JP2002006131A

JP2002006131A - カラーフィルター基板の製造方法、電気光学装置の製造方法

Info

Publication number: JP2002006131A
Application number: JP2000183078A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Higuchi; 聡樋口
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2000-06-19
Filing date: 2000-06-19
Publication date: 2002-01-09

Abstract

(57)【要約】【課題】カラーフィルター基板の表面を平坦化するこ
とができる、カラーフィルター基板の製造方法を提供す
る。【解決手段】基板母材３１の表面上の全面にカラーフ
ィルター１５と平坦化膜１６を形成した後、平坦化膜１
６の表面上において、少なくとも最大削り領域５０を含
む領域に少なくとも１層のダミー膜５６を形成する。次
に、ダミー膜５６を形成した基板母材３１の表面の研磨
を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルター
基板の製造方法、カラーフィルター基板を備えた電気光
学装置の製造方法に係り、特に、カラーフィルター基板
の表面を平坦化する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】電気光学装置の代表例である液晶（表
示）装置を取り上げて、カラーフィルター基板を備えた
電気光学装置の構造について説明する。

【０００３】図１２、図１３に、それぞれカラーフィル
ター基板を備えた一般の単純マトリックス型の液晶（表
示）装置１００の概略断面構造、概略平面構造を示し、
この液晶装置の構造を説明する。図１２は、図１３に示
す液晶装置１００をＡ１０−Ａ１０’線に沿って切断し
たときの断面図である。

【０００４】図１２において、液晶装置１００の表示領
域（画素領域）を符号１３０で示している。液晶装置１
００において、表示領域１３０より外側の領域が非表示
領域になっている。

【０００５】図１２に示すように、少なくともカラーフ
ィルター１０５を備えたカラーフィルター基板（下側基
板）１０１と対向基板（上側基板）１０２とがそれぞれ
の基板の周縁部においてシール材１０４を介して所定間
隔で貼着され、カラーフィルター基板１０１、対向基板
１０２間に液晶層（電気光学材料層）１０３が挟持され
ている。

【０００６】シール材１０４は、図１３に示すように、
カラーフィルター基板１０１、対向基板１０２の周縁部
間に略環状に形成され、その一部には液晶（電気光学材
料）を注入するための液晶注入孔１１２が形成されてい
る。液晶注入孔１１２からカラーフィルター基板１０
１、対向基板１０２間に液晶を注入した後、この液晶注
入孔１１２は封止材１１３によって封止されている。

【０００７】カラーフィルター基板１０１は、基板本体
１０１Ａと、その液晶層１０３側表面上に順次積層形成
されたカラーフィルター１０５と平坦化膜１０６と電極
１０７と配向膜１０９とから構成されている。対向基板
１０２は、基板本体１０２Ａと、その液晶層１０３側表
面上に順次積層形成された電極１０８と配向膜１１０と
から構成されている。また、液晶装置１００において、
カラーフィルター基板１０１、対向基板１０２間には、
液晶装置１００のセルギャップを均一化するために多数
の球状のスペーサー１１１が配置されている。また、カ
ラーフィルター基板１０１、対向基板１０２の外側には
位相差板、偏光板などの光学素子が形成されているが、
図面上は省略している。

【０００８】以下に、カラーフィルター基板１０１の構
造について詳しく説明する。基板本体１０１Ａの液晶層
１０３側表面上に、所定のパターンで配列された赤
（Ｒ）の着色層１０５Ｒ、緑（Ｇ）の着色層１０５Ｇ、
青（Ｂ）の着色層１０５Ｂと遮光層（ブラックマトリッ
クス）１０５Ａとからなるカラーフィルター１０５が形
成されている。カラーフィルター１０５において、着色
層１０５Ｒ、１０５Ｇ、１０５Ｂは表示領域１３０内に
のみ形成され、表示領域１３０の外側の領域には遮光層
１０５Ａのみが形成されている。

【０００９】カラーフィルター１０５の表面上には、カ
ラーフィルター１０５を保護するとともに、カラーフィ
ルター基板１０１の表面を平坦化するための有機膜など
からなる平坦化膜１０６が形成されている。平坦化膜１
０６は、基板本体１０１Ａの表面上の全面に形成されて
いる。平坦化膜１０６の表面上にはストライプ状に複数
の電極１０７が形成され、電極１０７の表面上には配向
膜１０９が形成されている。

【００１０】次に、対向基板１０２の構造について説明
する。基板本体１０２Ａの液晶層１０３側表面上に、ス
トライプ状に複数の電極１０８が形成され、電極１０８
の表面上には、配向膜１１０が形成されている。

【００１１】液晶装置１００において、電極１０７、１
０８、配向膜１０９、１１０は少なくとも表示領域１３
０内に形成され、かつシール材１０４より内側の領域に
のみ形成されている。また、電極１０７と１０８とは互
いに交差するように形成されている。

【００１２】次に、図１４(a)〜(d)に、上記構造の液晶
装置１００の製造工程を示し、液晶装置１００の製造方
法について説明する。図１４(a)〜(d)は概略平面図であ
る。

【００１３】一般に、液晶装置の製造時に、大量生産を
行い、生産工程を短縮化するためには、基板本体１０１
Ａを複数個切り出すことが可能な大きさの、図１４(a)
に示す基板母材２０１と、基板本体１０２Ａを複数個切
り出すことが可能な大きさの、図１４(b)に示す対向基
板母材２０２とを用いて製造される。

【００１４】基板母材２０１、対向基板母材２０２にお
いて、切断されて最終的に基板本体１０１Ａ、１０２Ａ
となる領域をそれぞれ基板形成領域１０１Ｂ、対向基板
形成領域１０２Ｂとする。図１４(a)、(b)には、一例と
して、基板形成領域１０１Ｂ、対向基板形成領域１０２
Ｂを４箇所ずつ設けた場合の基板母材２０１、対向基板
母材２０２について示している。

【００１５】なお、図面上は省略しているが、基板母材
２０１の必要部分にカラーフィルター１０５と平坦化膜
１０６とを形成した後、基板母材２０１の表面上の各基
板形成領域１０１Ｂ内に電極１０７と配向膜１０８とを
形成する。

【００１６】この工程において形成されるカラーフィル
ター１０５は、基板母材２０１の表面上において、各基
板形成領域１０１Ｂの表示領域１３０内では着色層１０
５Ｒ、１０５Ｇ、１０５Ｂと遮光層１０５Ａとからな
り、各基板形成領域１０１Ｂ内の表示領域１３０より外
側の領域及び基板母材２０１の基板形成領域１０１Ｂよ
り外側の領域には遮光層１０５Ａが形成されている。

