JP2002009102A - ボンディング装置 - Google Patents

ボンディング装置

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JP2002009102A
JP2002009102A JP2000187232A JP2000187232A JP2002009102A JP 2002009102 A JP2002009102 A JP 2002009102A JP 2000187232 A JP2000187232 A JP 2000187232A JP 2000187232 A JP2000187232 A JP 2000187232A JP 2002009102 A JP2002009102 A JP 2002009102A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ボンディングに必要な加熱温度を維持しつ
つ、チップ毎の温度履歴を最小限にすることにより、高
いボンディング品質の確保を図る。 【解決手段】 加熱プレート9a〜9dが搭載されたチ
ップ加熱部10a〜10dは、加熱部上下機構部13a〜
13dにより上下に駆動される。チップ5a〜5dはツ
ール2により順にボンディングされる。チップ5aがボ
ンディングされるとき加熱部10aのみが選択的に上方
へ駆動されチップ5aのみが加熱される。またこの時加
熱プレート9aのみが真空吸着動作を行う。 【効果】 ボンディングが行われるチップのみ加熱さ
れ、それ以外のチップは保持・加熱されないので、熱履
歴を各チップとも等しくする事ができ、より安定したボ
ンディング品質を実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ボンディング装置
に関し、より詳しくは、ボンディング時のチップの加熱
方法を改善した、半導体チップ上の電極パッドに対しワ
イヤボンディングやシングルポイントボンディングなど
を行う装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体チップに対する実装工程において
は、チップ上の電極パッドとTABテープやリードフレ
ームのインナーリードとがシングルポイントボンディン
グ装置やワイヤボンディング装置により接続される。而
して、従来、リードフレームなどの半導体キャリアで
は、チップは1列に配置されていたが、近年、コストダ
ウンのために一つの半導体キャリアに格子状にチップを
配置するマルチ化が図られている。そして、この複数列
にチップを搭載したマルチキャリアを使用する場合で
も、それらのチップのボンディングは従来の一列キャリ
ア同様に個々のチップ毎に行われる。
【0003】図9は、マルチキャリアに対する従来のボ
ンディング装置の斜視図であり、図10は、そのブロッ
ク図である。図9の斜視図では、ボンディングホーン、
ワーク押え、キャリア搬送部等は省略されている。この
従来例は、キャリア上にチップが四列に搭載されている
場合に関するものである。
【0004】図10を参照して本従来例の構成について
説明する。チップの電極パッドとTABテープなどのキ
ャリアのインナーリード間を接続するボンディングツー
ル102を保持するボンディングホーン101は、図示
しないXYステージに搭載されている。ボンディング中
にワークを固定するワーク押え103は、このワーク押
え103を上下に駆動するワーク押え上下機構部107
に搭載されている。チップ104が搭載されたキャリア
105の側部には、1行分のチップのボンディングが完
了した時に、キャリア105をアンローダ(図示せず)
側に搬送するキャリア搬送部106が備えられている。
【0005】ボンディング時にチップ104を加熱する
複数の加熱プレート109は、これらの加熱プレート1
09を加熱するためのチップ加熱部110上に搭載さ
れ、チップ加熱部110はこれを上下に駆動する加熱部
上下機構部113に支持されている。チップ加熱部11
0内には複数のヒータ111が備えられており、それら
はヒータドライバ114に共通に接続されている。加熱
