JP2002020857A - Vacuum film deposition apparatus, and crucible for film deposition - Google Patents

Vacuum film deposition apparatus, and crucible for film deposition

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JP2002020857A
JP2002020857A JP2000204917A JP2000204917A JP2002020857A JP 2002020857 A JP2002020857 A JP 2002020857A JP 2000204917 A JP2000204917 A JP 2000204917A JP 2000204917 A JP2000204917 A JP 2000204917A JP 2002020857 A JP2002020857 A JP 2002020857A
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Japan
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film
cooling
roll
crucible
film forming
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JP2000204917A
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Japanese (ja)
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Masaru Segawa
勝 瀬川
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Victor Company of Japan Ltd
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Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the efficiency of utility of a film depositing material stored in a crucible for film deposition. SOLUTION: This vacuum film deposition apparatus has a vacuum tank 2 comprising at least a cooling can roll 5 rotating while cooling a back side of a base film F, a crucible 20 for film deposition which is provided below the cooling can roll to store material 7 for film deposition, a heat source 8 for evaporation which melts the material 7 for film deposition in the crucible for film deposition to evaporate flying particles 7a, and a cooling plate 9 which is provided close to the cooling can roll between the cooling can roll and the crucible, cools a film deposition surface side of the base film, and has an aperture 9a for regulating the angle α of incidence when the film deposition on the base film is started and the angle β of incidence when the film deposition is completed. In the crucible 20, an upper end side aperture 20a with an upper end side opened is extended to the vicinity of the aperture 9a of the cooling plate 9 in order to evaporate the flying particles toward the base film side attached to the cooling can roll, and the upper end side aperture is substantially provided along the aperture of the cooling plate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、真空槽内で帯状の
ベースフィルム上に成膜材料を蒸着により成膜する真空
成膜装置及びこの真空成膜装置に適用される成膜用坩堝
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum film forming apparatus for forming a film forming material on a strip-shaped base film in a vacuum chamber by vapor deposition and a film forming crucible applied to the vacuum film forming apparatus. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的に、基板に成膜材料を付着させる
手段として、真空槽中での蒸着工程が広く普及してい
る。この際、基板としてはガラスなど板状のものとか、
帯状の高分子フィルムなど種々の材料が適用されている
が、ここでは高分子フィルム(ベースフィルム)を適用
した場合について以下説明する。
2. Description of the Related Art Generally, as a means for attaching a film-forming material to a substrate, a vapor deposition step in a vacuum chamber is widely used. At this time, the substrate is a plate-like material such as glass,
Various materials such as a strip-shaped polymer film are applied. Here, a case where a polymer film (base film) is applied will be described below.

【0003】上記高分子フィルムに成膜材料を蒸着した
ものとして包装用品,装飾用品,磁気テープなどが多用
されている。とくに、高分子フィルムに成膜材料を蒸着
する場合、ベースフィルムはロール状に数千m〜数万m
巻いたものを真空槽内にセットし、ベースフィルム上に
連続して1ロール蒸着を行う方法が一般的である。
[0003] Packaging articles, decorative articles, magnetic tapes, and the like are often used as materials obtained by depositing a film-forming material on the polymer film. In particular, when depositing a film-forming material on a polymer film, the base film may be formed in a roll form of several thousand m to several tens of thousands m.
In general, a roll is set in a vacuum chamber and one roll is continuously deposited on a base film.

【0004】例えば、ベースフィルム上に成膜材料とし
て金属磁性材料を蒸着して薄膜磁気テープを作製する従
来の薄膜磁気テープ成膜装置及びこの薄膜磁気テープ成
膜装置に使用される従来の成膜用坩堝について図4及び
図5を用いて説明する。
For example, a conventional thin film magnetic tape film forming apparatus for producing a thin film magnetic tape by depositing a metal magnetic material as a film forming material on a base film and a conventional film forming apparatus used in the thin film magnetic tape film forming apparatus The crucible for use will be described with reference to FIGS.

【0005】図4は従来の薄膜磁気テープ成膜装置を説
明するための構成図、図5は従来の薄膜磁気テープ成膜
装置に使用される従来の成膜用坩堝を示した斜視図であ
る。
FIG. 4 is a structural view for explaining a conventional thin film magnetic tape film forming apparatus, and FIG. 5 is a perspective view showing a conventional film forming crucible used in the conventional thin film magnetic tape film forming apparatus. .

【0006】図4に示した如く、斜方蒸着法を適用した
従来の薄膜磁気テープ成膜装置1Aでは、真空槽2内が
図示しない真空ポンプにより高真空状態に保たれてい
る。この真空槽2内には、帯状のベースフィルムFを巻
回させるための供給ロール3A及び巻取ロール3Bと、
供給側ガイドロール4A及び巻取側ガイドロール4B
と、成膜時にベースフィルムFを添接しながらベースフ
ィルムFの裏面側を冷却する円筒状の冷却キャンロール
5とが回転自在に配置されている。そして、ベースフィ
ルムFへの成膜時には、供給ロール3Aに巻回したベー
スフィルムFを供給側ガイドロール4Aを経由して、矢
印方向に回転する冷却キャンロール5に添接させながら
巻取ガイドロール4Bを経て巻取ロール3Bに向かって
矢印方向に走行させている。
As shown in FIG. 4, in the conventional thin film magnetic tape film forming apparatus 1A to which the oblique deposition method is applied, the inside of the vacuum chamber 2 is maintained in a high vacuum state by a vacuum pump (not shown). In the vacuum chamber 2, a supply roll 3A and a take-up roll 3B for winding a strip-shaped base film F,
Supply side guide roll 4A and winding side guide roll 4B
And a cylindrical cooling can roll 5 that cools the back surface of the base film F while attaching the base film F during film formation is rotatably disposed. At the time of film formation on the base film F, the winding guide roll is wound while the base film F wound around the supply roll 3A is in contact with the cooling can roll 5 rotating in the direction of the arrow via the supply side guide roll 4A. It is made to travel in the direction of the arrow toward the winding roll 3B via 4B.

【0007】この際、薄膜磁気テープの媒体素材となる
ベースフィルムFは、一般的に厚さが略6.4μmのP
ET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを用いて
いる。
At this time, the base film F, which is a medium material of the thin-film magnetic tape, generally has a thickness of about 6.4 μm.
An ET (polyethylene terephthalate) film is used.

【0008】また、冷却キャンロール5の内部には、冷
却器(図示せず)が設置され、成膜時にベースフィルム
Fの裏面側が冷却キャンロール5に添接しながら走行し
ている間にベースフィルムFの温度上昇による変形など
を抑制している。
A cooler (not shown) is provided inside the cooling can roll 5, and the back side of the base film F moves while being in contact with the cooling can roll 5 during film formation. The deformation and the like due to the temperature rise of F are suppressed.

【0009】また、真空槽2内で冷却キャンロール5の
斜め左下方には、成膜用坩堝材料としてMgO(マグネ
シア)を用いて図5に示したような直方形状の成膜用坩
堝6が設置されている。この成膜用坩堝6内には、成膜
材料としてCoなどの強磁性材料7が収容されている。
In addition, a rectangular film-forming crucible 6 as shown in FIG. 5 using MgO (magnesia) as a film-forming crucible material is provided obliquely below and left of the cooling can roll 5 in the vacuum chamber 2. is set up. The film forming crucible 6 contains a ferromagnetic material 7 such as Co as a film forming material.

