JP2002008383A - 不揮発性半導体メモリおよび動作方法 - Google Patents

不揮発性半導体メモリおよび動作方法

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JP2002008383A
JP2002008383A JP2000188627A JP2000188627A JP2002008383A JP 2002008383 A JP2002008383 A JP 2002008383A JP 2000188627 A JP2000188627 A JP 2000188627A JP 2000188627 A JP2000188627 A JP 2000188627A JP 2002008383 A JP2002008383 A JP 2002008383A
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memory
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memory array
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Kunio Tani
国雄 谷
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮
を実現する。 【解決手段】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとして書
き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内
の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジス
タからなるメモリセルの内容を読み出した際にその内容
を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶手段
とを備え、電源立ち上げ時に、前記第1の記憶手段によ
る第1のデータと、前記第2の記憶手段による第2のデ
ータとを、RSR(リードステータスレジスタ)96お
よびLBSR(ロックビットステータスレジスタ)95
により、前記メモリセル外に記憶するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、メモリセルとし
てロックビットを有する不揮発性トランジスタを用いた
不揮発性半導体メモリに関し、特に、高速に処理可能な
不揮発性半導体メモリに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のロックビットメモリを有する不揮
発性半導体メモリは、自動消去/自動書き込みを実行す
る場合、動作実行毎にロックビットメモリのデータを毎
回読み出し、消去/書き込み可能か否かを判断してい
た。また、ロックビット書き込み、ロックビットリード
時には、メモリセル以外には、書き込み/読み出し情報
を保持する手段はなく、その後に引き続き行われる自動
消去/自動書き込みでは、動作実行毎にロックビットメ
モリのデータを毎回読み出し、消去/書き込み可能か否
かを判断していた。さらに、従来のロックビットメモリ
を有する不揮発性半導体メモリに接続されるデータ処理
装置は、不揮発性半導体メモリにデータを書き込む際
は、データ書き込みするメモリブロックを消去してから
書き込むため、まずロックビットリード動作によって消
去可能か否かを判断してから消去動作を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このようにして従来技
術では、自動消去/自動書き込み処理においては、処理
モード実行中にロックビットビットメモリを毎回読み出
し、消去可能か否か書き込み可能か否かを判断してい
る。このことは、自動消去時間と自動書き込み時間の増
大になっており、特に自動書き込みを使って連続するア
ドレスに対してデータを書き込む場合、自動書き込み動
作毎にロックビットメモリのデータを読み出していたた
め、効率的な書き込み動作が出来ないという課題があっ
た。
【0004】この発明は、このような問題点を解決する
ためになされたものであり、自動消去,自動書き込み等
の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリの
提供を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】第1の発明に係る不揮発
性半導体メモリでは、不揮発性トランジスタからなる複
数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前
記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮
発性トランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレ
イ内に有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能
か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセル
を読み出した際にメモリデータを書き込み保持する記憶
手段を備え、電源立ち上げ時に、前記記憶手段により保
持されたデータを前記メモリセル外に記憶するようにし
たものである。
【0006】第2の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを
書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタ
からなるメモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前記
メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮
発性トランジスタからなるメモリセルを読み出した際に
読み出し履歴の情報を第1のデータとして書き込み保持
する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内の書き込み
/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなる
メモリセルの内容を読み出した際にその内容を第2のデ
ータとして書き込み保持する第2の記憶手段とを備え、
電源立ち上げ時に、前記第1の記憶手段による第1のデ
ータと、前記第2の記憶手段による第2のデータとを前
記メモリセル外に記憶するようにしたものである。
【0007】第3の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、前記不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセ
ルが行列状に配置されたメモリアレイにデータを書き込
む場合、前記第1の記憶手段によって保持された第1の
データと前記第2の記憶手段によって保持された第2の
データを参照し、前記メモリアレイのデータを書き込む
か否かを決定するようにしたものである。
【0008】第4の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを
書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタ
からなるメモリセルにデータを書き込む場合、前記メモ
リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性メ
モリからなるメモリセルにデータを書き込むと共に、前
記第1の記憶手段と前記第2の記憶手段により第1のデ
ータと第2のデータを更新するようにしたものである。
【0009】第5の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、前記不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセ
ルが行列状に配置されたメモリアレイにデータを消去す
る場合、前記第1の記憶手段によって保持された前記第
1のデータと前記第2の記憶手段によって保持された前
記第2のデータを参照し、前記メモリアレイ内のデータ
を消去するか否かを決定するようにしたものである。
【0010】第6の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、前記不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセ
ルが行列状に配置されたメモリアレイで、前記メモリア
レイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トラン
ジスタからなるメモリセルデータを読み出す場合、前記
第1の記憶手段によって保持された前記第1のデータと
前記第2の記憶手段によって保持された前記第2のデー
タを参照し、前記メモリアレイを書き込み/消去可能か
否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルの
データを読み出す必要がある場合には、データを読み出
すと共に、前記第1の記憶手段と前記第2の記憶手段に
より前記第1のデータと前記第2のデータを更新するよ
うにしたものである。
【0011】第7の発明に係る不揮発性半導体メモリで
は、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで、前記メモリアレイ
を書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジス
タからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前
記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不
揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み出した際
に読み出し履歴の情報を第1のデータとして書き込み保
持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内の書き込
み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからな
るメモリセルの内容を読み出した際にその内容を第2の
データとして書き込み保持する第2の記憶手段とを備え
る前記不揮発性半導体メモリについて、前記不揮発性半
導体メモリに接続され、前記不揮発性半導体メモリを消
去/書き込み制御するデータ処理装置により制御するも
のにおいて、前記第1の記憶手段によって保持された前
記第1のデータと前記第2の記憶手段によって保持され
た前記第2のデータとを前記データ処理装置が参照し、
消去/書き込み可能か否かを判断するようにしたもので
ある。
【0012】第8の発明に係る不揮発性半導体メモリの
動作方法では、不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
出した際にメモリデータを書き込み保持する記憶手段を
備えた不揮発性半導体メモリの動作にあたり、電源立ち
上げ時に、前記記憶手段により保持されたデータを前記
メモリセル外に記憶するようにしたものである。
【0013】第9の発明に係る不揮発性半導体メモリの
動作方法では、不揮発性トランジスタからなる複数のメ
モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとして書
き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内
の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジス
タからなるメモリセルの内容を読み出した際にその内容
を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶手段
とを備えた不揮発性半導体メモリの動作にあたり、電源
立ち上げ時に、前記第1の記憶手段による第1のデータ
と、前記第2の記憶手段による第2のデータとを前記メ
モリセル外に記憶するようにしたものである。
【0014】第10の発明に係る不揮発性半導体メモリ