プレート109内には、内部で共通に接続された吸着穴
116が形成されており、その吸着穴は配管108と接
続されている。そして配管108は、吸着穴116内を
真空引きするバキューム装置112に接続されている。
而して、以上の各装置は装置制御部115より制御され
る。
【0006】次に、本従来例の動作について説明する。
図示されないローダ部から、キャリア搬送部106によ
り搬送された、チップ104が搭載されたキャリア10
5は、所定のボンディング位置に搬送・位置決めされ
る。次に、加熱部上下機構部113が駆動され、加熱プ
レート109がチップ104に接触するまでチップ加熱
部110を上昇させる。これと同時に、バキューム装置
112が装置制御部115により駆動され、吸着穴11
6内を真空引きしてチップ104を吸着・固定する。続
いて、ワーク押え103が、ワーク押え上下機構部10
7により下降し、前述の加熱プレート109と共にチッ
プ104を挟み込んで固定する。
【0007】その時点でヒータ111は、ヒータドライ
バ114により駆動されて発熱しており、装置制御部1
15により一定温度に保たれている。次に、ボンディン
グホーン101と共にボンディングツール102が下降
し、インナ・リードがチップ上の電極パッドとボンディ
ングされる。第1列目のチップに対するボンディングが
終了すると、ボンディングホーン101は第2列目のチ
ップ上に移動し、2列目のチップに対するボンディング
を開始する。同様の動作が、最終列チップのボンディン
グが終了するまで繰り返され、その間全てのチップ10
4は、チップ加熱部110により継続して加熱される。
【0008】最終列チップのボンディングが終了する
と、ワーク押え上下機構部107が再び作動してワーク
押え103を上昇させ、それと同時に加熱部上下機構部
113が再び作動して、チップ加熱部110を下降させ
る。これによりキャリア105はフリーになり、キャリ
アのピッチ送りがなされ、次の行のチップをボンディン
グ位置に搬送・位置決めし、前述と同じ動作を繰り返
す。
【0009】ここで、ヒータドライバ114は、パワー
トランジスタ等を用いて構成されており、そして装置制
御部115は、チップ加熱部110の温度を熱電対やサ
ーミスタ等により検知して、パワートランジスタをON
/OFFしてチップ加熱部110の温度を150〜30
0℃の範囲内の一定温度に制御する。バキューム装置1
12は、周知の技術であるモータにより真空ポンプを駆
動するものである。以上の各装置は、周知のコンピュー
タによるソフトウェア制御で装置制御部115により制
御される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のマルチ
キャリアに対するボンディング方法では、ボンディング
ステージ上の全てのチップは、1列目のチップのボンデ
ィング開始時から最終行のチップのボンディング終了時
まで加熱プレートにより加熱され続けるため、それぞれ
ボンディングされる順番によりボンディング前の加熱時
間が異なってくる。すなわち、最初にボンディングされ
るチップはボンディングされるまでの時間が最も短く、
最後のチップは最も時間が長くなり、そのため、いわゆ
る熱履歴に違いが生じてくる。この熱履歴の違いによ
り、従来、チップ間でボンディングの品質にばらつきが
生じていた。本発明の課題は、上述の従来例の問題点を
解決することであって、その目的は、ボンディングに必
要な加熱温度を維持しつつ、チップ毎の温度履歴を最小
限にすることにより、均一で高い品質のボンディングを
実現できるボンディング装置を提供できるようにするこ
とである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明によれば、金属製のリードフレーム(以後L
/Fと表記する)やTABテープなどのようなキャリア
上に搭載された複数個のチップをキャリアを間欠的に搬
送することによりボンディングステージに搬送し、1チ
ップずつ順にその電極パッドに対しボンディングを行う
装置であって、ボンディングステージには一度に搬送さ
れてくるチップの数に対応した数の上下動可能な加熱手