【0010】また、真空槽2の左側壁2aには、成膜用
坩堝6内に収容したCoなどの強磁性材料7を溶融して
飛粒子7aを蒸発させるための蒸発用熱源となるピアス
型電子銃8が成膜用坩堝6に向かって取り付けられてい
る。このピアス型電子銃8は、成膜用坩堝6内の金属磁
性材料7に向かって電子ビーム8aが出射されており、
この電子ビーム8aで成膜用坩堝6内の金属磁性材料7
を溶融して飛粒子7aを冷却キャンロール5に添接中の
ベースフィルムFに向かって蒸発させている。
On the left side wall 2a of the vacuum chamber 2, a piercing type heat source for evaporation for melting the ferromagnetic material 7 such as Co contained in the film forming crucible 6 and evaporating the flying particles 7a is provided. An electron gun 8 is attached to the film forming crucible 6. The piercing type electron gun 8 emits an electron beam 8 a toward the metallic magnetic material 7 in the film forming crucible 6.
With this electron beam 8a, the metallic magnetic material 7 in the film forming crucible 6 is formed.
Is melted to evaporate the flying particles 7a toward the base film F in contact with the cooling can roll 5.

【0011】また、ベースフィルムFの走行時に、成膜
用坩堝6内から蒸発したCoなどの飛粒子7aは約20
00°C程度まで昇温されているので、この飛粒子7a
の温度や成膜用坩堝6内で溶融したCoなどの蒸発材料
による輻射熱などでベースフィルムFの成膜面側を変形
させないようにする必要があると共に、飛粒子7aが冷
却キャンロール5に付着しない様にベースフィルムFの
エッジ部分を覆う必要がある。更に、薄膜磁気テープを
作製する場合には電磁変換特性上の要求から、ベースフ
ィルムFの成膜面に対して蒸発したCoなどの飛粒子7
aの付着入射角度を制限(これを一般に斜方蒸着と呼
ぶ。)する必要があり、不適切な部分での蒸着を防ぐ必
要がある。
When the base film F is running, flying particles 7a of Co and the like evaporated from the film forming crucible 6 are about 20%.
Since the temperature has been raised to about 00 ° C., the flying particles 7a
It is necessary not to deform the film forming surface side of the base film F due to the temperature of the film or radiant heat due to the evaporation material such as Co melted in the film forming crucible 6, and the flying particles 7a adhere to the cooling can roll 5. It is necessary to cover the edge portion of the base film F so as not to do so. Further, when producing a thin film magnetic tape, flying particles 7 such as Co vaporized on the film-forming surface of the base film F are required due to the requirement of electromagnetic conversion characteristics.
It is necessary to restrict the incident angle of a (this is generally referred to as oblique deposition), and it is necessary to prevent deposition at inappropriate portions.

【0012】そこで、冷却キャンロール5と成膜用坩堝
6との間で、且つ、冷却キャンロール5に接近させて、
水冷による冷却板9を円弧状に設けている。
Therefore, between the cooling can roll 5 and the film forming crucible 6 and approaching the cooling can roll 5,
A cooling plate 9 formed by water cooling is provided in an arc shape.

【0013】ここでは、冷却キャンロール5の幅よりも
ベースフィルムFの幅が狭く、ベースフィルムFのエッ
ジ部分の冷却キャンロール5への飛粒子7aの付着・回
り込みを防ぐため、冷却キャンロール5の端部からベー
スフィルムFのエッジ部分数cmまで冷却板9で覆って
いる。また、冷却板9には開口部9aがベースフィルム
Fの幅方向に沿って略矩形状に開口されており、この開
口部9aで成膜用坩堝6内から蒸発したCoなどの飛粒
子7aのベースフィルムFへの成膜開始時の入射角αと
成膜終了時の入射角βとを規制している。
Here, the width of the base film F is narrower than the width of the cooling can roll 5, and in order to prevent the flying particles 7a from adhering to and wrapping around the cooling can roll 5 at the edge portion of the base film F, the cooling can roll 5 is formed. From the end of the base film F to the edge of the base film F several cm. An opening 9a is formed in the cooling plate 9 in a substantially rectangular shape along the width direction of the base film F, and flying particles 7a such as Co evaporated from the crucible 6 for film formation are formed in the opening 9a. The angle of incidence α at the start of film formation on the base film F and the angle of incidence β at the end of film formation are regulated.

【0014】また、冷却キャンロール5と冷却板9との
間で成膜終了時の入射角β側の内側には、酸素ガス導入
パイプ10が取り付けられており、この酸素ガス導入パ
イプ10に設けられた複数の孔から酸素ガスO2が成膜
用坩堝6内から蒸発した金属磁性材料7の飛粒子7aに
向かって射出されている。
An oxygen gas introduction pipe 10 is mounted between the cooling can roll 5 and the cooling plate 9 on the side of the incident angle β when the film formation is completed. Oxygen gas O 2 is injected from the formed holes toward the flying particles 7 a of the metal magnetic material 7 evaporated from the inside of the film forming crucible 6.

【0015】また、ピアス型電子銃8から出射される電
子ビーム8aは、軌道に偏向磁界を印加するための偏向
マグネット11と、成膜用坩堝6に近設した偏向マグネ
ット12とにより制御されている。従って、成膜用坩堝
6の長手方向に電子ビーム8aを走査することにより、
蒸発したCoなどの飛粒子7aが冷却板9の開口部9a
を通過してベースフィルムFの幅方向にCo−CoO磁
性膜として極薄く膜付けされ、このCo−CoO磁性膜
をベースフィルムFの長さ方向に成膜することにより長
尺な薄膜磁気テープが巻取ロール3Bに巻き取れてい
る。
The electron beam 8a emitted from the pierce type electron gun 8 is controlled by a deflection magnet 11 for applying a deflection magnetic field to the orbit and a deflection magnet 12 provided near the film forming crucible 6. I have. Therefore, by scanning the electron beam 8a in the longitudinal direction of the film forming crucible 6,
The flying particles 7a of the evaporated Co or the like form the opening 9a of the cooling plate 9.
Through the base film F to form an ultra-thin film as a Co-CoO magnetic film in the width direction. By forming this Co-CoO magnetic film in the length direction of the base film F, a long thin film magnetic tape can be formed. It has been wound around the winding roll 3B.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来の薄膜磁気テープ成膜装置1Aでは、成膜用坩堝6が
冷却キャンロール5及び冷却板9から離れて装置1Aの
下方に設置されているため、成膜用坩堝6内から蒸発し
たCoなどの強磁性材料の飛粒子7aの一部は冷却板9
の開口部9aを通過してベースフィルムF上に成膜され
るものの、飛粒子7aの残り大部分が図4に示したよう
に冷却板9の開口部9aの周辺に付着して堆積してしま
う。この際、冷却板9に付着する飛粒子7aの量は全体
の85〜90%程度を占めて無効なものとなってしまっ
ている。
By the way, in the above-mentioned conventional thin film magnetic tape film forming apparatus 1A, the film forming crucible 6 is installed below the apparatus 1A apart from the cooling can roll 5 and the cooling plate 9. Therefore, some of the flying particles 7a of a ferromagnetic material such as Co evaporated from the inside of the film forming crucible 6
Although the film is formed on the base film F through the opening 9a, most of the flying particles 7a adhere to and accumulate around the opening 9a of the cooling plate 9 as shown in FIG. I will. At this time, the amount of flying particles 7a adhering to the cooling plate 9 occupies about 85 to 90% of the whole, and is invalid.

【0017】このために装置1A内の真空を破り、チャ
ンバーを解放して冷却板9に付着した飛粒子7aの除去
を定期的に行う必要があるので、ベースフィルムFに連
続的に蒸着を行う際、ベースフィルムFへの成膜処理長
に限界が生じる。この際、冷却板9に付着した飛粒子7
aの除去を行うには、冷却板9から付着した飛粒子7a
のみを剥離したり、削り落としたり、又は溶融したりし
て、リサイクルするか廃棄するかである。
For this reason, it is necessary to break the vacuum in the apparatus 1A, open the chamber and periodically remove the flying particles 7a attached to the cooling plate 9, and thus continuously deposit the base film F. In this case, there is a limit to the length of the film forming process on the base film F. At this time, flying particles 7 attached to cooling plate 9
In order to remove a, the flying particles 7a attached from the cooling plate 9 are removed.
Only scraping, scraping, or melting and recycling or discarding.

