JP2002020807A - はんだボールおよびその製造方法 - Google Patents
はんだボールおよびその製造方法Info
- Publication number
- JP2002020807A JP2002020807A JP2000200599A JP2000200599A JP2002020807A JP 2002020807 A JP2002020807 A JP 2002020807A JP 2000200599 A JP2000200599 A JP 2000200599A JP 2000200599 A JP2000200599 A JP 2000200599A JP 2002020807 A JP2002020807 A JP 2002020807A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder ball
- dendrite
- mass
- surface shape
- area ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
精度を合せ持ちながら、平滑な表面形状を有するはんだ
ボールとその製造方法を提供する。 【解決手段】 球の中心を含む断面で観察した際に、最
も大きい1個のデンドライトの面積率が80%以下であ
るはんだボール。
Description
おけるマイクロソルダリング用はんだボールにおいて、
特に真球度が高く、搬送性に優れているはんだボールと
その製造方法に関する。
ル・グリッド・アレイ)は広く用いられている。BGA
は、キャリアにバンプを設けてはんだパットを形成し、
最終的に基板との接合を行うためには、キャリア上のア
レイ当り、数百、多くの場合数千ものはんだボールを、
精度高くしかも同一平面に取付けられ、このはんだボー
ルには真球に近い精度と平滑な表面と10ミクロン以内
の寸法精度が要求される。このように用いらるはんだボ
ールの製造方法としては、油中造球法が一般的である。
この方法は、微細に切断したはんだを油中で加熱溶解
し、次いで冷却して得るものである。しかし、この方法
では、微細なはんだ片を製造する工程や洗浄工程が必須
であり、不経済である。
として、るつぼ内の溶湯に圧力と振動を付与して前記る
つぼの低部に設けたオリフィスから溶湯を押出し、前記
オリフィスから滴下した溶湯を急冷凝固させて、はんだ
ボールを製造する方法が、米国特許第5,266,09
8号に開示され、均一液滴法と呼ばれている。この方法
は、装置の際上部にピエゾ素子などを用いた振動装置が
設置される。その下に上記溶湯を保持する炉があり、炉
の下にはオリフィスと呼ぶ穴があいている。オリフィス
の外には、このオリフィスから押し出された溶湯の分断
と凝固雰囲気を制御する回収チャンバーがあり、このチ
ャンバーの底ではんだボールを回収する構造になってい
る。
圧や加圧ができるようになっている。炉の圧力を回収チ
ャンバーより高くすることによって、オリフィスより溶
湯を噴出させる。この溶湯をジェットと呼ぶ。ピエゾ素
子などで発生させた振動をステンレスやセラミック製の
棒等を用いて、炉の中で溶湯にこの振動を付加する。振
動が付加されたジェットには、一定の間隔で流量の大小
があり、このために一定間隔で切断され、均一な体積の
液滴となる。さらに、均一の体積の液滴は、自身の表面
張力によって球状になる。その後に、凝固させることに
よって、均一に球状化したはんだボールを得る。また、
ジェットの周辺に電極を設置し、ジェットとこの電極の
間に電位差を持たせる。これによって、切断された液滴
を同符号に帯電させ、各液滴が反発して、凝固中の接触
による形状や粒径の不良を防止している。この方法は、
真円度と寸法精度の良いはんだボールを、高い生産性で
製造することを可能にする。
のはんだボールを、均一液滴法によって製造したとこ
ろ、はんだボールの表面形状の凹凸に差異が生じた。は
んだボールにおいて、表面形状は非常に重要である。そ