の動作方法では、前記不揮発性トランジスタからなる複
数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデ
ータを書き込む場合、前記第1の記憶手段によって保持
された第1のデータと前記第2の記憶手段によって保持
された第2のデータを参照し、前記メモリアレイのデー
タを書き込むか否かを決定する書き込み方法を特徴とす
るものである。
【0015】第11の発明に係る不揮発性半導体メモリ
の動作方法では、不揮発性トランジスタからなる複数の
メモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メ
モリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性
トランジスタからなるメモリセルにデータを書き込む場
合、前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示
す不揮発性メモリからなるメモリセルにデータを書き込
むと共に、前記第1の記憶手段と前記第2の記憶手段に
より第1のデータと第2のデータを更新する書き込み方
法を特徴とするものである。
【0016】第12の発明に係る不揮発性半導体メモリ
の動作方法では、前記不揮発性トランジスタからなる複
数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデ
ータを消去する場合、前記第1の記憶手段によって保持
された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によって
保持された前記第2のデータを参照し、前記メモリアレ
イ内のデータを消去するか否かを決定するようにした消
去方法を特徴とするものである。
【0017】第13の発明に係る不揮発性半導体メモリ
の動作方法では、前記不揮発性トランジスタからなる複
数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、
前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不
揮発性トランジスタからなるメモリセルデータを読み出
す場合、前記第1の記憶手段によって保持された前記第
1のデータと前記第2の記憶手段によって保持された前
記第2のデータを参照し、前記メモリアレイを書き込み
/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなる
メモリセルのデータを読み出す必要がある場合には、デ
ータを読み出すと共に、前記第1の記憶手段と前記第2
の記憶手段により前記第1のデータと前記第2のデータ
を更新する読み出し方法を特徴とするものである。
【0018】第14の発明に係る不揮発性半導体メモリ
の動作方法では、不揮発性トランジスタからなる複数の
メモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、前記
メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発
性トランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ
内に有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か
否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを
読み出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとし
て書き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレ
イ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トラン
ジスタからなるメモリセルの内容を読み出した際にその
内容を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶
手段とを備える前記不揮発性半導体メモリについて、前
記不揮発性半導体メモリに接続され、前記不揮発性半導
体メモリを消去/書き込み制御するデータ処理装置によ
り制御するにあたり、前記第1の記憶手段によって保持
された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によって
保持された前記第2のデータとを前記データ処理装置が
参照し、消去/書き込み可能か否かを判断するようにし
たものである。
【0019】
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明に
よる実施の一形態を図1ないし図19について説明す
る。図1は、この発明による不揮発性半導体メモリの全
体構成を示すブロック図である。この発明の不揮発性半
導体メモリの構成を大きく分けると、マイクロシーケン
サ1,チャージポンプ2,メモリデコーダー3,メモリ
ブロック4,アドレス/データ/制御信号ラッチ回路5
からなる。メモリ外部から、アドレスA(16:0)バ
ス,データ(15:0)バス,各種制御信号が入出力さ
れる。
【0020】図2に、この発明の不揮発性半導体メモリ
の動作モード一覧を示す。次に、各動作モードの説明を
する。読み出し動作では、不揮発性半導体メモリ内の任
意のアドレスのデータを読み出す。ステータスレジスタ
リードは、自動消去/自動書き込みのステータス情報を
読み出す。ステータスレジスタリードでは、データD
(15:0)バスから入力されるコマンド70Hでモー
ドにエントリーしてFFHで戻る。ステータスレジスタ
クリアは、ステータスレジスタの内容をクリアする。ス
テータスレジスタクリアでは、データD(15:0)バ
スから入力されるコマンド50Hでモードにエントリー
してFFHで戻る。
【0021】自動書き込みは、データD(15:0)バ
スから入力されるコマンド40Hでセットアップモード
に入り、次のサイクルで書き込みモードとアドレスを取
り込みモードエントリーする。自動書き込み終了後は、
ステータスレジスタの書き込みステータスを書き込む。
自動一括消去は、データ(15:0)バスから入力され
るコマンド20Hでセットアップモードに入り、次のサ
イクルで確認コマンドの20Hでモードエントリーす
る。自動一括消去終了後は、ステータスレジスタに一括
消去ステータスを書き込む。自動一括消去では、自動ブ
ロック消去は、データ(15:0)バスから入力される
コマンド20Hでセットアップモードに入り、次のサイ
クルで、D0H/ブロックアドレスを取り込みモードエ
ントリーする。自動ブロック消去後は、ステータスレジ
スタに自動ブロック消去ステータスを書き込む。
【0022】ロックビットプログラムは、データD(1
5:0)バスから入力されるコマンド77Hでセットア
ップモードに入り、次のサイクルでブロックアドレスを
取り込みモードエントリーする。ロックビットプログラ
ム終了後は、ステータスレジスタにステータスを書き込
む。ロックビットリードは、データD(15:0)バス
から入力されるコマンド71Hでセットアップモードに
入り、次のサイクルでブロックアドレスを取り込みモー
ドエントリーしてロックビットのデータを読み出す。
【0023】[マイクロシーケンサ]図3に、マイクロ
シーケンサ1のブロック図を示す。マイクロシーケンサ
1は、コマンドポート6,ステータスレジスタ7,自動
消去シーケンサ8,自動書き込みシーケンサ69,テス
トモードシーケンサ9,パワーリセット回路10,クロ
ック発生回路11,デコーダ・チャージポンプ制御信号
生成回路12,ロックビットフラグ生成回路92,タイ
マー回路91からなる。
【0024】コマンドポート6は、アドレス/データ/
制御信号ラッチ回路5から送られてくる情報を元に、各
種モードの設定を行い、チャージポンプ2,メモリーデ
コーダー3,メモリブロック4を制御する。自動消去シ
ーケンサ8は、コマンドポート6の指示により、自動消
去の動作を制御する。チャージポンプ2,メモリーデコ
ーダ3,メモリブロック4の制御は、デコーダ・チャー
ジポンプ制御信号生成回路12を介して行われる。消去
パルスの発行やポンプ立ち上げ時間設定など、自動消去
シーケンスで必要な各種時間の計測は、タイマー回路9
1を呼び出して行われる。また、自動消去時のステータ
ス状態をステータスレジスタ7に書き込む。
【0025】自動書き込みシーケンサ69は、コマンド
ポート6の指示により、自動書き込みの動作を制御す
る。チャージポンプ2,メモリデコーダ3の制御は、デ
コーダ・チャージポンプ制御信号生成回路12を介して
行われる。書き込みパルスの発行やポンプ立ち上げ時間
設定など、自動書き込みシーケンスで必要な各種時間の
計測は、タイマー回路91を呼び出して行われる。
【0026】また、自動書き込み動作時のステータス状
態をステータスレジスタ7に書き込む。テストモードシ
ーケンサ9は、コマンドポート6の指示により、テスト
モードの動作を制御する。チャージポンプ2,モードデ
コーダ3,メモリブロック4の制御はデコーダ・チャー
ジポンプ制御信号生成回路12を介して行われる。書き
込みパルスや、消去パルスの発行や、ポンプ立ち上げ時
間設定など、各種テストシーケンサで必要な時間の計測
は、タイマー回路91を呼び出して行われる。
【0027】パワーリセット回路10は、電源の立ち上
げエッジを感知してリセット信号を内部回路に出力する
か、またはコマンドポート6経由から入力される外部リ
セット入力によって内部全ての回路をリセット状態にす
る。クロック生成回路11は、10MHz相当のクロッ
クパルスを、自動消去シーケンサ8,自動書き込みシー
ケンサ69とテストモードシーケンサ9に出力する。パ
ワーリセット回路10により全ての回路が非動作状態と
なった時は、クロック生成回路11も機能が停止しクロ
ック信号も停止する。
【0028】ステータスレジスタ7は、自動消去/自動
書き込み時のステータス状態を保持し、必要であればそ
の値をコマンドポート6を介して外部に出力する。デコ
ーダ・チャージポンプ制御信号生成回路12は、自動消
去シーケンサ8,自動書き込みシーケンサ69,テスト
モードシーケンサ9の出力を受け、チャージポンプ2と
メモリデコーダ3,メモリブロック4を制御する制御信
号を生成する。
【0029】ロックビットフラグ生成回路92は、電源
立ち上げ時にパワーリセット回路10からの信号を受け
て各メモリブロックのロックビットデータを読み出し、
ロックビットステータスレジスタとリードステータスレ
ジスタの値をセットする。また、自動消去シーケンサ8
と自動書き込みシーケンサ69の制御により、消去/書
き込みの対象となっているメモリブロックに対応するロ
ックビットステータスレジスタとリードレジスタの値を
更新する。更に、ロックビットステータスレジスタとリ
ードレジスタの値は、自動消去シーケンサ8と自動書き
込みシーケンサ69に対して出力される。ロックビット
の値をリードする必要がある場合には、メモリデコーダ
3とメモリブロック4に制御信号を発行しロックビット
データをリードする。タイマー回路91は、自動消去シ
ーケンサ8,自動書き込みシーケンサ69,ロックビッ
トフラグ生成回路92からの信号を受け、要求のあった
時間を計測し、要求元のブロックに終了信号を返す。
【0030】[チャージポンプ]図4に、チャージポン
プ2のブロック図を示す。チャージポンプ2は、−11
Vチャージポンプ13,+10Vチャージポンプ14,
+5Vチャージポンプ15からなる。チャージポンプ2
は、マイクロシーケンサ1によって制御され、各チャー
ジポンプの出力は、電圧切換回路16によってメモリデ
コーダ3とメモリブロック4に供給される。
【0031】−11Vチャージポンプは、消去用の負チ
ャージポンプであり、自動消去時に−11Vの負の電圧
を発生する。+10Vチャージポンプは、書き込み/消
去用の正チャージポンプであり、書き込み時に+10V
の電圧を発生し、消去時に+7Vの電圧を発生する。+
5Vチャージポンプは、読み出し/ベリファイ用の正チ
ャージポンプであり、読み出し動作時に+5Vの電圧を
発生し、書き込み/書き込みベリファイ時には+6.5
Vの電圧を発生する。
【0032】[メモリデコーダ]図5に、メモリデコー
ダー3の構成図を示す。メモリデコーダー3は、Y(コ
ラム)アドレス入力バッファラッチ19,X(ロウ)ア