段が設けられ、ボンディングの対象となっているチップ
に対応した加熱手段が選択的に上昇して該チップを選択
的に加熱することを特徴とするボンディング装置、が提
供される。
【0012】また、上記の目的を達成するため、本発明
によれば、キャリア上に搭載された複数個のチップをキ
ャリアを間欠的に搬送することによりボンディングステ
ージに搬送し、1チップずつ順にその電極パッドに対し
ボンディングを行う装置であって、ボンディングステー
ジには上下方向および水平方向に移動可能な加熱手段が
設けられ、前記加熱手段はボンディングの対象となって
いるチップ下に移動し上昇して該チップを選択的に加熱
することを特徴とするボンディング装置、が提供され
る。
【0013】そして、好ましくは、前記ボンディングス
テージ上には、上下動可能なワーク押えが備えられ、ボ
ンディング時には下降して前記加熱手段と協同して前記
キャリアとチップを保持するように構成される。また、
好ましくは、前記加熱手段が、ヒータを内蔵した加熱部
と該加熱部上に搭載された加熱プレートを備える。そし
て、前記加熱プレートには、配管に連なる、ワークを吸
着するための吸着穴が開口され、ボンディングの対象と
なっているチップに係る加熱プレートの吸着穴のみが真
空引きされる。また、前記配管は、切り替え弁を介して
ばバキューム装置とブロア装置とに接続され、ボンディ
ングの対象となっているチップに係る加熱プレートの吸
着穴のみが真空引きされ、他の加熱プレートの吸着穴か
らは気体が噴射される。
【0014】
【発明の実施の形態】次に、図面を参照して本発明の実
施の形態について実施例に即して説明する。図1は、本
発明の第1の実施例の斜視図である。図1で、ワーク押
え、キャリア搬送部等は省略されている。キャリア5に
はデバイスホール5a〜5dが開口されており、キャリ
ア5上に形成されたインナーリードの先端部はデバイス
ホール5a〜5d内に突き出している。キャリア5の下
面にはチップ4a〜4dが、インナーリードに位置決め
されて接着剤で仮止めされている。そしてスプロケット
ホール50により矢印の方向にキャリア送りされたり、
図示しないキャリア搬送部により、キャリアを挟み込ん
で搬送するクランプ送りされることで搬送される。図2
は、第1の実施例のブロック図である。図2に示される
ように、チップの電極パッドへキャリア上のインナーリ
ードを接続するボンディングツール2は、XYステージ
(図示なし)に搭載されたボンディングホーン1の先端
部に固着されている。ボンディング中にワークを固定す
るワーク押え3は、ワーク押え上下機構部7により上下
に駆動される。
【0015】キャリア5の側部には、キャリア搬送部6
が備えられており、1行分のチップのボンディングが完
了した時にキャリア5をスプロケットホールを用いてア
ンローダ(図示せず)側に向けて搬送する。ボンディン
グ時にチップ4a〜4dを加熱する加熱プレート9a〜
9dは、この加熱プレート9a〜9dを加熱するための
ヒータ11a〜11dを内蔵したチップ加熱部10a〜
10d上に搭載されており、チップ加熱部10a〜10
dは、加熱部上下機構部13a〜13dによりそれぞれ
上下に駆動される。ヒータ11a〜11dは、ヒータド
ライバ14にそれぞれ接続されている。前述の加熱プレ
ート9a〜9d内に形成された吸着穴は、配管8a〜8
dに接続されており、各配管8a〜8dは、吸着穴内を
真空引きするバキューム装置12に接続されている。そ
して、以上の各装置は装置制御部15より制御される。
【0016】次に、本実施例装置の動作を詳細に説明を
する。図示されないローダ部から、キャリア搬送部6に
よりスプロケットホール50を介したり、クランプ送り
されて搬送されたキャリア5は、所定のボンディング位
置に搬送・位置決めされる。次に、選択された加熱部上
下機構部13aが駆動され、加熱プレート9aがチップ
4aに接触するまでチップ加熱部10aを上昇させる。
これと同時に、バキューム装置12が装置制御部15に
より駆動され、加熱プレート9aの吸着穴内を真空引き
して、チップ4aを吸着固定する。この時、配管8a〜
8dの全てを真空引きしてもよいが、選択された配管8