【００１７】また、図面上は省略しているが、対向基板
母材２０２の表面上の各対向基板形成領域１０２Ｂ内に
電極１０８と配向膜１１０とを形成する。

【００１８】次に、図１４(c)に示すように、対向基板
母材２０２の各対向基板形成領域１０２Ｂの周縁部にシ
ール材１０４を形成し、各対向基板形成領域１０２Ｂに
スペーサー１１１を散布した後、基板母材２０１と対向
基板母材２０２とを貼着することにより液晶セル母材
（電気光学材料セル母材）２０３を形成する。図１４
(c)において、符号１００Ａは個々の液晶セル（電気光
学材料セル）を示している。

【００１９】次に、液晶セル母材２０３を、液晶を注入
するための液晶注入孔１１２が端部に位置するように、
液晶セル１００Ａが一列に配列された短冊状の液晶セル
母材に切断し、液晶注入孔１１２から短冊状の液晶セル
母材の各液晶セル１００Ａ内に液晶を注入し、液晶層１
０３を形成する。

【００２０】次に、短冊状の液晶セル母材を各基板形成
領域１０１Ｂ、各対向基板形成領域１０２Ｂの外周部に
沿って切断することにより、各液晶セル１００Ａ毎に切
断する。最後に、液晶セル１００Ａの外側に光学素子を
取り付け、図１４(d)に示すように液晶装置１００が製
造される。

【００２１】次に、従来のカラーフィルター１０５と平
坦化膜１０６の形成方法について簡単に説明する。

【００２２】はじめに、カラーフィルター１０５の形成
方法について説明する。

【００２３】フォトリソグラフィー法により基板母材２
０１の表面上に、所定のパターンの遮光層１０５Ａを形
成した後、染色法、顔料分散法などの方法により着色層
１０５Ｒ、１０５Ｇ、１０５Ｂを形成することにより、
カラーフィルター１０５が形成される。

【００２４】染色法は、基板母材２０１の表面上の全面
に、染色基材となるレジストを塗布し、フォトリソ加工
により所定のパターンに形成した後、基板母材２０１を
染色液中に浸漬させてレジストを染色することにより、
着色層１０５Ｒ、１０５Ｇ、１０５Ｂを形成する方法で
ある。一方、顔料分散法は、基板母材２０１の表面上
に、あらかじめ顔料を分散させて所定の色に着色させた
レジストを塗布し、フォトリソ加工により所定のパター
ンに形成することにより着色層１０５Ｒ、１０５Ｇ、１
０５Ｂを形成する方法である。

【００２５】このようにして形成されるカラーフィルタ
ー１０５は表面に微細な凹凸を有するものとなってい
る。例えば、カラーフィルター１０５の表面粗さは、
０．３〜０．４×１０^-6ｍ（０．３〜０．４μｍ）程度
となっている。カラーフィルター１０５の膜厚は、１．
０〜１．５×１０^-6ｍ（１．０〜１．５μｍ）程度であ
るので、この値は無視できないものとなっている。

【００２６】基板母材２０１の表面上にカラーフィルタ
ー１０５を形成した後、カラーフィルター１０５の表面
上に有機膜などからなる平坦化膜１０６を形成する。し
かしながら、微細な凹凸を有するカラーフィルター１０
５の表面上に平坦化膜１０６を形成しても、カラーフィ
ルター１０５の表面の微細な凹凸の影響を受けて平坦化
膜１０６の表面が平坦化されない場合がある。

【００２７】そこで、従来、平坦化膜１０６を形成した
後、平坦化膜１０６の表面をオスカー型研磨機等を用い
て研磨することにより、平坦化膜１０６の表面を平坦化
させている。

【００２８】例として、オスカー型研磨機を用いた基板
母材２０１の表面の研磨方法について簡単に説明する。

【００２９】オスカー型研磨機は、アルミナ等の粉体を
付着させた研磨布が貼着された円盤形の研磨プレートを
具備するものであり、該研磨プレートを基板母材２０１
に接触させた状態で、基板母材２０１又は研磨プレート
を相対回転させることにより基板母材２０１の表面が機
械的に研磨される。

【００３０】

【発明が解決しようとする課題】上記の平坦化膜１０６
の研磨工程において、一般に、研磨機の小型化を図るた
め、基板母材２０１よりも小さい面積を有する研磨プレ
ートが使用され、該研磨プレートを基板母材２０１に接
触させた状態で、研磨プレートを一定方向に回転させな
がら平行移動させることにより、基板母材２０１の表面
全体を研磨している。

【００３１】そのため、研磨プレートが基板本体２０１
の周縁部に比較して中央部を通過する頻度が高くなり、
基板母材２０１の周縁部に位置する平坦化膜１０６より
も中央部に位置する平坦化膜１０６の方が大きく削られ
る傾向にある。その結果、平坦化膜１０６の膜厚に分布
が生じる場合がある。

【００３２】図１５に、平坦化膜１０６の研磨を行った
後の基板母材２０１の表面近傍部分を拡大した断面構造
の一例を示し、平坦化膜１０６の膜厚の分布の一例につ
いて説明する。図面上は簡略化のため、カラーフィルタ
ー１０５の表面の微細な凹凸は省略している。

【００３３】図１５に示すように、平坦化膜１０６は、
端部において最も厚く、中心部に近づくにつれて薄くな
っているが、周縁部においてのみ大きな膜厚の分布を有
していて、周縁部を除く領域では、ほぼ同じ膜厚となっ
ている。

【００３４】平坦化膜１０６が最も厚い部分（端部）に
おけるカラーフィルター１０５と平坦化膜１０６とを合
わせた膜の膜厚Ｔ１０は、例えば４．０×１０^-6ｍ
（４．０μｍ）程度となっている。また、平坦化膜１０
６の最も厚い部分（端部）と最も薄い部分との膜厚の差
Ｄ１０は、０．５〜１．０×１０^-6ｍ（０．５〜１．０
μｍ）程度となっている。研磨される部分によるムラの
発生は前述の微細な凹凸の改善の度合いに差を生じさせ
て結果として液晶表示に影響を与える場合がある。

【００３５】このように平坦化膜１０６の膜厚に分布が
生じると、製造される液晶装置１００のカラーフィルタ
ー基板１０１の表面が不均一になるため、液晶装置１０
０のセルギャップに分布が生じ、液晶装置１００の表示
品質が悪化する恐れがある。

【００３６】例えば、ＳＴＮ(Super Twisted Nematic)
型液晶を用いた液晶装置においては、Δｎ・ｄ値（但
し、Δｎは液晶の複屈折率、ｄはセルギャップ）の変化
により光の透過率が変化することが知られており、Δｎ
・ｄ値の変化、すなわちセルギャップｄの分布が大きい
と光透過率すなわち明るさに分布が発生するため、コン
トラストが低下して、色むらが生じ、表示品質が悪化す
るという問題がある。