の主な理由は以下の2つある。
ケージに実装する装置では、はんだボールを連続的に供
給するために停滞することなく転がることが求められる
からである。もし、転がりが悪いと、装置の途中ではん
だボールの供給が止まりので、この供給部分の調整など
が頻繁に必要となり、生産効率を著しく低下させる。第
二に理由は、はんだボールをBGAパッケージに高精度
で並べる方法として、BGAパッケージに合わせて高精
度に配置したノズル部分を真空に引き、この部分にはん
だボールを吸着させ、所定の位置に配列する方法があ
る。この際に、はんだボールの表面の凸凹がはげしいと
吸着できず、はんだボールが置かれない端子ができ、B
GAパッケージそのものが不良となるからである。
る高い真球度と寸法精度を合せ持ちながら、平滑な表面
形状を有するはんだボールとその製造方法を提供するこ
とである。
状(凹凸)について、鋭利検討した表面形状が平滑なは
んだボールには特別な金属組織を有していることを知見
し、本発明に到達した。即ち本発明は、球の中心を含む
断面で観察した際に、最も大きい1個のデンドライトの
面積率が80%以下であるはんだボールである。好まし
くは、Snの融点を降下させる元素1種または2種以上
を、合計で0.5〜60質量%含有し、残部が実質的に
Snからなるはんだボールまたは、2〜6質量%Agを
含有し、さらに0.1〜2.0質量%Cuと0.1〜1
0.0%Biの1種または2種を含有し、残部が実質的
にSnからなるはんだボールである。
内の溶湯に圧力と振動を付与して前記るつぼの底部に設
けたオリフィスから溶湯を押出し、前記オリフィスから
滴下した溶湯を球状に急冷凝固させ、球の中心を含む断
面で観察した際に、最も大きい1個のデンドライトの面
積率を80%以下とするはんだボールの製造方法であ
る。
中心を含む断面で観察した際に、最も大きい1個のデン
ドライトの面積率が80%以下であることを特徴とする
はんだボールである。以下に詳しく本発明を説明する。
本発明者は球状に凝固した1mm以下の直径のはんだボ
ール表面形状と断面の金属組織との関係しついて詳細に
検討した。その結果、はんだボールの最終凝固部分と考
えられるデンドライトの先端付近の形状が、他の部分と
比較して凸凹が大きいことを見出した。
初に形成されたと推定される部分の表面は十分に平滑で
あったし、コロニーのみが形成された凝固組織を有する
はんだボールの表面も平滑であった。さらに詳細に観察
をすると、単結晶、あるいは殆どの部分を1個の結晶が
占めている単結晶に近いミクロ組織を有するはんだボー
ルでは、特に最終凝固と考えられる部分、例えばデンド
ライトの先端で、凸凹な形状となることがわかった。
いはそれに近いと考えられるミクロ組織を有するはんだ
ボールでは、表面形状が比較的に平滑になる凝固を始め
た部分が広くなることを見出した。さらに、このような
組織でデンドライトの先端がぶつかりあっている場合
は、表面形状が平滑に改善されることを見出した。すな
わち、1個の結晶が全体積の大部分を占めるようなミク
ロ組織は、1つのデンドライトが非常に大きく成長し、
表面形状の平滑な凝固開始の部分が狭く、表面形状が凸
凹している凝固の最終部分が広くなる。
球の中心を含む断面にて検討した。図1に示した模式図
を用いて説明すると、図1(a)のように、1つのデン
ドライトが大きい凝固組織では、図の上部になる最終凝
固部で表面形状が凸凹になり、図の下部になる凝固開始
部で表面形状が平滑な部分が少なく、この場合、最も大
きな1個のデンドライトの面積率は何れも80%を超え
るものとなっており、デンドライトの先端が球の表面に
突出して、表面の平滑性が失われる。
らほぼ均等な大きさのデンドライトが成長した場合を示
しており、この場合は、凝固開始部分が増加し、表面形
状が平滑な部分が広くなり、かつ最終凝固部の表面形状
が凸凹の部分も狭くなると考えらる。この場合の、最も
大きな1個のデンドライトの面積率は何れも80%以下