【0018】リサイクルする場合はその純度が重要で、
どうしてもCoなどの飛粒子7aのみを剥離・削り落と
し・溶融したりすることは難しく、不純物の混入は避け
ることができなかった。
When recycling, its purity is important.
It was difficult to peel, scrape, and melt only the flying particles 7a of Co or the like, and the inclusion of impurities could not be avoided.

【0019】この様な理由でこの無効付着物の精錬業者
の引き取り価格は、成膜材料購入価格の1割程度にとど
まっているのが現状である。とくに、薄膜磁気テープを
製造する場合は、高価なコバルト基の金属磁性材料を使
用するため、製品の値段は概ね材料利用効率で決定され
る。
[0019] For these reasons, the cost of refining the ineffective deposits by a smelter is currently about 10% of the purchase price of the film forming material. In particular, when manufacturing a thin film magnetic tape, an expensive cobalt-based metal magnetic material is used, so that the price of a product is generally determined by the material use efficiency.

【0020】また、ベースフィルムFへの蒸着を再開す
るには装置1A内を高真空状態にひく必要がある。更
に、成膜用坩堝6内の金属磁性材料7においても加熱を
中断するので再加熱の必要があり時間を要するので、装
置1Aの稼働率・生産性が悪くなってしまう。
Further, in order to resume the vapor deposition on the base film F, it is necessary to draw a high vacuum inside the apparatus 1A. Furthermore, since the heating of the metal magnetic material 7 in the film forming crucible 6 is also interrupted, it is necessary to reheat the material and it takes time, so that the operation rate and productivity of the apparatus 1A deteriorate.

【0021】上述した理由により、とくに、薄膜磁気テ
ープの製造分野では成膜材料の利用効率の悪さが深刻な
問題となっている。
For the reasons described above, particularly in the field of manufacturing thin film magnetic tapes, poor utilization efficiency of film forming materials has become a serious problem.

【0022】そこで、成膜用坩堝内の成膜材料の利用効
率の向上を図ることを目的とした真空成膜装置及びこの
真空成膜装置に適用される成膜用坩堝が望まれている。
Therefore, there is a demand for a vacuum film forming apparatus and a film forming crucible applied to the vacuum film forming apparatus for the purpose of improving the utilization efficiency of the film forming material in the film forming crucible.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第1の発明は、供給ロールに巻
回した帯状のベースフィルムを添接しながら巻取ロール
側に走行させ、且つ、成膜時に前記ベースフィルムの裏
面側を冷却しながら回転する冷却キャンロールと、前記
冷却キャンロールの下方に設けられ、成膜材料を収容し
た成膜用坩堝と、前記成膜用坩堝内に収容した前記成膜
材料を溶融して飛粒子を前記冷却キャンロール側に向か
って蒸発させる蒸発用熱源と、前記冷却キャンロールと
前記成膜用坩堝との間で該冷却キャンロールに接近して
設けられ、前記ベースフィルムの成膜面側を冷却すると
共に、前記飛粒子の前記ベースフィルムへの成膜開始時
の入射角と成膜終了時の入射角とを規制するための開口
部を形成した冷却板とを真空槽に少なくとも備え、前記
飛粒子を前記冷却板の開口部を通過させた後に該飛粒子
を前記冷却キャンロールに添接中の前記ベースフィルム
上に成膜する真空成膜装置において、前記成膜用坩堝
は、前記飛粒子を前記冷却キャンロールに添接中の前記
ベースフィルムに向かって蒸発させるために上端側を開
口した上端側開口部を前記冷却板の開口部近傍まで延出
して、該上端側開口部を該冷却板の開口部に略沿わせた
ことを特徴とする真空成膜装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and a first invention is to allow a supply base to run on a take-up roll while a belt-shaped base film wound on the supply roll is in contact with the base roll. A cooling can roll that rotates while cooling the back side of the base film during film formation, a film forming crucible provided below the cooling can roll and containing a film forming material, and the film forming crucible An evaporating heat source for melting the film-forming material accommodated therein and evaporating flying particles toward the cooling can roll, and approaching the cooling can roll between the cooling can roll and the film forming crucible. An opening for cooling the film-forming surface side of the base film, and for controlling the angle of incidence of the flying particles on the base film at the start of film formation and the angle of incidence at the end of film formation. Formed cooling And at least a vacuum tank, in a vacuum film forming apparatus for forming the flying particles on the base film in contact with the cooling can roll after passing the flying particles through the opening of the cooling plate, The film forming crucible extends an upper end opening having an upper end opening near the opening of the cooling plate to evaporate the flying particles toward the base film being in contact with the cooling can roll. A vacuum film forming apparatus, wherein the upper end side opening is substantially aligned with the opening of the cooling plate.

【0024】また、第2の発明は、供給ロールに巻回し
た帯状のベースフィルムを添接しながら巻取ロール側に
走行させ、且つ、成膜時に前記ベースフィルムを冷却し
ながら回転する冷却キャンロールと、前記冷却キャンロ
ールの下方に設けられ、成膜材料を収容した成膜用坩堝
と、前記成膜用坩堝内に収容した前記成膜材料を溶融し
て飛粒子を前記冷却キャンロール側に向かって蒸発させ
る蒸発用熱源とを真空槽に少なくとも備え、前記飛粒子
を前記冷却キャンロールに添接中の前記ベースフィルム
上に成膜する真空成膜装置において、前記成膜用坩堝
は、前記飛粒子を前記冷却キャンロールに添接中の前記
ベースフィルムに向かって蒸発させるために上端側を開
口した上端側開口部を前記冷却キャンロール近傍まで延
出して該冷却キャンロールに接近させ、前記上端側開口
部で前記飛粒子の前記ベースフィルムへの成膜開始時の
入射角と成膜終了時の入射角とを規制したことを特徴と
する真空成膜装置である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a cooling can roll which rotates while feeding a strip-shaped base film wound around a supply roll to a take-up roll side while cooling the base film during film formation. Provided below the cooling can roll, a film forming crucible containing a film forming material, and melting the film forming material housed in the film forming crucible to fly particles to the cooling can roll side. In a vacuum film forming apparatus for providing at least a heat source for evaporation to evaporate toward the vacuum tank, and forming the flying particles on the base film while being attached to the cooling can roll, the film forming crucible includes: In order to evaporate flying particles toward the base film being in contact with the cooling can roll, an upper end opening opening at the upper end is extended to the vicinity of the cooling can roll, and In the vacuum film forming apparatus, wherein the incident angle at the start of film formation and the angle of incidence at the end of film formation of the flying particles on the base film are regulated at the upper end side opening. is there.

【0025】また、第3の発明は、上記した第1又は第
2の発明の真空成膜装置において、前記成膜材料として
金属磁性材料を用い、この金属磁性材料を溶融して蒸発
させた飛粒子を前記ベースフィルム上に成膜して薄膜磁
気テープを作製することを特徴とする真空成膜装置であ
る。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the vacuum film forming apparatus according to the first or second aspect, wherein a metal magnetic material is used as the film forming material, and the metal magnetic material is melted and evaporated. A vacuum film forming apparatus characterized in that particles are formed on the base film to produce a thin film magnetic tape.