ドレスラッチ18,ブロックアドレスラッチ17と、Y
(コラム)アドレスプリデコーダ22,X(ロウ)アド
レスプリデコーダ21,ブロックアドレスプリデコーダ
20からなる。
【0033】Y(コラム)アドレス入力バッファラッチ
19,X(ロウ)アドレスラッチ18,ブロックアドレ
スラッチ17は、マイクロシーケンサ1から送られてき
た17ビットのアドレスA(16:0)をラッチする。
ラッチされたアドレスは、Y(コラム)アドレスプリデ
コーダ22、X(ロウ)アドレスプリデコーダ21,ブ
ロックアドレスプリデコーダ20においてアドレスのプ
リデコード処理が行われ、メモリブロック4に対してプ
リデコードされたアドレスを出力する。
【0034】[メモリブロック]図5にメモリブロック
4の構成図を示す。メモリブロック4は、8KBのメモ
リブロック〔4〕:23,32KBのメモリブロック
〔0〕:24,32KBのメモリブロック〔1〕:2
5,32KBのメモリブロック〔2〕:26,32KB
のメモリブロック〔3〕:27からなる。それぞれのメ
モリブロックは、センスアンプ/書き込みトランジスタ
回路,データ切換回路,Xデコーダ,Yデコーダからな
る。
【0035】図6に、メモリブロック4のアドレス空間
を示す。メモリブロック
〔0〕は、16進表記で、“0
0000H”〜“07FFFH”のアドレス空間を持
つ。メモリブロック〔1〕は、16進表記で、“080
00H”〜“0FFFFH”のアドレス空間を持つ。メ
モリブロック〔2〕は、16進表記で、“10000
H”〜“17FFFFH”のアドレス空間を持つ。メモ
リブロック〔3〕は、16進表記で、“18000H”
〜“1FFFFH”のアドレス空間を持つ。メモリブロ
ック〔4〕は、16進表記で、“00000H”〜“0
1FFFH”のアドレス空間を持つ。メモリブロック
〔4〕へのアクセスは、マイクロシーケンサ1から出力
される制御信号(メモリブロック〔4〕アクセス信号)
を併用してアクセスされる。
【0036】図16は、図5に示すブロック中の、Xデ
コーダ,Yデコーダ,メモリセルアレイ,センスアンプ
/書き込み回路を抽出して示す図である。Yデコーダ7
0は、Yアドレスプリデコーダ21からの出力を受け
て、256本のビット線BL0〜BL255から1本の
ビット線を選択するための256本の制御信号CS0〜
CS255を生成する。Xデコーダ71は、Xアドレス
プリデコーダ22からの出力を受けて、128本のワー
ド線WL0〜WL255から1本のワード線を選択制御
する。
【0037】フローティングゲートを有する不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルTr0−0〜Tr0−2
55,Tr1−0〜Tr1−255,Tr2−0〜Tr
2−255,Tr3−0〜Tr3−255,Tr127
−0〜Tr127−255が行列状に配置されている。
このうち、同一行に配置されたメモリセルTr0−0〜
Tr127−0,Tr0−1〜Tr127−1,Tr0
−2〜Tr127−2,Tr0−255〜Tr127−
255には、同一ビット線BL0〜BL255がソース
端子に接続されており、それぞれ異なるワード線WL0
〜WL127がゲート端子に接続されている。
【0038】メモリデータの読み出しは、Xアドレスプ
リデコーダ22,Yアドレスプリデコーダ21の出力に
従って、ビット線BL0〜BL255とワード線WL0
〜WL127からそれぞれ1本のビット線とワード線が
選択され、選択されたビット線とワード線に接続された
フローティングゲートを有する不揮発性トランジスタか
らなるメモリセルの内容が、センスアンプ/書き込み回
路72中のセンスアンプを介してデータバスに出力され
る。
【0039】また、メモリデータへの書き込みは、Xア
ドレスプリデコーダ22,Yアドレスプリデコーダ21
の出力に従って、ビット線BL0〜BL255とワード
線WL0〜WL127からそれぞれ1本のビット線とワ
ード線が選択され、選択されたビット線とワード線に接
続されたフローティングゲートを有する不揮発性トラン
ジスタからなるメモリセルに、センスアンプ/書き込み
回路72中の書き込み回路を介してデータバスの値が書
き込まれる。
【0040】図17は、図5に示すブロック中の、Xデ
コーダ,Yデコーダ,ダミーメモリセルアレイ,ロック
ビットセルアレイ,センスアンプ/書き込み回路を抽出
して示す図である。Yデコーダ70は、Yアドレスプリ
デコーダ22からの出力を受けて、64本のビット線D
BL1〜DBL64から1本のビット線を選択するため
の64本の制御信号CSS1〜CSS64を生成する。
Xデコーダ71は、Xアドレスプリデコーダ21からの
出力を受けて、128本のワード線WL0〜WL127
から1本のワード線を選択制御する。
【0041】また、ロックビット線LBLは、メモリブ
ロック毎にロック/アンロック状態を示す不揮発性トラ
ンジスタTr00−0が繋がったビット線である。さら
に、フローティングゲートを有する不揮発性トランジス
タからなるダミーメモリセルとロックビットメモリセル
Tr00−0〜Tr00−64,Tr10−0〜Tr1
−64,Tr20−0〜Tr20−64,Tr30−0
〜Tr30−64,Tr127−0〜Tr1270−6
4が行列状に配置されている。このうち、同一行に配置
されたメモリセルTr00−0〜Tr1270−0,T
r00−1〜Tr1270−1,Tr00−2〜Tr1
270−2,Tr00−64〜Tr1270−64に
は、同一ビット線DBL1〜DBL64がソース端子に
接続されており、それぞれ異なるワード線WL0〜WL
127がゲート端子に接続されている。DBL1〜DB
L64は、ダミービット線であり、LBLはロックビッ
ト線である。
【0042】ダミーメモリセルデータの読み出しは、X
アドレスプリデコーダ22,Yアドレスプリデコーダ2
1の出力に従って、ビット線DBL1〜DBL64とワ
ード線WL0〜WL127からそれぞれ1本のビット線
とワード線が選択され、選択されたビット線とワード線
に接続されたフローティングゲートを有する不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルの内容がセンスアンプ/
書き込み回路72中のセンスアンプを介してデータバス
に出力される。
【0043】また、ダミーメモリセルデータへの書き込
みは、Xアドレスプリデコーダ22,Yアドレスプリデ
コーダ21の出力に従って、ダミービット線DBL1〜
DBL64とワード線WL0〜WL127からそれぞれ
1本のビット線とワード線が選択され、選択されたビッ
ト線とワード線に接続されたフローティングゲートを有
する不揮発性トランジスタからなるメモリセルに、セン
スアンプ/書き込み回路72中の書き込み回路を介して
データバスの値が書き込まれる。
【0044】さらに、ロックビットメモリセルデータの
読み出しは、制御信号LBCAがセレクトされ、Xデコ
ーダ71によってワード線WL0が選択され、ロックビ
ットメモリデータである不揮発性トランジスタTr00
−0の値が、センスアンプ/書き込み回路72中のセン
スアンプを介してデータバスに出力される。また、ロッ
クビットメモリへの書き込みは、制御信号LBCAがセ
レクトされ、Xデコーダ71によってワード線WL0が
選択され、ロックビットメモリデータである不揮発性ト
ランジスタTr00−0に、センスアンプ/書き込み回
路72中の書き込み回路を介してデータゼロの値が書き
込まれる。
【0045】〔動作説明〕 [リセット動作]まず、ロックビットフラグ生成回路9
2の構成について、図13を用いて説明する。ロックビ
ットフラグ生成回路92は、ロックビットフラグ設定制
御回路94,LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96,
ロックビット読み出し制御回路97からなる。LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96は、それぞれ1ビットレ
ジスタであり、メモリブロック4内の分割されたメモリ
ブロック数だけある。
【0046】ロックビットフラグ設定制御回路94は、
パワーリセット回路10からの信号を受けて、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96を初期化する。また、自
動消去シーケンサ8,自動書き込みシーケンサ69から
の要求に従って、ロックビット読み出し制御回路97を
介してメモリブロック4内にあるロックビットデータを
読み出し、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96を
セットする。さらに、パワーリセット時には、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96をリセットするととも
に、ロックビット読み出し制御回路97を介してメモリ
ブロック4内にあるロックビットデータを読み出し、L
BSR(ロックビットステータスレジスタ)95,RS
R(リードステータスレジスタ)96に値をセットす
る。
【0047】次に、電源立ち上げ時の、ロックビットフ
ラグ生成回路92の動作について、図14と図15を用
いて説明する。図14は、ロックビットフラグ生成回路
92の各レジスタにセットされる値を示した図である。
図15は、電源立ち上げ時の、ロックビットフラグ生成
回路92の動作シーケンスを示した図である。
【0048】パワーリセット回路10は、電源の立ち上
がりエッジを検出して、リセット信号をロックビットフ
ラグ設定制御回路94に発行する(図15:ステップS
1)。ロックビットフラグ設定制御回路94は、LBS
R(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR
(リードステータスレジスタ)96をリセットする(図
15:ステップS2)。さらに、ロックビットフラグ設
定制御回路94は、タイマー回路91に対して10μs
の時間計測の要求を出す(図15:ステップS3)。
【0049】タイマー回路91は、10μsの時間計測
後、時間計測終了信号をロックビットフラグ設定制御回
路94に返す(図15:ステップS4)。ここで、10
μsの時間は、チャージポンプの立ち上げに要する時間
設定である。ロックビットフラグ設定制御回路94は、
ロックビット読み出し制御回路97を介して、メモリブ
ロック4内のロックビットデータを読み出し、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96に値を設定する(図1
5:ステップS5)。RSR(リードステータスレジス
タ)96の値は、ロックビット読み出し後なので、全て
“1”のデータとなる。
【0050】LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95は、読み出したロックビットデータに従って、
非ロック状態であれば“0”のデータを、ロック状態で
あれば“1”のデータを設定する。ロックビットフラグ
設定制御回路94は、LBSR(ロックビットステータ
スレジスタ)95,RSR(リードステータスレジス
タ)96に対して、全てのデータセットが終了すれば、
自動消去シーケンサ8と自動書き込みシーケンサ69に
対して、書き込み終了信号を発行する(図15:ステッ
プS6)。
【0051】[自動一括消去]次に、この発明の不揮発
性半導体メモリの自動消去シーケンサ8の構成につい
て、図7を用いて説明する。自動消去シーケンサ8は、
自動消去シーケンス制御回路28,消去前書き込み制御
回路29,消去/消去ベリファイ制御回路30,過消去
ベリファイ制御回路31,消去前書き込み信号生成回路
32,アドレスインクリメンタ33,消去ベリファイ回
路34,消去パルス生成回路・消去パルス幅書き込み回
路35,過消去ベリファイ回路36,ロックビット読み
出し制御回路93からなる。
【0052】自動消去シーケンス制御回路28は、コマ
ンドポート6,クロック生成回路11,パワーリセット
回路10からの信号を受け、この発明の不揮発性半導体
メモリが自動消去モードに入ると、ロックビット読み出
し制御回路97,消去前書き込み制御回路29,消去/
消去ベリファイ制御回路30,過消去ベリファイ制御回
路31を制御する。
【0053】自動消去は、ロックビット読み出し,消去
前書き込み,消去/消去ベリファイ,過消去ベリファイ
の一連の動作を、メモリブロック4中の分割されたメモ
