JP2002009451A - Manufacturing method and apparatus for printed circuit board - Google Patents

Manufacturing method and apparatus for printed circuit board

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JP2002009451A
JP2002009451A JP2000185835A JP2000185835A JP2002009451A JP 2002009451 A JP2002009451 A JP 2002009451A JP 2000185835 A JP2000185835 A JP 2000185835A JP 2000185835 A JP2000185835 A JP 2000185835A JP 2002009451 A JP2002009451 A JP 2002009451A
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JP
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divided
via hole
reference mark
substrate
hole processing
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JP2000185835A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenichiro Hori
健一郎 堀
Shinji Hirata
信治 平田
Akio Ochi
昭夫 越智
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and apparatus for manufacturing a printed circuit board with high reliability in preventive measure against unnecessary short-circuiting at an interlayer connected position and realizing high-speed via-hole processing. SOLUTION: The manufacturing apparatus includes a feed unit 101 for feeding a substrate, a substrate transportation unit 105 for transporting the substrate, a length measuring unit 102 for measuring the position of a reference mark for via-hole process, a measurement control unit 107 for processing the measured data, a separation via-hole processing unit 103 for carrying out via hole processing for each division of the substrate on the basis of the measured data, a laser casting unit 106 for casting a laser beam for via hole process, and a substrate take-out unit 104. The position of reference mark is recognized by X-ray or by an optical method, and the via hole processing is carried out at the separation via hole processing unit 103 on the basis of the position measured data, so high-speed high-accuracy separation via hole processing is realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器に使用さ
れる両面や多層構造のプリント配線板の製造方法および
その製造装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a double-sided or multilayer printed wiring board used in electronic equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子機器に使用される両面や多層
構造のプリント配線板の製造工程としては、図6に示す
ものが、また、その製造工程におけるビア孔加工方法
は、図7に示す構成および方法が一般的である。
2. Description of the Related Art Conventionally, a manufacturing process of a double-sided or multilayer printed wiring board used in electronic equipment is shown in FIG. 6, and a method of forming a via hole in the manufacturing process is shown in FIG. The configuration and method are general.

【0003】図6は従来における多層構造のプリント配
線板の全体製造工程フロー図、図7は同製造工程におけ
る一括ビア孔加工基板の要部平面図である。
FIG. 6 is a flow chart of the entire manufacturing process of a conventional printed wiring board having a multilayer structure, and FIG. 7 is a plan view of a main portion of a collective via-hole processed substrate in the manufacturing process.

【0004】図6において、1はプリプレグ21の両面
にフィルム材22を貼付けてフィルム積層板を形成する
貼付部、3は前記フィルム積層板の予め設定された位置
にレーザなどによりビア孔23やアライメントなどの基
準となる基準孔24a,24bを形成する孔加工部、4
はその孔加工されたフィルム積層板のビア孔23に導電
性ペースト25を充填する充填部、5はその導電性ペー
スト25をビア孔23に充填したフィルム積層板からフ
ィルム材22を剥離した充填プリプレグ26を形成する
剥離部である。
In FIG. 6, reference numeral 1 denotes an attaching portion for attaching a film material 22 to both sides of a prepreg 21 to form a film laminate, and 3 denotes a via hole 23 or an alignment at a predetermined position of the film laminate by a laser or the like. Hole processing portions for forming reference holes 24a, 24b serving as references for
Is a filling part for filling the conductive paste 25 into the via holes 23 of the perforated film laminate, and 5 is a filling prepreg obtained by peeling the film material 22 from the film laminate having the conductive paste 25 filled in the via holes 23. This is a peeling portion for forming 26.

【0005】6は充填プリプレグ26の両面に銅箔の金
属材でなる導電箔27を貼付け積層する積層部、7は積
層熱プレスなどにより加圧、加熱し導電箔積層板28を
形成する樹脂硬化部、8はX線測定により基準孔24
a,24bの位置に露光基準孔29a,29bを改めて
加工する基準孔加工部、9は露光、現像あるいはエッチ
ングを行い、回路パターン30aを形成し、内層体とな
る両面基板31を形成するパターン形成部である。以
上、貼付部1からパターン形成部9によりコア形成部1
0を構成している。
Reference numeral 6 denotes a laminating section in which a conductive foil 27 made of a copper foil is adhered to and laminated on both sides of the filled prepreg 26. Reference numeral 7 denotes a resin curing method in which a conductive foil laminated plate 28 is formed by pressing and heating by a lamination hot press or the like. Part 8 is a reference hole 24 by X-ray measurement.
Reference hole processing portions 9 for processing the exposure reference holes 29a and 29b at the positions a and 24b, and a pattern formation for exposing, developing or etching to form a circuit pattern 30a and to form a double-sided substrate 31 as an inner layer body. Department. As described above, the core forming unit 1 is formed by the pattern forming unit 9 from the attaching unit 1.
0.

【0006】11は多層にするためにプリプレグ21と
フィルム材22を上下両面に貼付ける積層貼付部であ
り、プリプレグ積層板32を形成する。プリプレグ積層
板32に、次の基準孔加工部18でX線測定により露光
基準孔29a,29bの位置にビア孔加工基準孔29
c,29dを改めて加工し、基準孔加工積層板33を形
成する。13aはビア孔加工基準孔29c,29dを基
準として基板全面にビア孔34を形成する孔加工部であ
り、ビア孔加工積層板35を形成する。
Reference numeral 11 denotes a laminating portion for laminating a prepreg 21 and a film material 22 on both upper and lower surfaces to form a multilayer, and forms a prepreg laminated plate 32. In the prepreg laminated plate 32, via hole processing reference holes 29 are formed at the positions of the exposure reference holes 29a and 29b by X-ray measurement in the next reference hole processing section 18.
c and 29d are processed again to form a reference hole processed laminated plate 33. A hole processing portion 13a forms a via hole 34 on the entire surface of the substrate with reference to the via hole processing reference holes 29c and 29d, and forms a via hole processing laminated board 35.

【0007】次に充填部14でこのビア孔加工積層板3
5のビア孔34に導電性ペースト25を充填し、ペース
ト充填積層板36を形成した後、剥離部15でフィルム
材22を除去してフィルム剥離積層板37を形成する。
Next, in the filling section 14, the via-hole-processed laminate 3
After the conductive paste 25 is filled in the via hole 34 of No. 5 to form a paste-filled laminated board 36, the film material 22 is removed at the peeling section 15 to form a film peeled laminated board 37.

【0008】続いて、積層部16で導電箔27を上下両
面に貼付けて導電箔貼付板38を形成した後、樹脂硬化
部17で硬化、圧縮して導電箔積層板39を形成し、パ
ターン形成部19で露光、現像あるいはエッチングを行
い、回路パターン30bを形成して多層回路積層板40
を形成する。
Subsequently, the conductive foil 27 is stuck on the upper and lower surfaces of the laminated portion 16 to form a conductive foil stuck plate 38, which is then cured and compressed by the resin curing portion 17 to form a conductive foil laminated plate 39, thereby forming a pattern. Exposure, development or etching is performed in the portion 19 to form a circuit pattern 30b, and the multilayer circuit laminate 40
To form

【0009】さらに、より多層化が必要な場合には、積
層貼付部11からパターン形成部19よりなる多層基板
形成部20の工程を繰返すことにより、順次多層回路積
層板を形成することができる。
Further, when further multi-layering is required, the steps from the laminating portion 11 to the multi-layer substrate forming portion 20 including the pattern forming portion 19 are repeated, whereby a multi-layer circuit laminate can be formed sequentially.

【0010】以上のように構成された製造工程の所定動
作を実施することにより、所定の多層構造のプリント配
線板である多層回路積層板40を完成させていた。
By performing a predetermined operation in the manufacturing process configured as described above, a multilayer circuit laminate 40 as a printed wiring board having a predetermined multilayer structure is completed.

【0011】なお、図7において29はビア孔加工積層
板35におけるビア孔加工エリアであり、このビア孔加
工エリア29域内のビア孔34は、ビア孔加工基準孔2
9c,29dを基準として、予め設定されたデータに基
づいて順次加工される。
In FIG. 7, reference numeral 29 denotes a via-hole processing area in the via-hole processing laminated board 35, and the via-holes 34 in the via-hole processing area 29 correspond to the via-hole processing reference holes 2;
With reference to 9c and 29d, processing is performed sequentially based on preset data.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】近年、両面あるいは多
層構造のプリント配線板(基板)においては、生産単位
として取数を多くするために大面積化によるコストダウ
ンと、よりファインなパターンでの層間接続や、不要な
短絡防止に対する信頼性の向上を図っている。しかしな
がら、ビア孔加工基準孔29c,29dを基準孔加工積
層板33の外周対角の二点として設け、それを基準とし
てビア孔加工すると、孔加工部13aの工程を経過した
両面基板31の回路パターン30aは、基準孔加工部8
までの工程において伸縮しているため、回路パターン3
0aの位置と設計上予め決められたビア孔34との位置
がずれ、よりファインパターン化されずれ量の許容値幅
が小さくなると層間接続が出来なくなったり、不要な短
絡が発生するという課題を有していた。
In recent years, in printed wiring boards (substrates) having a double-sided or multi-layer structure, in order to increase the number of production units, the cost is reduced by enlarging the area, and the interlayer is formed in a finer pattern. The reliability of connection and prevention of unnecessary short circuits is improved. However, when the via hole processing reference holes 29c and 29d are provided as two points on the outer periphery diagonal of the reference hole processing laminated plate 33 and the via holes are processed based on the reference holes, the circuit of the double-sided board 31 which has passed the process of the hole processing part 13a The pattern 30a is formed by the reference hole processing portion 8
Circuit pattern 3
When the position of the via hole 34a is shifted from the position of the via hole 34 which is predetermined in design, and the finer pattern is formed, and the allowable width of the shift amount becomes smaller, interlayer connection becomes impossible or unnecessary short circuit occurs. I was