であり、球の表面へのデンドライト先端の突出は抑制さ
れ、表面の平滑性が確保される。また、図1(c)に示
したように、デンドライトがなく、コロニーのみから凝
固組織がなる場合も、表面形状は平滑になる。つまり、
球の中心を含む平面、すなわち断面積が最も広くなる断
面で、ミクロ組織を観察して最も広い面積を占めている
1個のデンドライトの面積が、全面積の80%以下であ
れば、表面形状が凸凹にならず、平滑性を確保できるた
め、本発明では最も広い面積を占めている1個のデンド
ライトの面積を80%以下と規定した。
個のデンドライトの面積が80%とすることができる化
学組成について、検討を行った。広く知られているよう
に、純Snの融点232℃以上に融点が高くなると、B
GAパッケージの耐熱などの問題が生じるだけでなく、
本発明者の検討によれば、デンドライトが80%を超え
て過剰に成長して、表面の平滑性を損ない易いことを知
見した。そこで、本発明者は、純Snの融点を下げる元
素と、Snを主成分としながら、融点が232℃未満に
調整できる種々の元素について、表面形状に与える影響
について検討した。
たは2種以上を合計で0.5質量%〜60質量%含有し
残部がSnからなる組成にすることよって、球の中心を
含む断面で観察した際に、最も大きい1個のデンドライ
トの面積率が80%以下の凝固組織に制御できる。ま
た、60%を超えて含有すると、はんだとして必要とさ
れる機械的強度を得ることや接合温度の調整が困難にな
る。好ましくは、Snの融点を降下させる元素を、合計
で2.0質量%以上含有させることであり、これにより
冷却方法などの製造条件への依存が低減され、顕著に表
面形状を平滑にすることが可能になる。このSnの融点
を降下させる元素には、例えば、Ag、Cu、Bi、P
b、Zn、Se、Ge、P、S、B、C、Al、Au、
Ni、In、Mn、Co等が挙げられる。
あるものとしてSbを適量添加することができるが、S
bはSnの融点を高める作用があるため、Snの融点が
232℃を超えない範囲内で添加することができる。こ
の場合は、例えばAg等のSnの融点を降下させる作用
を有する他の元素と複合添加することが望ましい。
ているPbを含まない化学組成のはんだボールとする場
合は、Snの融点を降下させる元素として、特に2〜6
質量%Agを含有し、さらに0.1〜2.0質量%Cu
と0.1〜10.0%Biの1種または2種を含有させ
ることによって、球の中心を含む断面で観察した際に、
最も大きい1個のデンドライトの面積率が80%以下の
凝固組織に容易に製造できると同時に、実装時のリフロ
ー温度の制御が容易になる。ここで規定した各元素の規
定理由を説明する。
Agを含有させると、液滴を常温ガス雰囲気中で冷却す
る生産性が高い冷却方法でも、はんだボールの凝固組織
は、共晶組織あるいはこれに近い組織となり、複数のデ
ンドライトあるいは複数のコロニーが存在する組織とな
り、1個のデンドライトが面積率80%以下にする作用
を有する元素であるが、2質量%未満あるいは6質量%
を越えるAgの含有は、好ましい凝固組織に制御するこ
とが簡単ではなくなり、冷却方法や液滴の温度などを高
精度で制御することが必要になるため、2〜6質量%の
範囲に規定した。好ましくは1.9〜3.6%の範囲内
である。
を0.1〜10.0質量%を1種または2種を添加する
と、急冷した凝固組織が共晶組織あるいはこれに近い組
織になるだけでなく、Sn−Agの2元系の場合よりデ
ンドライトあるいはコロニーの数が増加して、表面の平
滑性を高める。これは、CuやBiの添加により、凝固
時に核生成が容易になったためと考えている。この効果
は、0.1〜2.0質量%Cu、0.1〜10.0質量
%Biの範囲でこの効果が得られる。なお、このメカニ
ズムについては明確に解明出来ていないが、これら元素
を添加することにより融点などが変化することと相関が
あると考えている。好ましいCuとBiの範囲は、Cu