aのみを真空引きし、他の選択されない配管は真空引き
しないように制御してもかまわない。
【0017】続いてワーク押え3が、ワーク押え上下機
構部7により下降し、前述の加熱プレート9aと共にチ
ップ4aを挟み込んで固定する。このとき、チップ加熱
部10a〜10d内のヒータ11a〜11dは、ヒータ
ドライバ14を介して給電され、装置制御部15により
一定温度に保たれている。次に、ボンディングツール2
により、チップ4a上の電極パッドとインナーリードと
がデバイスホール5aを通してボンディングされる。第
1列目のチップのボンディングが終了すると、バキュー
ム装置12は停止し、加熱プレート9aの吸着穴内の真
空状態を解除する。その後、加熱部上下機構部13aが
再び作動して、チップ加熱部10aを下降させる。
【0018】次いで、2列目のチップに対する加熱部上
下機構部13bが作動し、加熱プレート9bが2列目の
チップ4bに接触するまでチップ加熱部10bを上昇さ
せる。これと同時に、バキューム装置12が装置制御部
15により再び駆動され、加熱プレート9bの吸着穴内
を真空引きしてチップ4bを吸着固定する。そしてボン
ディングホーン1は第2列目に移動し、2列目のボンデ
ィングを開始する。同様の動作が最終列チップのボンデ
ィングが終了するまで繰り返され、その間ボンディング
中以外のチップは、チップ加熱部より切り離されている
ため、熱による影響を受けない。
【0019】最終列チップのボンディングが終了する
と、ワーク押え上下機構部7が再び作動して、ワーク押
え3を上昇させる。これによりキャリア5はフリーにな
り、キャリア搬送部6でスプロケットホール50やクラ
ンプ送りによりキャリアのピッチ送りがなされ、次の行
のチップがボンディング位置に搬送・位置決めされ、前
述と同様の動作が繰り返される。ここで、ワーク押え上
下機構部7、加熱部上下機構部13a〜13d、ヒータ
ドライバ14、バキューム装置12、装置制御部15
は、先に述べた従来例と同じ構成である。
【0020】図3は、本発明の第2の実施例の1対の加
熱プレート部の構成を示す斜視図であり、図4は全体の
構成を示すブロック図である。図4において、図2に示
した第1の実施例の部分と同等の部分には同じ参照番号
が付せられているので重複する説明は省略する。本実施
例の図2に示した第1の実施例と相違する点は、加熱プ
レートが2個ずつ対になり1つのチップ加熱部上に搭載
され、その単位で加熱部上下機構部により駆動されるこ
とと、バキューム装置とブロア装置が、切り替え弁によ
り選択的に配管に接続される点である。
【0021】1対の加熱プレート9a、9bと、ワーク
押え3がチップ4a、4bを挟み込んだ後、切り替え弁
22は配管8a、8bをそれぞれバキューム装置20と
ブロア装置21に接続する。これにより、チップ4aは
真空吸着により固定されるとともにチップ4bは空気吹
き付けにより冷却される。この時、他の配管8c、8d
を切り替え弁22によりブロア装置21に接続し、チッ
プ4c、4dに空気を吹き付けるようにしてもよい(切
り替え弁22により配管8c、8dをバキューム装置2
0とブロア装置21の双方から切り離しておいてもよ
い)。
【0022】チップ4aのボンディングが終了すると、
この状態のまま切り替え弁22は配管8aをバキューム
装置20から切り離し、8bをバキューム装置20に接
続して、チップ4bを真空吸着により固定する(このと
き、チップ4aに空気を吹き付けるようにしてもよ
い)。そして、チップ4bに対するボンディングを行
う。このようにして対のチップのボンディングが終了す
ると、切り替え弁22により配管8bをバキューム装置
20から切り離し、加熱プレート9bの吸着穴内の真空
状態を解除する。その後、加熱部上下機構部13aを再
び駆動してチップ加熱部10aを下降させる。
【0023】この後、配管8bを、切り替え弁22によ
りブロア装置21に接続してチップ4bに空気を吹き付
けるようにしてもよい(配管8a、8bをバキューム装
置20とブロア装置21の双方から切り離しておいても
よい)。引き続き前述と同様に、チップ加熱部10bを
加熱部上下機構部13bにより上昇させ、チップ4dに