【0013】本発明は、前記課題を解決しようとするも
のであり、両面あるいは多層構造のプリント配線板のビ
ア孔加工工程において、高速かつ分割ビア孔加工が可能
で、ファインパターンでの層間接続や不要な短絡の防止
に対する信頼性が向上するプリント配線板の製造方法お
よびその製造装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is intended to solve the above-mentioned problems. In a via hole forming step of a double-sided or multilayer printed wiring board, high-speed and divided via hole processing is possible, and interlayer connection with a fine pattern can be performed. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a printed wiring board and an apparatus for manufacturing the same, in which reliability for preventing unnecessary short circuits is improved.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明のプリント配線板の製造方法は、予め所定の大
きさに区分された複数の区分領域を有し、それら複数の
前記区分領域毎に予め設定した箇所に基準マークを設け
た内層体の少なくとも片面に外層体を積層してなる積層
体を形成する工程と、前記外層体の外部から前記内層体
の前記基準マークの位置を測定する工程と、前記基準マ
ークの位置測定データに基づいて前記積層体の前記区分
領域が所定の箇所に位置するように移載させ、前記積層
体の前記区分領域毎に所定のパターンのビア孔を前記積
層体に対し形成する工程を備えたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention has a plurality of divided areas previously divided into a predetermined size. A step of forming a laminate by laminating an outer layer body on at least one surface of an inner layer body provided with a reference mark at a preset position for each, and measuring a position of the reference mark of the inner layer body from outside the outer layer body And transferring based on the position measurement data of the reference mark so that the divided area of the laminate is located at a predetermined location, and a via hole of a predetermined pattern is formed for each of the divided areas of the laminate. The method includes a step of forming the laminate.

【0015】以上、本発明の方法により、両面あるいは
多層構造のプリント配線板のビア孔加工工程において、
分割ビア孔加工が精度よく高速に行うことが可能とな
る。
As described above, according to the method of the present invention, in the via hole forming step of a double-sided or multilayer printed wiring board,
The divided via hole processing can be performed accurately and at high speed.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、予め所定の大きさに区分された複数の区分領域を有
し、それら複数の前記区分領域毎に予め設定した箇所に
基準マークを設けた内層体の少なくとも片面に外層体を
積層してなる積層体を形成する工程と、前記外層体の外
部から前記内層体の前記基準マークの位置を測定する工
程と、前記基準マークの位置測定データに基づいて前記
積層体の前記区分領域が所定の箇所に位置するように移
載させ、前記積層体の前記区分領域毎に所定のパターン
のビア孔を前記積層体に対し形成する工程を備えたプリ
ント配線板の製造方法であり、所定の大きさに区分され
た区分領域毎に基準マークを設けていることにより、区
分領域毎に設けた基準マークと所定のパターンのビア孔
との距離が短くなるという作用を有する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The invention according to claim 1 of the present invention has a plurality of divided areas divided into a predetermined size in advance, and a reference is made to a location set in advance for each of the plurality of divided areas. A step of forming a laminate formed by laminating an outer layer body on at least one surface of the inner layer body provided with a mark, a step of measuring the position of the reference mark of the inner layer body from outside the outer layer body, and Transferring the divided region of the laminate based on position measurement data so that the divided region is located at a predetermined position, and forming a via hole having a predetermined pattern in the laminated body for each of the divided regions of the laminate. A method of manufacturing a printed wiring board comprising: a reference mark provided in each of the divided areas divided into a predetermined size, so that a reference mark provided in each of the divided areas and a via hole of a predetermined pattern are formed. The distance becomes shorter It has the effect of say.

【0017】請求項2に記載の発明は、内層体が、プリ
プレグよりなることを特徴とする請求項1に記載のプリ
ント配線板の製造方法であり、区分領域毎に所定のパタ
ーンのビア孔をプリプレグに形成することにより、区分
領域毎の回路パターンがプリプレグのビア孔に対して高
精度に形成可能となる作用を有し、両面基板を精度よく
製造することができる。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a printed wiring board according to the first aspect, wherein the inner layer body is made of a prepreg. By forming the circuit pattern on the prepreg, the circuit pattern for each of the divided regions can be formed with high precision in the via hole of the prepreg, and the double-sided board can be manufactured with high precision.

【0018】請求項3に記載の発明は、内層体が、所定
の配線パターンを形成した多層積層材よりなることを特
徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法で
あり、区分領域毎に所定のパターンのビア孔を多層積層
材に形成することにより、外層体の区分領域毎のビア孔
が多層積層材の回路パターンに対して高精度に形成可能
となる作用を有し、多層基板を精度よく製造することが
できる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a printed wiring board according to the first aspect, wherein the inner layer body is formed of a multilayer laminated material having a predetermined wiring pattern. By forming a via hole of a predetermined pattern in the multilayer laminated material for each layer, the via hole for each sectioned region of the outer layer body has an effect of being able to be formed with high precision with respect to the circuit pattern of the multilayer laminated material, The substrate can be manufactured with high accuracy.

【0019】請求項4に記載の発明は、外層体が、プリ
プレグにフィルムを積層した積層材あるいはフィルムよ
りなることを特徴とする請求項1に記載のプリント配線
板の製造方法であり、フィルムにも導電性ペーストを充
填することにより、ビア孔の充填量を多くするという作
用を有し、信頼性の高い両面あるいは多層基板を製造す
ることができる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a printed wiring board according to the first aspect, wherein the outer layer is made of a laminated material or a film obtained by laminating a film on a prepreg. Also, by filling the conductive paste, the filling amount of the via hole can be increased, and a highly reliable double-sided or multi-layer substrate can be manufactured.

【0020】請求項5に記載の発明は、基準マークが、
レーザやドリルにより加工したビア孔、あるいはビア孔
に充填した導電性ペースト、もしくは内層体のパターン
よりなることを特徴とする請求項1に記載のプリント配
線板の製造方法であり、内層体を形成する通常のプロセ
スにより設けられるものを基準マークとすることによ
り、基準マークの形成による誤差要因の発生を抑制する
作用を有する。
According to a fifth aspect of the present invention, the fiducial mark is
2. The method for producing a printed wiring board according to claim 1, wherein the method comprises a via hole processed by a laser or a drill, a conductive paste filled in the via hole, or a pattern of an inner layer body. By using the reference mark provided by a normal process, the generation of error factors due to the formation of the reference mark is suppressed.

【0021】請求項6に記載の発明は、基準マークの位
置を測定する工程が、X線認識を用いる測長器により前
記基準マークの位置を測定することを特徴とする請求項
1に記載のプリント配線板の製造方法であり、外層体の
外部から正確に基準マークを測定することにより、積層
体の区分領域が所定の箇所に正確に位置するように移載
することができるという作用を有する。
According to a sixth aspect of the present invention, in the step of measuring the position of the reference mark, the position of the reference mark is measured by a length measuring device using X-ray recognition. This is a method for manufacturing a printed wiring board, and has an effect that by accurately measuring a reference mark from the outside of an outer layer body, it is possible to transfer the laminated body so that a divided region of the laminate is accurately positioned at a predetermined place. .

【0022】請求項7に記載の発明は、基準マークの位
置を測定する工程が、可視光認識を用いる測長器により
前記基準マークの位置を測定することを特徴とする請求
項1に記載のプリント配線板の製造方法であり、外層体
の外部から容易に基準マークを測定することにより、積
層体の区分領域が所定の箇所に容易に位置するように移
載することができるという作用を有する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the step of measuring the position of the reference mark, the position of the reference mark is measured by a length measuring device using visible light recognition. This is a method for manufacturing a printed wiring board, and has the effect that the reference mark can be easily measured from the outside of the outer layer body so that the stacked body can be transferred so that the divided region is easily located at a predetermined position. .

【0023】請求項8に記載の発明は、予め所定の大き
さに区分された複数の区分領域を有し、それら複数の前
記区分領域毎に予め設定した箇所に基準マークを設けた
内層体の少なくとも片面に前記基準マークが可視光認識
できるように孔を有した外層体を積層してなる積層体を
形成する工程と、前記外層体の外部から前記内層体の前
記基準マークの位置を測定する工程と、前記基準マーク
の位置測定データに基づいて前記積層体の前記区分領域
が所定の箇所に位置するように移載させ、前記積層体の
前記区分領域毎に所定のパターンのビア孔を前記積層体
に対し形成する工程を備えたプリント配線板の製造方法
であり、予め外層体に孔を有していることにより、基準
マークをさらに容易に測定できるという作用を有する。
[0023] The invention according to claim 8 is an inner layer body having a plurality of divided areas preliminarily divided into a predetermined size, and a fiducial mark provided at a preset position for each of the plurality of divided areas. A step of forming a laminated body formed by laminating an outer layer body having a hole so that the reference mark can be recognized by visible light on at least one surface, and measuring a position of the reference mark of the inner layer body from outside the outer layer body And transferring the divided area of the laminate based on the position measurement data of the reference mark so that the divided area is located at a predetermined position, and forming a via hole having a predetermined pattern for each of the divided areas of the laminate. This is a method for manufacturing a printed wiring board including a step of forming a laminated body, and has an effect that a reference mark can be measured more easily by having a hole in an outer layer body in advance.