【0026】また、第4の発明は、真空槽内で供給ロー
ルに巻回した帯状のベースフィルムの裏面側を冷却キャ
ンロールに添接しながら冷却して巻取ロール側に走行さ
せ、且つ、前記冷却キャンロールに接近して設けた冷却
板で前記ベースフィルムの成膜面側を冷却しながら溶融
した成膜材料を蒸発させた飛粒子を前記冷却板に形成し
た開口部を通過させると共に前記開口部で前記飛粒子の
前記ベースフィルムへの成膜開始時の入射角と成膜終了
時の入射角とを規制して該飛粒子を前記ベースフィルム
上に成膜するために、前記成膜材料を収容した成膜用坩
堝において、前記成膜用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却
キャンロールに添接中の前記ベースフィルムに向かって
蒸発させるために上端側を開口した上端側開口部を前記
冷却板の開口部近傍まで延出して、該上端側開口部を該
冷却板の開口部に略沿わせたことを特徴とする成膜用坩
堝である。
In a fourth aspect of the present invention, the back side of the band-shaped base film wound around a supply roll in a vacuum chamber is cooled while running in contact with a cooling can roll, and is caused to travel to a take-up roll. A cooling plate provided close to a cooling can roll cools the film-forming surface side of the base film and evaporates the melted film-forming material, passes flying particles through an opening formed in the cooling plate, and opens the opening. In order to form the flying particles on the base film by regulating the angle of incidence of the flying particles on the base film and the angle of incidence at the end of the film formation on the base film, the film forming material In the film formation crucible containing the film formation, the film formation crucible has an upper end side opening opening at the upper end side for evaporating the flying particles toward the base film being attached to the cooling can roll. Near the opening of the cooling plate Extends to, is the upper end opening in the deposition crucible, characterized in that were substantially along the opening of the cooling plate.

【0027】更に、第5の発明は、真空槽内で供給ロー
ルに巻回した帯状のベースフィルムを冷却キャンロール
に添接しながら冷却して巻取ロール側に走行させ、溶融
した成膜材料を蒸発させた飛粒子を前記冷却キャンロー
ルに添接中の前記ベースフィルム上に成膜するために、
前記成膜材料を収容した成膜用坩堝において、前記成膜
用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却キャンロールに添接中
の前記ベースフィルムに向かって蒸発させるために上端
側を開口した上端側開口部を前記冷却キャンロール近傍
まで延出して該冷却キャンロールに接近させ、前記上端
側開口部で前記飛粒子の前記ベースフィルムへの成膜開
始時の入射角と成膜終了時の入射角とを規制したことを
特徴とする成膜用坩堝である。
Further, according to a fifth aspect of the present invention, a belt-shaped base film wound around a supply roll in a vacuum chamber is cooled while being in contact with a cooling can roll, and is caused to travel to a take-up roll side. In order to form the evaporated flying particles on the base film being attached to the cooling can roll,
In the film forming crucible containing the film forming material, the film forming crucible has an upper end opened at an upper end to evaporate the flying particles toward the base film being in contact with the cooling can roll. The opening extends near the cooling can roll and approaches the cooling can roll, and the incident angle at the start of film formation and the incident angle at the end of film formation of the flying particles on the base film at the upper end side opening. And a film forming crucible characterized in that:

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下に本発明に係る真空成膜装置
及び成膜用坩堝の一実施例を図1乃至図3を参照して<
第1実施例>,<第2実施例>の順に詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a vacuum film forming apparatus and a film forming crucible according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
First Embodiment> and <Second Embodiment> will be described in detail in this order.

【0029】<第1実施例>図1は本発明に係る第1実
施例の真空成膜装置を示した構成図、図2は本発明に係
る第1実施例の真空成膜装置に適用される成膜用坩堝を
示した斜視図である。尚、説明の便宜上、先に従来例で
示した構成部材と同一構成部材に対しては同一の符号を
付して適宜説明し、且つ、従来例と異なる構成部材に新
たな符号を付して説明する。
<First Embodiment> FIG. 1 is a block diagram showing a vacuum film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is applied to a vacuum film forming apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing a film forming crucible. For convenience of explanation, the same reference numerals are given to the same constituent members as those shown in the conventional example, and the description is appropriately given, and the constituent members different from the conventional example are provided with the new reference numerals. explain.

【0030】本発明に係る第1実施例の真空成膜装置
は、真空槽内で帯状のベースフィルム上に成膜材料を蒸
着により成膜するものであればいかなるものにも適用で
きるものである。この第1実施例の真空成膜装置では、
成膜材料として金属材料又は非金属材料を後述する本発
明の成膜用坩堝内に収容して、金属材料又は非金属材料
を蒸発用熱源により溶融して蒸発させた飛粒子をベース
フィルム上に成膜するものである。この際、成膜材料と
して金属材料など主に高融点材料を使用する場合には、
蒸発用熱源として電子銃からの電子ビームで成膜用坩堝
内に収容した金属材料などの高融点材料を溶融して飛粒
子を蒸発させれば良く、一方、成膜材料として非金属材
料など主に低融点材料を使用する場合には、蒸発用熱源
としてタングステン,ニクロム線などの抵抗加熱もしく
は誘導加熱で成膜用坩堝内に収容した非金属材料などの
低融点材料を溶融して飛粒子を蒸発させれば良い。
The vacuum film forming apparatus of the first embodiment according to the present invention can be applied to any apparatus that forms a film by vapor deposition on a strip-shaped base film in a vacuum chamber. . In the vacuum film forming apparatus of the first embodiment,
A metal material or a non-metal material is housed in a film forming crucible of the present invention described below as a film-forming material, and flying particles obtained by melting and evaporating the metal material or the non-metal material by a heat source for evaporation are formed on a base film. It is to form a film. At this time, when mainly using a high melting point material such as a metal material as a film forming material,
As a heat source for evaporation, an electron beam from an electron gun may be used to melt a high melting point material such as a metal material contained in a film forming crucible to evaporate flying particles. When a low melting point material is used as a heat source, the low melting point material such as a non-metallic material housed in a film forming crucible is melted by resistance heating or induction heating such as tungsten or nichrome wire as a heat source for evaporation to generate flying particles. What is necessary is just to evaporate.

【0031】そして、成膜材料としてAu,Ag,C
u,Alなどの金属材料を帯状のベースフィルム上に成
膜すれば帯状の包装用フィルム,装飾用フィルム,コン
デンサ用フィルムなどが作製でき、成膜材料としてCo
などの強磁性材料をベースフィルム上に成膜すれば薄膜
磁気テープが作製でき、更に、成膜材料として有機成膜
材料などの非金属材料をベースフィルム上に成膜すれば
帯状の包装用フィルム,装飾用フィルム,その他機能性
フィルムなどが作製できる。
Then, Au, Ag, and C are used as film forming materials.
If a metal material such as u, Al or the like is formed on a strip-shaped base film, a strip-shaped packaging film, a decoration film, a capacitor film, etc. can be manufactured.
A thin film magnetic tape can be manufactured by forming a ferromagnetic material such as a film on a base film, and a strip-shaped packaging film can be formed by forming a non-metallic material such as an organic film forming material on the base film. , Decorative films and other functional films.

【0032】尚、以下の説明では、成膜材料としてCo
などの強磁性材料を用いてこの金属磁性材料の飛粒子を
ベースフィルム上に成膜する薄膜磁気テープ成膜装置に
ついて詳述する。
In the following description, Co is used as a film forming material.
A thin film magnetic tape film forming apparatus for forming flying particles of the metallic magnetic material on a base film using a ferromagnetic material such as a ferromagnetic material will be described in detail.