は0.4〜0.8%、Biは1.9〜3.6%の範囲で
あり、この範囲に調整すれば溶接温度を低くしたり、は
んだ接合強度を高めたりする効果も得られるため、特に
好ましいからである。
も、含有量が増加すると核生成が促進され、デンドライ
トの数が増加し表面形状を平滑する効果があると考えら
れる。よって、半田に必要とされる環境への影響、強
度、信頼性、濡れ性などが損なわれない範囲で、添加元
素として含まれることが好ましい。例えば、Pbフリー
のSn−Ag−Cu系のはんだボールでは、Pbを含ま
ないことが環境問題への対応から求められが、環境への
影響が少ないと考えられる数10ppm程度のPbの含
有は、表面形状を平滑にする効果を有する。
ついて説明する。具体的には、るつぼ内の溶湯に圧力と
振動を付与して前記るつぼの低部に設けたオリフィスか
ら溶湯を押出し、前記オリフィスから滴下した溶湯を球
状に急冷凝固させる均一液滴法によって、上述したはん
だボールを製造する方法である。本発明の均一液滴法で
は、溶湯を急冷凝固させて製造するために、凝固組織が
直接に表面形状に影響を及ぼす。製造方法で重要な点
は、オリフィスから滴下した液滴を特別に急冷凝固させ
ることである。これによって、上述してきたような最も
大きい1個のデンドライトの面積率を80%以下にし、
表面形状が平滑なはんだボールを製造することができ
る。
ゴン、水素などの不活性ガス、還元ガスあるいはこれら
の混合ガス雰囲気で、好ましくは0.11MPa以上の
気圧で凝固させる。あるいはさらに急冷を行いたい場合
には、液体窒素や液体アルゴンなど、0℃以下の安定な
液体を用いて凝固させることによって、均一液滴法の利
点である、高い真円度と寸法精度の良いはんだボール
を、高い生産性で製造できる上に、更に、平滑な表面形
態をも付与するに十分な効果を得ることができる。
して示すはんだボールは、本発明の液滴法を用い、るつ
ぼ内の溶湯に圧力と振動を付与して前記るつぼの底部に
設けたオリフィスから溶湯を押出し、オリフィスから滴
下した溶湯を窒素ガス雰囲気中で0.15MPaで球状
に急冷凝固させて直径600μmのはんだボールを製造
した。次いで、得られたはんだボールを、ボールの中心
を含む断面観察に供し、デンドライトの面積率を測定し
た。面積率の測定方法は、球の中心を含む断面もしくは
これに近い断面になるように鏡面研磨を行い、2質量%
HCl+5質量%HNO3+メタノールの混酸で腐食を
行い、断面の直径が590〜610μmであるもののみ
を20個無作為に選択して、光学顕微鏡でミクロ組織を
観察し画像解析により測定した。そして、この表1には
20個の中で1個のデンドライトで最も高い面積率であ
った値を示している。また、デンドライトがなく、コロ
ニーのみであったものは「なし」として示した。
ボールを転がす試験(転がし試験)をおこなった。転がり
試験の結果から基準をつくり、傾斜を転がっている最中
に斜面上で止まるものが全体の0.1%以上見られたも
のを転がりの悪かったものとして×、斜面を転がってい
る最中に斜面上で止まるものが0.1%未満であったも
のを、良品として○、斜面を転がっている最中に斜面上
で止まるものが0.1%未満であったが、斜め方向へ転
がったものは、形状が少し凸凹しているものを△として
示している。なお、No.2〜No.15のPb含有量
は、20ppm程度であった。
は、現在もっとも一般的に使用されているはんだ組成で
あるが、はんだボールの凝固組織は、コロニーのみから
なっており、表面形状は平滑であった。No.2は、S
nにCuが0.4質量%含有した組成であり、最大のデ
ンドライトの面積率が82%になっており、表面形状も
非常に凸凹であり、転がりも著しく悪かった。No.3
は、SnにCuが0.5質量%含有した組成になると、
最大のデンドライトの面積率が79%となり、表面形状
も平滑に改善され、転がりは良くなる。
有した組成であり、最大のデンドライトの面積率が59
%となり、表面形状は著しく平滑に改善される。No.