空気を吹き付けつつチップ4cを吸着固定してこれに対
するボンディングを行い、その後にチップ4dを吸着固
定してこれに対するボンディングを行う。本実施例で
は、2つのチップ加熱部を対にした構成により、加熱部
上下機構部を減らすことができ安価な装置を実現でき
る。しかし、2つの加熱プレートに対してチップ加熱部
を共通にしたため、ボンディング前のチップにも加熱プ
レートの熱が伝わる。しかし、ボンディング前のチップ
には空気を吹き付けて冷却しているため、大きな弊害を
招くことはない。
【0024】図5は、本発明の第3の実施例の部分斜視
図であり、図6は、全体のブロック図である。図6にお
いて、図2に示した第1の実施例の部分と同等の部分に
は同じ参照番号が付せられているので重複する説明は省
略する。本実施例の図2に示した第1の実施例と相違す
る点は、バキューム装置とブロア装置とを切り替え弁を
介して選択的に配管に接続する点である。ワーク押え3
が、ワーク押え上下機構部7により下降され、加熱プレ
ート9aと共にチップ4aを挟み込んで固定する。その
時点で、チップ加熱部10a〜10d内のヒータ11a
〜11dは、ヒータドライバ14により駆動され装置制
御部15により一定温度に保たれている。この時、切り
替え弁22が装置制御部15により駆動され、配管8a
をバキューム装置20に接続して加熱プレート9aの吸
着穴内を真空引きし、チップ4aを吸着固定する。
【0025】他の加熱プレート9b〜9dの配管8b〜
8dを、ブロア21に接続してチップ4b〜4dを冷却
する。次に、ボンディングツール2によりチップ4aに
対するボンディングが行われる。第1列目のボンディン
グが終了すると、切り替え弁22は、配管8aをバキュ
ーム装置20から切り離し、加熱プレート9a内の真空
状態を解除する。その後加熱部上下機構部13aが再び
作動して、チップ加熱部10aを下降させる。続いて2
列目の加熱部上下機構部13bが作動し、加熱プレート
9bが2列目のチップ4bに接触するまでチップ加熱部
10bを上昇させる。この後、切り替え弁22が装置制
御部15により再び駆動され、配管8bをバキューム装
置20に接続して加熱プレート9bの吸着穴内を真空引
きし、チップ4bを吸着固定する。
【0026】そして、ボンディングホーン1が第2列目
に移動して2列目のボンディングを開始する。この時、
他の加熱プレート9a、9c、9dの配管8a、8c、
8dは、ブロア21に接続され、チップ4a、4c、4
dには空気が吹き付けられている。同様の動作が最終列
チップのボンディングが終了するまで繰り返され、その
間ボンディング中以外のチップは、チップ加熱部より切
り離され、しかもブロア装置により冷却されているた
め、他の実施例に比較して熱による影響をより少なくす
ることができる。最終列チップのボンディングが終了す
ると、ワーク押え上下機構部7が再び作動して、ワーク
押え3を上昇させる。これによりキャリア5はフリーに
なり、キャリアのピッチ送りがなされ、次の行のチップ
がボンディング位置に搬送・位置決めされ、前述と同じ
動作が行われる。ここで、ワーク押え上下機構部7、加
熱部上下機構部13a〜13d、ヒータドライバ14、
バキューム装置12、装置制御部15は、先に述べた従
来例と同じ構成である。第3の実施例においては、ボン
ディングの対象となっているチップ以外のチップについ
ては、ボンディングが行われる直前のチップに対しての
み空気の吹き付けを行い、その外のチップについては空
気吹き付けを行なわないようにしてもよい。
【0027】図7は、本発明の第4の実施例の部分斜視
図であり、図8は、全体のブロック図である。図8にお
いて、図2に示した第1の実施例の部分と同等の部分に
は同じ参照番号が付せられているので重複する説明は省
略する。本実施例の図2に示した第1の実施例と相違す
る点は、加熱部上下機構部13を、スライド装置16に
よりスライド支持台17上を左右にスライドさせる点
と、加熱プレート9とチップ加熱部10が1組だけであ
る点である。
【0028】ワーク押え3が、ワーク押え上下機構部7
により下降され、加熱プレート9と共にチップ4aを挟