【0033】図1に示した如く、本発明に係る第1実施
例の真空成膜装置(薄膜磁気テープ成膜装置)1Bで
は、先に図4を用いて説明したと同様に、真空槽2内
に、帯状のベースフィルムFを巻回させるための供給ロ
ール3A及び巻取ロール3Bと、供給側ガイドロール4
A及び巻取側ガイドロール4Bと、成膜時にベースフィ
ルムFを添接しながらベースフィルムFの裏面側を冷却
する円筒状の冷却キャンロール5とが回転自在に配置さ
れている。また、冷却キャンロール5の下方にこの冷却
キャンロール5に接近して水冷による冷却板9が円弧状
に設けられており、この冷却板9には開口部9aが冷却
キャンロール5に添接中のベースフィルムFの幅方向に
沿って略矩形状に開口されている。
As shown in FIG. 1, in the vacuum film forming apparatus (film magnetic tape film forming apparatus) 1B of the first embodiment according to the present invention, the vacuum chamber 2 is formed in the same manner as described above with reference to FIG. A supply roll 3A and a take-up roll 3B for winding a band-shaped base film F therein, and a supply-side guide roll 4
A and a take-up side guide roll 4B, and a cylindrical cooling can roll 5 that cools the back side of the base film F while attaching the base film F during film formation are rotatably arranged. A water-cooled cooling plate 9 is provided below the cooling can roll 5 in an arc shape close to the cooling can roll 5, and an opening 9 a is provided in the cooling plate 9 in contact with the cooling can roll 5. The base film F has a substantially rectangular opening along the width direction.

【0034】また、冷却板9の開口部9aの下方には、
先に図4及び図5を用いて説明した従来の成膜用坩堝6
に代えて、新たに開発した本発明の成膜用坩堝20が設
置されている。
Below the opening 9a of the cooling plate 9,
The conventional film forming crucible 6 described with reference to FIGS.
Instead, a newly developed film forming crucible 20 of the present invention is provided.

【0035】上記成膜用坩堝20は本発明の要部となる
ものであり、図2にも拡大して示した如く、成膜用坩堝
20は成膜用坩堝材料としてMgO(マグネシア)など
のセラミック材を用いて形成されており、この成膜用坩
堝20の内部に成膜材料としてCoなどの強磁性材料7
が収納されている。また、成膜用坩堝20の上端側に
は、上端側開口部20aが冷却板9の開口部9aの形状
よりも一回り僅かに大きく矩形状に開口されており、且
つ、上端側開口部20aが冷却板9の開口部9a近傍ま
で延出され、更に、上端側開口部20aを冷却板9の開
口部9aに略沿わせている。
The film forming crucible 20 is an essential part of the present invention. As shown in FIG. 2, the film forming crucible 20 is made of a material such as MgO (magnesia) as a film forming crucible. A ferromagnetic material 7 such as Co is formed inside the film forming crucible 20 as a film forming material.
Is stored. On the upper end side of the film forming crucible 20, an upper end side opening 20a is slightly opened slightly larger than the shape of the opening 9a of the cooling plate 9 and has a rectangular shape. Extends to the vicinity of the opening 9 a of the cooling plate 9, and furthermore, the upper end side opening 20 a substantially extends along the opening 9 a of the cooling plate 9.

【0036】また、成膜用坩堝20の側壁側には、真空
槽2の左側壁2aに取り付けたピアス型電子銃(蒸発用
熱源)8からの電子ビーム8aが進入する側壁側開口部
20bが矩形状に開口されている。
On the side wall of the film forming crucible 20, there is provided a side wall opening 20b through which an electron beam 8a from a pierce type electron gun (evaporation heat source) 8 attached to the left side wall 2a of the vacuum chamber 2 enters. It has a rectangular opening.

【0037】そして、ピアス型電子銃8からの電子ビー
ム8aが成膜用坩堝20の側壁側開口部20b内に進入
して、電子ビーム8aで成膜用坩堝20内のCoなどの
強磁性材料7を溶融して飛粒子7aを蒸発させ、この飛
粒子7aを上端側開口部20aから冷却板9の開口部9
aを通過させて冷却キャンロール5に添接中のベースフ
ィルムF側に向かって蒸発させている。
Then, the electron beam 8a from the piercing type electron gun 8 enters the side wall side opening 20b of the film forming crucible 20, and the ferromagnetic material such as Co in the film forming crucible 20 is irradiated with the electron beam 8a. 7, the flying particles 7a are evaporated, and the flying particles 7a are moved from the upper end side opening 20a to the opening 9 of the cooling plate 9.
a to evaporate toward the base film F being in contact with the cooling can roll 5.

【0038】この際、冷却板9は、従来例で説明したと
同様に、冷却キャンロール5に添接中のベースフィルム
Fの成膜面側を冷却している。また、冷却板9の開口部
9aは、従来例で説明したと同様に、成膜用坩堝20内
から蒸発したCoなどの飛粒子7aのベースフィルムF
への成膜開始時の入射角αと成膜終了時の入射角βとを
規制している。
At this time, the cooling plate 9 cools the film-forming surface side of the base film F being in contact with the cooling can roll 5, as described in the conventional example. The opening 9a of the cooling plate 9 is provided with a base film F of flying particles 7a such as Co evaporated from the film forming crucible 20 in the same manner as described in the conventional example.
The angle of incidence α at the start of film formation and the angle of incidence β at the end of film formation are regulated.

【0039】従って、実施例1では、成膜用坩堝20内
から蒸発したCoなどの飛粒子7aのベースフィルムF
への膜開始時の入射角αと成膜終了時の入射角βとを冷
却板9の開口部9aで規制しているため、成膜用坩堝2
0の上端側開口部20aは前述したように冷却板9の開
口部9aよりも一回り僅かに大きく開口しておけば良
い。
Accordingly, in the first embodiment, the base film F of the flying particles 7a such as Co evaporated from the film forming crucible 20 is formed.
The angle of incidence α at the start of film formation and the angle of incidence β at the end of film formation are regulated by the opening 9 a of the cooling plate 9.
The upper end side opening 20a of 0 may be slightly larger than the opening 9a of the cooling plate 9 as described above.

【0040】また、冷却キャンロール5と冷却板9との
間で成膜終了時の入射角β側の内側には、酸素ガス導入
パイプ10が取り付けられており、この酸素ガス導入パ
イプ10に設けられた複数の孔から酸素ガスO2が成膜
用坩堝6内から蒸発したCoなどの強磁性材料7の飛粒
子7aに向かって射出されている。
An oxygen gas introduction pipe 10 is provided between the cooling can roll 5 and the cooling plate 9 on the side of the incident angle β when the film formation is completed. Oxygen gas O 2 is injected from the formed plurality of holes toward the flying particles 7 a of the ferromagnetic material 7 such as Co evaporated from the inside of the film forming crucible 6.

【0041】また、ピアス型電子銃8から出射される電
子ビーム8aは、軌道に偏向磁界を印加するための偏向
マグネット11と、成膜用坩堝20に近設した偏向マグ
ネット12とにより制御されている。従って、成膜用坩
堝20の長手方向に電子ビーム8aを走査することによ
り、蒸発したCoなどの飛粒子7aが冷却板9の開口部
9aを通過してベースフィルムFの幅方向にCo−Co
O磁性膜として極薄く膜付けされ、このCo−CoO磁
性膜をベースフィルムFの長さ方向に成膜することによ
り長尺な薄膜磁気テープが巻取ロール3Bに巻き取れて
いる。
The electron beam 8 a emitted from the pierce type electron gun 8 is controlled by a deflection magnet 11 for applying a deflection magnetic field to the orbit and a deflection magnet 12 provided near the film forming crucible 20. I have. Therefore, by scanning the electron beam 8a in the longitudinal direction of the film forming crucible 20, the flying particles 7a such as evaporated Co pass through the opening 9a of the cooling plate 9 and pass through the opening 9a of the cooling plate 9 in the width direction of the base film F.
An extremely thin O magnetic film is formed, and a long thin magnetic tape is wound on a take-up roll 3B by forming the Co-CoO magnetic film in the length direction of the base film F.