【0024】請求項9に記載の発明は、予め所定の大き
さに区分された複数の区分領域を有し、それら複数の前
記区分領域毎に予め設定した箇所に第1の基準マークを
設けた内層体の少なくとも片面に外層体を積層してなる
積層体を形成する工程と、前記第1の基準マークの位置
に外層体の外部から第2の基準マークを前記積層体に形
成する工程と、前記外層体の外部から前記内層体の前記
第2の基準マークの位置を測定する工程と、前記第2の
基準マークの位置測定データに基づいて前記積層体の前
記区分領域が所定の箇所に位置するように移載させ、前
記積層体の前記区分領域毎に所定のパターンのビア孔を
前記積層体に対し形成する工程と備えたプリント配線板
の製造方法であり、外層体の外部から改めて第2の基準
マークを形成することにより、基準マークをさらに確実
に測定し、積層体の区分領域が所定の箇所に容易に位置
するように移載できるという作用を有する。
According to a ninth aspect of the present invention, there are provided a plurality of divided areas which are divided in a predetermined size in advance, and a first reference mark is provided at a preset position for each of the plurality of divided areas. Forming a laminate by laminating an outer layer on at least one side of the inner layer, and forming a second reference mark on the laminate from outside the outer layer at the position of the first reference mark; Measuring the position of the second reference mark of the inner layer body from outside the outer layer body; and positioning the divided region of the laminate at a predetermined position based on position measurement data of the second reference mark. And a step of forming via holes of a predetermined pattern in the laminated body for each of the divided areas of the laminated body, the method comprising: Form 2 fiducial marks And, the further reliably measure the reference mark, partitioned area of the laminate has an effect that it can transfer to easily positioned at a predetermined position.

【0025】請求項10に記載の発明は、第2の基準マ
ークが、レーザやドリルにより加工した貫通孔よりなる
ことを特徴とする請求項9に記載のプリント配線板の製
造方法であり、加工形状の認識が容易なことにより、測
定を容易にするという作用を有する。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided the method of manufacturing a printed wiring board according to the ninth aspect, wherein the second fiducial mark comprises a through hole processed by a laser or a drill. The easy recognition of the shape has the effect of facilitating measurement.

【0026】請求項11に記載の発明は、第2の基準マ
ークの位置を測定する工程が、光学的認識を用いる測長
器により前記第2の基準マークの位置を測定することを
特徴とする請求項9に記載のプリント配線板の製造方法
であり、簡単な光学的認識方法により、第2の基準マー
クの位置を容易に測定するという作用を有する。
According to an eleventh aspect of the present invention, in the step of measuring the position of the second reference mark, the position of the second reference mark is measured by a length measuring device using optical recognition. A method for manufacturing a printed wiring board according to claim 9, which has an effect of easily measuring the position of the second reference mark by a simple optical recognition method.

【0027】請求項12に記載の発明は、予め所定の大
きさに区分された複数の区分領域を有する基板の前記区
分領域毎に予め設定した箇所に設けた基準マークの測定
データに基づいて前記区分領域が所定の箇所に位置する
ように前記基板を移載させ、前記基板にレーザを照射
し、前記基板の前記区分領域毎に所定のパターンのビア
孔を前記基板に形成する分割ビア孔加工部と、前記分割
ビア孔加工部で加工した基板を取出す取出部とを備えた
プリント配線板の製造装置であり、区分領域毎に設けら
れた基準マークに基づきビア孔加工することにより、ビ
ア孔のパターンの位置精度を向上させるという作用を有
する。
[0027] According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device according to the first aspect, wherein the substrate has a plurality of divided areas divided into a predetermined size. Split via hole processing for transferring the substrate so that the divided region is located at a predetermined position, irradiating the substrate with laser, and forming via holes of a predetermined pattern in the substrate for each of the divided regions of the substrate. And a take-out section for taking out a substrate processed by the divided via-hole processing section. The apparatus for manufacturing a printed wiring board, wherein the via-hole processing is performed based on a reference mark provided for each divided area. Has the effect of improving the positional accuracy of the pattern.

【0028】請求項13に記載の発明は、区分領域毎に
ビア孔を加工する基板を供給する供給部と、前記基板の
区分領域毎に予め設けられた基準マークの位置を測定す
る測長部と、前記基準マークの位置測定データを処理す
る計測制御部とを付加したことを特徴とする請求項12
に記載のプリント配線板の製造装置であり、予め基準マ
ークを測定することにより、区分領域毎の所定の位置に
高速に移載できるという作用を有する。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a supply unit for supplying a substrate for processing a via hole for each divided region, and a length measuring unit for measuring a position of a reference mark provided in advance for each divided region of the substrate. And a measurement control unit for processing position measurement data of the reference mark.
Wherein the reference mark is measured in advance so that the printed circuit board can be quickly transferred to a predetermined position in each divided area.

【0029】請求項14に記載の発明は、測長部が、X
線を射出するX線発生器と、X線を受信するX線イメー
ジセンサと、X線イメージセンサで受信された画像を撮
像するCCDカメラおよび画像処理部を備えたことを特
徴とする請求項13に記載のプリント配線板の製造装置
であり、X線を用いることにより、外層体の外部からで
も正確に基準マークを測定できるという作用を有する。
[0029] According to a fourteenth aspect of the present invention, the length measuring section is provided with an X
14. An X-ray generator for emitting X-rays, an X-ray image sensor for receiving X-rays, a CCD camera for capturing an image received by the X-ray image sensor, and an image processing unit. And the use of X-rays has an effect that a reference mark can be accurately measured even from outside the outer layer body.

【0030】請求項15に記載の発明は、測長部が、光
発生器と、光学系画像を撮像するCCDカメラおよび画
像処理部を備えたことを特徴とする請求項13に記載の
プリント配線板の製造装置であり、一般的な光学的手段
により、簡単な構成で容易に基準マークを測定できると
いう作用を有する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, the length measuring unit includes a light generator, a CCD camera for capturing an optical system image, and an image processing unit. This is a plate manufacturing apparatus, and has an effect that a reference mark can be easily measured with a simple configuration by general optical means.

【0031】請求項16に記載の発明は、予め所定の大
きさに区分された内層体の複数の区分領域毎に、予め設
定した箇所に基準マークを形成する工程と、前記基準マ
ークの位置を測定する工程と、前記基準マークの位置測
定データに基づいて前記内層体の前記区分領域が所定の
箇所に位置するように移載させ、前記内層体の前記区分
領域毎に所定のパターンにビア孔を形成する工程を備え
たプリント配線板の製造方法であり、所定の大きさに区
分された区分領域毎に基準マークを設けていることによ
り、区分領域毎に設けた基準マークと所定のパターンの
ビア孔との距離を短くするという作用を有する。
According to a sixteenth aspect of the present invention, a step of forming a fiducial mark at a predetermined location for each of a plurality of divided areas of an inner layer body that has been preliminarily divided into a predetermined size; Measuring, and transferring the divided area of the inner layer body so as to be located at a predetermined position based on the position measurement data of the reference mark, and forming a via hole in a predetermined pattern for each of the divided areas of the inner layer body. A method of manufacturing a printed wiring board comprising a step of forming a reference mark for each of the divided areas divided into a predetermined size, the reference mark provided for each of the divided areas and a predetermined pattern This has the effect of shortening the distance from the via hole.

【0032】以下、本発明における実施の形態について
図面を用いて説明する。図1は本発明の実施の形態にお
ける多層構造のプリント配線板の製造工程全体フロー
図、図2は同他の実施の形態における多層構造のプリン
ト配線板の製造工程全体フロー図、図3は同製造工程に
おける分割ビア孔加工基板の平面図そして図4は同他の
実施の形態における分割ビア孔加工基板の平面図であ
る。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an overall flowchart of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an overall flowchart of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to another embodiment, and FIG. FIG. 4 is a plan view of a divided via-hole processed substrate in a manufacturing process, and FIG. 4 is a plan view of a divided via-hole processed substrate in another embodiment.

【0033】なお、従来の技術で説明した同一の構成部
や部材については、同一の符号を付与し詳細な説明は省
略する。
The same components and members described in the related art are denoted by the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0034】図1において、コア形成部10は多層基板
(多層構造のプリント配線板)を構成する内層体である
両面基板31を形成し供給するものであり、貼付部1、
孔加工部3、充填部4、剥離部5、積層部6、樹脂硬化
部7、基準孔加工部8およびパターン形成部9などによ
り構成されている。
In FIG. 1, a core forming section 10 forms and supplies a double-sided board 31 which is an inner layer body constituting a multilayer board (multi-layered printed wiring board).
It comprises a hole processing section 3, a filling section 4, a peeling section 5, a lamination section 6, a resin curing section 7, a reference hole processing section 8, a pattern forming section 9, and the like.

【0035】また、多層基板形成部20はコア形成部1
0で形成された両面基板31の両面に積層し、さらに多
層化をはかる工程であり、積層貼付部11、X線により
基準孔の位置を測定する基準孔X線測長部12、分割孔
加工部13、充填部14、剥離部15、積層部16、樹
脂硬化部17およびパターン形成部19などにより構成
されている。
The multi-layer substrate forming section 20 includes the core forming section 1
This is a step of laminating on both sides of the double-sided substrate 31 formed in step 0, and further multi-layering, a lamination attaching section 11, a reference hole X-ray length measuring section 12 for measuring the position of the reference hole by X-rays, and split hole processing. It comprises a part 13, a filling part 14, a peeling part 15, a laminating part 16, a resin curing part 17, a pattern forming part 19 and the like.

【0036】積層貼付部11において、コア形成部10
で形成された両面基板31の上下両面にプリプレグ21
およびフィルム材22を接着し貼付けてプリプレグ積層
板32を形成する。
In the laminating section 11, the core forming section 10
Prepregs 21 on the upper and lower surfaces of a double-sided substrate 31 formed of
The prepreg laminate 32 is formed by bonding and attaching the film material 22.

【0037】次に、基準孔X線測長部12において、X
線を用いて、単一の積層体よりなるプリプレグ積層板3
2の内部である両面基板31のビア孔に導電ペースト2
5を充填された基準孔29a,29b、および図3に示
した分割ビア孔加工基準29a1と29b1、そして2
9anと29bn(29a1〜29anおよび29b1
〜29bn)までの位置を測定する。なお、29a1〜
29anおよび29b1〜29bnは、孔加工部3から
パターン形成部9で回路パターン30aを形成する時に
同時に加工されたものである。
Next, in the reference hole X-ray length measuring section 12, X
Prepreg laminate 3 consisting of a single laminate using wires
The conductive paste 2 is inserted into the via hole of the double-sided substrate 31 inside the substrate 2.
5, the reference via holes 29a and 29b, the divided via hole processing references 29a1 and 29b1 shown in FIG.
9an and 29bn (29a1 to 29an and 29b1
2929bn). In addition, 29a1-
29an and 29b1 to 29bn are processed simultaneously when the circuit pattern 30a is formed from the hole processing section 3 to the pattern forming section 9.