【００３７】セルギャップの分布に起因する表示品質悪
化の問題は、強誘電性液晶や双安定性を有する液晶など
を用いた液晶装置などにおいても生じる問題である。

【００３８】また、以上の問題は、特に、単純マトリッ
クス型の液晶装置において顕著な問題であるが、いかな
る液晶装置においても生じる問題である。

【００３９】また、以上の問題は、液晶装置に限った問
題ではなく、カラーフィルター基板を具備する、電気光
学材料層を挟持する２枚の基板を所定間隔で貼着した構
造のエレクトロルミネッセンス、プラズマディスプレイ
等の電気光学装置においても生じる問題である。

【００４０】そこで、本発明は、カラーフィルター基板
の表面を平坦化することができる、カラーフィルター基
板の製造方法を提供することを目的とする。

【００４１】また、カラーフィルター基板を備えた電気
光学装置のセルギャップを均一化することができ、表示
品質を向上することができる電気光学装置の製造方法を
提供することを目的とする。

【００４２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、基板本体の表面上に、少なく
ともカラーフィルターと平坦化膜とが順次積層形成され
てなるカラーフィルター基板の製造方法であって、前記
基板本体の表面上に前記カラーフィルターを形成する工
程と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形
成する工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少な
くとも１層のダミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を
形成した前記基板本体の表面を機械的に研磨する工程と
を有することを特徴とする。

【００４３】上記の本発明のカラーフィルター基板の製
造方法によれば、基板本体の表面研磨時に基板本体の表
面の所定の領域に、あらかじめダミー膜を形成してから
基板本体の表面の研磨を行うことにより、基板本体の表
面が過剰に研磨される部分の研磨を抑制することがで
き、カラーフィルター基板の表面を平坦化することがで
きる。

【００４４】上記の本発明のカラーフィルター基板の製
造方法は、基板本体を用いてカラーフィルター基板を製
造する場合の製造方法であるが、本発明は、基板本体を
複数個切り出すことが可能な基板母材を用いてカラーフ
ィルター基板を製造する場合にも適用することができ
る。

【００４５】この場合の本発明のカラーフィルター基板
の製造方法は、基板本体の表面上に、少なくともカラー
フィルターと平坦化膜とが順次積層形成されてなるカラ
ーフィルター基板の製造方法であって、前記基板本体が
形成される基板形成領域を複数個含む基板母材を用い、
該基板母材の表面上の少なくとも基板形成領域内に前記
カラーフィルターを形成する工程と、該カラーフィルタ
ーの表面上に前記平坦化膜を形成する工程と、該平坦化
膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダミー膜を
形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板母材の
表面を機械的に研磨する工程を特徴とする。

【００４６】このように基板母材を用いてカラーフィル
ター基板の製造を行う場合にも、本発明のカラーフィル
ター基板の製造方法によれば、基板母材の表面研磨時に
基板母材の表面の所定の領域に、あらかじめダミー膜を
形成してから基板母材の表面の研磨を行うことにより、
基板母材の表面が過剰に研磨される部分の研磨を抑制す
ることができ、カラーフィルター基板の表面を平坦化す
ることができる。さらに、基板本体を複数個切り出すこ
とができる基板本体を用いて、カラーフィルター基板を
製造することにより、カラーフィルター基板を大量生産
することができる。

【００４７】以上の本発明のカラーフィルター基板の製
造方法において、前記ダミー膜を形成する領域として、
前記基板本体又は前記基板母材の表面研磨時における前
記基板本体又は前記基板母材の表面の最大削り領域を少
なくとも含む領域とすることが望ましく、基板本体又は
基板母材の表面研磨時に基板本体又は基板母材の表面が
大きく削られる領域（最大削り領域）に、あらかじめダ
ミー膜を形成してから基板本体又は基板母材の表面の研
磨を行うことにより、基板本体又は基板母材の表面が過
剰に研磨される部分の研磨を抑制することができ、カラ
ーフィルター基板の表面を平坦化することができる。

【００４８】例えば、基板本体又は基板母材の表面を研
磨する際に、周縁部を除く領域が大きく削られる場合に
は、ダミー膜を形成する領域を、基板本体又は基板母材
の表面上において周縁部を除く領域とすることによっ
て、カラーフィルター基板の表面を平坦化することがで
きる。

【００４９】また、本発明のカラーフィルター基板の製
造方法において、ダミー膜として平坦化膜と同じ材料の
ものを用いることが望ましく、ダミー膜の材料を平坦化
膜の材料と同一にすることにより、生産工程を効率化す
ることができる。

【００５０】また、ダミー膜として平坦化膜と異なる材
料からなるものを用いてもよい。例えば、ダミー膜の材
料を平坦化膜の材料よりも硬い材料とすることにより、
ダミー膜の膜厚を薄くすることができ、ダミー膜の膜厚
を薄くしても、基板本体又は基板母材の表面が過剰に研
磨される部分の研磨を抑制することができ、カラーフィ
ルター基板の表面を平坦化することができる。

【００５１】また、ダミー膜として透明材料からなるも
のを用いることが望ましく、この場合には、基板本体又
は基板母材を研磨した後、ダミー膜が残存した場合にお
いても、カラーフィルター基板を備える電気光学装置の
表示に影響を与えないという利点がある。

【００５２】以上の本発明が講じた手段は、カラーフィ
ルター基板の製造方法に関するものであるが、本発明は
カラーフィルター基板を備えた電気光学装置の製造方法
にも同様に適用することができる。

【００５３】本発明の電気光学装置の製造方法は、シー
ル材を介して所定間隔で貼着され、電気光学材料層を挟
持する対向する２枚の基板本体のうち、一方の基板本体
の表面上に少なくともカラーフィルターと平坦化膜とが
順次積層形成されてなる電気光学装置の製造方法であっ
て、前記２枚の基板本体のうち一方の基板本体の表面上
に前記カラーフィルターを形成する工程と、該カラーフ
ィルターの表面上に前記平坦化膜を形成する工程と、該
平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダミ
ー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板
本体の表面を機械的に研磨する工程と、前記カラーフィ
ルターと前記平坦化膜とを形成した前記基板本体ともう
一方の基板本体とをシール材を介して貼着することによ
り、電気光学材料セルを形成する工程とを有することを
特徴とする。

【００５４】この本発明の電気光学装置の製造方法によ
れば、本発明のカラーフィルター基板の製造方法と同
様、基板本体の表面上の所定の領域に、あらかじめダミ
ー膜を形成してから基板本体の表面の研磨を行うことに
より、基板本体の表面が過剰に研磨される部分の研磨を
抑制することができ、カラーフィルターを備えた基板の
表面を平坦化することができるので、電気光学装置のセ
ルギャップを均一化することができ、表示品質の優れた
電気光学装置を提供することができる。