【0042】ここで、上記した第1実施例の真空成膜装
置1B内で成膜用坩堝20を用いて10000mのベー
スフィルムF上にCoなどの飛粒子7aを実際に成膜し
た。この際、ベースフィルムFは、厚み10μmのPE
T(ポリエチレンテレフタレート)フィルムを用い、蒸
発材料として50kgの純コバルトを成膜用坩堝20内
にセットした。また、ベースフィルムFの走行速度は1
00m/min、成膜厚みは0.2μmの条件で成膜を
行った。この初期の条件通りに純コバルトが蒸発するよ
うに、成膜用坩堝20上の材料蒸気濃度を原子吸光式の
モニターで監視し、電子銃出力制御により蒸発量を一定
とした。
Here, flying particles 7a of Co or the like were actually formed on the base film F of 10000 m using the film forming crucible 20 in the vacuum film forming apparatus 1B of the first embodiment. At this time, the base film F is made of PE having a thickness of 10 μm.
Using a T (polyethylene terephthalate) film, 50 kg of pure cobalt was set in the film forming crucible 20 as an evaporation material. The running speed of the base film F is 1
The film was formed under the conditions of 00 m / min and the film thickness of 0.2 μm. The vapor concentration of the material on the film forming crucible 20 was monitored by an atomic absorption monitor so that the pure cobalt was evaporated according to the initial conditions, and the evaporation amount was kept constant by controlling the output of the electron gun.

【0043】そして、ベースフィルムF上に純コバルト
を10000mに亘って成膜した後に、本発明の成膜用
坩堝20内に残ったコバルト残量を測量したところ約4
3kgであった。また、10000m成膜された後のベ
ースフィルムFと、成膜前のベースフィルムFとの重さ
の差から成膜に使用されたコバルトは約5.3kgであ
ることが判った。よって、本発明の成膜用坩堝20を用
いた時の蒸発材料利用効率は{5.3/(50−4
3)}×100%で約76%となることが判った。
After a film of pure cobalt was formed on the base film F over 10,000 m, the remaining amount of cobalt remaining in the film forming crucible 20 of the present invention was measured.
It was 3 kg. The difference in weight between the base film F after the formation of 10,000 m and the base film F before the formation showed that the amount of cobalt used for the formation was about 5.3 kg. Therefore, the evaporation material utilization efficiency when using the film forming crucible 20 of the present invention is $ 5.3 / (50-4).
3) It was found that} × 100% was about 76%.

【0044】一方、本発明の成膜用坩堝20に代えて、
図5に示した従来の成膜用坩堝6で上記と同じように1
0000mのベースフィルムF上に純コバルトを実際に
成膜したところ、10000m成膜後に、成膜用坩堝6
内に残ったコバルト量は約14kgであった。よって、
従来の成膜用坩堝6を用いた時の蒸発材料利用効率は
{5.3/(50−14)}×100%で約15%とな
ることが判った。
On the other hand, instead of the film forming crucible 20 of the present invention,
In the conventional film forming crucible 6 shown in FIG.
When a pure cobalt film was actually formed on a 0000 m base film F, a 10,000 m film was formed, and then a crucible 6 for film formation was formed.
The amount of cobalt remaining inside was about 14 kg. Therefore,
It was found that the efficiency of using the evaporation material when the conventional film forming crucible 6 was used was {5.3 / (50-14)} × 100%, which was about 15%.

【0045】これらの実験から、本発明の成膜用坩堝2
0を用いれば、蒸発材料利用効率を従来に比べて大巾に
向上できることが判明した。
From these experiments, it was found that the film forming crucible 2 of the present invention was used.
It has been found that the use efficiency of evaporating material can be greatly improved by using 0 as compared with the conventional case.

【0046】以上のように構成した本発明に係る第1実
施例の真空成膜装置1B及び成膜用坩堝20によれば、
とくに、成膜用坩堝20の上端側開口部20aを冷却板
9の開口部9a近傍まで延出しているので、成膜用坩堝
20内に収納したCoなどの強磁性材料7を溶融して蒸
発させた飛粒子7aが無駄なくベースフィルムF上に成
膜でき、金属磁性材料7の利用効率が大巾に向上する。
また、成膜用坩堝20内から蒸発した飛粒子7aが冷却
板9の開口部9aの周辺に飛び散ることがないので、飛
粒子7aが冷却板9に付着して堆積することが全くなく
なり、装置1Bの保全が楽になり使用勝手が向上する。
According to the vacuum film forming apparatus 1B and the film forming crucible 20 of the first embodiment of the present invention configured as described above,
Particularly, since the upper end side opening 20a of the film forming crucible 20 extends to the vicinity of the opening 9a of the cooling plate 9, the ferromagnetic material 7 such as Co stored in the film forming crucible 20 is melted and evaporated. The flying particles 7a thus formed can be formed on the base film F without waste, and the utilization efficiency of the metal magnetic material 7 is greatly improved.
Further, since the flying particles 7a evaporated from the inside of the film forming crucible 20 do not scatter around the opening 9a of the cooling plate 9, the flying particles 7a do not adhere to and accumulate on the cooling plate 9 at all. 1B is easy to maintain, and the usability is improved.

【0047】<第2実施例>図3は本発明に係る第2実
施例の真空成膜装置を示した構成図である。
<Second Embodiment> FIG. 3 is a block diagram showing a vacuum film forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【0048】図3に示した第2実施例の真空成膜装置1
Cは、先に説明した第1実施例の真空成膜装置1Bの構
成と一部を除いて同様の構成であり、ここでは説明の便
宜上、先に示した構成部材に対しては同一の符号を付
し、第1実施例と異なる点のみについて説明する。
The vacuum film forming apparatus 1 of the second embodiment shown in FIG.
C has the same configuration as that of the previously described vacuum film forming apparatus 1B of the first embodiment except for a part thereof. Here, for convenience of explanation, the same reference numerals are used for the components shown above. And only different points from the first embodiment will be described.

【0049】図3に示した如く、本発明に係る第2実施
例の真空成膜装置1Cでは、冷却板9の開口部9aを第
1実施例の場合よりも一回り大きく広げて開口してい
る。
As shown in FIG. 3, in the vacuum film forming apparatus 1C according to the second embodiment of the present invention, the opening 9a of the cooling plate 9 is opened by being slightly larger than that in the first embodiment. I have.

【0050】一方、成膜用坩堝20は、先に図2を用い
て説明した第1実施例の場合と外観形状が略同じである
ものの、内部に収容したCoなどの強磁性材料7を溶融
して蒸発させた飛粒子7aを冷却キャンロール5に添接
中のベースフィルムFに向かって蒸発させるために上端
側を開口した上端側開口部20aを冷却キャンロール5
近傍まで延出して冷却キャンロール5に接近させ、且
つ、上端側開口部20aで飛粒子7のベースフィルムF
への成膜開始時の入射角αと成膜終了時の入射角βとを
規制できるように上端側開口部20aの開口寸法が設定
されている。
On the other hand, the film forming crucible 20 is substantially the same in appearance as the first embodiment described with reference to FIG. 2, but melts the ferromagnetic material 7 such as Co contained therein. In order to evaporate the flying particles 7a evaporated toward the base film F in contact with the cooling can roll 5, the upper end side opening 20a opened at the upper end side is provided with the cooling can roll 5.
The base film F of the flying particles 7 is extended to the vicinity and approached to the cooling can roll 5, and the upper end side opening 20a.
The opening size of the upper end side opening 20a is set so that the incident angle α at the start of film formation and the incident angle β at the end of film formation can be regulated.

【0051】そして、成膜用坩堝20の上端側開口部2
0aを、下方から冷却板9の開口部9a内に進入させ
て、上端側開口部20aを冷却キャンロール5に接近さ
せている。
Then, the upper end side opening 2 of the film forming crucible 20 is formed.
0 a is made to enter the opening 9 a of the cooling plate 9 from below, and the upper end side opening 20 a is made to approach the cooling can roll 5.