リブロック単位で実行する。ロックビット読み出し制御
回路93は、消去の対象となるメモリブロックのロック
ビット情報を読み出し消去可能か否かを判断する。
【0054】ロックビットの読み出しは、ロックビット
フラグ生成回路92の中のLBSR(ロックビットステ
ータスレジスタ)95,RSR(リードステータスレジ
スタ)96を読み出し、ロック/アンロックを判断す
る。リセット直後の状態で、LBSR(ロックビットス
テータスレジスタ)95,RSR(リードステータスレ
ジスタ)96のレジスタの値がオールゼロである場合に
は、ロックビットフラグ生成回路を介して、対象となる
メモリブロックのロックビットデータを読み出し、LB
SR(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR
(リードステータスレジスタ)96のレジスタ値をセッ
トする。ロック状態であっても、強制消去モードである
場合には、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96の
レジスタ値を、消去動作に入ると共に、「ロックビット
読み出し後、非ロック」状態に設定する。
【0055】消去前書き込み制御回路29は、自動消去
シーケンス制御回路28からの信号を受けて、メモリブ
ロックに対して消去前書き込み処理を行う。消去前書き
込み制御回路29は、アドレスインクリメンタ33を使
用し、消去対象となっているメモリブロックの、アドレ
スを最下位アドレスから最上位アドレスまでインクリメ
ントしながら、消去前書き込み信号生成回路から消去前
書き込み信号を発生させて処理を行う。アドレスインク
リメンタ33は、消去対象となっているメモリブロック
の、アドレスを最下位アドレスから最上位アドレスまで
インクリメントさせる。消去/消去ベリファイ制御回路
30は、自動消去シーケンス制御回路28からの信号を
受けて、消去と消去ベリファイを行う。消去ベリファイ
回路34は、消去動作後、メモリのデータを読み出し、
期待値と比較処理して、消去されているか否かを確認す
る。
【0056】メモリのデータ読み出し処理は、アドレス
インクリメンタ33を使用し、消去対象となっているメ
モリブロックの、アドレスを最下位アドレスから最上位
アドレスまでインクリメントして順次行う。
【0057】過消去ベリファイ制御回路31は、自動消
去シーケンス制御回路28からの信号を受けて、過消去
ベリファイ処理を行う。過消去ベリファイ処理では、メ
モリ内の全ワード線を非選択状態にして、センスアンプ
で読み取る。読み取り比較は、アドレスインクリメンタ
33を使用して、過消去ベリファイ回路36にて行う。
【0058】次に、この発明の不揮発性半導体メモリの
自動一括消去の動作を、図8のフローチャートを用いて
説明する。この場合の自動一括消去では、ブロック
〔0〕,ブロック〔1〕,ブロック〔2〕,ブロック
〔3〕の全てのブロックを対象にする。まず、自動一括
消去は、データD(15:0)バスから入力される第1
コマンド20H:37でセットアップモードに入り、次
のサイクルで確認コマンドの第2コマンド20H:38
でモードエントリする。
【0059】モードエントリ後、まずロックビットチェ
ック44を行う。ロックビットチェックでは、消去の対
象となるメモリブロックのロックビット情報を読み出
し、消去可能か否かを判断する。ロックビットの読み出
しは、ロックビットフラグ生成回路92中のLBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96を読み出し、ロック/ア
ンロックを判断する。リセット直後の状態で、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96のレジスタの値がオール
ゼロである場合には、ロックビットフラグ生成回路を介
して、対象となるメモリブロックのロックビットデータ
を読み出し、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96の
レジスタ値をセットする。ロック状態であっても、強制
消去モードである場合には、LBSR(ロックビットス
テータスレジスタ)95,RSR(リードステータスレ
ジスタ)96のレジスタ値を、消去動作に入ると共に、
「ロックビット読み出し後、非ロック」状態に設定す
る。非強制消去モードで、ロック状態にあると判断され
た時は、最終ブロックチェック65であるか否かを確認
し、消去対象となるブロックがまだ存在する場合には、
次のブロックのロックビットチェック44を行う。最終
ブロックであると判断された場合には、正常終了として
自動一括消去の処理を終了する。
【0060】ロックビットチェック44後、アンロック
または強制消去モードにある場合には、次の消去前書き
込み39のフェーズに移行する。消去前書き込みのフェ
ーズでは、自動消去シーケンサ8が、消去対象となって
いるメモリブロックに対して、データ“1”を書き込む
動作を行う。消去前書き込み39では、アドレスインク
リメンタを使用し、順次アドレスをインクリメントさせ
ながらワード単位で書き込んでいく。消去前書き込み3
9のフェーズ終了後、消去パルス印加39のフェーズに
移行する。消去パルス印加40のフェーズでは、消去パ
ルスを消去対象となっているメモリブロックのみに印加
して消去動作を行う。
【0061】消去パルス印加40のフェーズ終了後、消
去ベリファイ41のフェーズに移行する。消去ベリファ
イのフェーズでは、消去対象となっているメモリブロッ
クに対して、最下位アドレスから最上位アドレスまでイ
ンクリメントさせながら消去ベリファイ処理を行う。消
去ベリファイ41のフェーズで、ベリファイフェイルが
生じた場合、再消去を行うために再消去前処理42のフ
ェーズに移行する。再消去前処理42のフェーズでは、
再消去前処理回数のカウンタ値を1だけインクリメント
させ、処理を消去パルス印加40フェーズに再度移行さ
せる。消去パルス印加40フェーズでは、再び消去動作
を行う。消去パルス印加40フェーズ終了後、消去ベリ
ファイ41のフェーズに移行する。消去ベリファイ41
のフェーズでは、前回消去ベリファイに失敗したアドレ
スから再びベリファイを開始する。消去パルス印加40
フェーズ,消去ベリファイ41フェーズ,再消去前処理
42フェーズでは、消去ベリファイ41フェーズで最終
アドレスまでベリファイが行われるか、再消去前処理4
2で再消去前処理回数のカウンタ値が最大値X=512
になるか、までループ処理が続けられる。再消去前処理
42で再消去前処理回数のカウンタ値が最大値X=51
2に到達すると消去エラー終了47として処理が終了す
る。
【0062】また、消去ベリファイ41フェーズで最終
アドレスまでベリファイが進むと、過消去ベリファイ4
3のフェーズに処理が移行する。過消去ベリファイ43
のフェーズでは、消去対象となっているメモリブロック
の全ワード線を非選択状態にして、センスアンプで読み
取りベリファイ処理を行う。ベリファイ処理は、アドレ
スをインクリメントさせながら行う。ベリファイ処理で
フェイルすれば、過消去エラー終了として処理を終了さ
せる。
【0063】また、ベリファイ処理でパスすれば、最終
ブロックチェック66のフェーズに移行する。最終ブロ
ックチェック66のフェーズでは、まだ消去するブロッ
クが存在する場合には、再度ロックビットチェック44
のフェーズに移行して、次のメモリブロックのロックビ
ットチェックを行う。また、最終ブロックであることが
確認されれば、正常終了46として、自動一括消去の処
理を終了する。
【0064】次に、この発明の不揮発性半導体メモリに
ついての、ブロック
〔0〕,ブロック〔1〕,ブロック
〔2〕,ブロック〔3〕,ブロック〔4〕のいずれかの
ブロックを対象とする自動ブロック消去の動作を、図9
のフローチャートを用いて説明する。まず、自動ブロッ
ク消去は、データD(15:0)バスから入力される第
1コマンド20H:38でセットアップモードに入り、
次のサイクルで確認コマンドの第2コマンドD0H:4
9とブロックアドレスの取り込みでモードエントリす
る。
【0065】モードエントリ後、まずロックビットチェ
ック55を行う。ロックビットチェックでは、消去の対
象となるメモリブロックのロックビット情報を読み出
し、消去可能か否かを判断する。ロックビットの読み出
しは、ロックビットフラグ生成回路92中のLBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96を読み出し、ロック/ア
ンロックを判断する。リセット直後の状態で、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96のレジスタの値がオール
ゼロである場合には、ロックビットフラグ生成回路を介
して、対象となるメモリブロックのロックビットデータ
を読み出し、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96の
レジスタ値をセットする。ロック状態であっても、強制
消去モードである場合には、LBSR(ロックビットス
テータスレジスタ)95,RSR(リードステータスレ
ジスタ)96のレジスタ値を、消去動作に入ると共に、
「ロックビット読み出し後、非ロック」状態に設定す
る。非強制消去モードで、ロック状態にあると判断され
た時は、消去エラーとして自動ブロック消去の処理を終
了する。
【0066】ロックビットチェック55後、アンロック
または強制消去モードにある場合には、次の消去前書き
込み50のフェーズに移行する。消去前書き込み50の
フェーズでは、自動消去シーケンサ8が、消去対象とな
っているメモリブロックに対して、データ“1”を書き
込む動作を行う。消去前書き込み50では、アドレスイ
ンクリメンタを使用し、順次アドレスをインクリメント
させながらワード単位で書き込んでいく。
【0067】消去前書き込み50のフェーズ終了後、消
去パルス印加51のフェーズに移行する。消去パルス印
加51のフェーズでは、消去パルスを消去対象となって
いるメモリブロックのみに印加して消去動作を行う。消
去パルス印加51フェーズ終了後、消去ベリファイ52
のフェーズに移行する。消去ベリファイ52のフェーズ
では、消去対象となっているメモリブロックに対して、
最下位アドレスから最上位アドレスまでインクリメント
させながら消去ベリファイ処理を行う。
【0068】消去ベリファイ52のフェーズで、ベリフ
ァイフェイルが生じた場合、再消去を行うために再消去
前処理53のフェーズに移行する。再消去前処理53の
フェーズでは、再消去前処理回数のカウンタ値を1だけ
インクリメントさせ、処理を消去パルス印加51フェー
ズに再度移行させる。消去パルス印加51フェーズで
は、再び消去動作を行う。消去パルス印加51フェーズ
終了後、消去ベリファイ52のフェーズに移行する。消
去ベリファイ52のフェーズでは、前回消去ベリファイ
に失敗したアドレスから再びベリファイを開始する。消
去パルス印加51フェーズ,消去ベリファイ52フェー
ズ,再消去前処理53フェーズでは、消去ベリファイ5
2フェーズで最終アドレスまでベリファイが行われる
か、再消去前処理53で再消去前処理回数のカウンタ値
が最大値X=512になるか、までループ処理が続けら
れる。再消去前処理53で再消去前処理回数のカウンタ
値が最大値X=512に到達すると消去エラー終了58
として処理が終了する。
【0069】また、消去ベリファイ52フェーズで最終
アドレスまでベリファイが進むと、過消去ベリファイ5
4のフェーズに処理が移行する。過消去ベリファイ54
のフェーズでは、消去対象となっているメモリブロック
の全ワード線を非選択状態にして、センスアンプで読み
取りベリファイ処理を行う。ベリファイ処理は、アドレ
スをインクリメントさせながら行う。ベリファイ処理で
フェイルすれば、過消去エラー終了56として処理を終
了させる。また、ベリファイ処理でパスすれば、正常処
理57として処理を終了する。
【0070】次に、この発明の不揮発性半導体メモリの
自動書き込み動作を、図10のフローチャートを用いて
説明する。まず、自動書き込みは、データD(15:
0)バスから入力される第1コマンド40H:59でセ
ットアップモードに入り、次のサイクルで書き込みデー
タと書き込みアドレスを取り込み、モードエントリす
る。
【0071】モードエントリ後、まずロックビットチェ
ック61を行う。ロックビットチェックでは、書き込み
の対象となるメモリブロックのロックビット情報を読み