【0038】なお、両面基板31の上下面に貼付けるプ
リプレグ21およびフィルム材22は、分割ビア孔加工
基準29a1〜29anおよび29b1〜29bnの位
置に予め孔を有しているものを使用し、一般的な光学的
認識により上記分割ビア孔加工基準29a1〜29an
および29b1〜29bnを容易に測定する構成として
もよい。
As the prepreg 21 and the film material 22 to be attached to the upper and lower surfaces of the double-sided substrate 31, those having holes beforehand at the positions of the divided via hole processing standards 29a1 to 29an and 29b1 to 29bn are used. Based on the above-mentioned divided via hole processing standards 29a1-29an
And 29b1 to 29bn may be easily measured.

【0039】また、図3に示すようにビア孔加工エリア
を分割ビア孔加工エリア29−1,29−2、そして2
9−nまでにn分割する場合には、分割ビア孔加工基準
29a1と29b1、そして分割ビア孔加工基準29a
nと29bnまでのように、分割ビア孔加工エリア1個
所に対し、分割ビア孔加工基準は各ビア孔加工エリア毎
に対の構成として加工し設けている。
As shown in FIG. 3, the via hole processing areas are divided into divided via hole processing areas 29-1, 29-2, and 2
When dividing into n by 9-n, the divided via hole processing standards 29a1 and 29b1 and the divided via hole processing standards 29a
As for n and 29bn, for one divided via hole processing area, the divided via hole processing reference is processed and provided as a paired configuration for each via hole processing area.

【0040】また分割ビア孔加工エリア1個所に対し、
分割ビア孔加工基準29a1〜29anのように、分割
ビア孔加工基準は各ビア孔加工エリア毎に1個所だけと
してもよい。
For one divided via hole processing area,
Like the divided via hole processing standards 29a1 to 29an, the divided via hole processing standard may be only one for each via hole processing area.

【0041】以上、前記により測定されたデータからビ
ア孔加工の中心位置を演算するのであるが、座標原点と
してはどの地点を設定してもかまわないが、例えば基準
孔29aとすることが出来る。ここで基準孔29a,2
9b、分割ビア孔加工基準29a1と29b1、そして
29anと29bn(以下、基準孔と分割ビア孔加工基
準を総称する場合には基準マーク29nと記載する)ま
では、プリプレグ21により覆われているため、可視す
ることができずX線認識を用いる。
As described above, the center position of the via hole processing is calculated from the data measured as described above. Any point may be set as the coordinate origin, but for example, the reference hole 29a can be used. Here, reference holes 29a, 2
9b, the divided via hole processing standards 29a1 and 29b1, and 29an and 29bn (hereinafter, referred to as a reference mark 29n when the reference holes and the divided via hole processing standards are collectively referred to) are covered by the prepreg 21. Use X-ray recognition because they cannot be seen.

【0042】次に、分割孔加工部13に搬送されたプリ
プレグ積層板32の基準孔29a,29bの有無をビア
孔加工機構(図示せず)で認識し、XYθテーブル(図
示せず)により平行出しを行い、前記ビア孔加工機構に
おける基準孔29aの位置を認識し、前記で演算された
最初のビア孔加工位置(例えば分割ビア孔加工エリア2
9−1)にXYθテーブルを(例えば分割ビア孔加工基
準29a1または29b1の測定データに基づいて)移
動させた後に所定のパターンのビア孔加工を行う。
Next, the presence or absence of the reference holes 29a and 29b of the prepreg laminated board 32 conveyed to the divided hole processing section 13 is recognized by a via hole processing mechanism (not shown), and is parallelized by an XYθ table (not shown). And the position of the reference hole 29a in the via hole processing mechanism is recognized, and the first via hole processing position calculated above (for example, the divided via hole processing area 2)
In 9-1), after moving the XYθ table (for example, based on the measurement data of the divided via hole processing reference 29a1 or 29b1), the via hole processing of a predetermined pattern is performed.

【0043】続いて、前記で演算された次の分割ビア孔
加工エリア29−2に移動して同じくビア孔加工を行
う。同様にして次々とステップ動作を繰返して第n番目
の分割ビア孔加工エリア29−nまで移動し、各々全て
の所定のパターンのビア孔加工を行いビア孔加工が完了
する。
Subsequently, the process moves to the next divided via hole processing area 29-2 calculated as described above, and the same via hole processing is performed. Similarly, the step operation is repeated one after another to move to the n-th divided via hole processing area 29-n, and via holes are processed in all predetermined patterns, thereby completing the via hole processing.

【0044】以上のように、初期にプリプレグ積層板3
2の基準マーク29nの位置を認識する必要はあるが、
各分割ビア孔加工エリアへの移動は、予め測定し演算さ
れた移動量のデータにより行い、ビア孔加工工程で毎回
の認識動作が不要で、タクトの速度アップが可能となり
生産性の向上が図れる。
As described above, the prepreg laminate 3
Although it is necessary to recognize the position of the second reference mark 29n,
Movement to each divided via hole processing area is performed based on data of a movement amount measured and calculated in advance, and a recognition operation is not required each time in a via hole processing step, so that tact speed can be increased and productivity can be improved. .

【0045】また、ビア孔加工エリアを分割しているた
め、前記従来の技術で説明したビア孔加工エリア29の
全面ビア孔加工するのに比較して、両面基板31の伸縮
による影響が少なく、導電性ペースト25と回路パター
ン30aの接続相対位置のずれ量が少なくなる。
Further, since the via hole processing area is divided, the influence of expansion and contraction of the double-sided board 31 is small as compared with the case where the entire via hole processing of the via hole processing area 29 described in the prior art is performed. The shift amount of the connection relative position between the conductive paste 25 and the circuit pattern 30a is reduced.

【0046】なお、前記実施の形態においては、内層体
となる両面基板31に外層体となるプリプレグ21およ
びフィルム材22を積層して、基準マーク29nに基づ
きビア孔34を加工したが、内層体にビア孔加工をする
場合にも、基準マーク29nに基づき区分毎にビア孔加
工しても、ビア孔加工の生産性が向上するという効果を
奏する。
In the above embodiment, the prepreg 21 and the film material 22 as the outer layer are laminated on the double-sided substrate 31 as the inner layer, and the via hole 34 is formed based on the reference mark 29n. Also, when the via hole is formed, the productivity of the via hole processing is improved even if the via hole is formed for each section based on the reference mark 29n.

【0047】また、前記では基準マーク29n(すなわ
ち基準孔、分割ビア孔加工基準)の位置を測定する工程
と、基準マーク位置測定データに基づき、その基板を所
定個所に移動させる分割ビア孔加工方法について説明し
た。しかしながら、ビア孔加工工程で毎回認識を必要と
するが基準マーク29nの位置を一度に測定しないで、
分割ビア孔加工基準29a1,29b1の位置を認識し
た後に分割ビア孔加工エリア29−1内のビア孔の加工
を完了し、次の分割ビア孔加工基準(例えば29a2,
29b2)の位置を認識して、同様にそのエリアにおけ
るビア孔加工を行う方法でもよい。すなわち、分割ビア
孔加工エリアを次々とステップ動作を繰返して第n番目
の分割ビア孔加工エリア29−nまで移動し、全てのビ
ア孔加工を行いビア孔加工を完了させるのである。
Further, in the above, the step of measuring the position of the reference mark 29n (that is, the reference hole, divided via hole processing reference) and the method of processing the divided via hole to move the substrate to a predetermined position based on the reference mark position measurement data Was explained. However, although the recognition is required every time in the via hole processing step, the position of the reference mark 29n is not measured at once,
After recognizing the positions of the divided via hole processing references 29a1 and 29b1, the processing of the via hole in the divided via hole processing area 29-1 is completed, and the next divided via hole processing reference (for example, 29a2
A method of recognizing the position of 29b2) and similarly processing the via hole in the area may be used. That is, the divided via hole processing area is repeatedly moved to the nth divided via hole processing area 29-n by repeating the step operation one after another, and all the via hole processing is performed to complete the via hole processing.

【0048】また、基準マークとしては、レーザで加工
されたビア孔のほかに、ドリル加工によるビア孔、ある
いはビア孔に充填された導電性ペースト、さらには内層
体に形成されたパターンであってもよい。
The reference mark may be a via hole formed by drilling, a conductive paste filled in the via hole, or a pattern formed on the inner layer body, in addition to the via hole processed by the laser. Is also good.

【0049】なおまた、分割ビア孔加工基準を分割加工
エリアに対し、対の2ヵ所として説明したが、1ヵ所あ
るいは3ヵ所以上の複数個としてもよい。
Although the divided via hole processing reference has been described as two pairs in the divided processing area, one or three or more plural holes may be formed.

【0050】次に、充填部14において前記ビア孔加工
積層板35のビア孔34に導電性ペースト25を充填し
ペースト充填積層板36を形成する。さらに、剥離部1
5においてペースト充填積層板36からフィルム材22
を剥離することによりフィルム剥離積層板37を形成す
る。
Next, in the filling section 14, the conductive paste 25 is filled into the via holes 34 of the via-hole processed laminated board 35 to form a paste-filled laminated board 36. Further, the peeling part 1
5, the paste-filled laminated plate 36 is removed from the film material 22.
Is peeled off to form a film peeling laminate 37.