【００５５】上記の電気光学装置の製造方法は、基板本
体を用いて電気光学装置を製造する場合の製造方法であ
るが、本発明は、基板本体を複数個切り出すことが可能
な基板母材を用いて電気光学装置を製造する場合にも適
用することができる。

【００５６】この場合の本発明の電気光学装置の製造方
法は、シール材を介して所定間隔で貼着され、電気光学
材料層を挟持する対向する２枚の基板本体のうち、一方
の基板本体の表面上に少なくともカラーフィルターと平
坦化膜とが順次積層形成されてなる電気光学装置の製造
方法であって、前記２枚の基板本体が各々形成される基
板形成領域を複数個含む２枚の基板母材を用い、該２枚
の基板母材のうち一方の基板母材の表面上の少なくとも
基板形成領域内に前記カラーフィルターを形成する工程
と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形成
する工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少なく
とも１層のダミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形
成した前記基板母材の表面を機械的に研磨する工程と、
前記カラーフィルターと前記平坦化膜とを形成した前記
基板母材ともう一方の基板母材とをシール材を介して貼
着することにより、電気光学材料セル母材を形成する工
程とを有することを特徴とする。

【００５７】このように基板母材を用いて電気光学装置
の製造を行う場合にも、本発明の電気光学装置の製造方
法によれば、基板母材の表面上の所定の領域に、あらか
じめダミー膜を形成してから基板母材の表面の研磨を行
うことにより、基板母材の表面が過剰に研磨される部分
の研磨を抑制することができ、カラーフィルターを備え
た基板の表面を平坦化することができるので、電気光学
装置のセルギャップを均一化することができ、表示品質
の優れた電気光学装置を提供することができる。さら
に、基板本体を複数個切り出すことが可能な基板母材を
用いて電気光学装置を製造することにより、電気光学装
置を大量生産することができる。

【００５８】

【発明の実施の形態】次に、電気光学装置の例として液
晶装置を取り上げて、本発明に係る実施形態について詳
細に説明する。

【００５９】図１〜図３に基づき、本発明に係る実施形
態の液晶装置の製造方法により製造された単純マトリッ
クス型の液晶（表示）装置１０の構造について説明す
る。図１は液晶装置１０の概略断面図、図２は液晶装置
１０の概略平面図である。図１は、図２に示す液晶装置
１０をＡ１−Ａ１’線に沿って切断したときの断面図で
ある。また、図３は液晶装置１０のカラーフィルターの
構造を拡大して示す概略平面図である。なお、図１〜図
３において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の
大きさとするため、各層や各部材の縮尺は実際のものと
は異なるように表している。

【００６０】図１において、液晶装置１０の表示領域
（画素領域）を符号３０で示している。液晶装置１０に
おいて、表示領域３０より外側の領域が非表示領域にな
っている。

【００６１】図１に示すように、少なくともカラーフィ
ルター１５を備えたカラーフィルター基板（下側基板）
１１と対向基板（上側基板）１２とがそれぞれの基板の
周縁部においてシール材１４を介して所定間隔で貼着さ
れ、カラーフィルター基板１１、対向基板１２間にＳＴ
Ｎ(Super Twisted Nematic)型液晶、強誘電性液晶、双
安定性を有する液晶等からなる液晶層（電気光学材料
層）１３が挟持されている。

【００６２】シール材１４は、図２に示すように、カラ
ーフィルター基板１１、対向基板１２の周縁部間に略環
状に形成され、その一部には液晶（電気光学材料）を注
入するための液晶注入孔２２が形成されている。液晶注
入孔２２からカラーフィルター基板１１、対向基板１２
間に液晶を注入した後、この液晶注入孔２２は封止材２
３によって封止されている。

【００６３】カラーフィルター基板１１は、ガラスやプ
ラスチックフィルム等からなる基板本体１１Ａと、その
液晶層１３側表面上に順次積層形成されたカラーフィル
ター１５と平坦化膜１６と電極１７と配向膜１９とから
構成されている。対向基板１２は、ガラスやプラスチッ
クフィルム等からなる基板本体１２Ａと、その液晶層１
３側表面上に順次積層形成された電極１８と配向膜２０
とから構成されている。また、液晶装置１０において、
カラーフィルター基板１１、対向基板１２間には、液晶
セルのセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、
ポリスチレン等からなる多数の球状のスペーサー２１が
配置されている。

【００６４】また、カラーフィルター基板１１、対向基
板１２の外側には位相差板、偏光板などの光学素子が形
成されているが、図面上は省略している。

【００６５】カラーフィルター基板１１の構造について
詳しく説明する。基板本体１１Ａの液晶層１３側表面上
において、少なくとも表示領域３０内には所定のパター
ンで配列された赤（Ｒ）の着色層１５Ｒ、緑（Ｇ）の着
色層１５Ｇ、青（Ｂ）の着色層１５Ｂと遮光層（ブラッ
クマトリックス）１５Ａとからなるカラーフィルター１
５が形成されている。図１には、例として、基板本体１
１Ａの表面上の全面にカラーフィルター１５が形成され
た場合について図示している。カラーフィルター１５に
おいて、着色層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂは表示領域３０
内にのみ形成され、表示領域３０の外側の領域には遮光
層１５Ａのみが形成されている。なお、図１に示すカラ
ーフィルター１５の形成領域及びパターンは一例であっ
て、本発明はこれに限定されるものではない。

【００６６】着色層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂは、それぞ
れ所定の色に着色されたアクリル系などの樹脂からな
り、遮光層１５Ａは、クロム等の金属あるいは黒色に着
色されたアクリル系などの樹脂からなっている。また、
カラーフィルター１５の平面構造については後述する。

【００６７】カラーフィルター１５の表面上には、カラ
ーフィルター１５を保護するとともに、カラーフィルタ
ー基板１１の表面を平坦化するために、有機膜などから
なる平坦化膜１６が形成されている。平坦化膜１６は基
板本体１１Ａの表面上の全面に形成されている。平坦化
膜１６の表面上には、ストライプ状に、インジウム錫酸
化物等からなる複数の電極１７が形成されている。電極
１７の表面上には、液晶を配向させるための配向膜１９
が形成されている。

【００６８】以下に、対向基板１２の構造について説明
する。基板本体１２Ａの液晶層１３側表面上において、
ストライプ状に、インジウム錫酸化物などからなる複数
の電極１８が形成され、電極１８の表面上には配向膜２
０が形成されている。

【００６９】液晶装置１０において、電極１７、１８、
配向膜１９、２０は少なくとも表示領域３０内に形成さ
れ、かつシール材１４より内側の領域にのみ形成されて
いる。図１に示す電極１７、１８、配向膜１９、２０の
形成領域は一例であって、本発明はこれに限定されるも
のではない。また、液晶装置１０において、電極１７と
１８とは互いに交差するように形成されている。電極１
７の一方の端部には引回し配線が接続されているが、図
１では簡略化のため省略している。また、電極１８の一
方の端部にも引回し配線が接続されている。電極１７、
１８は引回し配線を介して図示は省略している駆動用回
路に電気的に接続されている。