み込んで固定する。その時点でチップ加熱部10内のヒ
ータ11がヒータドライバ14により駆動され、装置制
御部15により一定温度に保たれている。この時、配管
8はバキューム装置12により、加熱プレート9の吸着
穴内を真空引きしてチップ4aを吸着固定する。次に、
ボンディングツール2により、チップ4aに対するボン
ディングが行われる。第1列目のチップに対するボンデ
ィングが終了すると、バキューム装置12は、装置制御
部15によりOFFとなり、加熱プレート9の吸着穴内
の真空状態を解除する。その後加熱部上下機構部13が
再び作動して、チップ加熱部10を下降させる。
【0029】その後、スライド装置16が装置制御部1
5により駆動され、加熱部上下機構部13を2列目のチ
ップ4bの直下まで移動させる。次いで、再び加熱部上
下機構部13が作動して、加熱プレート9が2列目のチ
ップ4bに接触するまでチップ加熱部10を上昇させ
る。この後、バキューム装置20が再び作動して、加熱
プレート9の吸着穴内を真空引きし、チップ4bを吸着
固定する。そしてボンディングホーンが第2列目のチッ
プ上に移動して、2列目のチップに対するボンディング
を開始する。同様の動作が最終列チップのボンディング
が終了するまで繰り返される。その間、ボンディング中
以外のチップは、チップ加熱部より切り離されているの
で、熱による影響を受けない。最終列チップのボンディ
ングが終了すると、ワーク押え上下機構部7が再び作動
して、ワーク押え3を上昇させる。
【0030】これによりキャリア5はフリーになり、キ
ャリアのピッチ送りが行われ、次の行のチップがボンデ
ィング位置に搬送・位置決めされる。そして前述と同じ
動作が繰り返される。ここで、ワーク押え上下機構部
7、加熱部上下機構部13、ヒータドライバ14、バキ
ューム装置12、装置制御部15は、先に述べた従来例
と同じ構成である。さらに、スライド装置16は前述の
加熱部上下機構部13と同じ構成である。上述のよう
に、本実施例では最も少ない部品により装置を構成する
ことができるので、安価なボンディング装置が実現でき
る。
【0031】以上、本発明の好ましい実施例について説
明したが、本発明は、これら実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱することのない範囲内にお
いて適宜の変更が可能なものである。例えば、ボンディ
ングしていないチップへのブローについて、常温の圧縮
空気以外に窒素を使うことができる。また、ブローガス
の流量の調整弁や、圧力調整機構を設けることで冷却温
度を調整することもできる。また、上述の実施例では加
熱部は常時加熱していることを前提としているが、ボン
ディング開始直前に制御部からの加熱開始指令に伴って
急加熱可能なパルスヒート方式やセラミックヒータを適
用することも可能である。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のボンディ
ング装置は、ボンディング位置に搬送・位置決めされた
チップに対して、チップ加熱部および加熱プレートが、
それぞれのチップを独立して保持・加熱するものである
ので、チップはボンディングされるときにのみ加熱さ
れ、それ以外の時は保持・加熱されずにすむので熱履歴
を各チップとも等しくすることができ、均一で高品質の
ボンディングを実現することができる。また、ボンディ
ング前のチップに空気を吹き付けることにより、熱履歴
差をより少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例の部分斜視図。
【図2】 本発明の第1の実施例のブロック図。
【図3】 本発明の第2の実施例の部分斜視図。
【図4】 本発明の第2の実施例のブロック図。
【図5】 本発明の第3の実施例の部分斜視図。
【図6】 本発明の第3の実施例のブロック図。
【図7】 本発明の第4の実施例の部分斜視図。
【図8】 本発明の第4の実施例のブロック図。
【図9】 従来例の斜視図。
【図10】 従来例のブロック図。
【符号の説明】