【0051】続いて、積層部16において前記フィルム
剥離積層板37に銅箔の金属材でなる導電箔27を積層
し導電箔貼付板38を形成し、さらに樹脂硬化部17に
おいて加圧、加熱により内層体である導電箔貼付板38
と導電箔27が接着され導電箔積層板39が形成され
る。
Subsequently, in the laminating section 16, a conductive foil 27 made of a copper foil metal material is laminated on the film peeling laminated board 37 to form a conductive foil sticking plate 38. Conductive foil sticking plate 38 as inner layer body
And the conductive foil 27 are adhered to form a conductive foil laminated plate 39.

【0052】次に、パターン形成部19において、前記
導電箔積層板39は露光、現像あるいはエッチングされ
て所定の回路パターン30bが形成され、4層構造の多
層回路積層板40が形成される。
Next, in the pattern forming section 19, the conductive foil laminate 39 is exposed, developed or etched to form a predetermined circuit pattern 30b, and a four-layer multilayer circuit laminate 40 is formed.

【0053】さらに、図示はしていないが6層構造の多
層回路積層板40を形成する場合には、多層基板形成部
20の積層貼付部11において両面基板31の代りに4
層構造の多層回路積層板40を内層体として使用し、同
じく多層基板形成部20の工程を実施することにより、
6層構造の多層回路積層板40を形成することができ
る。
Further, although not shown, when forming a multilayer circuit laminate board 40 having a six-layer structure, a four-layer board 31 is used in place of the double-sided board 31 in the lamination part 11 of the multilayer board forming part 20.
By using the multilayer circuit laminate 40 having a layer structure as an inner layer body and performing the process of the multilayer substrate forming unit 20 similarly,
A multilayer circuit laminate 40 having a six-layer structure can be formed.

【0054】8層や10層などによる多層構造の多層回
路積層板40を形成する場合にも、同じく前記工程を実
施することにより製作することができる。
In the case of forming a multilayer circuit laminate 40 having a multilayer structure of eight layers, ten layers, or the like, it can be manufactured by performing the above-described steps.

【0055】次に本発明における他の実施の形態につい
て図2および図4を用いて説明する。なお、同じく前記
で説明した同一の構成部や部材には同一の符号を付与し
て詳細な説明は省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Note that the same components and members described above are given the same reference numerals, and detailed description is omitted.

【0056】前記実施の形態では分割ビア孔加工基準2
9a1と29b1、そして29anと29bnまでを、
図1に示す基準孔X線測長部12においてX線によるX
線測長器で測定した。しかしながら、基準マーク29n
上の外層体であるプリプレグ21およびフィルム材22
が透明体であるなどして、外部から基準マーク29nが
認識できる場合は、X線測長器を使わずに、分割ビア孔
加工基準として分割ビア孔加工基準29a1〜29an
および29b1〜29bnの位置に図2に示す基準孔加
工部18でレーザやドリルにより予め孔加工を行い、図
4に示す分割ビア孔加工基準孔29c1と29d1、そ
して29cnと29dnまでを形成する。
In the above embodiment, the divided via hole processing reference 2
9a1 and 29b1, and up to 29an and 29bn,
In the reference hole X-ray length measuring unit 12 shown in FIG.
It was measured with a line length measuring instrument. However, the reference mark 29n
The prepreg 21 and the film material 22 which are the upper outer layers
When the reference mark 29n can be recognized from the outside because the object is a transparent body or the like, the divided via hole processing standards 29a1 to 29an are used as the divided via hole processing standards without using the X-ray length measuring device.
Then, holes are formed in advance at the positions of 29b1 and 29bn by a laser or a drill in the reference hole processing unit 18 shown in FIG. 2 to form divided via hole processing reference holes 29c1 and 29d1 and 29cn and 29dn shown in FIG.

【0057】前記分割ビア孔加工基準孔29c1と29
d1から29cnと29dnまでを、光学系認識機構付
の測長器すなわち、図2における基準孔光学測長部12
aにおいて測定し、この測定データにより前記と同じく
分割ビア孔加工を行うことができる。なお、図2の分割
孔加工部13以降の工程を示す図は、ビア孔加工基準孔
29c,29dを通らない断面でもって破断して構成を
示している。
The divided via hole processing reference holes 29c1 and 29c
d1 to 29cn and 29dn are measured by a length measuring device with an optical system recognition mechanism, that is, the reference hole optical length measuring unit 12 in FIG.
a, and the divided via hole processing can be performed based on the measurement data as described above. In addition, the figure showing the process after the division hole processing portion 13 in FIG. 2 shows a configuration in which the section is cut by a cross section that does not pass through the via hole processing reference holes 29c and 29d.

【0058】但し、この場合には前記実施の形態で示し
説明したX線認識による分割ビア孔加工基準より、孔加
工の一工程を追加する必要はあるが、その孔加工精度に
よる誤差の補正をパターン形成部9までに形成された基
準マークと比較するなどして、高精度のビア孔加工とす
ることができる。
However, in this case, it is necessary to add one step of drilling according to the divided via hole drilling reference by X-ray recognition shown and described in the above embodiment. By comparing with a reference mark formed up to the pattern forming section 9, a highly accurate via hole processing can be performed.

【0059】なお、分割ビア孔加工基準を分割ビア孔加
工エリアに対し、対の2ヵ所として説明したが、1ヵ所
でもあるいは3ヵ所以上の複数個としてもよい。
Although the divided via hole processing reference has been described as two pairs in the divided via hole processing area, the number may be one or three or more.

【0060】さらに、基準孔光学測長部12aにおいて
測定し、この測定データにより前記と同じく分割ビア孔
加工を行うことができるが、分割ビア孔加工基準を測定
した後、その基準孔に対する分割ビア孔加工エリア内の
ビア孔加工を先に実施し、次に次の分割ビア孔加工エリ
アの分割ビア孔加工基準を測定し、同じくそのビア孔加
工を行うように、各分割ビア孔加工エリア毎に順次加工
を実施してもよい。
Further, the measurement is performed in the reference hole optical length measuring section 12a, and the divided via hole processing can be performed by the measurement data in the same manner as described above. First, the via hole processing in the hole processing area is performed, then the divided via hole processing reference of the next divided via hole processing area is measured, and each divided via hole processing area is similarly processed so as to perform the via hole processing. May be sequentially processed.

【0061】図5はX線測長分割ビア孔加工機構の要部
構成斜視図であり、図3とともに構成およびその動作に
ついて説明する。
FIG. 5 is a perspective view of a main part of the X-ray length dividing via hole machining mechanism. The structure and operation of the mechanism will be described with reference to FIG.

【0062】X線測長分割ビア孔加工機構は、図5に示
すように、被ビア孔加工基板であるプリプレグ積層板3
2を供給するための供給部101と、前記基板に予め設
定された位置のビア孔加工の基準孔や分割ビア孔加工基
準の位置を測定する測長部102と、前記基準孔や分割
ビア孔加工基準の位置データを演算し処理する計測制御
部107と、前記測定データに基づいて前記基板を所定
の箇所に移動させ、基板面内における個別製品毎にビア
孔加工を行う分割ビア孔加工部103と、前記ビア孔加
工するためのレーザ光などを照射するレーザ照射部10
6と、ビア孔加工済基板を取出す取出部104および、
それぞれの前記ユニット部に前記基板やビア孔加工済基
板を搬送するための基板搬送部105のユニットなどに
より構成されている。
As shown in FIG. 5, the X-ray length-measuring divided via hole processing mechanism includes a prepreg laminated board 3 which is a via-hole processed substrate.
2, a length measuring unit 102 for measuring a reference hole processing position and a divided via hole processing reference position at predetermined positions on the substrate, and a reference hole and a divided via hole. A measurement control unit 107 for calculating and processing processing reference position data; and a divided via hole processing unit for moving the substrate to a predetermined position based on the measurement data and performing via hole processing for each individual product within the substrate surface. 103 and a laser irradiation unit 10 for irradiating a laser beam or the like for processing the via hole
6, a take-out part 104 for taking out a substrate having a via hole, and
It comprises a unit of the substrate transport unit 105 for transporting the substrate and the substrate having been subjected to via hole processing to each of the unit units.

【0063】供給部101では、前工程から回転テーブ
ルやベルトコンベアなどで搬送された被ビア孔加工基板
(図1におけるプリプレグ積層板32)を、供給ステー
ジ108の上面で一旦停止させて粗位置決めを行い、吸
着パッドアーム110aの先端に取付けられた吸着パッ
ド109aで真空吸着し、アーム搬送モータ134、上
下駆動アクチュエータ135a,135b,135cに
より駆動されて測長部102のXYテーブル111に搬
送し載置される。
In the supply section 101, the via-hole-processed substrate (the prepreg laminate plate 32 in FIG. 1) transported from the previous process by the rotary table or the belt conveyor is temporarily stopped on the upper surface of the supply stage 108 to perform coarse positioning. Then, vacuum suction is performed by the suction pad 109a attached to the tip of the suction pad arm 110a, and the arm is driven by the arm transport motor 134 and the vertical drive actuators 135a, 135b, 135c to be transported and placed on the XY table 111 of the length measuring unit 102. Is done.

【0064】XYテーブル111はX方向に移動するた
めの駆動用のX軸モータ112とY方向に移動するため
の駆動用のY軸モータ113を備えており、またXYテ
ーブル111の移動量を計測するためのX軸測長器11
4、Y軸測長器115をも備えている。
The XY table 111 has a driving X-axis motor 112 for moving in the X direction and a driving Y-axis motor 113 for moving in the Y direction, and measures the amount of movement of the XY table 111. X-axis length measuring device 11
4. A Y-axis measuring device 115 is also provided.

【0065】測長部102は、前記で説明した導電箔に
覆われたプリプレグ積層板32の基準位置をX線による
認識を行うために、X線発生器116、X線を検出する
X線イメージセンサ118、CCDカメラ119、X線
発生器116とX線イメージセンサ118を上下駆動さ
せるモータ117,120などにより構成されている。
The length measuring unit 102 is provided with an X-ray generator 116 and an X-ray image detecting X-ray for detecting the reference position of the prepreg laminate 32 covered with the conductive foil as described above. It comprises a sensor 118, a CCD camera 119, an X-ray generator 116, and motors 117 and 120 for driving the X-ray image sensor 118 up and down.