【0052】この第2実施例では、成膜用坩堝20内に
収容したCoなどの強磁性材料7を溶融して蒸発させた
飛粒子7aが成膜用坩堝20の上端側開口部20aでベ
ースフィルムFへの成膜開始時の入射角αと成膜終了時
の入射角βとを規制されながら飛粒子7aを冷却キャン
ロール5に添接中のベースフィルムF上に直接成膜する
ことができる。
In the second embodiment, flying particles 7a obtained by melting and evaporating a ferromagnetic material 7 such as Co contained in a crucible 20 for film formation are used as base materials at an opening 20a on the upper end side of the crucible 20 for film formation. The flying particles 7a can be directly formed on the base film F in contact with the cooling can roll 5 while the incident angle α at the start of film formation on the film F and the incident angle β at the end of film formation are regulated. it can.

【0053】尚、成膜時にベースフィルムFの成膜面側
を冷却する必要が無い場合には、冷却板9を設ける必要
がなくなるためにこの第2実施例の成膜用坩堝20を適
用すれば良い。
If it is not necessary to cool the film-forming surface side of the base film F during film-forming, the cooling plate 9 is not required, so that the film-forming crucible 20 of the second embodiment can be applied. Good.

【0054】以上のように構成した本発明に係る第2実
施例の真空成膜装置1C及び成膜用坩堝20によれば、
とくに、成膜用坩堝20の上端側開口部20aを冷却キ
ャンロール5近傍まで延出しているので、成膜用坩堝2
0内に収納したCoなどの強磁性材料7を溶融して蒸発
させた飛粒子7aが無駄なくベースフィルムF上に直接
成膜でき、金属磁性材料7の利用効率が大巾に向上す
る。また、冷却板9を設けた場合には、成膜用坩堝20
内から蒸発した飛粒子7aが冷却板9に飛び散ることが
ないので、飛粒子7aが冷却板9に付着して堆積するこ
とが全くなくなり、装置1Cの保全が楽になり使用勝手
が向上する。
According to the vacuum film forming apparatus 1C and the film forming crucible 20 of the second embodiment of the present invention configured as described above,
In particular, since the upper end side opening 20a of the film forming crucible 20 extends to the vicinity of the cooling can roll 5, the film forming crucible 2
The flying particles 7a obtained by melting and evaporating the ferromagnetic material 7 such as Co stored in 0 can be directly formed on the base film F without waste, and the utilization efficiency of the metal magnetic material 7 is greatly improved. When the cooling plate 9 is provided, the film forming crucible 20
Since the flying particles 7a evaporated from the inside do not scatter to the cooling plate 9, the flying particles 7a do not adhere to and accumulate on the cooling plate 9, so that maintenance of the apparatus 1C is facilitated and usability is improved.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳述した本発明に係る真空成膜装置
及び成膜用坩堝において、請求項1記載の真空成膜装置
及び請求項4記載の成膜用坩堝によると、とくに、成膜
用坩堝の上端側開口部を冷却板の開口部近傍まで延出し
ているので、成膜用坩堝内に収納した成膜材料を溶融し
て蒸発させた飛粒子が無駄なくベースフィルム上に成膜
でき、成膜材料の利用効率が大巾に向上する。また、成
膜用坩堝内から蒸発した飛粒子が冷却板の開口部の周辺
に飛び散ることがないので、飛粒子が冷却板に付着して
堆積することが全くなくなり、装置の保全が楽になり使
用勝手が向上する。
In the vacuum film forming apparatus and film forming crucible according to the present invention described in detail above, according to the vacuum film forming apparatus according to claim 1 and the film forming crucible according to claim 4, particularly, Since the opening on the upper end side of the crucible extends to the vicinity of the opening of the cooling plate, flying particles obtained by melting and evaporating the film-forming material stored in the film-forming crucible are deposited on the base film without waste. As a result, the utilization efficiency of the film forming material is greatly improved. In addition, since flying particles evaporated from the film forming crucible do not scatter around the opening of the cooling plate, flying particles do not adhere to and accumulate on the cooling plate at all, making maintenance of the apparatus easier and easier to use. Selfishness improves.

【0056】また、請求項2記載の真空成膜装置及び請
求項5記載の成膜用坩堝によると、とくに、成膜用坩堝
の上端側開口部を冷却キャンロール近傍まで延出してい
るので、成膜用坩堝内に収納した成膜材料を溶融して蒸
発させた飛粒子が無駄なくベースフィルム上に直接成膜
でき、成膜材料の利用効率が大巾に向上する。また、冷
却板を設けた場合には、成膜用坩堝内から蒸発した飛粒
子が冷却板に飛び散ることがないので、飛粒子が冷却板
に付着して堆積することが全くなくなり、装置の保全が
楽になり使用勝手が向上する。
In the vacuum film forming apparatus according to the second aspect and the film forming crucible according to the fifth aspect, particularly, the upper end side opening of the film forming crucible extends to the vicinity of the cooling can roll. Flying particles obtained by melting and evaporating the film-forming material contained in the film-forming crucible can be directly formed on the base film without waste, and the utilization efficiency of the film-forming material is greatly improved. When a cooling plate is provided, flying particles evaporated from the film forming crucible do not scatter to the cooling plate. And ease of use is improved.

【0057】また、請求項3記載の真空成膜装置による
と、請求項1又は請求項2記載の真空成膜装置を適用し
て、成膜材料として金属磁性材料を用いて薄膜磁気テー
プを作製しているので、装置の稼働率・生産性が良好と
なり、薄膜磁気テープを効率良く作製でき、最終的には
薄膜磁気テープの低コスト化に大きくつながるものであ
る。
According to the vacuum film forming apparatus of the third aspect, the thin film magnetic tape is manufactured by using the metal magnetic material as the film forming material by applying the vacuum film forming apparatus of the first or second aspect. As a result, the operation rate and productivity of the apparatus are improved, and a thin-film magnetic tape can be manufactured efficiently, which ultimately greatly reduces the cost of the thin-film magnetic tape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る第1実施例の真空成膜装置を示し
た構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a vacuum film forming apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明に係る第1実施例の真空成膜装置に適用
される成膜用坩堝を示した斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a film forming crucible applied to the vacuum film forming apparatus of the first embodiment according to the present invention.

【図3】本発明に係る第2実施例の真空成膜装置を示し
た構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram illustrating a vacuum film forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】従来の薄膜磁気テープ成膜装置を説明するため
の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram for explaining a conventional thin film magnetic tape film forming apparatus.