【００７０】ここで、図３に基づき、液晶装置１０のカ
ラーフィルター１５の平面構造について説明する。な
お、図３に示すカラーフィルター１５のパターンは一例
であって、本発明はこれに限定されるものではない。

【００７１】液晶装置１０において、各着色層１５Ｒ、
１５Ｇ、１５Ｂは、１本の電極１７と１本の電極１８と
が交差する領域に対応して形成され、隣接する着色層間
に遮光層１５Ａが形成されている。図３に示すように、
図示横方向には、図示左方向から赤の着色層１５Ｒ、緑
の着色層１５Ｇ、青の着色層１５Ｂが繰り返し形成され
ていて、図示縦方向には、同じ色の着色層が形成されて
いる。なお、赤の着色層１５Ｒ、緑の着色層１５Ｇ、青
の着色層１５Ｂからなる３個の着色層で一画素となり、
１つの表示が可能となっている。

【００７２】次に、図４(a)〜(d)、図５(a)、(b)に、上
記の液晶装置１０の製造工程を示し、液晶装置１０の製
造方法について説明する。図４(a)〜(d)、図５(a)、(b)
は概略平面図である。なお、図４、図５において、各層
や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするた
め、各層や各部材の縮尺は実際のものとは異なるように
表している。

【００７３】大量生産を行い、生産工程を短縮化するた
めに、液晶装置１０は、基板本体１１Ａを複数個切り出
すことが可能な大きさの、図４(a)に示す基板母材３１
と、基板本体１２Ａを複数個切り出すことが可能な大き
さの、図４(b)に示す対向基板母材３２とを用いて製造
される。

【００７４】基板母材３１、対向基板母材３２におい
て、切断されて最終的に基板本体１１Ａ、１２Ａとなる
領域をそれぞれ基板形成領域１１Ｂ、対向基板形成領域
１２Ｂとする。図４(a)、(b)には、一例として、基板形
成領域１１Ｂ、対向基板形成領域１２Ｂを４箇所ずつ設
けた場合の基板母材３１、対向基板母材３２について示
している。

【００７５】図面上は省略しているが、基板母材３１の
表面上の全面にカラーフィルター１５と平坦化膜１６と
を形成した後、基板母材３１の表面上の各基板形成領域
１１Ｂ内に、電極１７と配向膜１９とを形成する。

【００７６】この工程において形成されるカラーフィル
ター１５は、基板母材３１の表面上において、各基板形
成領域１１Ｂの表示領域３０内では着色層１５Ｒ、１５
Ｇ、１５Ｂと遮光層１５Ａとからなり、各基板形成領域
１１Ｂ内の表示領域３０より外側の領域及び基板母材３
１の基板形成領域１１Ｂより外側の領域には遮光層１５
Ａが形成されている。本実施形態におけるカラーフィル
ター１５と平坦化膜１６の形成方法の詳細については後
述する。

【００７７】また、図面上は省略しているが、対向基板
母材３２の各対向基板形成領域１２Ｂ内には、電極１８
と配向膜２０を形成する。

【００７８】次に、図４(c)に示すように、対向基板母
材３２の各対向基板形成領域１２Ｂの周縁部にシール材
１４を形成し、各対向基板形成領域１２Ｂにスペーサー
１１１を散布した後、基板母材３１と対向基板母材３２
とを貼着することにより、液晶セル母材（電気光学材料
セル母材）３３を形成する。図４(c)において、符号１
０Ａは個々の液晶セル（電気光学材料セル）を示してい
る。

【００７９】次に、図４(d)に示すように、液晶セル母
材３３を、液晶注入孔２２が端部に位置するように切断
し、複数の液晶セル（電気光学材料セル）１０Ａが図示
横方向に一列に配列された短冊状の液晶セル母材（電気
光学材料セル母材）３４を形成する。

【００８０】次に、図５(a)に示すように、真空中にお
いて、液晶注入孔２２から各液晶セル１０Ａ内に液晶を
注入し、液晶セル母材３４の各液晶セル１０Ａ内に液晶
層１３を形成した後、液晶注入孔２２を封止材２３によ
り封止する。

【００８１】次に、図５(b)に示すように、液晶セル母
材３４を各基板形成領域１１Ｂ、各対向基板形成領域１
２Ｂの外周部に沿って切断することにより、各液晶セル
１０Ａ毎に切断する。このようにして、カラーフィルタ
ー基板１１、対向基板１２が切り出される。最後に、カ
ラーフィルター基板１１、対向基板１２の外側に位相差
板、偏光板などの光学素子を取り付け、液晶装置１０が
製造される。

【００８２】ここで、本実施形態の液晶装置１０の製造
方法において、カラーフィルター１５と平坦化膜１６の
形成方法の詳細について説明する。

【００８３】はじめに、カラーフィルター１５の形成方
法について説明する。フォトリソグラフィー法により基
板母材３１の表面上に、所定のパターンの遮光層１５Ａ
を形成した後、染色法、顔料分散法などの方法により着
色層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを形成することにより、カ
ラーフィルター１５が形成される。

【００８４】染色法は、基板母材３１の表面上に、染色
基材となるレジストを塗布し、フォトリソ加工により所
定のパターンに形成した後、基板母材３１を染色液中に
浸漬させてレジストを染色することにより、着色層１５
Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを形成する方法である。一方、顔料
分散法は、基板母材３１の表面上に、あらかじめ顔料を
分散させて所定の色に着色させたレジストを塗布し、フ
ォトリソ加工により所定のパターンに形成することによ
り着色層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを形成する方法であ
る。

【００８５】以上の方法により、基板母材３１の表面上
の全面にカラーフィルター１５を形成した後、カラーフ
ィルター１５の表面上に有機膜などからなる平坦化膜１
６を形成する。カラーフィルター１５の表面が微細な凹
凸を有していることに起因して、このとき形成される平
坦化膜１６は表面に微細な凹凸が形成されたものとなっ
ている。そのため、平坦化膜１６の表面を平坦化する必
要がある。

【００８６】次に、本実施形態の液晶装置１０の製造方
法において、平坦化膜１６の表面の平坦化の方法につい
て説明する。

【００８７】平坦化膜１６の表面の平坦化を行う前の基
板母材３１の表面近傍部分の断面構造を図６(a)に示
す。図面上は簡略化のため、カラーフィルター１５及び
平坦化膜１６の表面の微細な凹凸は省略している。ま
た、図６(a)において、各層や各部材を図面上で認識可
能な程度の大きさとするため、各層や各部材の縮尺は実
際のものとは異なるように表している。