2から4を比較すると分かるように、Cu含有量が増加
するに従って、最大のデンドライトの面積率が減少し、
表面形状が平滑になる。特に、本発明である0.5質量
%以上Cuを含有したNo.3は、0.5質量%未満で
あるNo.2と比較して、表面形状も平滑に改善さる。
有した組成であり、最大のデンドライトの面積率が84
%になり、表面形状は凸凹している。このはんだボール
を走査式電子顕微鏡で観察した写真を、図2、3に示
す。図2ではデンドライトの最終凝固の先端が突出した
ために、明らかに表面形状が凸凹していることがわか
る。一方、図3は、凝固が開始した部分であるために、
平滑になっている。このように、No.5のはんだボー
ルでは、平滑な面もあるが、多くの表面では、デンドラ
イト先端が突出し、凸凹な形状になっている。
有した組成であり、最大のデンドライトの面積率が66
%になり、表面形状も平滑になる。No.7は、Snに
Agが3.5質量%含有した組成であり、最大のデンド
ライトの面積率が55%になり、表面形状は平滑にな
る。このはんだボールを走査式電子顕微鏡で観察した写
真を、図4、5に示す。これら図から、明らかに表面形
状が、No.5と比較して、平滑であることがわかる。
また、図5は2個の結晶からなっていると考えられる。
有した組成であり、コロニーのみが形成されており、表
面形状は非常に平滑である。No.5から8を比較する
と、Cuの含有を変えた場合と同様であり、Ag含有量
が増加する従って、最大のデンドライトの面積率が減少
し、さらにNo.8ではコロニーのみが形成され、表面
形状が改善される。No.9からNo.15は、Snに
Ag、Cu、Bi、Geを合計で2.0質量%以上含有
し、最大のデンドライトの面積率が60%未満になり、
表面形状が平滑なはんだボールである。なお、本発明の
はんだボールは、寸法精度が590〜610μmの範囲
あるものが製造した全てのボールの92%であり、円相
当径を最大径で割って定義した真球度について、20個
のボールを測定した結果、0.998以上であった。
度を併せ持ち、更に表面形状が平滑なはんだボールを得
られることができるため、BGAパッケージに実装する
際の不良率の低減に寄与して、生産性の向上や合格率の
向上させる。よって、本発明のはんだボールおよびその
製造方法は、工業的に非常に重要なものである。
る。
る。
Claims (4)
- 【請求項1】 球の中心を含む断面で観察した際に、最
も大きい1個のデンドライトの面積率が80%以下であ
ることを特徴とするはんだボール。 - 【請求項2】 Snの融点を降下させる元素1種または
2種以上を、合計で0.5〜60質量%含有し、残部が
実質的にSnからなる請求項1に記載のはんだボール。 - 【請求項3】 2〜6質量%Agを含有し、さらに0.
1〜2.0質量%Cuと0.1〜10.0%Biの1種
または2種を含有し、残部が実質的にSnからなる請求
項1に記載のはんだボール。 - 【請求項4】 るつぼ内の溶湯に圧力と振動を付与して
前記るつぼの底部に設けたオリフィスから溶湯を押出
し、前記オリフィスから滴下した溶湯を球状に急冷凝固
させ、球の中心を含む断面で観察した際に、最も大きい
1個のデンドライトの面積率を80%以下とするはんだ
ボールの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000200599A JP3649384B2 (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | はんだボールおよびその製造方法 |
US09/805,366 US6517602B2 (en) | 2000-03-14 | 2001-03-14 | Solder ball and method for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000200599A JP3649384B2 (ja) | 2000-07-03 | 2000-07-03 | はんだボールおよびその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004292482A Division JP4161318B2 (ja) | 2004-10-05 | 2004-10-05 | はんだボールの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002020807A true JP2002020807A (ja) | 2002-01-23 |
JP3649384B2 JP3649384B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=18698445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000200599A Expired - Lifetime JP3649384B2 (ja) | 2000-03-14 | 2000-07-03 | はんだボールおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3649384B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003001481A (ja) * | 2001-06-15 | 2003-01-08 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボールおよびその製造方法 |
JP2004020001A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Fuji Koki Corp | 膨張弁 |
JP2004154865A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-06-03 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボール用合金とはんだボール |
JP2004261863A (ja) * | 2003-01-07 | 2004-09-24 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだ |
JP2005040847A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Hitachi Metals Ltd | はんだボールの製造方法 |
JP2005252181A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Hitachi Metals Ltd | 微接着防止特性に優れたはんだボール及びはんだボールの微接着防止方法 |
JP2006009112A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Hitachi Metals Ltd | 微接着防止特性および濡れ性に優れたはんだボール及びはんだボールの微接着防止方法 |
JP2009233686A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Mitsubishi Materials Corp | ペースト用Pb−Snはんだ合金粉末およびPb−Snはんだ合金ボール |
WO2009131178A1 (ja) * | 2008-04-23 | 2009-10-29 | 千住金属工業株式会社 | 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 |