出し、消去可能か否かを判断する。ロックビットの読み
出しは、ロックビットフラグ生成回路92中のLBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96を読み出し、ロック/ア
ンロックを判断する。リセット直後の状態で、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95,RSR(リ
ードステータスレジスタ)96のレジスタの値がオール
ゼロである場合には、ロックビットフラグ生成回路を介
して、対象となるメモリブロックのロックビットデータ
を読み出し、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96の
レジスタ値をセットする。強制書き込みモードである場
合には、LBSR(ロックビットステータスレジスタ)
95,RSR(リードステータスレジスタ)96のレジ
スタ値によらず、自動書き込みを実行する。また、非強
制書き込みモードで、ロック状態にある時は、書き込み
エラー68として処理を終了する。
【0072】書き込みパルス印加62のフェーズでは、
取り込んだ書き込みアドレスとデータに従って、書き込
みパルスを印加する。パルスの印加後、書き込みベリフ
ァイ63のフェーズに移行する。書き込みベリファイ6
3のフェーズでは、書き込みパルス印加後、書き込んだ
アドレスのデータを読み出し、外部より取り込んだデー
タと比較する。比較はワード単位で実行する。1ビット
でも比較で不一致が生じれば、再度書き込みを行うため
に再書き込み処理64に処理を移す。比較で全データが
一致すれば、正常終了67として処理を終了する。再書
き込み前処理64のフェーズでは、書き込み回数をカウ
ントするカウンタの値を+1インクリメントする。ま
た、書き込みが失敗したビットを特定し、再び書き込み
パルスを印加するために、処理を書き込みパルス印加6
2に移す。カウンタ値が、32回に到達すると、書き込
みエラーとして処理を終了する。
【0073】次に、この発明の不揮発性半導体メモリの
ロックビットプログラムの動作を、図11のフローチャ
ートを用いて説明する。まず、ロックビットプログラム
は、データD(15:0)バスから入力される第1コマ
ンド77H:77でセットアップモードに入り、次のサ
イクルでブロックアドレスを取り込み、モードエントリ
する。
【0074】モードエントリ後、まず書き込みパルス印
加79のフェーズに移行する。書き込みパルス印加79
のフェーズでは、取り込んだ書き込みアドレスに従っ
て、書き込みパルスを印加する。パルスの印加後、書き
込みベリファイ80のフェーズに移行する。書き込みベ
リファイ80のフェーズでは、書き込みパルス印加後、
書き込んだロックビットアドレスのデータを読み出し、
データ比較を行う。
【0075】ロックビットプログラム実行時の書き込み
データは常に0である。比較で不一致が生じれば、再度
書き込みを行うために再書き込み前処理81に処理を移
す。比較データが一致すれば、LBSR(ロックビット
ステータスレジスタ),RSR(リードステータスレジ
スタ)の更新82に処理を移行する。再書き込み前処理
81のフェーズでは、書き込み回数をカウントするカウ
ンタの値を+1インクリメントする。カウンタ値が、3
2回に到達すると、書き込みエラー84として処理を終
了する。また、カウンタ値が32回に到達していない場
合には、再度書き込みパルス印加79の処理に移行す
る。
【0076】次に、この発明の不揮発性半導体メモリの
ロックビットリードの動作を、図12のフローチャート
を用いて説明する。まず、ロックビットリードは、デー
タD(15:0)バスから入力される第1コマンド71
H:85でセットアップモードに入り、次のサイクルで
ブロックアドレスを取り込み、モードエントリする。
【0077】モードエントリ後、まずロックビットリー
ド87のフェーズに移行する。ロックビットリード87
のフェーズでは、取り込んだ書き込みアドレスに従っ
て、ロックビットデータをリードする。ロックビットリ
ード87後、LBSR(ロックビットステータスレジス
タ)95,RSR(リードステータスレジスタ)96の
更新82に処理を移行する。ロックビットリード87
後、LBSR(ロックビットステータスレジスタ)9
5,RSR(リードステータスレジスタ)96の更新8
2では、読み出したロック/アンロックのデータに従っ
て更新する。更新後、ロックビットリードの処理を終了
する。
【0078】図18に、この発明の不揮発性半導体メモ
リ106とメモリをアクセスするデータ処理装置107
を示す。不揮発性半導体メモリ106とデータ処理装置
107間は、アドレスA(16:0)とデータD(1
5:0),制御信号によって結合されている。また、L
BSR(ロックビットステータスレジスタ)95とRS
R(リードステータスレジスタ)96のレジスタ値がデ
ータ処理装置107に入力されている。アドレスA(1
6:0)バスには、データ処理装置107がアクセスす
るメモリアドレスが入力される。データD(15:0)
バスは、読み出しモード時には、読み出すメモリアドレ
スのデータが不揮発性半導体メモリ106から出力さ
れ、自動消去や自動書き込み時のコマンド入力時には、
データ処理装置107からコマンドデータが不揮発性半
導体メモリ106へ出力される。
【0079】ICE110信号は、コマンド入力および
読み出しモード時にLアクティブに変化し、IWE11
1信号は、コマンド入力時にICE110信号を共にL
アクティブになる。IOE112信号は、読み出しモー
ド時、Lアクティブにすることによって読み出しデータ
をデータD(15:0)バスに出力させる。また、IR
P113信号は、Lアクティブになることによって、不
揮発性半導体メモリ106をリセットパワーダウン状態
に変化させる。IBYTE114信号は、バイトアクセ
ス操作を行う時にLアクティブとなる。
【0080】図19に、自動ブロック消去コマンド入力
のアクセスタイミングを示す。自動ブロック消去は、複
数個あるメモリブロックのうちの一つのメモリブロック
のみを消去する。まず、第1コマンド入力のため、IC
E110とIWE111をLアクティブにし、データD
(15:0)バス109より、第1コマンドである20
Hを入力する。第1コマンドの取り込みは、ICE11
0とIWE111の早い方の信号の立ち上がりで行う。
【0081】次に、第2コマンドの入力のため、ICE
110とIWE111を再度Lアクティブにし、データ
D(15:0)バス108より、第2コマンドであるD
0Hを入力する。さらに、消去すべきメモリのブロック
アドレスをアドレスA(16:0)バスに入力する。同
様なアクセスタイミングで、図2に示す各動作モードに
対するコマンドが、ICE110とIWE111信号と
データD(15:0)バス108によって入力される。
自動消去時には、データ処理装置107は、LBSR
(ロックビットステータスレジスタ)95とRSR(リ
ードステータスレジスタ)96のレジスタ値の内容を読
み取り、どのブロックが消去可能であるかを判断して消
去する。
【0082】この発明による実施の形態において、この
発明の不揮発性半導体メモリは、不揮発性半導体メモリ
の電源立ち上げ時に、ロックビットデータをメモリデー
タより読み出して保持する手段を備えている。
【0083】また、この発明の不揮発性半導体メモリ
は、自動書き込み時、ロックビットデータを読み出す必
要のある場合にはロックビットデータを読み出してこれ
を保持し、すでに読み出されたロックビットデータを参
照できる状態にあれば、ロックビットデータをメモリか
ら再度読み出すことなく処理を実行できる手段を備えて
いる。
【0084】また、この発明の不揮発性半導体メモリ
は、ロックビット書き込み時、メモリ内のロックビット
データの値を更新すると共に、更新したロックビットデ
ータを保持する手段を備えている。
【0085】また、この発明の不揮発性半導体メモリ
は、自動消去時、ロックビットデータを読み出す必要の
ある場合にはロックビットデータを読み出してこれを保
持し、すでに読み出されたロックビットデータを参照で
きる状態にあれば、ロックビットデータをメモリから再
度読み出すことなく処理を実行し、ロックビットデータ
値を更新する場合には、メモリ内のロックビットデータ
の値を更新すると共に、更新したロックビットデータを
保持する手段を備えている。
【0086】また、この発明の不揮発性半導体メモリ
は、ロックビットリード動作時、ロックビットデータを
メモリ内より読み出してこれを保持する手段を備えてい
る。
【0087】また、この発明の不揮発性半導体メモリ
は、この発明の不揮発性半導体メモリを制御するデータ
処理装置に、ロックビットデータをメモリ内より読み出
して保持するデータを出力し、データ処理装置がこの発
明の不揮発性半導体メモリに対してロックビットリード
動作を行わないでも、消去/書き込み可能なメモリブロ
ックを認識する手段を備えている。
【0088】この発明の不揮発性半導体メモリでは、不
揮発性半導体メモリの電源立ち上げ時に、ロックビット
データをメモリデータより読み出して保持する。
【0089】また、この発明の不揮発性半導体メモリで
は、自動書き込み時、ロックビットデータを読み出す必
要のある場合にはロックビットデータを読み出してこれ
を保持し、すでに読み出されたロックビットデータを参
照できる状態にあれば、ロックビットデータをメモリか
ら再度読み出すことなく処理を実行する。
【0090】また、この発明の不揮発性半導体メモリで
は、ロックビット書き込み時、メモリ内のロックビット
データの値を更新すると共に更新したロックビットデー
タを保持する。
【0091】また、この発明の不揮発性半導体メモリで
は、自動消去時、ロックビットデータを読み出す必要の
ある場合にはロックビットデータを読み出してこれを保
持し、すでに読み出されたロックビットデータを参照で
きる状態にあれば、ロックビットデータをメモリから再
度読み出すことなく処理を実行し、ロックビットデータ
値を更新する場合には、メモリ内のロックビットデータ
の値を更新すると共に、更新したロックビットデータを
保持する。
【0092】また、この発明の不揮発性半導体メモリで
は、ロックビットリード動作時、ロックビットデータを
メモリ内より読み出してこれを保持する。
【0093】また、この発明の不揮発性半導体メモリで
は、この発明の不揮発性半導体メモリを制御するデータ
処理装置に、ロックビットデータをメモリ内より読み出
して保持するデータを出力し、データ処理装置がこの発
明の不揮発性半導体メモリに対してロックビットリード
動作を行わないでも、消去/書き込み可能なメモリブロ
ックを認識する。
【0094】この発明による実施の形態によれば、不揮
発性トランジスタからなる複数のメモリセルが行列状に
配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを書き込み
/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなる
メモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前記メモリア
レイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トラ
ンジスタからなるメモリセルを読み出した際にメモリデ
ータを書き込み保持するメモリブロック4を構成するメ
モリブロック
〔0〕〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕毎に設け
たLBSR(ロックビットステータスレジスタ)および
RSR(リードステータスレジスタ)に相当するロック
ビットからなる記憶手段を備え、電源立ち上げ時に、前
記記憶手段により保持されたロックビットデータをLB
SR(ロックビットステータスレジスタ)95およびR
SR(リードステータスレジスタ)96により前記メモ
リセル外に記憶するようにしたので、自動消去,自動書
き込み等の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体
メモリを提供することができる。
【0095】また、この発明による実施の形態によれ
ば、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを
書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタ
からなるメモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前記
メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮
発性トランジスタからなるメモリセルを読み出した際に
読み出し履歴の情報を第1のデータとして書き込み保持
するメモリブロック4を構成するメモリブロック
〔0〕
〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕毎に設けたRSR(リードス
テータスレジスタ)に相当するロックビットに関する第
1の記憶手段と、前記メモリアレイ内の書き込み/消去
可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリ
セルの内容を読み出した際にその内容を第2のデータと
して書き込み保持するメモリブロック4を構成するメモ
リブロック
〔0〕〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕毎に設けた
LBSR(ロックビットステータスレジスタ)に相当す
るロックビットからなる第2の記憶手段とを備え、電源
立ち上げ時に、前記第1の記憶手段による第1のデータ
と、前記第2の記憶手段による第2のデータとを、前記
第1のデータをRSR(リードステータスレジスタ)9
6により、前記第2のデータをLBSR(ロックビット
ステータスレジスタ)95により、前記メモリセル外に
記憶するようにしたので、自動消去,自動書き込み等の
処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリを提
供することができる。
【0096】さらに、この発明による実施の形態によれ
ば、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを
書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタ
からなるメモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前記
メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮
発性トランジスタからなるメモリセルを読み出した際に
メモリデータを書き込み保持するメモリブロック4を構
成するメモリブロック
〔0〕〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕
毎に設けたLBSR(ロックビットステータスレジス
タ)およびRSR(リードステータスレジスタ)に相当
するロックビットからなる記憶手段を備えた不揮発性半
導体メモリの動作にあたり、電源立ち上げ時に、前記記
憶手段により保持されたデータをLBSR(ロックビッ
トステータスレジスタ)95およびRSR(リードステ
ータスレジスタ)96により前記メモリセル外に記憶す
るようにしたので、自動消去,自動書き込み等の処理時
間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリの動作方法
を提供することができる。
【0097】そして、この発明による実施の形態によれ
ば、不揮発性トランジスタからなる複数のメモリセルが
行列状に配置されたメモリアレイで前記メモリアレイを
書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタ
からなるメモリセルを前記メモリアレイ内に有し、前記
メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮
発性トランジスタからなるメモリセルを読み出した際に
読み出し履歴の情報を第1のデータとして書き込み保持
するメモリブロック4を構成するメモリブロック
〔0〕
〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕毎に設けたRSR(リードス
テータスレジスタ)に相当するロックビットに関する第
1の記憶手段と、前記メモリアレイ内の書き込み/消去
可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリ
セルの内容を読み出した際にその内容を第2のデータと
して書き込み保持するメモリブロック4を構成するメモ
リブロック
〔0〕〔1〕〔2〕〔3〕〔4〕毎に設けた
LBSR(ロックビットステータスレジスタ)に相当す
るロックビットからなる第2の記憶手段とを備えた不揮
発性半導体メモリの動作にあたり、電源立ち上げ時に、
前記第1の記憶手段による第1のデータと、前記第2の
記憶手段による第2のデータとを、前記第1のデータを
RSR(リードステータスレジスタ)96により、前記
第2のデータをLBSR(ロックビットステータスレジ
スタ)95により、前記メモリセル外に記憶するように
したので、自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮
を実現し得る不揮発性半導体メモリの動作方法を提供す
ることができる。
【0098】
【発明の効果】第1の発明によれば、不揮発性トランジ
スタからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメ
モリアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か
否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを
前記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書き
込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタから
なるメモリセルを読み出した際にメモリデータを書き込
み保持する記憶手段を備え、電源立ち上げ時に、前記記
憶手段により保持されたデータを前記メモリセル外に記
憶するようにしたので、自動消去,自動書き込み等の処
理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリを提供
することができる。
【0099】第2の発明によれば、不揮発性トランジス
タからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメモ
リアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否
かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを前
記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書き込
み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからな
るメモリセルを読み出した際に読み出し履歴の情報を第
1のデータとして書き込み保持する第1の記憶手段と、
前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す
不揮発性トランジスタからなるメモリセルの内容を読み
出した際にその内容を第2のデータとして書き込み保持
する第2の記憶手段とを備え、電源立ち上げ時に、前記
第1の記憶手段による第1のデータと、前記第2の記憶
手段による第2のデータとを前記メモリセル外に記憶す
るようにしたので、自動消去,自動書き込み等の処理時
間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリを提供する
ことができる。
【0100】第3の発明によれば、前記不揮発性トラン
ジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置された
メモリアレイにデータを書き込む場合、前記第1の記憶
手段によって保持された第1のデータと前記第2の記憶
手段によって保持された第2のデータを参照し、前記メ
モリアレイのデータを書き込むか否かを決定するように
したので、自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮
を実現し得る不揮発性半導体メモリを提供することがで
きる。
【0101】第4の発明によれば、不揮発性トランジス
タからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメモ
リアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否
かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルにデ
ータを書き込む場合、前記メモリアレイを書き込み/消
去可能か否かを示す不揮発性メモリからなるメモリセル
にデータを書き込むと共に、前記第1の記憶手段と前記
第2の記憶手段により第1のデータと第2のデータを更
新するようにしたので、自動消去,自動書き込み等の処
理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリを提供
することができる。
【0102】第5の発明によれば、前記不揮発性トラン
ジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置された
メモリアレイにデータを消去する場合、前記第1の記憶
手段によって保持された前記第1のデータと前記第2の
記憶手段によって保持された前記第2のデータを参照
し、前記メモリアレイ内のデータを消去するか否かを決
定するようにしたので、自動消去,自動書き込み等の処
理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリを提供
することができる。
【0103】第6の発明によれば、前記不揮発性トラン
ジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置された
メモリアレイで、前記メモリアレイを書き込み/消去可
能か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセ
ルデータを読み出す場合、前記第1の記憶手段によって
保持された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によ
って保持された前記第2のデータを参照し、前記メモリ
アレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トラ
ンジスタからなるメモリセルのデータを読み出す必要が
ある場合には、データを読み出すと共に、前記第1の記
憶手段と前記第2の記憶手段により前記第1のデータと
前記第2のデータを更新するようにしたので、自動消
去,自動書き込み等の処理時間の短縮を実現し得る不揮
発性半導体メモリを提供することができる。
【0104】第7の発明によれば、不揮発性トランジス
タからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメモ
リアレイで、前記メモリアレイを書き込み/消去可能か
否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを
前記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書き
込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタから
なるメモリセルを読み出した際に読み出し履歴の情報を
第1のデータとして書き込み保持する第1の記憶手段
と、前記メモリアレイ内のを書き込み/消去可能か否か
を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルの内容
を読み出した際にその内容を第2のデータとして書き込
み保持する第2の記憶手段とを備える前記不揮発性半導
体メモリについて、前記不揮発性半導体メモリに接続さ
れ、前記不揮発性半導体メモリを消去/書き込み制御す
るデータ処理装置により制御するものにおいて、前記第
1の記憶手段によって保持された前記第1のデータと前
記第2の記憶手段によって保持された前記第2のデータ