【００８８】あらかじめ、液晶装置１０の製造には使用
しない図６(a)に示す基板母材３１を用いて、平坦化膜
１６の表面をオスカー型研磨機等を用いて直接研磨した
場合の平坦化膜１６の膜厚の分布を測定しておく。

【００８９】図６(a)に示す基板母材３１の表面をオス
カー型研磨機等を用いて直接研磨した場合の、研磨後の
基板母材３１の表面近傍部分の断面構造の一例を図６
(b)に示し、基板母材３１の表面をオスカー型研磨機等
を用いて直接研磨したときの平坦化膜１６の膜厚の分布
の一例について説明する。また、図６(b)に示す基板母
材３１の平面構造の一例を図７に示す。

【００９０】図６(b)に示すように、平坦化膜１６は、
端部において最も厚く、中心部に近づくにつれて薄くな
っているが、周縁部においてのみ大きな膜厚の分布を有
していて、周縁部を除く領域では、ほぼ同じ膜厚となっ
ている。平坦化膜１６において、周縁部を除く領域、す
なわち大きく削られてほぼ同じ膜厚となっている領域
（最大削り領域）を符号５０で示している。例えば、平
坦化膜１６において、最大削り領域５０は、図７に示す
ようになっている。

【００９１】平坦化膜１６が最も厚い部分（端部）にお
けるカラーフィルター１５と平坦化膜１６とを合わせた
膜の膜厚Ｔ１は、例えば４．０×１０^-6ｍ（４．０μ
ｍ）程度となっている。また、平坦化膜１６の最も厚い
部分（端部）と最も薄い部分との膜厚の差Ｄ１は、０．
５〜１．０×１０^-6ｍ（０．５〜１．０μｍ）程度とな
っている。

【００９２】このように、あらかじめ、液晶装置１０の
製造には使用しない図６(a)に示す基板母材３１の表面
をオスカー型研磨機等を用いて直接研磨した場合の平坦
化膜１６の膜厚の分布を測定した後、このデータをもと
に、液晶装置１０の製造に使用する図６(a)に示す基板
母材３１の平坦化膜１６の表面の平坦化を行う。

【００９３】本実施形態において、図６(a)に示す基板
母材３１の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダミ
ー膜５６を形成し、ダミー膜５６を形成した基板母材３
１の表面の研磨を行う。このとき、図６(a)に示す基板
母材３１の表面を直接研磨したときの平坦化膜１６の膜
厚の分布のデータをもとに、基板母材３１の表面上にお
いて、少なくとも最大削り領域５０を含む領域にダミー
膜５６を形成する。

【００９４】例として、基板母材３１の表面上におい
て、最大削り領域５０にのみダミー膜５６を形成した場
合の基板母材３１を図８(a)に示す。なお、図８(a)に示
すダミー膜５６の形成領域及びパターンは一例であっ
て、これに限定されるものではない。

【００９５】図８(a)には、１層からなるダミー膜５６
を形成した場合について図示しているが、これに限定さ
れるものではなく、ダミー膜５６は積層構造からなって
いても良いし、最大削り領域５０内に、間隔をあけて複
数の層が配列されたものであっても良い。

【００９６】また、ダミー膜５６は平坦化膜１６と同じ
材料からなってもよいし、平坦化膜１６と異なる材料か
らなってもよい。

【００９７】ダミー膜５６の材料を平坦化膜１６と同一
の材料とする場合には、ダミー膜５６の膜厚を、ダミー
膜５６を形成せずに平坦化膜１６を直接研磨した場合
の、平坦化膜１６の最も厚い部分（端部）と最も薄い部
分との膜厚の差Ｄ１に合わせて、例えば、０．５〜１．
０×１０^-6ｍ（０．５〜１．０μｍ）程度に設定する。

【００９８】また、ダミー膜５６の材料を平坦化膜１６
よりも硬い材料とする場合には、平坦化膜１６と同一の
材料とするときよりもダミー膜５６を薄く形成する。

【００９９】このようにダミー膜５６を形成した基板母
材３１の表面をオスカー型研磨機等を用いて研磨を行
う。以上のようにして、図８(b)に示すように、表面が
平坦化された平坦化膜１６を形成することができる。

【０１００】本実施形態において、ダミー膜５６は透明
材料からなることが望ましく、この場合には、ダミー膜
５６を形成した基板母材３１の表面を研磨した後、ダミ
ー膜５６が残存した場合においても、液晶装置１０の表
示に影響を与えないという利点がある。

【０１０１】本実施形態の液晶装置の製造方法によれ
ば、基板母材３１の表面上にカラーフィルター１５と平
坦化膜１６とを形成した後、平坦化膜１６の表面上の所
定の領域にダミー膜５６を形成してから基板母材３１の
表面の研磨を行うことにより、基板母材３１の表面が過
剰に研磨される部分の研磨を抑制することができ、カラ
ーフィルター基板１１の表面を平坦化することができ
る。そのため、本実施形態の液晶装置の製造方法により
製造された液晶装置１０は、セルギャップが均一化さ
れ、表示品質の優れたものとなる。

【０１０２】本実施形態においては、基板母材を用いて
電気光学装置を製造する場合についてのみ説明したが、
本発明は、基板母材を用いずに電気光学装置を製造する
場合についても同様に適用することができる。

【０１０３】この場合には、２枚の基板本体のうち一方
の基板本体の表面上にカラーフィルターと平坦化膜とを
形成した後、平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくと
も１層のダミー膜を形成してから、基板本体の表面を研
磨することにより、カラーフィルター基板を製造した
後、カラーフィルター基板ともう一方の基板本体とをシ
ール材を介して貼着すればよく、この電気光学装置の製
造方法によれば、基板母材を用いる場合と同様、カラー
フィルター基板の表面を平坦化することができるため、
液晶装置のセルギャップを均一化することができ、液晶
装置の表示品質を向上することができる。

【０１０４】また、本実施形態においては、カラーフィ
ルター１５が下側の基板１１に設けられた液晶装置につ
いてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、本発明はカラーフィルター１５が対向基板１２
に設けられた液晶装置にも適用することができる。

【０１０５】また、本実施形態においては、単純マトリ
ックス型の液晶装置についてのみ説明したが、本発明は
これに限定されるものではなく、ＴＦＤ（Thin Film Di
ode）素子に代表される２端子型素子やＴＦＴ（Thin-Fi
lm Transistor）素子に代表される３端子型素子を用い
るアクティブマトリックス型の液晶装置などいかなる駆
動方式の液晶装置にも適用することができる。

【０１０６】また、本発明は液晶装置に限定されるもの
ではなく、電気光学材料層を挟持する２枚の基板を所定
間隔で貼着した構造のエレクトロルミネッセンス、プラ
ズマディスプレイ等の電気光学装置においても適用する
ことができる。

