waveguide medium is formed, an IC for an amplification circuit for a surface light receiving element or a driving circuit for a surface light emitting element mounted on the first substrate is provided. An IC for mounting may be mounted, and electrical wiring between the IC and the planar optical element may be performed by a wiring pattern formed on the first substrate.

【0013】前記面型光素子は、受光または発光に必要
な活性層、電流注入或いは電圧印加、光の閉じ込めに必
要な機能層のみを第1の基板に実装して、該面型光素子
を保持していた第3の基板を除去或いは薄膜化した薄膜
構造を有しうる。面型光素子を薄膜化した構造にするこ
とにより、面型光素子と光導波媒体の間をレンズレスで
光結合できる様に光導波媒体との距離を短くでき、実装
の容易性、自由度を向上させうる。また、45度ミラー
などを形成した第2の基板との接着高さが低くなり実装
の自由度が増すとともに、第1の基板上に駆動用ICなど
を実装する場合の電気配線の作製が容易になる。
In the surface type optical device, only an active layer necessary for light reception or light emission, and a functional layer necessary for current injection or voltage application and light confinement are mounted on a first substrate. It may have a thin film structure in which the held third substrate is removed or thinned. By making the surface-type optical element thinner, the distance between the surface-type optical element and the optical waveguide medium can be shortened so that the optical coupling between the surface-type optical element and the optical waveguide medium can be performed without a lens. Can be improved. In addition, the bonding height with the second substrate on which a 45-degree mirror or the like is formed is reduced, and the degree of freedom of mounting is increased. Further, it is easy to manufacture electric wiring when a driving IC or the like is mounted on the first substrate. become.

【0014】前記薄膜構造の面型光素子は、化合物半導
体で構成された垂直共振器型面発光レーザであり、活性
層およびブラッグ反射ミラー層が第1の基板にフリップ
チップ実装され、化合物半導体基板が除去された薄膜構
造でもありうる。
The above-mentioned surface-type optical element having a thin film structure is a vertical cavity surface emitting laser composed of a compound semiconductor, wherein an active layer and a Bragg reflection mirror layer are flip-chip mounted on a first substrate. It may be a thin film structure from which is removed.

【0015】前記光結合を行うために光路を変換する機
能部は、第2の基板に形成された45度ミラーでありう
る。これにより、第1の基板の前記面とほぼ垂直に発光
または受光を行う面型光素子と典型的には該面にほぼ平
行に伸びる光導波媒体との光結合を有効且つ容易に行い
うる。面型光素子と光ファイバなどの光導波媒体との光
結合のための光路変換機能部として45度ミラーなどを
形成した第2の基板を用意しておいて、面型光素子を実
装した第1の基板とはアライメントマーカなどを用いて
フリップチップ実装すればよい。
[0015] The functional part for converting the optical path for performing the optical coupling may be a 45-degree mirror formed on the second substrate. This makes it possible to effectively and easily perform optical coupling between a surface-type optical element that emits or receives light substantially perpendicular to the surface of the first substrate and an optical waveguide medium that typically extends substantially parallel to the surface. A second substrate on which a 45-degree mirror or the like is formed as an optical path conversion function unit for optical coupling between the surface optical device and an optical waveguide medium such as an optical fiber is prepared, and a second substrate on which the surface optical device is mounted is prepared. The first substrate may be flip-chip mounted using an alignment marker or the like.

【0016】前記光結合を行うために光路を変換する機
能部は、第2の基板に形成された集光作用を持つ曲面で
もありうる。
The function section for converting the optical path for performing the optical coupling may be a curved surface formed on the second substrate and having a light condensing action.

【0017】以上の様な構成により、組み立てが容易で
アライメント精度が高く光結合効率の高い光実装体を実
現できる。
With the above configuration, an optical package that is easy to assemble, has high alignment accuracy, and has high optical coupling efficiency can be realized.

【0018】更に、上記目的を達成する本発明の面型光
素子実装体を作製する方法は、第1の基体に、前記光導
波媒体固定用のガイド手段および面型光素子を備えて前
記第1の基板の機能を有する領域を複数一括して作製し
てから、該第1の基体を切り出して該第1の基板を複数
作製する工程と、第2の基体に、前記光路を変換する機
能部を備えて前記第2の基板の機能を有する領域を複数
一括して作製してから、該第2の基体を切り出して該第
2の基板を複数作製する工程と、第1の基板と第2の基
板とをアライメントして接着する工程と、少なくとも第
1の基板によって形成された光導波媒体ガイド部に該光
導波媒体を導入して固定する工程とを含むことを特徴と
する。これにより、面型光素子実装体となる基板の加工
等は、大面積のウエハ状態で一括して行い、最後にダイ
シングするので、生産性が向上する。
Further, a method of manufacturing a surface-type optical element mounting body of the present invention that achieves the above object is provided by providing the first base with the guide means for fixing the optical waveguide medium and the surface-type optical element. A step of preparing a plurality of regions having the function of one substrate and then cutting out the first base to form a plurality of the first substrates; and a function of converting the optical path to a second base. Forming a plurality of regions having the function of the second substrate collectively, and then cutting out the second base to form a plurality of the second substrates; and A step of aligning and bonding the two substrates to each other, and a step of introducing and fixing the optical waveguide medium to at least an optical waveguide medium guide formed by the first substrate. Thus, processing of a substrate to be a surface-type optical element mounting body is performed collectively in a large-area wafer state, and dicing is performed at the end, so that productivity is improved.

【0019】また、上記目的を達成する本発明の45度
ミラーを持つ第2の基板を含む面型光素子実装体を作製
する方法は、前記45度ミラーを先端が90度角を持つ
ブレードで切削することを特徴とする。
Further, the method of manufacturing a surface-type optical element mounting body including a second substrate having a 45-degree mirror according to the present invention, which achieves the above object, is characterized in that the 45-degree mirror is formed with a blade having a tip having a 90-degree angle. It is characterized by cutting.

【0020】更に、上記目的を達成する本発明の光配線
装置は、上記の面型光素子実装体を、面型光素子駆動用
電子回路上に実装して電気コネクタ内に収め、外部の電
子機器へ脱着可能なコネクク用の接続部で該駆動用電子
回路への電気接続を行い、電子機器同志の信号の授受を
光で行うことを特徴とする。上記の光実装体は低コスト
で小型化が可能なので、駆動用電子回路基板とともにD-
subなどの電気コネクタ内に収めることで、コネクト部
分は電気で信号は光で接続を行える脱着可能な光配線装
置を実現できる。これは、コネクト部分は電気なので、
安全で、扱いが容易であり、信号伝送は光で行うので、
高速、大容量の伝送を特別の電磁ノイズ対策なしに電子
機器同志の接続に用いることができる。
Further, according to the optical wiring apparatus of the present invention, which achieves the above object, the above-mentioned surface-type optical element mounting body is mounted on an electronic circuit for driving a surface-type optical element and housed in an electric connector, and an external electronic device is mounted. An electrical connection to the drive electronic circuit is made at a connection connecting portion detachable from the device, and transmission and reception of signals between the electronic devices are performed by light. The above optical package can be miniaturized at low cost.
By placing the connector in a sub or other electrical connector, a detachable optical wiring device can be realized in which the connection portion is electrically connected and the signal is optically connected. This is because the connected part is electric,
It is safe, easy to handle and the signal transmission is done by light,
High-speed, large-capacity transmission can be used for connection between electronic devices without special measures against electromagnetic noise.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、図面に示された実施例を
用いて本発明の実施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the embodiments shown in the drawings.