1、101 ボンディングホーン 2、102 ボンディングツール 3、103 ワーク押え 4a〜4d、104 チップ 5、105 キャリア 5a〜5d デバイスホール 6、106 キャリア搬送部 7、107 ワーク押え上下機構部 8a〜8d、108 配管 9a〜9d、109 加熱プレート 10a〜10d、110 チップ加熱部 11a〜11d、111 ヒータ 12、20、112 バキューム装置 13a〜13d、113 加熱部上下機構部 14、114 ヒータドライバ 15、115 装置制御部 16 スライド装置 17 スライド支持台 21 ブロア装置 22 切り替え弁 50 スプロケットホール 116 吸着穴

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 キャリア上に搭載された複数個のチップ
    をキャリアを間欠的に搬送することによりボンディング
    ステージに搬送し、1チップずつ順にその電極パッドに
    対しボンディングを行う装置であって、ボンディングス
    テージには一度に搬送されてくるチップの数に対応した
    数の上下動可能な加熱手段が設けられ、ボンディングの
    対象となっているチップに対応した加熱手段が選択的に
    上昇して該チップを選択的に加熱することを特徴とする
    ボンディング装置。
  2. 【請求項2】 キャリア上に搭載された複数個のチップ
    をキャリアを間欠的に搬送することによりボンディング
    ステージに搬送し、1チップずつ順にその電極パッドに
    対しボンディングを行う装置であって、ボンディングス
    テージには上下方向および水平方向に移動可能な加熱手
    段が設けられ、前記加熱手段はボンディングの対象とな
    っているチップ下に移動し上昇して該チップを選択的に
    加熱することを特徴とするボンディング装置。
  3. 【請求項3】 前記ボンディングステージ上には、上下
    動可能なワーク押えが備えられ、ボンディング時には下
    降して前記加熱手段と協同してワークを保持することを
    特徴とする請求項1または2記載のボンディング装置。
  4. 【請求項4】 前記加熱手段が、ヒータを内蔵した加熱
    部と該加熱部上に搭載された加熱プレートを有している
    ことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のボンデ
    ィング装置。
  5. 【請求項5】 前記加熱部が複数個設けられ、かつ、各
    加熱部上にそれぞれ複数個の加熱プレートが搭載されて
    いることを特徴とする請求項4記載のボンディング装
    置。
  6. 【請求項6】 前記加熱プレートには、ワークを吸着す
    るための吸着穴が開口されており、該吸着穴には配管が
    接続されていることを特徴とする請求項4または5記載
    のボンディング装置。
  7. 【請求項7】 ボンディングの対象となっているチップ
    に係る加熱プレートの吸着穴のみが真空引きされること
    を特徴とする請求項6記載のボンディング装置。
  8. 【請求項8】 前記配管は、切り替え弁を介してばバキ
    ューム装置とブロア装置とに接続されていることを特徴
    とする請求項6記載のボンディング装置。
  9. 【請求項9】 ボンディングの対象となっているチップ
    に係る加熱プレートの吸着穴のみが真空引きされ、他の
    加熱プレートの吸着穴からは気体が噴射されることを特
    徴とする請求項8記載のボンディング装置。
  10. 【請求項10】 ボンディングの対象となっているチッ
    プに係る加熱プレートの吸着穴のみが真空引きされ、次
    にボンディングが行われるチップ下の加熱プレートの吸
    着穴からは気体が噴射されることを特徴とする請求項8
    記載のボンディング装置。
  11. 【請求項11】 急加熱・冷却が可能なヒータを加熱部
    に使用していることを特徴とする請求項10記載のボン
    ディング装置。
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