【０１０７】次に、本発明の前記の実施形態の液晶装置
１０を備えた電子機器の具体例について説明する。

【０１０８】図９(a)は携帯電話の一例を示した斜視図
である。図９(a)において、３００は携帯電話本体を示
し、３０１は前記の液晶装置１０を備えた液晶表示部を
示している。

【０１０９】図９(b)はワープロ、パソコンなどの携帯
型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図９(b)
において、４００は情報処理装置、４０１はキーボード
などの入力部、４０３は情報処理本体、４０２は前記の
液晶装置１０を備えた液晶表示部を示している。

【０１１０】図９(c)は腕時計型電子機器の一例を示し
た斜視図である。図９(c)において、５００は時計本体
を示し、５０１は前記の液晶装置１０を備えた液晶表示
部を示している。

【０１１１】図９(a)〜(c)に示すそれぞれの電子機器
は、前記の液晶装置１０を備えたものであるので、表示
品質の優れたものとなる。

【０１１２】

【実施例】（比較例）縦３７０×１０^-3ｍ（３７０ｍ
ｍ）、横４７０×１０^-3ｍ（４７０ｍｍ）の材質がソー
ダガラスの基板母材を用いて、基板母材の表面上に縦約
１６５×１０^-3ｍ（１６５ｍｍ）、横約７７×１０^-3ｍ
（７７ｍｍ）の８個の基板形成領域を設け、基板母材の
表面上の全面に、カラーフィルターとアクリル系樹脂を
材料とする平坦化膜とを積層形成した。その後、平坦化
膜の表面をオスカー型研磨機を用いて直接研磨した。

【０１１３】用いた基板母材の概略平面構造を図１０に
示す。図１０には、基板母材の図示左半分にのみ４個の
基板形成領域を図示しているが、基板母材の図示右半分
にも図示左半分と同様に４個の基板形成領域が設けられ
ている。

【０１１４】平坦化膜の表面の研磨を終えた基板母材の
表面上に形成されたカラーフィルターの遮光層（以下、
ＢＭと記載する）と平坦化膜を合わせた膜の膜厚の分布
を測定した。

【０１１５】図１０に示すように、図示右方向をＸ方向
とし、基板母材のほぼ中心線に沿って、隣接する基板形
成領域の間（基板母材の表面上においてＢＭと平坦化膜
のみが積層形成された部分）の膜厚を測定することによ
り、ＢＭと平坦化膜を合わせた膜の膜厚のＸ方向の分布
を測定した。基板母材の図示左端部近傍の測定点１から
Ｘ方向に２０〜３０×１０^-3ｍ（２０〜３０ｍｍ）毎に
測定を行い、基板母材の図示右端部近傍の測定点１８ま
で１８点測定を行った。測定点１から数えてＮ番目の測
定点を測定点Ｎとする。

【０１１６】基板母材の図示左端部から測定点Ｎまでの
距離及び、測定点ＮにおけるＢＭと平坦化膜を合わせた
膜の膜厚を測定したときの結果を表１に示す。また、基
板母材の図示左端部から測定点Ｎまでの距離と測定点Ｎ
におけるＢＭと平坦化膜を合わせた膜の膜厚との関係を
図１１に示す。

【０１１７】図１１に示すように、平坦化膜の表面を直
接研磨した比較例では、ＢＭ（カラーフィルター）と平
坦化膜を合わせた膜は膜厚が不均一になっている。

【０１１８】図１１に示すように、ＢＭ（カラーフィル
ター）と平坦化膜を合わせた膜の膜厚は中心部に近づく
につれて薄くなっていて、周縁部において大きな膜厚の
分布を有している。ただし、基板母材の周縁部を除く領
域では、ＢＭ（カラーフィルター）と平坦化膜を合わせ
た膜の膜厚は、ほぼ同じとなった。

【０１１９】ＢＭ（カラーフィルター）と平坦化膜とを
合わせた膜の膜厚の最も厚い部分と最も薄い部分との差
は約０．７５×１０^-6ｍ（０．７５μｍ）であった。ま
た、ＢＭ（カラーフィルター）と平坦化膜を合わせた膜
の膜厚がほぼ同じになっている領域の外周部は、基板母
材の表面上において、基板母材の端部から１００×１０
^-3ｍ（１００ｍｍ）程度離れたところに位置することが
示唆された。

【０１２０】（実施例）比較例と同じ基板母材を用い、
比較例と同じ条件で基板母材の表面上の全面に、カラー
フィルターとアクリル系樹脂を材料とする平坦化膜とを
積層形成した。

【０１２１】その後、平坦化膜の表面上において、周縁
部を除く領域に、平坦化膜と同じ材料からなる、膜厚が
０．７５×１０^-6ｍ（０．７５μｍ）のダミー膜を形成
し、該ダミー膜を形成した基板母材の表面をオスカー型
研磨機を用いて研磨した。ダミー膜の外周部は、基板母
材の端部から約１００×１０^-3ｍ（１００ｍｍ）程度離
れたところに位置させた。図１０において、ダミー膜を
形成した領域を符号６０で示している。

【０１２２】比較例と同様に、基板母材のほぼ中心線に
沿って、ＢＭと平坦化膜を合わせた膜の膜厚のＸ方向の
分布を測定した。測定点が比較例の測定点と同じ位置に
なるように測定を行った。

【０１２３】基板母材の図示左端部から測定点Ｎまでの
距離及び、測定点ＮにおけるＢＭと平坦化膜を合わせた
膜の膜厚を測定したときの結果を表１に示す。また、基
板母材の図示左端部から測定点Ｎまでの距離と測定点Ｎ
におけるＢＭと平坦化膜を合わせた膜の膜厚との関係を
図１１に示す。

【０１２４】図１１に示すように、平坦化膜の表面上に
ダミー膜を形成してから基板母材の表面の研磨を行った
実施例では、ＢＭ（カラーフィルター）と平坦化膜を合
わせた膜の膜厚はほぼ均一になっている。この結果か
ら、平坦化膜の表面上にダミー膜を形成してから基板母
材の表面の研磨を行うことにより平坦化膜の表面を均一
化できることが示唆された。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】

【発明の効果】以上説明したように本発明のカラーフィ
ルター基板の製造方法によれば、基板本体又は基板母材
の表面上の所定の領域に、あらかじめダミー膜を形成し
てから基板本体又は基板母材の表面の研磨を行うことに
より、基板本体又は基板母材の表面が過剰に研磨される
部分の研磨を抑制することができ、カラーフィルター基
板の表面を平坦化することができる。

【０１２７】また、本発明の電気光学装置の製造方法に
よれば、カラーフィルター基板の表面を平坦化すること
ができるので、電気光学装置のセルギャップを均一化す
ることができ、表示品質の優れた電気光学装置を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明に係る実施形態の液晶装置の
製造方法により製造された単純マトリックス型の液晶装
置の構造を示す概略断面図である。