とを前記データ処理装置が参照し、消去/書き込み可能
か否かを判断するようにしたので、自動消去,自動書き
込み等の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メ
モリを提供することができる。
【0105】第8の発明によれば、不揮発性トランジス
タからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメモ
リアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否
かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを前
記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書き込
み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからな
るメモリセルを読み出した際にメモリデータを書き込み
保持する記憶手段を備えた不揮発性半導体メモリの動作
にあたり、電源立ち上げ時に、前記記憶手段により保持
されたデータを前記メモリセル外に記憶するようにした
ので、自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮を実
現し得る不揮発性半導体メモリの動作方法を提供するこ
とができる。
【0106】第9の発明によれば、不揮発性トランジス
タからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメモ
リアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否
かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを前
記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書き込
み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからな
るメモリセルを読み出した際に読み出し履歴の情報を第
1のデータとして書き込み保持する第1の記憶手段と、
前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否かを示す
不揮発性トランジスタからなるメモリセルの内容を読み
出した際にその内容を第2のデータとして書き込み保持
する第2の記憶手段とを備えた不揮発性半導体メモリの
動作にあたり、電源立ち上げ時に、前記第1の記憶手段
による第1のデータと、前記第2の記憶手段による第2
のデータとを前記メモリセル外に記憶するようにしたの
で、自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮を実現
し得る不揮発性半導体メモリの動作方法を提供すること
ができる。
【0107】第10の発明によれば、前記不揮発性トラ
ンジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置され
たメモリアレイにデータを書き込む場合、前記第1の記
憶手段によって保持された第1のデータと前記第2の記
憶手段によって保持された第2のデータを参照し、前記
メモリアレイのデータを書き込むか否かを決定する書き
込み方法を特徴とするので、自動消去,自動書き込み等
の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリの
動作方法を提供することができる。
【0108】第11の発明によれば、不揮発性トランジ
スタからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメ
モリアレイで前記メモリアレイを書き込み/消去可能か
否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルに
データを書き込む場合、前記メモリアレイを書き込み/
消去可能か否かを示す不揮発性メモリからなるメモリセ
ルにデータを書き込むと共に、前記第1の記憶手段と前
記第2の記憶手段により第1のデータと第2のデータを
更新する書き込み方法を特徴とするので、自動消去,自
動書き込み等の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半
導体メモリの動作方法を提供することができる。
【0109】第12の発明によれば、前記不揮発性トラ
ンジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置され
たメモリアレイにデータを消去する場合、前記第1の記
憶手段によって保持された前記第1のデータと前記第2
の記憶手段によって保持された前記第2のデータを参照
し、前記メモリアレイ内のデータを消去するか否かを決
定するようにした消去方法を特徴とするので、自動消
去,自動書き込み等の処理時間の短縮を実現し得る不揮
発性半導体メモリの動作方法を提供することができる。
【0110】第13の発明によれば、前記不揮発性トラ
ンジスタからなる複数のメモリセルが行列状に配置され
たメモリアレイで、前記メモリアレイを書き込み/消去
可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリ
セルデータを読み出す場合、前記第1の記憶手段によっ
て保持された前記第1のデータと前記第2の記憶手段に
よって保持された前記第2のデータを参照し、前記メモ
リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
ランジスタからなるメモリセルのデータを読み出す必要
がある場合には、データを読み出すと共に、前記第1の
記憶手段と前記第2の記憶手段により前記第1のデータ
と前記第2のデータを更新する読み出し方法を特徴とす
るので、自動消去,自動書き込み等の処理時間の短縮を
実現し得る不揮発性半導体メモリの動作方法を提供する
ことができる。
【0111】第14の発明によれば、不揮発性トランジ
スタからなる複数のメモリセルが行列状に配置されたメ
モリアレイで、前記メモリアレイを書き込み/消去可能
か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセル
を前記メモリアレイ内に有し、前記メモリアレイ内の書
き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタか
らなるメモリセルを読み出した際に読み出し履歴の情報
を第1のデータとして書き込み保持する第1の記憶手段
と、前記メモリアレイ内のを書き込み/消去可能か否か
を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルの内容
を読み出した際にその内容を第2のデータとして書き込
み保持する第2の記憶手段とを備える前記不揮発性半導
体メモリについて、前記不揮発性半導体メモリに接続さ
れ、前記不揮発性半導体メモリを消去/書き込み制御す
るデータ処理装置により制御するにあたり、前記第1の
記憶手段によって保持された前記第1のデータと前記第
2の記憶手段によって保持された前記第2のデータとを
前記データ処理装置が参照し、消去/書き込み可能か否
かを判断するようにしたので、自動消去,自動書き込み
等の処理時間の短縮を実現し得る不揮発性半導体メモリ
の動作方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明による実施の形態における不揮発性
半導体メモリの機能ブロックを示す図である。
【図2】 この発明による実施の形態における不揮発性
半導体メモリの動作モード一覧を示す図である。
【図3】 図1に示す機能ブロック中の、マイクロシー
ケンサの機能ブロックを示す図である。
【図4】 図1に示す機能ブロック中の、チャージポン
プの機能ブロックを示す図である。
【図5】 図1に示す機能ブロック中の、メモリデコー
ダ・メモリブロックの構成図である。
【図6】 図1に示す機能ブロック中の、メモリブロッ
クのアドレス空間を示す図である。
【図7】 図3に示す機能ブロック中の、自動消去シー
ケンサの機能ブロックを示す図である。
【図8】 自動一括消去シーケンスを示すフローチャー
ト図である。
【図9】 ブロック
〔0〕,ブロック〔1〕,ブロック
〔2〕,ブロック〔3〕のメモリブロックを消去する自
動ブロック消去シーケンスを示すフローチャート図であ
る。
【図10】 自動書き込みシーケンスを示すフローチャ
ート図である。
【図11】 ロックビットプログラムのシーケンスを示
すフローチャート図である。
【図12】 ロックビットリードのシーケンスを示すフ
ローチャート図である。
【図13】 ロックビットフラグ生成回路の構成を示す
図である。
【図14】 ロックビットフラグ生成回路の各レジスタ
にセットされる値を示す図である。
【図15】 電源立ち上げ時の、ロックビットフラグ生
成回路の動作シーケンスを示した図である。
【図16】 図5に示すブロック中のXデコーダ,Yデ
コーダ,メモリセルアレイ,センスアンプ/書き込み回
路を抽出して示す図である。
【図17】 図5に示すブロック中のXデコーダ,Yデ
コーダ,ダミーメモリセルアレイ,ロックビットセルア
レイ,センスアンプ/書き込み回路を抽出して示す図で
ある。
【図18】 この発明による不揮発性半導体メモリとメ
モリをアクセスするデータ処理装置の接続関係を示した
図である。
【図19】 自動ブロック消去コマンド入力のアクセス
タイミングを示す図である。
【符号の説明】
1 マイクロシーケンサ、2 チャージポンプ、3 メ
モリデコーダ、4 メモリブロック、5 アドレス/デ
ータ/制御信号ラッチ回路、92 ロックビットフラグ
生成回路、95 LBSR(ロックビットステータスレ
ジスタ)、96RSR(リードステータスレジスタ)。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
    リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
    ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
    有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
    を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
    出した際にメモリデータを書き込み保持する記憶手段を
    備え、電源立ち上げ時に、前記記憶手段により保持され
    たデータを前記メモリセル外に記憶することを特徴とす
    る不揮発性半導体メモリ。
  2. 【請求項2】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
    リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
    ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
    有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
    を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
    出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとして書
    き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内
    の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジス
    タからなるメモリセルの内容を読み出した際にその内容
    を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶手段
    とを備え、電源立ち上げ時に、前記第1の記憶手段によ
    る第1のデータと、前記第2の記憶手段による第2のデ
    ータとを前記メモリセル外に記憶することを特徴とする
    不揮発性半導体メモリ。
  3. 【請求項3】 前記不揮発性トランジスタからなる複数
    のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデー
    タを書き込む場合、前記第1の記憶手段によって保持さ
    れた第1のデータと前記第2の記憶手段によって保持さ
    れた第2のデータを参照し、前記メモリアレイのデータ
    を書き込むか否かを決定するようにしたことを特徴とす
    る請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ。
  4. 【請求項4】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
    リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
    ランジスタからなるメモリセルにデータを書き込む場
    合、前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示
    す不揮発性メモリからなるメモリセルにデータを書き込
    むと共に、前記第1の記憶手段と前記第2の記憶手段に
    より第1のデータと第2のデータを更新するようにした
    ことを特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体メモ
    リ。
  5. 【請求項5】 前記不揮発性トランジスタからなる複数
    のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデー
    タを消去する場合、前記第1の記憶手段によって保持さ
    れた前記第1のデータと前記第2の記憶手段によって保
    持された前記第2のデータを参照し、前記メモリアレイ
    内のデータを消去するか否かを決定するようにしたこと
    を特徴とする請求項2に記載の不揮発性半導体メモリ。
  6. 【請求項6】 前記不揮発性トランジスタからなる複数
    のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、前
    記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮
    発性トランジスタからなるメモリセルデータを読み出す
    場合、前記第1の記憶手段によって保持された前記第1
    のデータと前記第2の記憶手段によって保持された前記
    第2のデータを参照し、前記メモリアレイを書き込み/
    消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなるメ
    モリセルのデータを読み出す必要がある場合には、デー
    タを読み出すと共に、前記第1の記憶手段と前記第2の
    記憶手段により前記第1のデータと前記第2のデータを
    更新するようにしたことを特徴とする請求項2に記載の
    不揮発性半導体メモリ。
  7. 【請求項7】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、前記メ
    モリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性
    トランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内
    に有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否
    かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読
    み出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとして
    書き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ
    内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジ
    スタからなるメモリセルの内容を読み出した際にその内
    容を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶手
    段とを備える前記不揮発性半導体メモリについて、前記
    不揮発性半導体メモリに接続され、前記不揮発性半導体
    メモリを消去/書き込み制御するデータ処理装置により
    制御するものにおいて、前記第1の記憶手段によって保
    持された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によっ
    て保持された前記第2のデータとを、前記データ処理装
    置が参照し、消去/書き込み可能か否かを判断すること
    を特徴とする不揮発性半導体メモリ。
  8. 【請求項8】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
    リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
    ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
    有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
    を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
    出した際にメモリデータを書き込み保持する記憶手段を
    備えた不揮発性半導体メモリの動作にあたり、電源立ち
    上げ時に、前記記憶手段により保持されたデータを前記
    メモリセル外に記憶することを特徴とする不揮発性半導
    体メモリの動作方法。
  9. 【請求項9】 不揮発性トランジスタからなる複数のメ
    モリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メモ
    リアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性ト
    ランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ内に
    有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か否か
    を示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを読み
    出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとして書
    き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレイ内
    の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トランジス
    タからなるメモリセルの内容を読み出した際にその内容
    を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶手段
    とを備えた不揮発性半導体メモリの動作にあたり、電源
    立ち上げ時に、前記第1の記憶手段による第1のデータ
    と、前記第2の記憶手段による第2のデータとを前記メ
    モリセル外に記憶することを特徴とする不揮発性半導体
    メモリの動作方法。
  10. 【請求項10】 前記不揮発性トランジスタからなる複
    数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデ
    ータを書き込む場合、前記第1の記憶手段によって保持
    された第1のデータと前記第2の記憶手段によって保持
    された第2のデータを参照し、前記メモリアレイのデー
    タを書き込むか否かを決定する書き込み方法を特徴とす
    る請求項9に記載の不揮発性半導体メモリの動作方法。
  11. 【請求項11】 不揮発性トランジスタからなる複数の
    メモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで前記メ
    モリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性
    トランジスタからなるメモリセルにデータを書き込む場
    合、前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示
    す不揮発性メモリからなるメモリセルにデータを書き込
    むと共に、前記第1の記憶手段と前記第2の記憶手段に
    より第1のデータと第2のデータを更新する書き込み方
    法を特徴とする請求項9に記載の不揮発性半導体メモリ
    の動作方法。
  12. 【請求項12】 前記不揮発性トランジスタからなる複
    数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイにデ
    ータを消去する場合、前記第1の記憶手段によって保持
    された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によって
    保持された前記第2のデータを参照し、前記メモリアレ
    イ内のデータを消去するか否かを決定するようにした消
    去方法を特徴とする請求項9に記載の不揮発性半導体メ
    モリの動作方法。
  13. 【請求項13】 前記不揮発性トランジスタからなる複
    数のメモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、
    前記メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不
    揮発性トランジスタからなるメモリセルデータを読み出
    す場合、前記第1の記憶手段によって保持された前記第
    1のデータと前記第2の記憶手段によって保持された前
    記第2のデータを参照し、前記メモリアレイを書き込み
    /消去可能か否かを示す不揮発性トランジスタからなる
    メモリセルのデータを読み出す必要がある場合には、デ
    ータを読み出すと共に、前記第1の記憶手段と前記第2
    の記憶手段により前記第1のデータと前記第2のデータ
    を更新する読み出し方法を特徴とする請求項9に記載の
    不揮発性半導体メモリの動作方法。
  14. 【請求項14】 不揮発性トランジスタからなる複数の
    メモリセルが行列状に配置されたメモリアレイで、前記
    メモリアレイを書き込み/消去可能か否かを示す不揮発
    性トランジスタからなるメモリセルを前記メモリアレイ
    内に有し、前記メモリアレイ内の書き込み/消去可能か
    否かを示す不揮発性トランジスタからなるメモリセルを
    読み出した際に読み出し履歴の情報を第1のデータとし
    て書き込み保持する第1の記憶手段と、前記メモリアレ
    イ内の書き込み/消去可能か否かを示す不揮発性トラン
    ジスタからなるメモリセルの内容を読み出した際にその
    内容を第2のデータとして書き込み保持する第2の記憶
    手段とを備える前記不揮発性半導体メモリについて、前
    記不揮発性半導体メモリに接続され、前記不揮発性半導
    体メモリを消去/書き込み制御するデータ処理装置によ
    り制御するにあたり、前記第1の記憶手段によって保持
    された前記第1のデータと前記第2の記憶手段によって
    保持された前記第2のデータとを前記データ処理装置が
    参照し、消去/書き込み可能か否かを判断することを特
    徴とする不揮発性半導体メモリの動作方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010238360A (ja) * 2010-06-25 2010-10-21 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びそのデータ消去方法

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