【0022】(第1の実施例)本発明による第1の実施
例を図1に示す。図1(a)は断面図であり、光ファイ
バ3を固定する為のガイド溝9を形成した基板1上に
は、面型光素子4が所定の位置に実装されている。該面
型光素子4を実装する際には、ガイド溝9との位置関係
を実装装置によってアライメント調整するようになって
いる。面型光素子4と光ファイバ3の光結合は、45度
ミラーを形成した基板2を図1のように被せることで行
なっている。
(First Embodiment) FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view, and a planar optical element 4 is mounted at a predetermined position on a substrate 1 on which a guide groove 9 for fixing the optical fiber 3 is formed. When mounting the surface-type optical element 4, the positional relationship with the guide groove 9 is adjusted by a mounting apparatus. Optical coupling between the planar optical element 4 and the optical fiber 3 is performed by covering the substrate 2 on which a 45-degree mirror is formed as shown in FIG.

【0023】基板1と基板2のアライメントは、図1
(b)、(c)の平面図にあるように、表面の対向した
位置に金属膜によるアライメントマーカ8を形成してお
き、ハンダボール7等を用いたフリップチップ実装によ
り、セルフアラインで行えるようになっている。45度
ミラーを形成した基板2は、図1(b)に示すように、
ファイバ3を収めるための平坦座ぐり部12および45
度ミラーとなる45度傾斜部5を有する。45度傾斜部
5には、反射鏡として機能するようにAuなどの金属膜が
形成されている。
The alignment between the substrate 1 and the substrate 2 is shown in FIG.
As shown in the plan views (b) and (c), an alignment marker 8 made of a metal film is formed at a position facing the surface, and can be self-aligned by flip-chip mounting using a solder ball 7 or the like. It has become. The substrate 2 on which the 45-degree mirror is formed, as shown in FIG.
Flat counterbore 12 and 45 for receiving fiber 3
It has a 45-degree inclined portion 5 that becomes a degree mirror. A metal film such as Au is formed on the 45-degree inclined portion 5 so as to function as a reflecting mirror.

【0024】一方、図1(c)にあるように、基板1に
は、面型光素子4を駆動あるいは信号増幅するためのIC
6がやはりフリップチップで実装されている。面型光素
子4とIC6の接続は、基板1上に形成された配線11で
行っている。また、配線10は、本発明による光実装体
を他の電子回路基板に実装するときに接続するための電
極パッドとなっているが、直接はんだ付けできるように
接続リードをつけた形にしてもよい。光ガイド溝9は基
板1の一部の領域にのみ作製してあり、図1(a)に示
すように、段差部13の端面に光ファイバ3の端面を突
き当てることにより、光ファイバ3は突き当てで実装で
きるようになっている。
On the other hand, as shown in FIG. 1C, an IC for driving or amplifying a signal of the planar optical element 4 is provided on the substrate 1.
6 is also mounted by flip chip. The connection between the planar optical element 4 and the IC 6 is made by a wiring 11 formed on the substrate 1. Further, the wiring 10 is an electrode pad for connecting when mounting the optical package according to the present invention on another electronic circuit board. However, the wiring 10 may be provided with connection leads so that it can be directly soldered. Good. The light guide groove 9 is formed only in a partial area of the substrate 1, and as shown in FIG. 1A, the end face of the optical fiber 3 is brought into contact with the end face of the step portion 13 so that the optical fiber 3 is formed. It can be mounted by striking.

【0025】基板1、2の材質としては、Si、ガラス、
AlNやAl2O3などのセラミックス、プラスチックなどが考
えられる。Siの場合は、面型光素子4の実装に用いる為
に、表面に酸化膜や、Al2O3などの絶縁膜を形成する必
要がある。コストの点からいえばプラスチックをモール
ドで形成したものがよいが、この場合は、放熱性を良く
するために金属プレート下敷き層を入れることが望まし
い。Siも、加工性、低コスト化および放熱性の点から良
いが、上記の如く表面に絶縁層が必要になる。
The materials of the substrates 1 and 2 include Si, glass,
Ceramics such as AlN and Al 2 O 3 , plastics, and the like can be considered. In the case of Si, it is necessary to form an oxide film or an insulating film such as Al 2 O 3 on the surface in order to use the surface type optical element 4 for mounting. From the viewpoint of cost, it is preferable that a plastic is formed by a mold. In this case, it is desirable to include a metal plate underlay layer in order to improve heat dissipation. Si is also good in terms of workability, cost reduction, and heat dissipation, but requires an insulating layer on the surface as described above.

【0026】基板1、2の加工については、Siであれ
ば、ホトリソグラフィによるパターニングとウエットに
よる異方性エッチングで加工し、プラスチックでは既に
述べたようにモールドで加工し、他の材料では切削で加
工を行うことになる。
The substrates 1 and 2 are processed by patterning by photolithography and anisotropic etching by wet if Si, processed by a mold as described above for plastic, and cut by other materials. Processing will be performed.

【0027】次に面型光素子4について説明する。本実
施例では、受光素子としては、一般のpin型ホトダイオ
ードやMSMホトダイオードを用いた。また、発光素子と
しては垂直共振器型面発光レーザを用いた。いずれも、
素子4の支持基板側を基板1に実装すると、光機能層と
なっているエピ層側から電極を取り出すことになるの
で、配線パターン11は、図2(a)、(b)の符号2
0で示すように、素子4の厚さ(100μm程度)をカバ
ーするような段差配線を行うことになる。これには、素
子4の側壁をテーパ状の絶縁体23で覆うプロセスが必
要となる。なお、図2において、21は面型光素子4の
基板1側の共通電極を実装するための電極パッドを表し
ており、22は面型光素子4の発光、受光部を表してお
り、24はアレイ状素子4の分離部を表している。
Next, the surface type optical element 4 will be described. In this embodiment, a general pin type photodiode or MSM photodiode is used as the light receiving element. In addition, a vertical cavity surface emitting laser was used as a light emitting element. In each case,
When the supporting substrate side of the element 4 is mounted on the substrate 1, the electrodes are taken out from the epi layer side which is the optical functional layer. Therefore, the wiring pattern 11 is denoted by reference numeral 2 in FIGS. 2 (a) and 2 (b).
As shown by 0, a step wiring covering the thickness of the element 4 (about 100 μm) is performed. This requires a process of covering the side wall of the element 4 with the tapered insulator 23. In FIG. 2, reference numeral 21 denotes an electrode pad for mounting a common electrode on the substrate 1 side of the surface-type optical element 4; Represents a separating portion of the array-shaped element 4.

【0028】一方、エピ側でフリップチップ実装する場
合には、このような段差配線は必要なく、基板1上に配
線パターンを形成しておけば表面配線の必要はない。し
かし、この方式の問題点は、素子の支持基板を通して光
ファイバ3との光の結合を行わなければならないので、
GaAs基板を用いている場合には約900nm以上の光、In
P基板を用いている場合には約1μm以上の光でなければ
ならない。この支持基板に穴を開けてやってもよいが、
その場合、工程数は増えてしまう。また、面発光レーザ
では通常n基板上に素子が作製されるので、接着される
エピ側がアノード側となって、アノードコモン化が難し
く高速駆動には向かない構造になってる。
On the other hand, when flip-chip mounting is performed on the epi side, such a step wiring is not required, and if a wiring pattern is formed on the substrate 1, no surface wiring is required. However, the problem with this method is that light must be coupled with the optical fiber 3 through the support substrate of the element.
When a GaAs substrate is used, light of about 900 nm or more, In
When a P substrate is used, the light must be about 1 μm or more. You may make holes in this support substrate,
In that case, the number of steps increases. Also, in a surface emitting laser, since an element is usually manufactured on an n-substrate, the epi side to be bonded is the anode side, and it is difficult to make the anode common, and the structure is not suitable for high-speed driving.