【図２】図２は、本発明に係る実施形態の液晶装置の
製造方法により製造された単純マトリックス型の液晶装
置の構造を示す概略平面図である。

【図３】図３は、本発明に係る実施形態の液晶装置の
製造方法により製造された単純マトリックス型の液晶装
置のカラーフィルターの構造を拡大して示す概略平面図
である。

【図４】図４(a)〜(d)は、本発明に係る実施形態の単
純マトリックス型の液晶装置の製造方法を示す工程図で
ある。

【図５】図５(a)、(b)は、本発明に係る実施形態の単
純マトリックス型の液晶装置の製造方法を示す工程図で
ある。

【図６】図６(a)は、平坦化膜の表面の平坦化を行う
前の基板母材の表面近傍部分の構造を示す概略断面図、
図６(b)は、図６(a)に示す基板母材の表面を研磨した場
合の平坦化膜の膜厚の分布の一例を示す概略断面図であ
る。

【図７】図７は、図６(b)に示す基板母材の概略平面
図である。

【図８】図８(a)、(b)は、本発明に係る実施形態の単
純マトリックス型の液晶装置の製造方法において、平坦
化膜の表面の平坦化方法を示す工程図である。

【図９】図９(a)は、上記実施形態の液晶装置の製造
方法により製造された液晶装置を備えた携帯電話の一例
を示す図、図９(b)は、上記実施形態の液晶装置の製造
方法により製造された液晶装置を備えた携帯型情報処理
装置の一例を示す図、図９(c)は、上記実施形態の液晶
装置の製造方法により製造された液晶装置を備えた腕時
計型電子機器の一例を示す図である。

【図１０】図１０は、本発明に係る実施例と比較例に
おける測定点を示す図である。

【図１１】図１１は、本発明に係る実施例と比較例に
おいて、基板母材の端部から測定点までの距離と、ＢＭ
と平坦化膜を合わせた膜の膜厚との関係を示す図であ
る。

【図１２】図１２は、一般の単純マトリックス型の液
晶装置の概略断面図である。

【図１３】図１３は、一般の単純マトリックス型の液
晶装置の概略平面図である。

【図１４】図１４(a)〜(d)は、一般の単純マトリック
ス型の液晶装置の製造方法を示す工程図である。

【図１５】図１５は、従来の平坦化膜の形成方法によ
り形成された平坦化膜の膜厚の分布の一例を示す概略断
面図である。

【符号の説明】

１０液晶（表示）装置（電気光学
装置）１０Ａ液晶セル（電気光学材料セ
ル）１１カラーフィルター基板（下側
基板）１２対向基板（上側基板）１１Ａ、１２Ａ基板本体１３液晶層（電気光学材料層）１４シール材１５カラーフィルター１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂ着色層１５Ａ遮光層（ブラックマトリック
ス）１６平坦化膜１７、１８電極１９、２０配向膜２１スペーサー２２液晶注入孔２３封止材３０表示領域（画素領域）３１基板母材３２対向基板母材３３、３４液晶セル母材（電気光学材料
セル母材）１１Ｂ基板形成領域１２Ｂ対向基板形成領域５０最大削り領域５６ダミー膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板本体の表面上に、少なくともカラー
フィルターと平坦化膜とが順次積層形成されてなるカラ
ーフィルター基板の製造方法であって、前記基板本体の表面上に前記カラーフィルターを形成す
る工程と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形成する
工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダ
ミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板本体の表面を機械的に研
磨する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ
ー基板の製造方法。
【請求項２】基板本体の表面上に、少なくともカラー
フィルターと平坦化膜とが順次積層形成されてなるカラ
ーフィルター基板の製造方法であって、前記基板本体が形成される基板形成領域を複数個含む基
板母材を用い、該基板母材の表面上の少なくとも基板形成領域内に前記
カラーフィルターを形成する工程と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形成する
工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダ
ミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板母材の表面を機械的に研
磨する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ
ー基板の製造方法。
【請求項３】前記ダミー膜を形成する領域として、前
記基板本体又は前記基板母材の表面研磨時における前記
基板本体又は前記基板母材の表面の最大削り領域を少な
くとも含む領域とすることを特徴とする請求項１又は請
求項２記載のカラーフィルター基板の製造方法。
【請求項４】前記ダミー膜を形成する領域として、前
記基板本体又は前記基板母材の表面上において、周縁部
を除く領域を選択することを特徴とする請求項３記載の
カラーフィルター基板の製造方法。
【請求項５】前記ダミー膜として前記平坦化膜と同じ
材料のものを用いることを特徴とする請求項１から請求
項４までのいずれか１項記載のカラーフィルター基板の
製造方法。
【請求項６】前記ダミー膜として前記平坦化膜よりも
硬い材料からなるものを用いることを特徴とする請求項
１から請求項４までのいずれか１項記載のカラーフィル
ター基板の製造方法。
【請求項７】前記ダミー膜として透明材料からなるも
のを用いることを特徴とする請求項１から請求項６まで
のいずれか１項記載のカラーフィルター基板の製造方
法。
【請求項８】シール材を介して所定間隔で貼着され、
電気光学材料層を挟持する対向する２枚の基板本体のう
ち、一方の基板本体の表面上に少なくともカラーフィル
ターと平坦化膜とが順次積層形成されてなる電気光学装
置の製造方法であって、前記２枚の基板本体のうち一方の基板本体の表面上に前
記カラーフィルターを形成する工程と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形成する
工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダ
ミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板本体の表面を機械的に研
磨する工程と、前記カラーフィルターと前記平坦化膜とを形成した前記
基板本体ともう一方の基板本体とをシール材を介して貼
着することにより、電気光学材料セルを形成する工程と
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】シール材を介して所定間隔で貼着され、
電気光学材料層を挟持する対向する２枚の基板本体のう
ち、一方の基板本体の表面上に少なくともカラーフィル
ターと平坦化膜とが順次積層形成されてなる電気光学装
置の製造方法であって、前記２枚の基板本体が各々形成される基板形成領域を複
数個含む２枚の基板母材を用い、該２枚の基板母材のうち一方の基板母材の表面上の少な
くとも基板形成領域内に前記カラーフィルターを形成す
る工程と、該カラーフィルターの表面上に前記平坦化膜を形成する
工程と、該平坦化膜の表面上の所定の領域に少なくとも１層のダ
ミー膜を形成する工程と、該ダミー膜を形成した前記基板母材の表面を機械的に研
磨する工程と、前記カラーフィルターと前記平坦化膜とを形成した前記
基板母材ともう一方の基板母材とをシール材を介して貼
着することにより、電気光学材料セル母材を形成する工
程とを有することを特徴とする電気光学装置の製造方
法。