【図5】従来の薄膜磁気テープ成膜装置に使用される従
来の成膜用坩堝を示した斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a conventional film forming crucible used in a conventional thin film magnetic tape film forming apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1B…第1実施例の真空成膜装置、1C…第2実施例の
真空成膜装置、2…真空槽、3A…供給ロール、3B…
巻取ロール、5…冷却キャンロール、7…成膜材料(強
磁性材料)、7a…蒸発した飛粒子、8…蒸発用熱源
(ピアス型電子銃)、9…冷却板、9a…開口部、20
…成膜用坩堝、20a…上端側開口部、F…ベースフィ
ルム。
1B: Vacuum film forming apparatus of the first embodiment, 1C: Vacuum film forming apparatus of the second embodiment, 2 ... vacuum tank, 3A ... supply roll, 3B ...
Take-up roll, 5: cooling can roll, 7: film forming material (ferromagnetic material), 7a: evaporated flying particles, 8: evaporation heat source (pierce type electron gun), 9: cooling plate, 9a: opening, 20
... crucible for film formation, 20a ... upper end side opening, F ... base film.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】供給ロールに巻回した帯状のベースフィル
ムを添接しながら巻取ロール側に走行させ、且つ、成膜
時に前記ベースフィルムの裏面側を冷却しながら回転す
る冷却キャンロールと、前記冷却キャンロールの下方に
設けられ、成膜材料を収容した成膜用坩堝と、前記成膜
用坩堝内に収容した前記成膜材料を溶融して飛粒子を前
記冷却キャンロール側に向かって蒸発させる蒸発用熱源
と、前記冷却キャンロールと前記成膜用坩堝との間で該
冷却キャンロールに接近して設けられ、前記ベースフィ
ルムの成膜面側を冷却すると共に、前記飛粒子の前記ベ
ースフィルムへの成膜開始時の入射角と成膜終了時の入
射角とを規制するための開口部を形成した冷却板とを真
空槽に少なくとも備え、前記飛粒子を前記冷却板の開口
部を通過させた後に該飛粒子を前記冷却キャンロールに
添接中の前記ベースフィルム上に成膜する真空成膜装置
において、 前記成膜用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却キャンロール
に添接中の前記ベースフィルムに向かって蒸発させるた
めに上端側を開口した上端側開口部を前記冷却板の開口
部近傍まで延出して、該上端側開口部を該冷却板の開口
部に略沿わせたことを特徴とする真空成膜装置。
1. A cooling can roll that runs on a take-up roll side while abutting a strip-shaped base film wound on a supply roll, and rotates while cooling the back side of the base film during film formation; A film forming crucible provided below the cooling can roll and containing the film forming material, and the film forming material housed in the film forming crucible is melted to evaporate flying particles toward the cooling can roll side. A heat source for evaporation to be provided, provided between the cooling can roll and the film forming crucible in close proximity to the cooling can roll to cool the film forming surface side of the base film and to form the base of the flying particles. At least a cooling plate provided with an opening for controlling the incident angle at the start of film formation and the incident angle at the end of film formation on the film is provided at least in a vacuum tank, and the flying particles are provided at the opening of the cooling plate. After passing In a vacuum film forming apparatus for forming the flying particles on the base film in contact with the cooling can roll, the film forming crucible includes the base film in which the flying particles are in contact with the cooling can roll. An upper end opening having an upper end opened to evaporate toward the vicinity of an opening of the cooling plate, and the upper end opening is substantially aligned with the opening of the cooling plate. Vacuum film forming equipment.
【請求項2】供給ロールに巻回した帯状のベースフィル
ムを添接しながら巻取ロール側に走行させ、且つ、成膜
時に前記ベースフィルムを冷却しながら回転する冷却キ
ャンロールと、前記冷却キャンロールの下方に設けら
れ、成膜材料を収容した成膜用坩堝と、前記成膜用坩堝
内に収容した前記成膜材料を溶融して飛粒子を前記冷却
キャンロール側に向かって蒸発させる蒸発用熱源とを真
空槽に少なくとも備え、前記飛粒子を前記冷却キャンロ
ールに添接中の前記ベースフィルム上に成膜する真空成
膜装置において、 前記成膜用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却キャンロール
に添接中の前記ベースフィルムに向かって蒸発させるた
めに上端側を開口した上端側開口部を前記冷却キャンロ
ール近傍まで延出して該冷却キャンロールに接近させ、
前記上端側開口部で前記飛粒子の前記ベースフィルムへ
の成膜開始時の入射角と成膜終了時の入射角とを規制し
たことを特徴とする真空成膜装置。
2. A cooling can roll that runs on a take-up roll side while adhering a strip-shaped base film wound on a supply roll, and rotates while cooling the base film during film formation; A crucible for film formation containing a film-forming material, and an evaporator for melting the film-forming material contained in the film-forming crucible and evaporating flying particles toward the cooling can roll. A vacuum source provided at least in a vacuum chamber, wherein the flying particles are deposited on the base film being in contact with the cooling can roll. The film forming crucible comprises: An upper end opening that is open at the upper end side to evaporate toward the base film being attached to the roll extends to near the cooling can roll and approaches the cooling can roll,
A vacuum film forming apparatus, wherein an angle of incidence of the flying particles on the base film at the start of film formation and an angle of incidence at the time of film formation end are regulated by the upper end side opening.
【請求項3】請求項1又は請求項2記載の真空成膜装置
において、 前記成膜材料として金属磁性材料を用い、この金属磁性
材料を溶融して蒸発させた飛粒子を前記ベースフィルム
上に成膜して薄膜磁気テープを作製することを特徴とす
る真空成膜装置。
3. The vacuum film forming apparatus according to claim 1, wherein a metal magnetic material is used as the film forming material, and flying particles obtained by melting and evaporating the metal magnetic material are formed on the base film. A vacuum film forming apparatus characterized by forming a film to form a thin film magnetic tape.
【請求項4】真空槽内で供給ロールに巻回した帯状のベ
ースフィルムの裏面側を冷却キャンロールに添接しなが
ら冷却して巻取ロール側に走行させ、且つ、前記冷却キ
ャンロールに接近して設けた冷却板で前記ベースフィル
ムの成膜面側を冷却しながら溶融した成膜材料を蒸発さ
せた飛粒子を前記冷却板に形成した開口部を通過させる
と共に前記開口部で前記飛粒子の前記ベースフィルムへ
の成膜開始時の入射角と成膜終了時の入射角とを規制し
て該飛粒子を前記ベースフィルム上に成膜するために、
前記成膜材料を収容した成膜用坩堝において、 前記成膜用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却キャンロール
に添接中の前記ベースフィルムに向かって蒸発させるた
めに上端側を開口した上端側開口部を前記冷却板の開口
部近傍まで延出して、該上端側開口部を該冷却板の開口
部に略沿わせたことを特徴とする成膜用坩堝。
4. The cooling device according to claim 1, wherein the back side of the band-shaped base film wound around the supply roll in the vacuum chamber is cooled while being brought into contact with the cooling can roll and is run toward the take-up roll. The flying particles obtained by evaporating the molten film-forming material while cooling the film-forming surface side of the base film with the cooling plate provided are passed through the opening formed in the cooling plate, and the flying particles of the flying particles are passed through the opening. In order to regulate the incident angle at the start of film formation and the incident angle at the end of film formation on the base film to form the flying particles on the base film,
In the film forming crucible containing the film forming material, the film forming crucible has an upper end opened at an upper end to evaporate the flying particles toward the base film being in contact with the cooling can roll. A crucible for film formation, wherein an opening extends to near the opening of the cooling plate, and the upper end side opening is substantially aligned with the opening of the cooling plate.
【請求項5】真空槽内で供給ロールに巻回した帯状のベ
ースフィルムを冷却キャンロールに添接しながら冷却し
て巻取ロール側に走行させ、溶融した成膜材料を蒸発さ
せた飛粒子を前記冷却キャンロールに添接中の前記ベー
スフィルム上に成膜するために、前記成膜材料を収容し
た成膜用坩堝において、 前記成膜用坩堝は、前記飛粒子を前記冷却キャンロール
に添接中の前記ベースフィルムに向かって蒸発させるた
めに上端側を開口した上端側開口部を前記冷却キャンロ
ール近傍まで延出して該冷却キャンロールに接近させ、
前記上端側開口部で前記飛粒子の前記ベースフィルムへ
の成膜開始時の入射角と成膜終了時の入射角とを規制し
たことを特徴とする成膜用坩堝。
5. A belt-shaped base film wound around a supply roll in a vacuum tank is cooled while being in contact with a cooling can roll and travels to a take-up roll side, and flying particles obtained by evaporating a molten film-forming material are removed. In order to form a film on the base film being in contact with the cooling can roll, in a film forming crucible containing the film forming material, the film forming crucible applies the flying particles to the cooling can roll. The upper end side opening which opened the upper end side to evaporate toward the base film in contact is extended to the vicinity of the cooling can roll and approached to the cooling can roll,
A crucible for film formation, wherein an angle of incidence of the flying particles on the base film at the start of film formation and an angle of incidence at the end of film formation are regulated by the upper end side opening.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005040449A1 (en) * 2003-09-29 2005-05-06 Seagate Technology Llc System, method and aperture for oblique deposition
JP2009228098A (en) * 2008-03-25 2009-10-08 Fujifilm Corp Crucible, vacuum deposition method and vacuum deposition apparatus

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