【0029】次に、45度ミラー5のついた基板2につ
いて説明する。それは、すでに述べたように、切削、エ
ッチング、あるいはその併用で作製することができる。
基板2には光ファイバ固定用のガイドV溝は形成されず
に45度ミラー5のみが形成されるので、作製が容易に
なる。45度ミラーを作製するのには、先端が90度の
角度を成すダイヤモンドブレードで加工する方法がよ
い。図3にその加工した様子を示す。
Next, the substrate 2 having the 45-degree mirror 5 will be described. It can be made by cutting, etching, or a combination thereof, as described above.
Since the guide V-groove for fixing the optical fiber is not formed on the substrate 2 and only the 45-degree mirror 5 is formed, the fabrication becomes easy. In order to manufacture a 45-degree mirror, it is preferable to use a diamond blade whose tip forms an angle of 90 degrees. FIG. 3 shows the processed state.

【0030】これは、大きなウエハ上に複数の45度ミ
ラー基板を作製した様子を示している。先ず、ウエハ上
に、複数の平坦座ぐり部30およびアライメントマーカ
31をホトリソグラフィ等を用いて一括形成する。次
に、3本の実線33で描かれているように、平坦座ぐり
部30の深さより若干深いところまで、90度の先端を
もつダイヤモンドブレード(典型的には、円周部に90
度の先端を持つ回転円盤ブレード)で平坦座ぐり部30
の先端部をV状に切削することで、ライン状に一気に4
5度ミラーが複数の該先端部領域で作製できる。45度
ミラー5の形成が終わったところで、2本の破線32で
示したような位置でダイヤモンドブレードによってウエ
ハ全体をダイシングして、1枚づつの基板2に切り分け
る。
This shows a state in which a plurality of 45 ° mirror substrates are formed on a large wafer. First, a plurality of flat counterbore portions 30 and alignment markers 31 are collectively formed on a wafer by using photolithography or the like. Next, as depicted by three solid lines 33, a diamond blade having a 90-degree tip (typically, 90
Flat counterbore 30 with a rotating disk blade
By cutting the tip of V into a V-shape, 4
A five degree mirror can be made in a plurality of the tip regions. When the formation of the 45-degree mirror 5 is completed, the entire wafer is diced by a diamond blade at the positions indicated by the two broken lines 32 and cut into individual substrates 2.

【0031】次に基板1について説明する。これも、基
板2のように、図4で説明する如くウエハ状態で同一ウ
エハ内に複数作製しておき、最後にダイシングする。先
ず、Siウエハなどの大きなウエハ40上に、光ファイバ
固定用溝(不図示)、電極パッド、配線などを複数の領域
45に形成する。次に、別途作製した面型光素子ウエハ
41から必要なアレイ状の素子42を切り出し、アライ
メントした上で各領域45上に実装する。同様にSi-IC
43も各領域45上に実装し、最後に破線44で示すよ
うにウエハ40をダイシングして、複数の基板1を得
る。
Next, the substrate 1 will be described. As in the case of the substrate 2, a plurality of wafers are prepared in the same wafer in a wafer state as described with reference to FIG. First, an optical fiber fixing groove (not shown), electrode pads, wiring, and the like are formed in a plurality of regions 45 on a large wafer 40 such as a Si wafer. Next, the necessary array-shaped elements 42 are cut out from the separately manufactured surface-type optical element wafer 41, aligned, and mounted on each area 45. Similarly, Si-IC
43 is also mounted on each area 45, and finally, the wafer 40 is diced as shown by a broken line 44 to obtain a plurality of substrates 1.

【0032】組み立て方法について簡単に述べる。光フ
ァイバ固定用溝9が形成された基板1が、その上に光素
子4およびSi-IC6が実装された状態で一定の大きさで
切り出され、同様に、切削された45度ミラー5を持つ
基板2が切り出される。切り出す前には、切削ゴミが付
着しないように表面をレジスト等で保護して、その後で
除去する。2つの基板1、2それぞれをアライメントマ
ーカ8を合わせて重ね合わせ、ハンダボール7などを用
いて接着する。最後に、ガイド溝9部分に光ファイバ3
を差し込んで接着剤で固定すれば、図1のような光実装
体が作製できる。この場合、ガイド溝9の終端13まで
ファイバ3を差し込んで突き当てれば、光素子4と光フ
ァイバ3の光結合のアライメントが終了するので、非常
に作業が容易になる。
The assembling method will be briefly described. The substrate 1 on which the optical fiber fixing groove 9 is formed is cut out in a fixed size in a state where the optical element 4 and the Si-IC 6 are mounted thereon, and similarly has the cut 45 degree mirror 5. The substrate 2 is cut out. Before cutting, the surface is protected with a resist or the like so that cutting dust does not adhere, and then removed. The two substrates 1 and 2 are superimposed on each other with the alignment marker 8 aligned, and bonded using a solder ball 7 or the like. Finally, the optical fiber 3 is inserted into the guide groove 9.
Is inserted and fixed with an adhesive, an optical package as shown in FIG. 1 can be manufactured. In this case, if the fiber 3 is inserted to the end 13 of the guide groove 9 and abutted, the alignment of the optical coupling between the optical element 4 and the optical fiber 3 is completed, so that the work becomes very easy.

【0033】ところで、ここで用いる光ファイバ3とし
ては、全フッ素化ポリイミドを用いたプラスチックファ
イバ(商品名ルキナ:旭硝子製)を用いた。これは、コア
が120μm程度と大きいので光結合には有利である。
ガイド溝9で光ファイバ3が基板1に埋め込まれる深さ
は100μmとした。これは、面型光素子4の厚さが1
00μmでルキナ3の半径が250μmであるため、光フ
ァイバ3のコアの位置を50μmだけ面型光素子4の上
面より高くするためである。また、光ファイバ3の端面
と面型光素子4の間隔は750μmとした。
Incidentally, as the optical fiber 3 used here, a plastic fiber (trade name Lucina: manufactured by Asahi Glass) using perfluorinated polyimide was used. This is advantageous for optical coupling because the core is as large as about 120 μm.
The depth at which the optical fiber 3 was embedded in the substrate 1 in the guide groove 9 was 100 μm. This is because the thickness of the surface type optical element 4 is 1
This is because the position of the core of the optical fiber 3 is higher than the upper surface of the planar optical element 4 by 50 μm because the radius of the lukin 3 is 250 μm at 00 μm. The distance between the end face of the optical fiber 3 and the planar optical element 4 was 750 μm.

【0034】以上のような方法では、作製が容易で、高
精度な光実装を行うことができ、低コストで小型の光配
線用モジュールを提供することができる。
According to the above-mentioned method, it is possible to provide an optical wiring module which is easy to manufacture, can perform optical mounting with high precision, and is low in cost and small in size.

【0035】(第2の実施例)本発明による第2の実施
例は、面型光素子の基板厚さの問題を解決するためにそ
れを薄膜化したものである。全体の構成は図1と同じで
あるが、本実施例では、面型光素子4をフリップチップ
実装しつつアノードコモン型にして、高速駆動と配線の
容易性を達成するものである。830nm帯で発振する面
発光レーザの場合を用いて、その作製方法と構造を図5
(a)、(b)及び(c)に示す。なお、作製方法を示
す図では、便宜上2つの素子についてのみ示してある。
(Second Embodiment) In a second embodiment of the present invention, the thickness of a planar optical device is reduced in order to solve the problem of the substrate thickness. Although the overall configuration is the same as that of FIG. 1, in the present embodiment, the surface-type optical element 4 is flip-chip mounted and is of an anode common type to achieve high-speed driving and easy wiring. Using the case of a surface emitting laser oscillating in the 830 nm band, the manufacturing method and structure are shown in FIG.
(A), (b) and (c). In the drawings showing the manufacturing method, only two elements are shown for convenience.

【0036】図5(a)において、GaAs基板50上に、
AlAs/AlGaAs多層膜から成る反射鏡51、中央にGaAs/Al
GaAs多重量子井戸から成る活性層を配したAlGaAsの1波
長共振器52、同じくAlAs/AlGaAs多層膜から成る反射
鏡53、GaAsコンタクト層(不図示)などの結晶層を有機
金属気相成長法(MOCVD)などでエピタキシャル成長す
る。ここで、導電型は、基板50と反射鏡51と共振器
52の活性層まではn型で、共振器52の活性層上側と
反射鏡53とコンタクト層はp型となっており、該活性
層だけはノンドープとなっている。
In FIG. 5A, on a GaAs substrate 50,
A reflecting mirror 51 composed of an AlAs / AlGaAs multilayer film, GaAs / Al
An AlGaAs one-wavelength resonator 52 having an active layer composed of a GaAs multiple quantum well, a reflector 53 also composed of an AlAs / AlGaAs multilayer film, and a crystal layer such as a GaAs contact layer (not shown) are formed by metal organic chemical vapor deposition ( Epitaxial growth by MOCVD). Here, the conductivity type is n-type up to the substrate 50, the reflector 51, and the active layer of the resonator 52, and the upper side of the active layer of the resonator 52, the reflector 53, and the contact layer are p-type. Only the layers are non-doped.

【0037】次に、発光領域となる部分を形成するため
に、エッチングを行なって溝56を形成し、SiNxから成
る絶縁膜54を成膜して、発光領域となる部分のみ窓開
けする。また、素子間を分離する溝57を形成してお
く。溝56、57はポリイミドで埋め込みを行なって平
坦化している。最上面には、p側電極であるTi/Au55
を成膜して、ここに光取り出し用の窓58を形成する。
基板50は100μm程度まで研磨しておく。
Next, in order to form a portion to be a light emitting region, a groove 56 is formed by etching, an insulating film 54 made of SiN x is formed, and only a portion to be a light emitting region is opened. Also, a groove 57 for separating the elements is formed. The grooves 56 and 57 are buried with polyimide and flattened. On the top surface, Ti / Au55 which is a p-side electrode
Is formed, and a window 58 for light extraction is formed here.
The substrate 50 is polished to about 100 μm.

【0038】図5(b)において、上記のウエハをSi基
板59にエレクトロンワックスで貼り付けて、GaAs基板
50を過酸化水素とアンモニアの混合液中でエッチング
する。こうして、反射ミラー層51の最下面であるAlAs
層(不図示)でエッチングをストップさせる。その後、す
ぐにAlAs層をHCl液でエッチング除去し、その上の第2
層のGaAs層(不図示)を露出させる。その表面に、n電極
であるAuGe/Au電極60を各素子に対して独立駆動でき
るように形成する。また、共通のp電極を下側から取り
出すために素子表面側までにスルーホールを形成して、
Auプラグ61をメッキ等で形成する。このスルーホール
は、図5(a)の表面プロセスのときに作製しておいて
もよい。ここで、貼り付け用基板59としてSiを用いた
が、平坦性のあるものであればガラス基板等でもよい。
Referring to FIG. 5B, the wafer is attached to a Si substrate 59 with electron wax, and the GaAs substrate 50 is etched in a mixed solution of hydrogen peroxide and ammonia. Thus, the lowermost surface of the reflection mirror layer 51, AlAs
Stop the etching at the layer (not shown). After that, the AlAs layer was immediately removed by etching with an HCl solution, and the second
The GaAs layer (not shown) of the layer is exposed. On the surface thereof, an AuGe / Au electrode 60 as an n-electrode is formed so as to be independently driven for each element. Also, a through hole is formed up to the element surface side to take out the common p-electrode from below,
The Au plug 61 is formed by plating or the like. This through-hole may be formed at the time of the surface process of FIG. Here, Si was used as the bonding substrate 59, but a glass substrate or the like may be used as long as it has flatness.

【0039】図5(c)において、各素子に対応するカ
ソード用電極パッド64および共通電極となるアノード
電極パッド63が形成された基板62上に、電極60、
61とパッド63、64をアライメントしながら上記ウ
エハをフリップチップ実装する。基板62は、図1のガ
イド溝9を形成した基板1と同一である。このとき、加
熱して荷重をかけながら超音波もかけることで、Au電極
同志の圧着が可能となる。また、電極63、64の表面
にAuSnはんだを蒸着しておいて、加熱接着してもよい。
最後に、Si基板59を剥離したあとに、電極コンタクト
のためにアニールを行う。
In FIG. 5C, electrodes 60 and 60 are formed on a substrate 62 on which a cathode electrode pad 64 corresponding to each element and an anode electrode pad 63 serving as a common electrode are formed.
The wafer is flip-chip mounted while aligning 61 with pads 63 and 64. The substrate 62 is the same as the substrate 1 having the guide groove 9 shown in FIG. At this time, by applying an ultrasonic wave while applying a load by heating, the Au electrodes can be pressed together. Alternatively, AuSn solder may be vapor-deposited on the surfaces of the electrodes 63 and 64, and may be bonded by heating.
Finally, after peeling off the Si substrate 59, annealing is performed for electrode contact.

【0040】図5(c)のフリップチップ実装に先立っ
て、次の様にしてもよい。図5(b)においてSi基板5
9に貼り付ける場合に、図4で示した実装用ウエハ40
の実装位置45に対応したところに素子が接着されるよ
うに、必要なサイズに切り出した素子を該Si基板(また
はウエハ40)の必要な位置に複数貼り付けておく。そ
して、ウエハ同志をアライメントして図5(c)のよう
に貼り合わせればスループットが向上する。
Prior to the flip-chip mounting of FIG. 5C, the following may be performed. In FIG. 5B, the Si substrate 5
9, the mounting wafer 40 shown in FIG.
A plurality of devices cut to a required size are pasted at necessary positions on the Si substrate (or wafer 40) so that the devices are bonded to portions corresponding to the mounting position 45 of the above. If the wafers are aligned and bonded as shown in FIG. 5C, the throughput is improved.

【0041】本実施例のような薄膜型の面発光レーザで
は、素子としての膜厚は7μm程度であり、アノードコ
モン型であるため、実装および高速駆動においてメリッ
トがある。本実施例では実装基板1からの素子上面の高
さが低くなるので、基板1に埋め込まれた光ファイバ3
の深さを150μmとし、面型光素子4上面から光ファ
イバ3のコア中心までの高さを100μmとした。これ
は第1の実施例と同じくルキナを用いた場合である。
The thin-film type surface emitting laser as in this embodiment has a thickness of about 7 μm as an element, and has an advantage in mounting and high-speed driving because it is an anode common type. In this embodiment, since the height of the upper surface of the element from the mounting substrate 1 is reduced, the optical fibers 3 embedded in the substrate 1
Was 150 μm, and the height from the upper surface of the planar optical element 4 to the center of the core of the optical fiber 3 was 100 μm. This is the case where luquina is used as in the first embodiment.

【0042】薄膜型にしたことで、さらに細い光ファイ
バ、すなわち石英系の125μmφのファイバを実装す
ることもできる。この場合、基板1に埋め込まれる深さ
を40μmとした。ここで面発光レーザの例で示した
が、受光器も同様に薄膜化することで同様の効果があ
る。
By adopting the thin film type, it is possible to mount a thinner optical fiber, that is, a 125 μmφ silica-based fiber. In this case, the depth embedded in the substrate 1 was set to 40 μm. Although the surface emitting laser is shown here as an example, the same effect can be obtained by thinning the light receiver similarly.

【0043】(第3の実施例)本発明による第3の実施
例は、特に受光器側で光結合を改善するために、第2の
基板2の45度ミラーの部分を曲面状にするものであ
る。図6に断面構造と平面構造を示す。
(Third Embodiment) In a third embodiment of the present invention, a 45-degree mirror portion of the second substrate 2 is formed into a curved surface in order to improve optical coupling particularly on the light receiving side. It is. FIG. 6 shows a cross-sectional structure and a planar structure.

【0044】構造は第1の実施例とほぼ同じである。光
を反射させる部分65の断面を例えば楕円形にして、そ
の2つの焦点の位置に面型光素子4の受光部あるいは発
光部が、もう一方の焦点に光ファイバ3の端面のコア部
が来るように設定すれば、光結合効率が上昇する。この
ような楕円形状は、基板2がガラスやプラスチックの場
合には切削やモールドで成形し、Si基板の場合には異方
性エッチングと等方性エッチングを組み合わせて作製す
る。
The structure is almost the same as that of the first embodiment. The cross-section of the light-reflecting portion 65 is, for example, elliptical, and the light-receiving or light-emitting portion of the surface-type optical element 4 comes to the two focal points, and the core of the end face of the optical fiber 3 comes to the other focal point. With such a setting, the optical coupling efficiency increases. Such an elliptical shape is formed by cutting or molding when the substrate 2 is made of glass or plastic, and is formed by combining anisotropic etching and isotropic etching when the substrate 2 is a Si substrate.

【0045】また、本実施例では、ミラー65を形成し
た基板2にも図6(b)に示すように、光ファイバ用の
ガイド溝67を形成した。ガイド溝67と曲面ミラー6
5との間には段差部66があり、ここで光ファイバ3が
突き当てで調整できるようになっている。この場合、光
ファイバ3を基板1のガイド溝9に先に固定しておい
て、基板2のガイド溝67がその光ファイバ3を収める
ように被せて接着されれば、アライメントも同時に行う
ことができる。そこで、フリップチップ実装で用いるよ
うな、接着面同志のアライメントマーカを観察してアラ
イメントするような装置は必要なくなる。基板1と基板
2の接着は、光ファイバ3との間を接着する接着剤(不
図示)と、基板同志を直接接着する接着剤68とで行
う。このような構造は、もちろん第1、第2の実施例に
も適用できる。
In this embodiment, as shown in FIG. 6B, a guide groove 67 for an optical fiber is also formed on the substrate 2 on which the mirror 65 is formed. Guide groove 67 and curved mirror 6
A step 66 is provided between the optical fiber 3 and the optical fiber 3 so that the optical fiber 3 can be adjusted by abutment. In this case, if the optical fiber 3 is first fixed in the guide groove 9 of the substrate 1 and the guide groove 67 of the substrate 2 is attached so as to receive the optical fiber 3 and bonded, alignment can be performed at the same time. it can. Therefore, there is no need for a device for observing and aligning the alignment markers between the bonding surfaces as used in flip chip mounting. The substrate 1 and the substrate 2 are bonded with an adhesive (not shown) for bonding between the optical fibers 3 and an adhesive 68 for directly bonding the substrates together. Such a structure can of course be applied to the first and second embodiments.

【0046】なお、ここまでの例では、面型光素子4お
よび光ファイバ3のアレイ数を4つとした例を示してき
たが、もちろんこの数には限定はない。4つ以上でもよ
いし、1つの面型光素子と1本の光ファイバのみとした
ものでもよい。また、光実装体について、送信側として
面型発光素子だけが集積されたもの、受信側として面型
受光素子のみが集積されたもの、あるいは送受信の両方
を備えた光実装体とするもののいずれでもよい。送信、
受信が分かれている場合には一方向伝送となり、他方、
送受信が1つのモジュール内に収められていれば、双方
向伝送が可能となる。
In the above examples, an example has been described in which the number of arrays of the planar optical element 4 and the optical fiber 3 is four, but the number is of course not limited. The number may be four or more, or may be only one surface type optical element and one optical fiber. In addition, as for the optical package, any of the optical package having only the surface light emitting element integrated as the transmitting side, the optical module having only the planar light receiving element integrated as the receiving side, or the optical package having both the transmitting and receiving sides is used. Good. Send,
If the reception is split, it is a one-way transmission,
If transmission and reception are contained in one module, bidirectional transmission is possible.

【0047】(第4の実施例)本発明による第4の実施
例は、以上述べてきた光実装体をモジュール化して高速
光配線装置としたものである。図7に、光実装体74が
電子回路基板70に実装されている様子を示す。図7に
おいて、75は、光実装体74で面型光素子と光結合さ
れた複数の光ファイバを束ねてリボン状にしたものであ
る。光実装体74の回路基板70上への実装は、光実装
体74の光ファイバ用ガイド溝を形成した下基板77の
裏面に金属パッド(不図示)を形成しておき、電子回路基
板70上にフリップチップ実装する。面型光素子用駆動
IC78と回路基板70との電気的な接続は、光路変換機
能部付き基板76と接着された下基板77にスルーホー
ルを形成して、該基板77の裏面にそのコンタクト用の
電極パッドを形成しておいて、上記フリップチップ実装
のときに同時に行う。
(Fourth Embodiment) In a fourth embodiment of the present invention, a high-speed optical wiring device is obtained by modularizing the optical package described above. FIG. 7 shows a state in which the optical package 74 is mounted on the electronic circuit board 70. In FIG. 7, reference numeral 75 denotes a ribbon formed by bundling a plurality of optical fibers optically coupled to a surface-type optical element by an optical package 74. The optical package 74 is mounted on the circuit board 70 by forming a metal pad (not shown) on the back surface of the lower substrate 77 in which the optical fiber guide groove of the optical package 74 is formed. Flip chip mounting. Driving for planar optical device
For electrical connection between the IC 78 and the circuit board 70, a through hole is formed in the lower substrate 77 bonded to the substrate 76 having an optical path conversion function, and an electrode pad for the contact is formed on the back surface of the substrate 77. It is performed at the same time as the flip chip mounting.

【0048】より簡易的に電気接続を行うには、駆動IC
78からの引き出し電極パッドと回路基板70との間で
ワイヤボンディングを行うか、フレキシブル配線板を用
いて行うこともできる。また、第1の実施例でも述べた
が、基板77に電子回路70との接続用リードを形成し
ておいて、はんだ付けすることで接続してもよい。
In order to make electrical connection more simply, a driving IC
Wire bonding may be performed between the electrode pad from 78 and the circuit board 70, or may be performed using a flexible wiring board. Also, as described in the first embodiment, a connection lead to the electronic circuit 70 may be formed on the substrate 77 and then connected by soldering.

【0049】回路基板70は一般には多層配線基板とな
って小型になっており、その表面には表面実装用IC72
や表面実装コンデンサ73などが実装され、電子機器の
マサーボードとの接続等のために電気接続リード71が
形成されている。
The circuit board 70 is generally a multilayer wiring board which is small and has a surface mounting IC 72 on its surface.
And a surface mount capacitor 73 are mounted thereon, and an electrical connection lead 71 is formed for connection to a motherboard of an electronic device or the like.

【0050】このような光実装体74の集積された光送
受信モジュールを直接マザーボードに装着するのではな
く、図8に示すように電気コネクタ80内に収めて、電
気接続リード71を介して、PCやモニタ、プリンタ、デ
ジタルカメラ、デジタルビデオカメラなどの電子機器の
インターフェース部と脱着が可能なように接続してもよ
い。この電気コネクタ80は、必要な機器の規格に応じ
て作製することができる。例えば、PCと液晶モニタを接
続するためのデジタルモニタインターフェースの規格に
合わせて26ピンのMDRコネクタにしたり、IEEE1394
やUSBなどの規格に合わせることも可能である。また、
デジタル複写器のスキャナ部と感光部との内部接続など
にも適用できる。これらの電子機器間の接続に本発明の
光配線装置を用いることで、1チャンネルあたり1Gbps
から2.5Gbps程度で4〜5チャンネルの信号伝送が5
0m以上で可能となり、電気ケーブルでは限界のある高
速映像伝送に代わって使用することができる。また、光
接続であるために伝送線路から発生する電磁放射ノイズ
がなく、特に高速デジタル伝送でのノイズ対策の軽減に
つなげることができる。
Instead of directly mounting the optical transmitting / receiving module on which such an optical package 74 is integrated on the motherboard, the optical transmitting / receiving module is housed in an electric connector 80 as shown in FIG. It may be detachably connected to an interface unit of an electronic device such as a monitor, a printer, a digital camera, a digital video camera, or the like. The electrical connector 80 can be manufactured according to the required device standard. For example, a 26-pin MDR connector according to the digital monitor interface standard for connecting a PC and an LCD monitor,
It is also possible to conform to standards such as USB and USB. Also,
The present invention is also applicable to the internal connection between a scanner unit and a photosensitive unit of a digital copier. By using the optical wiring device of the present invention to connect these electronic devices, 1 Gbps per channel
5 to 4 to 5 signal transmission at 2.5Gbps
This is possible at 0 m or more, and can be used instead of high-speed video transmission, which is limited by electric cables. In addition, since the optical connection is used, there is no electromagnetic radiation noise generated from the transmission line, and it is possible to reduce noise measures particularly in high-speed digital transmission.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上に述べたように、本発明によって以
下のような効果が期待される。光ファイバなどの光導波
媒体を固定するガイド手段を形成した基板の面と同一面
上に面型光素子を実装する構造なので、光ファイバなど
の光導波媒体と光素子のアライメント精度を向上させ、
光ファイバなどの光導波媒体の固定作業も容易にして生
産性を向上させることができる。
As described above, the following effects are expected by the present invention. Since the surface type optical element is mounted on the same surface as the surface of the substrate on which the guide means for fixing the optical waveguide medium such as an optical fiber is formed, the alignment accuracy between the optical waveguide medium such as an optical fiber and the optical element is improved,
The work of fixing an optical waveguide medium such as an optical fiber can also be facilitated and productivity can be improved.

【0052】さらに、このような実装構造体を量産でき
る作製方法を実現することで、低コスト化が可能な光実
装体およびこれを用いた光配線装置を提供できる。従っ
て、高速デジタル信号を扱う電子機器同志の信号接続に
おいて、電気接続では限界のある領域、すなわち50m
以上で2.5Gbps程度の信号伝送が可能となり、大容量
の映像伝送などを、容易に、特別な電磁ノイズ対策など
もなしに行うことができる。
Further, by realizing a manufacturing method capable of mass-producing such a mounting structure, it is possible to provide an optical mounting body capable of reducing costs and an optical wiring device using the same. Therefore, in the signal connection between electronic devices handling high-speed digital signals, there is a limited area for electrical connection, that is, 50 m.
As described above, signal transmission of about 2.5 Gbps becomes possible, and large-capacity video transmission can be easily performed without any special measures against electromagnetic noise.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による第1実施例の面型光素子実装体を
説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a surface-type optical element package according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明による第1実施例における電気配線を説
明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating electric wiring in a first embodiment according to the present invention.

【図3】本発明による光路変換機能部付き基板の作製方
法を説明する図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating a method for manufacturing a substrate with an optical path conversion function unit according to the present invention.

【図4】本発明による光実装体の作製方法を説明する図
である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a method for manufacturing an optical package according to the present invention.

【図5】本発明による第2実施例の面型光素子の作製方
法を説明する図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method of manufacturing a surface-type optical device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明による第3実施例の光路変換機能部付き
基板を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a substrate with an optical path conversion function unit according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明による第4実施例の実装基板を説明する
図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a mounting board according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明による第4実施例の光配線装置を説明す
る図である。
FIG. 8 is a diagram illustrating an optical wiring device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】従来の機能層転写型の面発光レーザアレイを説
明する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a conventional functional layer transfer type surface emitting laser array.

【図10】面型光素子と光ファイバとの光実装体の従来
例を説明する図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional example of an optical package including a surface-type optical element and an optical fiber.

【図11】面型光素子と光ファイバとの光実装体の従来
例を説明する図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a conventional example of an optical package of a surface-type optical element and an optical fiber.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,62,77,120…実装用基板 2,76,140-2…光路変換機能部付き基板 3,75,101,202h…光ファイバ 4,42,102…面型光素子 5,101A,143…45度ミラー 6,43,78,103…駆動用または増幅用IC 7…はんだボール 8,31…アライメント用電極パッド 9,67,141,141-2…光ファイバ用ガイド溝 10,21,63,64…電極パツド 11,20,203f…電極配線 12,30…平坦座ぐり部 22…面型光素子の受発光部 23…テーパ状絶縁層 24…素子分離部 32,44…ダイシング用切り取り線 33…ブレードで形成した45度ミラー 40…実装基板用ウエハ 41…面型光素子ウエハ 45…実装領域 50,201…半導体基板 51,53…ブラッグ反射ミラー 52…活性層 54…絶縁膜 55,60…電極 56,57…ポリイミド埋込み層 58…光取り出し窓 59…基板 61…スルーホール電極 65…曲面反射部 13,66…段差部 68…接着剤 70…電子回路基板 71,118…接続用リード 72…駆動IC 73…表面実装部品 74…光実装体 80…コネクタ 131…マイクロレンズ 140…光ファイバ保持用基板 202i…保持体 202j…反射鏡 201b,202b…アライメントマーカ 201c…出射光ビーム 201a…面発光レーザ 202c…導波光ビーム 1,62,77,120… Mounting board 2,76,140-2… Substrate with optical path conversion function 3,75,101,202h… Optical fiber 4,42,102… Surface type optical element 5,101A, 143… 45 degree mirror 6,43,78,103… Driving or amplifying IC 7… Solder ball 8,31… Alignment electrode pad 9,67,141,141-2… Optical fiber guide groove 10,21,63,64… Electrode pad 11,20,203f… Electrode wiring 12,30… Flat counterbore part 22 ... Light emitting / receiving part of surface type optical element 23 ... Tapered insulating layer 24 ... Element separating part 32,44 ... Cut line for dicing 33 ... 45 degree mirror formed by blade 40 ... Wafer for mounting board 41 ... Surface type optical device wafer 45… Mounting area 50,201… Semiconductor substrate 51,53… Bragg reflection mirror 52… Active layer 54… Insulating film 55,60… Electrode 56,57… Polyimide buried layer 58… Light extraction window 59… Substrate 61… Through-hole electrode 65 ... Reflected surface 13,66 ... Step 68 ... Adhesive 70 ... Electronic circuit board 71,118 ... Connection lead 72 ... Drive IC 73 ... Surface mount components 74 Optical mounts 80 Connectors 131 Microlenses 140 Optical fiber holding substrates 202i Holders 202j Mirrors 201b and 202b Alignment markers 201c Emitted light beams 201a Surface emitting lasers 202c Guided light beam

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H037 AA01 BA02 BA11 CA38 DA03 DA04 DA06 DA11 DA12 DA13 5F073 AA62 AA74 AB17 AB28 AB29 BA01 CA04 DA22 DA31 FA06 FA13 5F088 AA01 BA16 BB01 JA03 JA14 KA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H037 AA01 BA02 BA11 CA38 DA03 DA04 DA06 DA11 DA12 DA13 5F073 AA62 AA74 AB17 AB28 AB29 BA01 CA04 DA22 DA31 FA06 FA13 5F088 AA01 BA16 BB01 JA03 JA14 KA02

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光導波媒体を所定の状態で固定する為のガ
イド手段が形成された第1の基板上の該ガイド手段が形
成された面と同じ面に面型光素子が実装され、該面とほ
ぼ垂直に発光または受光を行う該面型光素子と該光導波
媒体との光結合を行うために光路を変換する機能部を設
けた第2の基板が、該光結合を行うことができる位置で
該第1の基板と固定されていることを特徴とする面型光
素子実装体。
1. A surface type optical element is mounted on the same surface as a surface on which a guide means is formed on a first substrate on which a guide means for fixing an optical waveguide medium in a predetermined state is provided. A second substrate provided with a functional part for converting an optical path to perform optical coupling between the surface optical element that emits or receives light substantially perpendicular to the surface and the optical waveguide medium may perform the optical coupling. A surface-type optical element mounted body fixed to the first substrate at a position where it can be formed.
【請求項2】前記光導波媒体は光ファイバである請求項
1記載の面型光素子実装体。
2. The optical waveguide medium is an optical fiber.
2. The surface-type optical element package according to 1.
【請求項3】前記ガイド手段はガイド溝であり、該ガイ
ド溝は前記光導波媒体が突き当てで実装できるように前
記面の一部の領域にのみ形成されていて、該面上の面型
光素子と該ガイド溝内に収められた光導波媒体の端部と
の距離を一定に保てる段差部を有する請求項1または2
記載の面型光素子実装体。
3. The guide means is a guide groove, and the guide groove is formed only in a partial area of the surface so that the optical waveguide medium can be mounted by abutment, and is formed on a surface of the surface. 3. A step according to claim 1, further comprising a step for keeping a constant distance between the optical element and an end of the optical waveguide medium accommodated in the guide groove.
The surface-type optical element mounted body according to the above.
【請求項4】前記光結合を行うことができる位置での前
記第2の基板の前記第1の基板への固定の形態が、互い
に接着される面にアライメントマークとはんだ接着を兼
ねた金属膜を複数設けてあり、互いに対応する金属膜を
合わせてフリップチップ実装で接着される形態である請
求項1、2または3記載の面型光素子実装体。
4. The method of fixing the second substrate to the first substrate at a position where the optical coupling can be performed is such that a metal film having both an alignment mark and a solder bond on surfaces to be bonded to each other. 4. The surface-type optical element mounted body according to claim 1, wherein a plurality of are provided, and the metal films corresponding to each other are combined and bonded by flip-chip mounting.
【請求項5】前記第2の基板にも前記光導波媒体固定用
のガイド手段が形成されている請求項1乃至4の何れか
に記載の面型光素子実装体。
5. The surface-type optical element mounting body according to claim 1, wherein guide means for fixing said optical waveguide medium is also formed on said second substrate.
【請求項6】前記光導波媒体固定用のガイド手段が形成
された第1の基板には、該基板に実装された面型受光素
子のための増幅回路用ICまたは面型発光素子のための
駆動回路用ICが実装され、該ICと面型光素子との電
気配線が該第1の基板上に形成された配線パターンによ
って行われている請求項1乃至5の何れかに記載の面型
光素子実装体。
6. A first substrate on which said guide means for fixing an optical waveguide medium is formed, wherein an IC for an amplifying circuit for a surface-type light-receiving element or an IC for a surface-type light-emitting element mounted on the first substrate is provided. 6. The surface type according to claim 1, wherein a drive circuit IC is mounted, and electric wiring between the IC and the surface type optical element is performed by a wiring pattern formed on the first substrate. Optical element mounting body.
【請求項7】前記面型光素子は、受光または発光に必要
な活性層、電流注入或いは電圧印加、光の閉じ込めに必
要な機能層のみを第1の基板に実装して、該面型光素子
を保持していた第3の基板を除去或いは薄膜化した薄膜
構造を有する請求項1乃至6の何れかに記載の面型光素
子実装体。
7. The surface type optical device comprises an active layer necessary for light reception or light emission, and a functional layer necessary for current injection or voltage application and light confinement mounted on a first substrate. 7. The surface-type optical element mounting body according to claim 1, having a thin film structure in which the third substrate holding the element is removed or thinned.
【請求項8】前記薄膜構造の面型光素子は、化合物半導
体で構成された垂直共振器型面発光レーザであり、活性
層およびブラッグ反射ミラー層が第1の基板にフリップ
チップ実装され、化合物半導体基板が除去された薄膜構
造である請求項7記載の面型光素子実装体。
8. A vertical cavity surface emitting laser comprising a compound semiconductor, wherein the active layer and the Bragg reflection mirror layer are flip-chip mounted on a first substrate. 8. The surface-type optical element mounted body according to claim 7, which has a thin film structure from which the semiconductor substrate has been removed.
【請求項9】前記光結合を行うために光路を変換する機
能部は、該第2の基板に形成された45度ミラーである
請求項1乃至8の何れかに記載の面型光素子実装体。
9. The surface-type optical element mounting according to claim 1, wherein the functional portion for converting an optical path for performing the optical coupling is a 45-degree mirror formed on the second substrate. body.
【請求項10】前記光結合を行うために光路を変換する
機能部は、該第2の基板に形成された集光作用を持つ曲
面である請求項1乃至8の何れかに記載の面型光素子実
装体。
10. The surface mold according to claim 1, wherein the functional part for converting an optical path for performing the optical coupling is a curved surface having a light-condensing action formed on the second substrate. Optical element mounting body.
【請求項11】請求項1乃至10の何れかに記載の面型
光素子実装体を作製する方法において、第1の基体に、
前記光導波媒体固定用のガイド手段および面型光素子を
備えて前記第1の基板の機能を有する領域を複数一括し
て作製してから、該第1の基体を切り出して該第1の基
板を複数作製する工程と、第2の基体に、前記光路を変
換する機能部を備えて前記第2の基板の機能を有する領
域を複数一括して作製してから、該第2の基体を切り出
して該第2の基板を複数作製する工程と、第1の基板と
第2の基板とをアライメントして接着する工程と、第1
の基板によって形成された光導波媒体ガイド部に該光導
波媒体を導入して固定する工程とを含むことを特徴とす
る面型光素子実装体の作製方法。
11. The method for manufacturing a surface-type optical element package according to claim 1, wherein the first base is provided with:
A plurality of regions having the function of the first substrate are collectively prepared by providing the guide means for fixing the optical waveguide medium and the surface type optical element, and then the first substrate is cut out and the first substrate is cut out. And forming a plurality of regions having the function of the second substrate on the second substrate by providing a functional portion for converting the optical path, and then cutting out the second substrate Forming a plurality of the second substrates by aligning and bonding the first substrate and the second substrate to each other;
Introducing the optical waveguide medium into the optical waveguide medium guide portion formed by the substrate and fixing the optical waveguide medium.
【請求項12】請求項9記載の面型光素子実装体の作製
方法において、前記45度ミラーを先端が90度角を持
つブレードで切削することを特徴とする面型光素子実装
体の作製方法。
12. The method of manufacturing a surface-type optical element package according to claim 9, wherein the 45-degree mirror is cut with a blade having a 90-degree angle tip. Method.
【請求項13】請求項1乃至10の何れかに記載の面型
光素子実装体を、面型光素子駆動用電子回路上に実装し
て電気コネクタ内に収め、外部の電子機器へ脱着可能な
コネクク用の接続部で該駆動用電子回路への電気接続を
行い、電子機器同志の信号の授受を光で行うことを特徴
とする光配線装置。
13. A surface-type optical element mounting body according to claim 1, mounted on an electronic circuit for driving a surface-type optical element, housed in an electrical connector, and detachable from an external electronic device. An optical wiring device, wherein an electrical connection to the driving electronic circuit is performed at a connection portion for a proper connection, and transmission and reception of signals between the electronic devices are performed by light.
JP2000216724A 2000-07-18 2000-07-18 Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it Pending JP2002031747A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000216724A JP2002031747A (en) 2000-07-18 2000-07-18 Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000216724A JP2002031747A (en) 2000-07-18 2000-07-18 Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002031747A true JP2002031747A (en) 2002-01-31

Family

ID=18711938

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000216724A Pending JP2002031747A (en) 2000-07-18 2000-07-18 Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002031747A (en)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008015264A (en) * 2006-07-06 2008-01-24 Fujitsu Component Ltd Photoelectric conversion module and connector for high-speed transmission
JP2008015265A (en) * 2006-07-06 2008-01-24 Fujitsu Component Ltd Photoelectric conversion module and connector for high-speed transmission
JP2009063631A (en) * 2007-09-04 2009-03-26 Fuji Xerox Co Ltd Optical transmission device
JP2009223340A (en) * 2009-07-06 2009-10-01 Mitsubishi Electric Corp Optical component and optical path changing device used for the same
JP2014212166A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 日本特殊陶業株式会社 Optical waveguide device
JP2015509619A (en) * 2012-03-05 2015-03-30 ナノプレシジョン プロダクツ インコーポレイテッドNanoprecision Products, Inc. Coupling device having structured reflective surface for coupling optical fiber input / output
US9075208B2 (en) 2006-07-06 2015-07-07 Fujitsu Component Limited Method for assembling a photoelectric conversion module
WO2018155924A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 주식회사 지파랑 Slim connector plug and active optical cable assembly using same
WO2018155923A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 주식회사 지파랑 Slim connector plug and active optical cable assembly using same
JP2018525826A (en) * 2015-08-27 2018-09-06 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Laser component and manufacturing method thereof
KR20180122311A (en) * 2018-11-05 2018-11-12 주식회사 지파랑 Optical Device Module and Method of Manufacturing the Same
KR20180127629A (en) * 2018-11-21 2018-11-29 주식회사 지파랑 Slim Type Connector Plug, Active Optical Cable Assembly Using the Same and Method of Manufacturing the Same
US10718914B2 (en) 2012-03-05 2020-07-21 Cudoquanta Florida, Inc. Optoelectronic module assembly having an optical fiber alignment assembly coupled to an optoelectronic device assembly
CN113192937A (en) * 2021-04-30 2021-07-30 杭州光智元科技有限公司 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008015264A (en) * 2006-07-06 2008-01-24 Fujitsu Component Ltd Photoelectric conversion module and connector for high-speed transmission
JP2008015265A (en) * 2006-07-06 2008-01-24 Fujitsu Component Ltd Photoelectric conversion module and connector for high-speed transmission
US9075208B2 (en) 2006-07-06 2015-07-07 Fujitsu Component Limited Method for assembling a photoelectric conversion module
JP2009063631A (en) * 2007-09-04 2009-03-26 Fuji Xerox Co Ltd Optical transmission device
JP2009223340A (en) * 2009-07-06 2009-10-01 Mitsubishi Electric Corp Optical component and optical path changing device used for the same
JP2015509619A (en) * 2012-03-05 2015-03-30 ナノプレシジョン プロダクツ インコーポレイテッドNanoprecision Products, Inc. Coupling device having structured reflective surface for coupling optical fiber input / output
US10718914B2 (en) 2012-03-05 2020-07-21 Cudoquanta Florida, Inc. Optoelectronic module assembly having an optical fiber alignment assembly coupled to an optoelectronic device assembly
JP2014212166A (en) * 2013-04-17 2014-11-13 日本特殊陶業株式会社 Optical waveguide device
US10511138B2 (en) 2015-08-27 2019-12-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Laser component and method of producing same
JP2018525826A (en) * 2015-08-27 2018-09-06 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Laser component and manufacturing method thereof
WO2018155923A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 주식회사 지파랑 Slim connector plug and active optical cable assembly using same
KR101918197B1 (en) * 2017-02-24 2018-11-13 주식회사 지파랑 Slim Type Connector Plug, Active Optical Cable Assembly Using the Same and Method of Manufacturing the Same
US11550106B2 (en) 2017-02-24 2023-01-10 Lipac Co., Ltd. Slim connector plug and active optical cable assembly using same
KR101924939B1 (en) * 2017-02-24 2018-12-04 주식회사 지파랑 Slim Type Connector Plug, Active Optical Cable Assembly Using the Same and Method of Manufacturing the Same
CN112114406B (en) * 2017-02-24 2023-01-10 利派克株式会社 Connector plug
US11169335B2 (en) 2017-02-24 2021-11-09 Lipac Co., Ltd. Slim connector plug and active optical cable assembly using same
CN112114406A (en) * 2017-02-24 2020-12-22 利派克株式会社 Slim connector plug and active optical cable assembly using same
WO2018155924A1 (en) * 2017-02-24 2018-08-30 주식회사 지파랑 Slim connector plug and active optical cable assembly using same
KR20180122311A (en) * 2018-11-05 2018-11-12 주식회사 지파랑 Optical Device Module and Method of Manufacturing the Same
KR101949899B1 (en) 2018-11-05 2019-05-21 주식회사 지파랑 Optical Device Module and Method of Manufacturing the Same
KR101969502B1 (en) * 2018-11-21 2019-04-16 주식회사 지파랑 Slim Type Connector Plug, Active Optical Cable Assembly Using the Same and Method of Manufacturing the Same
KR20180127629A (en) * 2018-11-21 2018-11-29 주식회사 지파랑 Slim Type Connector Plug, Active Optical Cable Assembly Using the Same and Method of Manufacturing the Same
CN113192937A (en) * 2021-04-30 2021-07-30 杭州光智元科技有限公司 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3990846B2 (en) Planar optical element, method for manufacturing the same, and apparatus using the same
US6597713B2 (en) Apparatus with an optical functional device having a special wiring electrode and method for fabricating the same
EP1744417B1 (en) Semiconductor light emitting element and manufacturing method thereof
JP4160597B2 (en) Semiconductor light emitting device and manufacturing method thereof
US5434939A (en) Optical fiber module with surface emitting laser
JP2001503153A (en) Parallel optical connection device
JP2000049414A (en) Optical function element device and optical transmitter- receiver, optical interconnection device and optical recorder using the same
JP2002031747A (en) Planar optical element mounted body, its manufacturing method, and device using it
JP4532688B2 (en) Device with surface optical element
JP3684112B2 (en) Opto-electric hybrid board, driving method thereof, and electronic circuit device using the same
JPH1039162A (en) Optical semiconductor device, semiconductor photodetector, and formation of optical fiber
JP2009027088A (en) Semiconductor light-emitting device
JPH08110446A (en) Light transmission module
JP2002214485A (en) Plane optical element, plane optical element mounting body, method for producing it and optical wiring device using it
JP4125180B2 (en) Optical module, optical module manufacturing method, and optical transmission / reception system
JP4438038B2 (en) Surface light-receiving element and method for manufacturing the same
JPH06232455A (en) Light signal transmission device with optical fiber
JP4475841B2 (en) Optical module
JPH0743564A (en) Optical signal transmitting device with optical fiber and manufacture of its guide substrate
JP2003222762A (en) Optical module
JP2002232051A (en) Optical transmitter and manufacturing method thereof
JP2003279804A (en) Optical module
KR19990043121A (en) Semiconductor laser module
JPH09318846A (en) Optical transmission module
JPH11337774A (en) Optical coupler and optical fiber