JP2020116638A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | キョン ドン エム テック カンパニー リミテッドKyung Dong Mtec Co., Ltd. | 高温及び振動環境に適合した無鉛ソルダ合金組成物及びその製造方法 |
WO2021029222A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
WO2021161954A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
WO2021161953A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP2021171812A (ja) * | 2020-04-30 | 2021-11-01 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
-
2000
- 2000-07-03 JP JP2000200599A patent/JP3649384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003001481A (ja) * | 2001-06-15 | 2003-01-08 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボールおよびその製造方法 |
JP2004020001A (ja) * | 2002-06-14 | 2004-01-22 | Fuji Koki Corp | 膨張弁 |
JP2004154865A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-06-03 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだボール用合金とはんだボール |
JP2004261863A (ja) * | 2003-01-07 | 2004-09-24 | Senju Metal Ind Co Ltd | 鉛フリーはんだ |
JP2005040847A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Hitachi Metals Ltd | はんだボールの製造方法 |
JP2005252181A (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Hitachi Metals Ltd | 微接着防止特性に優れたはんだボール及びはんだボールの微接着防止方法 |
JP4582444B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-11-17 | 日立金属株式会社 | 微接着防止特性および濡れ性に優れたはんだボール及びはんだボールの微接着防止方法 |
JP2006009112A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-12 | Hitachi Metals Ltd | 微接着防止特性および濡れ性に優れたはんだボール及びはんだボールの微接着防止方法 |
JP2009233686A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Mitsubishi Materials Corp | ペースト用Pb−Snはんだ合金粉末およびPb−Snはんだ合金ボール |
WO2009131178A1 (ja) * | 2008-04-23 | 2009-10-29 | 千住金属工業株式会社 | 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 |
JP5287852B2 (ja) * | 2008-04-23 | 2013-09-11 | 千住金属工業株式会社 | 引け巣が抑制された鉛フリーはんだ合金 |
US9227258B2 (en) | 2008-04-23 | 2016-01-05 | Senju Metal Industry Co., Ltd. | Lead-free solder alloy having reduced shrinkage cavities |
JP2020116638A (ja) * | 2019-01-24 | 2020-08-06 | キョン ドン エム テック カンパニー リミテッドKyung Dong Mtec Co., Ltd. | 高温及び振動環境に適合した無鉛ソルダ合金組成物及びその製造方法 |
US12103114B2 (en) | 2019-01-24 | 2024-10-01 | Kyung Dong Mtec Co., Ltd. | Lead-free solder alloy composition suitable for use in high-temperature and vibration environments and preparation method thereof |
JP7082995B2 (ja) | 2019-01-24 | 2022-06-09 | キョン ドン エム テック カンパニー リミテッド | 高温及び振動環境に適合した無鉛ソルダ合金組成物及びその製造方法 |
WO2021029222A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
JP2021028078A (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-25 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
WO2021161953A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP7025679B2 (ja) | 2020-02-14 | 2022-02-25 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP2021126685A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP2021126704A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
WO2021161954A1 (ja) * | 2020-02-14 | 2021-08-19 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP2021126703A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
JP7011208B2 (ja) | 2020-02-14 | 2022-01-26 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
CN115397606B (zh) * | 2020-02-14 | 2023-11-03 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球和钎焊接头 |
TWI765570B (zh) * | 2020-02-14 | 2022-05-21 | 日商千住金屬工業股份有限公司 | 無鉛且無銻之焊料合金、焊球,及焊料接頭 |
JP2021126686A (ja) * | 2020-02-14 | 2021-09-02 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、およびはんだ継手 |