【0066】さらに、計測制御部107は検出したX線
の信号を画像処理するための画像処理部136、処理し
た画像を表示するためのTVモニター139、この画像
処理データとX軸測長器114およびY軸測長器115
から得られるXYテーブル111の位置座標データを処
理するためのコンピュータ137、そして本機構の全体
を制御する制御部138などにより構成されている。
The measurement control unit 107 further includes an image processing unit 136 for performing image processing on the detected X-ray signal, a TV monitor 139 for displaying the processed image, and the image processing data and the X-axis length measuring unit 114. And Y-axis length measuring device 115
And a control unit 138 for controlling the entire mechanism of the present invention.

【0067】XYテーブル111に搬送し載置された被
ビア孔加工基板は、基準孔29a,29b、および分割
ビア孔加工基準29a1と29b1から29anと29
bnまでの座標位置を測定するために、まずX線が基準
孔29aの直下位置になるようにXYテーブル111を
移動させる。
The via-hole-processed substrates conveyed and placed on the XY table 111 include the reference holes 29a and 29b and the divided via-hole processing standards 29a1 and 29b1 to 29an and 29an.
In order to measure the coordinate position up to bn, the XY table 111 is first moved so that the X-ray is located immediately below the reference hole 29a.

【0068】この時、X線発生器116はモータ117
の駆動により前記基板から離脱するように下方向に移動
させ、かつX線イメージセンサ118もモータ120の
駆動により基板から離脱する上方向に移動させる。
At this time, the X-ray generator 116
The X-ray image sensor 118 is moved downward so as to be separated from the substrate by driving the motor, and the X-ray image sensor 118 is also moved upward so as to be separated from the substrate by driving the motor 120.

【0069】すると、CCDカメラ119で検出される
視野範囲は拡大され、被ビア孔加工基板そのものが多少
位置ずれしていても基準孔29aを検出することができ
る。
Then, the visual field range detected by the CCD camera 119 is expanded, and the reference hole 29a can be detected even if the via hole processed substrate itself is slightly displaced.

【0070】さらに視野範囲を拡大して検出した概略位
置の基準孔29aを、X線発生器116のほぼ照射中央
部の位置となるように、XYテーブル111を移動させ
ると共に、X線発生器116をモータ117の駆動によ
り上方向に移動させて前記基板に近づけ、さらにX線イ
メージセンサ118を基板に近づけるためにモータ12
0の駆動により下方向に移動させ、基準孔29aの画像
を拡大させて画像処理を行い、この基準孔29aの画像
上の中心を求める。
Further, the XY table 111 is moved so that the reference hole 29a at the approximate position detected by expanding the visual field range is substantially at the position of the irradiation center of the X-ray generator 116. Is moved upward by the driving of the motor 117 so as to approach the substrate, and further, the motor 12 is moved in order to bring the X-ray image sensor 118 closer to the substrate.
The center of the reference hole 29a on the image is obtained by performing the image processing by moving the reference hole 29a in the downward direction by the drive of 0 to enlarge the image of the reference hole 29a.

【0071】そして、前記の画像データ位置と、XYテ
ーブル111に備え付けられたX軸測長器114および
Y軸測長器115により、基準孔29aの中心の座標を
求め、コンピュータ137に入力して記憶させる。
Then, the coordinates of the center of the reference hole 29a are obtained by the image data position and the X-axis length measuring device 114 and the Y-axis length measuring device 115 provided in the XY table 111, and input to the computer 137. Remember.

【0072】同じく基準孔29bの座標位置を測定し、
さらに分割ビア孔加工基準29a1と29b1から29
anと29bnまでの分割ビア孔加工基準の座標位置を
測定して、測定すべき基準孔、分割ビア孔加工基準にお
ける必要な座標データの全てをコンピュータ137に入
力して記憶させる。
Similarly, the coordinate position of the reference hole 29b is measured, and
Furthermore, the division via hole processing standards 29a1 and 29b1 to 29
The coordinates of the reference via hole processing reference up to an and 29bn are measured, and all of the reference holes to be measured and the necessary coordinate data in the divided via hole processing reference are input to the computer 137 and stored.

【0073】なお、ここでは基準マーク29nの測定
に、X線発生器を用いたが、プリプレグ積層板32に設
けた基準マーク29nがX線を使わず外部からでも認識
できる場合は、可視光などの光発生器を用いて測定して
も、簡単な構成で同様な効果が得られる。
Although the X-ray generator was used to measure the reference mark 29n here, if the reference mark 29n provided on the prepreg laminate 32 can be recognized from outside without using X-rays, it is necessary to use visible light or the like. The same effect can be obtained with a simple configuration even when the measurement is performed using the light generator described above.

【0074】以上、この測定された座標データからビア
孔加工エリアにおける加工すべきビア孔位置を演算す
る。座標原点としてはどの地点を設定してもかまわない
が、例えば基準孔29aをその地点とすることができ
る。測長が終了した被ビア孔加工基板は、分割ビア孔加
工部103のXYθテーブル121に搬送し載置され
る。
As described above, the position of the via hole to be processed in the via hole processing area is calculated from the measured coordinate data. Although any point may be set as the coordinate origin, the reference hole 29a may be set as the point, for example. The via hole processed substrate whose length has been measured is transported and placed on the XYθ table 121 of the divided via hole processing unit 103.

【0075】なお、分割ビア孔加工部103は、XYθ
テーブル121とXYθテーブル121を駆動させるX
軸モータ122、Y軸モータ123、θ軸モータ12
4、被ビア孔加工基板のXYθテーブル121における
位置設定や平行出しを行うために検出補正するCCDカ
メラ127、およびXYθテーブル121の位置を測定
するためのX軸測長器125とY軸測長器126などに
より構成されている。
It should be noted that the divided via hole processing section 103 has an XYθ
X for driving the table 121 and the XYθ table 121
Axis motor 122, Y axis motor 123, θ axis motor 12
4. A CCD camera 127 for detecting and correcting the position of the via-hole-processed substrate in the XYθ table 121 and for performing parallel alignment, an X-axis length measuring device 125 for measuring the position of the XYθ table 121, and a Y-axis length measurement It is constituted by a vessel 126 and the like.

【0076】また、ビア孔加工するためのレーザ照射部
106は、レーザ発振器131からレーザ光を発生さ
せ、ミラーやレンズ(図示せず)、X軸ガルバノ12
9、Y軸ガルバノ130およびf・θレンズ132など
により構成されている。
A laser irradiating section 106 for processing a via hole generates a laser beam from a laser oscillator 131, and outputs a mirror, a lens (not shown), and an X-axis galvanometer 12.
9, a Y-axis galvanometer 130, an f · θ lens 132, and the like.

【0077】被ビア孔加工基板がXYθテーブル121
に搬送され載置されると、XYθテーブル121は前記
測定原点、例えば基準孔29aがCCDカメラ127の
直下に到達するように移動して原点位置を検出する。
The substrate to be processed with via holes is an XYθ table 121.
Table 121 moves so that the measurement origin, for example, the reference hole 29a reaches immediately below the CCD camera 127, and detects the origin position.

【0078】さらに、被ビア孔加工基板の平行出しを行
うため、XYθテーブル121を移動させて基準孔29
bがCCDカメラ127の直下に到達するように移動し
て検出した後、被ビア孔加工基板のずれ量を演算し、X
Yθテーブル121を移動させることにより被ビア孔加
工基板の平行出しを行うのである。
Further, the XYθ table 121 is moved and the reference hole 29
b is moved to reach just below the CCD camera 127 and is detected.
By moving the Yθ table 121, the via hole processed substrate is parallelized.

【0079】以上、前記読み込む位置の一つ、例えば基
準孔29aを改めて新規の分割ビア孔加工部103にお
ける原点とし、前記測長部102で測定した分割ビア孔
加工エリア29−1から29−2の基準座標のデータ
を、分割ビア孔加工原点に対する相対座標に変換し直
す。このデータによりXYθテーブル121が移動すべ
き各分割ビア孔加工エリアの位置座標が設定されること
になる。
As described above, one of the read positions, for example, the reference hole 29a is newly set as the origin of the new divided via hole processing section 103, and the divided via hole processing areas 29-1 to 29-2 measured by the length measuring section 102 are used. Is converted back into coordinates relative to the divided via hole processing origin. Based on this data, the position coordinates of each divided via hole processing area to which the XYθ table 121 is to be moved are set.

【0080】次に、XYθテーブル121は前記で演算
された第1の分割ビア孔加工エリア29−1の加工点へ
移動し、前記レーザ照射部106のレーザ光128が被
ビア孔加工基板の所定エリアの箇所にビア孔加工する。
Next, the XYθ table 121 moves to the processing point of the first divided via hole processing area 29-1 calculated as described above, and the laser beam 128 of the laser irradiation unit 106 is moved to a predetermined position on the via hole processing substrate. Via holes are formed in the area.

【0081】第1の分割ビア孔加工エリア29−1の所
定ビア孔加工が終了すれば、前記演算データに基づいて
第2の分割ビア孔加工エリア29−2の位置に移動し
て、所定のビア孔加工を行うのである。
When the predetermined via hole processing of the first divided via hole processing area 29-1 is completed, the position is moved to the position of the second divided via hole processing area 29-2 based on the calculation data, and Via hole processing is performed.

【0082】以上、同様にして順次第nの分割ビア孔加
工エリア29−nまでの所定のビア孔加工を行うことが
でき、それらの移動位置は前記演算データに基づいて移
動するため、認識時間が節約でき、タクトのスピードア
ップが図れ生産性が向上する。
As described above, predetermined via hole processing can be sequentially performed up to the n-th divided via hole processing area 29-n in the same manner, and their movement positions are moved based on the calculation data. Can be saved, tact speed can be increased, and productivity can be improved.

【0083】所定のビア孔加工が全て終了するとそのビ
ア孔加工済基板は、取出テーブル133に搬送し移載さ
れ、回転テーブルやベルトコンベアなどにより後工程に
搬送される。
When all the predetermined via hole processing is completed, the via-hole processed substrate is transported to and transferred from the take-out table 133, and is transported to a subsequent process by a rotating table or a belt conveyor.

【0084】なお、被ビア孔加工基板あるいはビア孔加
工済基板の搬送については順次搬送方法について説明し
たのであるが、基板搬送部105の機構や動作を簡略化
するために、吸着パッドアーム110a,110b,1
10cは所定間隔で結合され連結しており、搬送動作時
には同時に動く構造としている。
Although the transfer method of the via hole processed substrate or the via hole processed substrate has been described sequentially, the suction pad arms 110a, 110b are used to simplify the mechanism and operation of the substrate transfer unit 105. 110b, 1
10c are connected and connected at predetermined intervals, and have a structure that simultaneously moves during the transport operation.

【0085】このため、前記基板を搬送し載置するため
には当然、測長部102において測定が全て終了してい
ること、分割ビア孔加工部103では所定のビア孔加工
が全て終了していること、そして取出テーブル133の
上にはビア孔加工済基板が載置されていないことを各々
確認されてから、搬送動作を行うことは言うまでもな
い。
For this reason, in order to transport and place the substrate, it is natural that all the measurements have been completed in the length measuring section 102 and that all the predetermined via holes have been processed in the divided via hole processing section 103. It is needless to say that the transfer operation is performed after it is confirmed that the substrate having been processed with via holes is not placed on the extraction table 133.

【0086】また、測定中やビア孔加工中には吸着パッ
ド109a,109b,109cがXYテーブル111
およびXYθテーブル121の上部にあると不都合なの
で、被ビア孔加工基板あるいはビア孔加工済基板を搬送
し載置を終了した後は、それらの上部に存在しないよう
に中間位置で待機させておく。
During the measurement and the processing of the via hole, the suction pads 109a, 109b, and 109c are set on the XY table 111.
Since it is inconvenient to be located above the XYθ table 121, after the via-hole-processed substrate or via-hole processed substrate has been transported and the mounting has been completed, the substrate is waited at an intermediate position so as not to be present above them.

【0087】なお、本実施の形態における説明では、X
線の測長部102と分割ビア孔加工部103は連結され
た機構構成について説明したが、X線の測長部102と
分割ビア孔加工部103を分離独立した機構としても同
様な効果を奏する。
In the description of the present embodiment, X
Although the mechanism configuration in which the line length measuring unit 102 and the divided via hole processing unit 103 are connected has been described, the same effect can be obtained even if the X-ray length measuring unit 102 and the divided via hole processing unit 103 are separated and independent. .

【0088】[0088]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、外層体
が銅箔の金属材でなる導電箔で覆われた基板の基準マー
クをX線で認識するのであり、基準孔あるいは基準マー
ク加工を行う工程を削除でき、さらに加工による誤差要
因の低減ができるため、基準マークの認識精度を向上さ
せることができるという効果を有する。
As described above, according to the present invention, a reference mark on a substrate whose outer layer is covered with a conductive foil made of a metal material of copper foil is recognized by X-rays. Since the step of performing the processing can be omitted and the error factor due to the processing can be reduced, there is an effect that the recognition accuracy of the reference mark can be improved.

【0089】また、分割ビア孔加工を行うことにより、
基板の伸縮による回路パターンのずれ量を少なくし、所
定の位置に高精度に孔加工することができ、さらに分割
ビア孔加工基準位置検出をビア孔加工部とは別ユニット
により平行して同時測定することもできるため、分割ビ
ア孔加工時にその分割ビア孔加工エリアに移動する毎に
改めて認識をする必要がなく、分割数が多い程その効果
も大きく、より生産性を向上することができるという効
果を有する。
Further, by performing the divided via hole processing,
The amount of circuit pattern shift due to expansion and contraction of the board is reduced, and holes can be drilled at predetermined positions with high accuracy.Furthermore, simultaneous detection of split via hole processing reference position detection is performed in parallel with a unit separate from the via hole processing unit. Therefore, it is not necessary to re-recognize each time when moving to the divided via hole processing area at the time of processing the divided via hole, and the effect is larger as the number of divisions is larger, and the productivity can be further improved. Has an effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態における多層構造のプリン
ト配線板の製造工程全体フロー図
FIG. 1 is an overall flow chart of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図2】同他の実施の形態における多層構造のプリント
配線板の製造工程全体フロー図
FIG. 2 is an overall flowchart of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to another embodiment.

【図3】同製造工程における分割ビア孔加工基板の平面
FIG. 3 is a plan view of a divided via-hole processed substrate in the same manufacturing process.

【図4】同他の実施の形態における分割ビア孔加工基板
の平面図
FIG. 4 is a plan view of a divided via hole processing substrate according to another embodiment.

【図5】本発明の実施の形態におけるX線測長分割ビア
孔加工機構の要部構成斜視図
FIG. 5 is a perspective view of a main part configuration of an X-ray measurement divided via hole machining mechanism according to the embodiment of the present invention.

【図6】従来における多層構造のプリント配線板の全体
製造工程フロー図
FIG. 6 is a flowchart of the whole manufacturing process of a conventional printed wiring board having a multilayer structure.

【図7】同製造工程における一括ビア孔加工基板の要部
平面図
FIG. 7 is a plan view of an essential part of the substrate for processing a collective via hole in the same manufacturing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 貼付部 3 孔加工部 4 充填部 5 剥離部 6 積層部 7 樹脂硬化部 8 基準孔加工部 9 パターン形成部 10 コア形成部 11 積層貼付部 12 基準孔X線測長部 12a 基準孔光学測長部 13 分割孔加工部 13a 孔加工部 14 充填部 15 剥離部 16 積層部 17 樹脂硬化部 18 基準孔加工部 19 パターン形成部 20 多層基板形成部 21 プリプレグ 22 フィルム材 23 ビア孔 24a 基準孔 24b 基準孔 25 導電性ペースト 26 充填プリプレグ 27 導電箔 28 導電箔積層板 29 ビア孔加工エリア 29a 基準孔 29b 基準孔 29a1〜29an 分割ビア孔加工基準 29b1〜29bn 分割ビア孔加工基準 29c1〜29cn 分割ビア孔加工基準孔 29d1〜29dn 分割ビア孔加工基準孔 29−1〜29−n 分割ビア孔加工エリア 29c ビア孔加工基準孔 29d ビア孔加工基準孔 30a 回路パターン 30b 回路パターン 31 両面基板 32 プリプレグ積層板 33 基準孔加工積層板 34 ビア孔 35 ビア孔加工積層板 36 ペースト充填積層板 37 フィルム剥離積層板 38 導電箔貼付板 39 導電箔積層板 40 多層回路積層板 101 供給部 102 測長部 103 分割ビア孔加工部 104 取出部 105 基板搬送部 106 レーザ照射部 107 計測制御部 108 供給ステージ 109a,109b,109c 吸着パッド 110a,110b,110c 吸着パッドアーム 111 XYテーブル 112 X軸モータ 113 Y軸モータ 114 X軸測長器 115 Y軸測長器 116 X線発生器 117 モータ 118 X線イメージセンサ 119 CCDカメラ 120 モータ 121 XYθテーブル 122 X軸モータ 123 Y軸モータ 124 θ軸モータ 125 X軸測長器 126 Y軸測長器 127 CCDカメラ 128 レーザ光 129 X軸ガルバノ 130 Y軸ガルバノ 131 レーザ発振器 132 f・θレンズ 133 取出テーブル 134 アーム搬送モータ 135a,135b,135c 上下駆動アクチュエー
タ 136 画像処理部 137 コンピュータ 138 制御部 139 TVモニター
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pasting part 3 Hole processing part 4 Filling part 5 Peeling part 6 Lamination part 7 Resin hardening part 8 Reference hole processing part 9 Pattern formation part 10 Core formation part 11 Lamination sticking part 12 Reference hole X-ray length measurement part 12a Reference hole optical measurement Long part 13 Divided hole processing part 13a Hole processing part 14 Filling part 15 Peeling part 16 Stacking part 17 Resin hardening part 18 Reference hole processing part 19 Pattern forming part 20 Multilayer substrate forming part 21 Prepreg 22 Film material 23 Via hole 24a Reference hole 24b Reference hole 25 Conductive paste 26 Filled prepreg 27 Conductive foil 28 Conductive foil laminate 29 Via hole processing area 29a Reference hole 29b Reference hole 29a1 to 29an Divided via hole processing standard 29b1 to 29bn Divided via hole processing standard 29c1 to 29cn Divided via hole Processing reference hole 29d1 to 29dn Divided via hole processing reference hole 29-1 to 29-n min Via hole processing area 29c Via hole processing reference hole 29d Via hole processing reference hole 30a Circuit pattern 30b Circuit pattern 31 Double-sided board 32 Prepreg laminated board 33 Reference hole processed laminated board 34 Via hole 35 Via hole processed laminated board 36 Paste filled laminated board 37 Film peeling laminate 38 Conductive foil laminating plate 39 Conductive foil laminate 40 Multilayer circuit laminate 101 Supply unit 102 Length measurement unit 103 Divided via hole processing unit 104 Extraction unit 105 Substrate transport unit 106 Laser irradiation unit 107 Measurement control unit 108 Supply stage 109a, 109b, 109c Suction pad 110a, 110b, 110c Suction pad arm 111 XY table 112 X-axis motor 113 Y-axis motor 114 X-axis measuring device 115 Y-axis measuring device 116 X-ray generator 117 Motor 118 X-ray image sensor 119 CD camera 120 Motor 121 XYθ table 122 X-axis motor 123 Y-axis motor 124 θ-axis motor 125 X-axis length measuring device 126 Y-axis length measuring device 127 CCD camera 128 Laser beam 129 X-axis galvano 130 Y-axis galvano 131 Laser oscillator 132 f • θ lens 133 Take-out table 134 Arm transport motor 135a, 135b, 135c Vertical drive actuator 136 Image processing unit 137 Computer 138 Control unit 139 TV monitor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 H05K 3/00 N M P X // B23K 101:42 B23K 101:42 (72)発明者 越智 昭夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 3C036 AA01 4E068 AF01 DA11 5E346 AA12 AA15 AA43 AA60 BB01 EE02 EE06 EE09 EE13 EE16 EE17 FF18 GG15 GG28 HH11──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/00 H05K 3/00 NMP X // B23K 101: 42 B23K 101: 42 (72) Inventor Akio Ochi 1006 Kazuma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture F term in Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (reference)

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 予め所定の大きさに区分された複数の区
分領域を有し、それら複数の前記区分領域毎に予め設定
した箇所に基準マークを設けた内層体の少なくとも片面
に外層体を積層してなる積層体を形成する工程と、前記
外層体の外部から前記内層体の前記基準マークの位置を
測定する工程と、前記基準マークの位置測定データに基
づいて前記積層体の前記区分領域が所定の箇所に位置す
るように移載させ、前記積層体の前記区分領域毎に所定
のパターンのビア孔を前記積層体に対し形成する工程を
備えたプリント配線板の製造方法。
An outer layer body is laminated on at least one surface of an inner layer body having a plurality of divided areas divided in a predetermined size in advance, and a fiducial mark provided at a location set in advance for each of the plurality of divided areas. Forming a laminated body, and measuring the position of the reference mark of the inner layer body from outside of the outer layer body, and the divided region of the laminated body based on the position measurement data of the reference mark. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising a step of transferring a semiconductor device so as to be located at a predetermined location and forming a via hole having a predetermined pattern in the laminate for each of the divided regions of the laminate.
【請求項2】 内層体が、プリプレグよりなることを特
徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the inner layer is made of a prepreg.
【請求項3】 内層体が、所定の配線パターンを形成し
た多層積層材よりなることを特徴とする請求項1に記載
のプリント配線板の製造方法。
3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the inner layer body is made of a multilayer laminated material on which a predetermined wiring pattern is formed.
【請求項4】 外層体が、プリプレグにフィルムを積層
した積層材あるいはフィルムよりなることを特徴とする
請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
4. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the outer layer body is made of a laminated material or a film obtained by laminating a film on a prepreg.
【請求項5】 基準マークが、レーザやドリルにより加
工したビア孔、あるいはビア孔に充填した導電性ペース
ト、もしくは内層体のパターンよりなることを特徴とす
る請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
5. The printed wiring board according to claim 1, wherein the reference mark is formed of a via hole processed by a laser or a drill, a conductive paste filled in the via hole, or an inner layer pattern. Production method.
【請求項6】 基準マークの位置を測定する工程が、X
線認識を用いる測長器により前記基準マークの位置を測
定することを特徴とする請求項1に記載のプリント配線
板の製造方法。
6. The step of measuring the position of the fiducial mark comprises:
The method according to claim 1, wherein the position of the reference mark is measured by a length measuring device using line recognition.
【請求項7】 基準マークの位置を測定する工程が、可
視光認識を用いる測長器により前記基準マークの位置を
測定することを特徴とする請求項1に記載のプリント配
線板の製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein in the step of measuring the position of the reference mark, the position of the reference mark is measured by a length measuring device using visible light recognition.
【請求項8】 予め所定の大きさに区分された複数の区
分領域を有し、それら複数の前記区分領域毎に予め設定
した箇所に基準マークを設けた内層体の少なくとも片面
に前記基準マークが可視光認識できるように孔を有した
外層体を積層してなる積層体を形成する工程と、前記外
層体の外部から前記内層体の前記基準マークの位置を測
定する工程と、前記基準マークの位置測定データに基づ
いて前記積層体の前記区分領域が所定の箇所に位置する
ように移載させ、前記積層体の前記区分領域毎に所定の
パターンのビア孔を前記積層体に対し形成する工程を備
えたプリント配線板の製造方法。
8. A reference mark is provided on at least one surface of an inner layer body having a plurality of divided areas which are divided in a predetermined size in advance, and a reference mark is provided at a place set in advance for each of the plurality of divided areas. A step of forming a laminate formed by laminating an outer layer having holes so that visible light can be recognized, a step of measuring the position of the reference mark of the inner layer from outside the outer layer, and Transferring the divided region of the laminate based on position measurement data so that the divided region is located at a predetermined position, and forming a via hole having a predetermined pattern in the laminated body for each of the divided regions of the laminate. A method for manufacturing a printed wiring board comprising:
【請求項9】 予め所定の大きさに区分された複数の区
分領域を有し、それら複数の前記区分領域毎に予め設定
した箇所に第1の基準マークを設けた内層体の少なくと
も片面に外層体を積層してなる積層体を形成する工程
と、前記第1の基準マークの位置に外層体の外部から第
2の基準マークを前記積層体に形成する工程と、前記外
層体の外部から前記内層体の前記第2の基準マークの位
置を測定する工程と、前記第2の基準マークの位置測定
データに基づいて前記積層体の前記区分領域が所定の箇
所に位置するように移載させ、前記積層体の前記区分領
域毎に所定のパターンのビア孔を前記積層体に対し形成
する工程を備えたプリント配線板の製造方法。
9. An outer layer on at least one side of an inner layer body having a plurality of divided areas divided in a predetermined size in advance, wherein a first reference mark is provided at a location set in advance for each of the plurality of divided areas. Forming a laminated body by laminating the bodies; forming a second reference mark on the laminated body from outside the outer layer body at the position of the first reference mark; Measuring the position of the second fiducial mark of the inner layer body, and transferring the divided area of the laminate based on the position measurement data of the second fiducial mark so as to be located at a predetermined position; A method for manufacturing a printed wiring board, comprising a step of forming a via hole having a predetermined pattern in the laminated body for each of the divided regions of the laminated body.
【請求項10】 第2の基準マークが、レーザやドリル
により加工した貫通孔よりなることを特徴とする請求項
9に記載のプリント配線板の製造方法。
10. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 9, wherein the second reference mark is formed by a through hole processed by a laser or a drill.
【請求項11】 第2の基準マークの位置を測定する工
程が、光学的認識を用いる測長器により前記第2の基準
マークの位置を測定することを特徴とする請求項9に記
載のプリント配線板の製造方法。
11. The print of claim 9, wherein the step of measuring the position of the second fiducial mark comprises measuring the position of the second fiducial mark with a length measuring device using optical recognition. Manufacturing method of wiring board.
【請求項12】 予め所定の大きさに区分された複数の
区分領域を有する基板の前記区分領域毎に予め設定した
箇所に設けた基準マークの測定データに基づいて前記区
分領域が所定の箇所に位置するように前記基板を移載さ
せ、前記基板にレーザを照射し、前記基板の前記区分領
域毎に所定のパターンのビア孔を前記基板に形成する分
割ビア孔加工部と、前記分割ビア孔加工部で加工した基
板を取出す取出部とを備えたプリント配線板の製造装
置。
12. A method according to claim 1, wherein the divided area is set to a predetermined position based on measurement data of a reference mark provided at a predetermined position for each of the divided areas of the substrate having a plurality of divided areas divided in a predetermined size. Transferring the substrate so as to be positioned, irradiating the substrate with a laser, and forming a via hole of a predetermined pattern in the substrate for each of the divided areas of the substrate; An apparatus for manufacturing a printed wiring board, comprising a take-out section for taking out a substrate processed by a processing section.
【請求項13】 区分領域毎にビア孔を加工する基板を
供給する供給部と、前記基板の区分領域毎に予め設けら
れた基準マークの位置を測定する測長部と、前記基準マ
ークの位置測定データを処理する計測制御部とを付加し
たことを特徴とする請求項12に記載のプリント配線板
の製造装置。
13. A supply unit for supplying a substrate for processing a via hole for each divided region, a length measuring unit for measuring a position of a reference mark provided in advance for each divided region of the substrate, and a position of the reference mark. 13. The apparatus for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, further comprising a measurement control unit for processing the measurement data.
【請求項14】 測長部は、X線を射出するX線発生器
と、X線を受信するX線イメージセンサと、X線イメー
ジセンサで受信された画像を撮像するCCDカメラおよ
び画像処理部を備えたことを特徴とする請求項13に記
載のプリント配線板の製造装置。
14. An X-ray generator that emits X-rays, an X-ray image sensor that receives X-rays, a CCD camera that captures an image received by the X-ray image sensor, and an image processing unit. The apparatus for manufacturing a printed wiring board according to claim 13, further comprising:
【請求項15】 測長部は、光発生器と、光学系画像を
撮像するCCDカメラおよび画像処理部を備えたことを
特徴とする請求項13に記載のプリント配線板の製造装
置。
15. The printed wiring board manufacturing apparatus according to claim 13, wherein the length measuring unit includes a light generator, a CCD camera for capturing an optical system image, and an image processing unit.
【請求項16】 予め所定の大きさに区分された内層体
の複数の区分領域毎に、予め設定した箇所に基準マーク
を形成する工程と、前記基準マークの位置を測定する工
程と、前記基準マークの位置測定データに基づいて前記
内層体の前記区分領域が所定の箇所に位置するように移
載させ、前記内層体の前記区分領域毎に所定のパターン
にビア孔を形成する工程を備えたプリント配線板の製造
方法。
16. A step of forming a fiducial mark at a preset location for each of a plurality of divided areas of an inner layer body that is preliminarily divided into a predetermined size, a step of measuring a position of the fiducial mark, A step of transferring the inner layer body so that the divided area is located at a predetermined position based on mark position measurement data, and forming a via hole in a predetermined pattern for each of the divided areas of the inner layer body. Manufacturing method of printed wiring board.
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