TWI781050B (zh) * | 2020-02-14 | 2022-10-11 | 日商千住金屬工業股份有限公司 | 無鉛且無銻之焊料合金、焊球,及焊料接頭 |
CN115397605A (zh) * | 2020-02-14 | 2022-11-25 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球和钎焊接头 |
CN115397606A (zh) * | 2020-02-14 | 2022-11-25 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球和钎焊接头 |
CN115397605B (zh) * | 2020-02-14 | 2024-04-30 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球和钎焊接头 |
WO2021221145A1 (ja) * | 2020-04-30 | 2021-11-04 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
CN115485098B (zh) * | 2020-04-30 | 2023-10-03 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球、球栅阵列和钎焊接头 |
CN115485098A (zh) * | 2020-04-30 | 2022-12-16 | 千住金属工业株式会社 | 无铅且无锑的软钎料合金、焊料球、球栅阵列和钎焊接头 |
JP2021171812A (ja) * | 2020-04-30 | 2021-11-01 | 千住金属工業株式会社 | 鉛フリーかつアンチモンフリーのはんだ合金、はんだボール、Ball Grid Arrayおよびはんだ継手 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3649384B2 (ja) | 2005-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6517602B2 (en) | Solder ball and method for producing same | |
JP5893528B2 (ja) | 無鉛はんだバンプ接合構造 | |
JP2002057177A (ja) | はんだボールおよびその製造方法 | |
JP3649384B2 (ja) | はんだボールおよびその製造方法 | |
TWI592081B (zh) | 具有電極侵蝕防止層之組件及製造該組件之方法 | |
US10384314B2 (en) | Metal particle and method for producing the same, covered metal particle, and metal powder | |
US20090309219A1 (en) | Injection molded solder ball method | |
JP2005103645A (ja) | はんだボールおよびその製造方法 | |
EP1357197B1 (en) | Minute copper balls and a method for their manufacture | |
JP2002248596A (ja) | 耐酸化性に優れる鉛レス半田ボール | |
CN116689901A (zh) | 钎焊接合方法和钎焊接头 | |
Kang et al. | Critical factors affecting the undercooling of Pb-free, flip-chip solder bumps and in-situ observation of solidification process | |
JP4161318B2 (ja) | はんだボールの製造方法 | |
JP2005040847A (ja) | はんだボールの製造方法 | |
JP5147349B2 (ja) | バンプ形成用ペースト、及びバンプ構造体 | |
JP2001226706A (ja) | 微細金属球製造装置 | |
JP2008240059A (ja) | 金属粉の製造方法 | |
JP2005046882A (ja) | はんだ合金、はんだボール及びはんだ接合体 | |
JP2006159278A (ja) | ガラス低温接合用無鉛ハンダ合金及びその粉末の製造方法。 | |
JP2006102816A (ja) | はんだボールおよびその製造方法 | |
JP3779692B2 (ja) | 錫亜鉛ソルダーボールの製造方法 | |
JP6156136B2 (ja) | はんだバンプの焼結芯を形成するための芯用ペースト | |
JP4432041B2 (ja) | はんだ合金およびはんだボール | |
JP6111584B2 (ja) | はんだバンプの製造方法 | |
JP4023725B2 (ja) | はんだ合金およびはんだボール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040519 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040521 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040715 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040812 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040913 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20041026 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050128 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050210 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3649384 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090225 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090225 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100225 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100225 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110225 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110225 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120225 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120225 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130225 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |