JP2002003750A - 耐酸性マスキング塗料組成物 - Google Patents
耐酸性マスキング塗料組成物Info
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- JP2002003750A JP2002003750A JP2000188949A JP2000188949A JP2002003750A JP 2002003750 A JP2002003750 A JP 2002003750A JP 2000188949 A JP2000188949 A JP 2000188949A JP 2000188949 A JP2000188949 A JP 2000188949A JP 2002003750 A JP2002003750 A JP 2002003750A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】乾燥工程を特に必要とせず、工業的規模での生
産に適した耐酸性マスキング塗料組成物の提供。 【解決手段】ａ）．光重合性プレポリマー１０〜９０重
量部、ｂ）．光重合性モノマー９０〜１０重量部、
ｃ）．ａ）ｂ）の合計１００重量部に対し０．０１〜１
０重量部の光開始剤を含む光硬化性樹脂と、エポキシ樹
脂及びアクリルエポキシ樹脂の少なくとも１種とからな
る耐酸性マスキング塗料組成物。該耐酸性マスキング組
成物中のエポキシ樹脂及びアクリルエポキシ樹脂の少な
くとも１種の配合量は、光り硬化性樹脂１００重量部に
対して０．０３〜３０重量部である。
産に適した耐酸性マスキング塗料組成物の提供。 【解決手段】ａ）．光重合性プレポリマー１０〜９０重
量部、ｂ）．光重合性モノマー９０〜１０重量部、
ｃ）．ａ）ｂ）の合計１００重量部に対し０．０１〜１
０重量部の光開始剤を含む光硬化性樹脂と、エポキシ樹
脂及びアクリルエポキシ樹脂の少なくとも１種とからな
る耐酸性マスキング塗料組成物。該耐酸性マスキング組
成物中のエポキシ樹脂及びアクリルエポキシ樹脂の少な
くとも１種の配合量は、光り硬化性樹脂１００重量部に
対して０．０３〜３０重量部である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐酸性マスキング
塗料組成物に関する。
塗料組成物に関する。
【０００２】
【従来技術】耐酸性マスキング剤は、種々の技術分野に
おいて用いられている。例えば、ガラスのフロスト加工
においては、ガラス表面に形成された金属膜上に耐酸性
マスキング剤でパターンを描いた後、フロスト加工液に
よりマスキング部以外の部分に処理が施される。このよ
うなマスキング剤としては、ワックス、パラフィン等を
樹脂成分として用いたものが知られている。
おいて用いられている。例えば、ガラスのフロスト加工
においては、ガラス表面に形成された金属膜上に耐酸性
マスキング剤でパターンを描いた後、フロスト加工液に
よりマスキング部以外の部分に処理が施される。このよ
うなマスキング剤としては、ワックス、パラフィン等を
樹脂成分として用いたものが知られている。
【０００３】しかしながら、ワックス、パラフィン等を
樹脂成分とするマスキング剤では、ガラス等の基材にコ
ートした後、ある程度の乾燥時間を必要とする。このた
め、大量生産・連続生産には適しておらず、さらなる改
善の余地がある。
樹脂成分とするマスキング剤では、ガラス等の基材にコ
ートした後、ある程度の乾燥時間を必要とする。このた
め、大量生産・連続生産には適しておらず、さらなる改
善の余地がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の主た
る目的は、乾燥工程を特に必要とせず、工業的規模での
生産に適した耐酸性マスキング塗料組成物を提供するこ
とにある。
る目的は、乾燥工程を特に必要とせず、工業的規模での
生産に適した耐酸性マスキング塗料組成物を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来技術の
問題に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、特定の樹脂成分を
採用する場合には上記目的を達成できることを見出し、
本発明を完成した。
問題に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、特定の樹脂成分を
採用する場合には上記目的を達成できることを見出し、
本発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は、樹脂成分として光硬
化性樹脂を含むことを特徴とする耐酸性マスキング塗料
組成物に係るものである。
化性樹脂を含むことを特徴とする耐酸性マスキング塗料
組成物に係るものである。
【０００７】さらに、本発明は、ガラスのフロスト加工
において、（１）請求項１〜７のいずれかに記載の耐酸
性マスキング塗料組成物を用いてガラス基材上にマスキ
ングパターンを形成する工程及び（２）マスキングパタ
ーンを光照射により硬化させる工程によりマスキングが
実施されることを特徴とするフロスト加工方法に係るも
のである。
において、（１）請求項１〜７のいずれかに記載の耐酸
性マスキング塗料組成物を用いてガラス基材上にマスキ
ングパターンを形成する工程及び（２）マスキングパタ
ーンを光照射により硬化させる工程によりマスキングが
実施されることを特徴とするフロスト加工方法に係るも
のである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の耐酸性マスキング塗料組
成物は、樹脂成分として光硬化性樹脂を含む。光硬化性
樹脂としては限定的でなく、公知のもの又は市販品も使
用することができる。特に、本発明では、光硬化性樹と
して、ａ）光重合性プレポリマー、ｂ）光重合性モノマ
ー及びｃ）光開始剤を含む混合物を用いることが好まし
い。上記ａ）〜ｃ）の各成分は、それぞれ公知の化合物
を用いることができる。
成物は、樹脂成分として光硬化性樹脂を含む。光硬化性
樹脂としては限定的でなく、公知のもの又は市販品も使
用することができる。特に、本発明では、光硬化性樹と
して、ａ）光重合性プレポリマー、ｂ）光重合性モノマ
ー及びｃ）光開始剤を含む混合物を用いることが好まし
い。上記ａ）〜ｃ）の各成分は、それぞれ公知の化合物
を用いることができる。
【０００９】光重合性プレポリマーとしては、下記のよ
うなものが例示される。これらは１種又は２種以上で使
用することができる。 ・ポリエステルアクリレート系：油類、変性アルキド、
変性ポリエステル等をベースとしてアクロイル基を導入
し、さらにウレタン化したもの、 ・ポリウレタンアクリレート系：ポリカーボネートアク
リレート、ヒドロキシル基含有アクリレート、ジイソシ
アネートとヒドロキシル基含有物との反応生成物など、 ・ポリエーテルアクリレート系、これらの光重合性プレ
ポリマーとしては、ポリエステルアクリレート系、ポリ
ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系
等が好ましい。光重合性プレポリマーの分子量は特に限
定的ではないが、通常は５００〜５０００００程度とす
れば良い。
うなものが例示される。これらは１種又は２種以上で使
用することができる。 ・ポリエステルアクリレート系：油類、変性アルキド、
変性ポリエステル等をベースとしてアクロイル基を導入
し、さらにウレタン化したもの、 ・ポリウレタンアクリレート系：ポリカーボネートアク
リレート、ヒドロキシル基含有アクリレート、ジイソシ
アネートとヒドロキシル基含有物との反応生成物など、 ・ポリエーテルアクリレート系、これらの光重合性プレ
ポリマーとしては、ポリエステルアクリレート系、ポリ
ウレタンアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系
等が好ましい。光重合性プレポリマーの分子量は特に限
定的ではないが、通常は５００〜５０００００程度とす
れば良い。
【００１０】光重合性モノマーとしては、下記のような
ものが例示される。これらは１種又は２種以上で使用す
ることができる。 ・単官能モノマー：２−エチルヘキシルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリロイル
ホスフェート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
テトラヒドロフルフリル誘導体のアクリレートなど、 ・２官能モノマー：ジシクロペンテニルアクリレート、
ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオ
ールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコール４０
０ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ビス
（３’−アクリルオキシエトキシ−２’−ヒドロキシプ
ロピル）−５，５−ジメチルヒダントイン、ヒドロキシ
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコール誘導体のジ
アクリレートなど、・多官能モノマー：トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートなど、光開始剤としては、下記のようなものが例示
される。これらは１種又は２種以上で使用することがで
きる。 ・アセトフェノン系：ジエトキシアセトフェノン、２−
ビトロキシー２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン、ベンジルメチルケタール、４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル
ケトン、アリールケトン混合物、２−メチル−２−モノ
フォリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プ
ロパンのオリゴマーなど ・ベンゾインエーテル系：ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルな
ど、 ・ベンゾフェノン系：ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル
安息香酸メチル、４−メチルベンゾフェノン、４−フェ
ニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−
ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ
（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイ
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（１−オキソ−２−
プロペニルオキシ）エチル〕ベンゼンメタナミウムブリ
ミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニ
ウムクロリドなど ・チオキサントン系：２−イソプロピルチオキサント
ン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、
１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３
−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，
４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソク
ロライドなど ・その他：アシルホスフィンオキサイド、２，２’−ビ
ス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テト
ラフェニル−１，２−ビイミダゾール、１０−ブチル−
２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、ベ
ンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファー
キノン、メチルフェニルグリオキシエステル、チタノセ
ン化合物など これら光開始剤の中では、アセトフェノン系、ベンゾフ
ェノン系、アシルホスフィンオキサイド等が好ましい。
ものが例示される。これらは１種又は２種以上で使用す
ることができる。 ・単官能モノマー：２−エチルヘキシルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリロイル
ホスフェート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、
テトラヒドロフルフリル誘導体のアクリレートなど、 ・２官能モノマー：ジシクロペンテニルアクリレート、
ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオ
ールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコール４０
０ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ビス
（３’−アクリルオキシエトキシ−２’−ヒドロキシプ
ロピル）−５，５−ジメチルヒダントイン、ヒドロキシ
ピバリン酸エステルネオペンチルグリコール誘導体のジ
アクリレートなど、・多官能モノマー：トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートなど、光開始剤としては、下記のようなものが例示
される。これらは１種又は２種以上で使用することがで
きる。 ・アセトフェノン系：ジエトキシアセトフェノン、２−
ビトロキシー２−メチル−１−フェニルプロパン−１−
オン、ベンジルメチルケタール、４−（２−ヒドロキシ
エトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピ
ル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニル
ケトン、アリールケトン混合物、２−メチル−２−モノ
フォリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルフォリノフェニル）−ブタン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プ
ロパンのオリゴマーなど ・ベンゾインエーテル系：ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルな
ど、 ・ベンゾフェノン系：ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル
安息香酸メチル、４−メチルベンゾフェノン、４−フェ
ニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−
ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ
（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイ
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−〔２−（１−オキソ−２−
プロペニルオキシ）エチル〕ベンゼンメタナミウムブリ
ミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニ
ウムクロリドなど ・チオキサントン系：２−イソプロピルチオキサント
ン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、
１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３
−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロポキシ）−３，
４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソク
ロライドなど ・その他：アシルホスフィンオキサイド、２，２’−ビ
ス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テト
ラフェニル−１，２−ビイミダゾール、１０−ブチル−
２−クロロアクリドン、２−エチルアンスラキノン、ベ
ンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファー
キノン、メチルフェニルグリオキシエステル、チタノセ
ン化合物など これら光開始剤の中では、アセトフェノン系、ベンゾフ
ェノン系、アシルホスフィンオキサイド等が好ましい。
【００１１】上記ａ）〜ｃ）の各成分の含有量は、用い
る光重合性プレポリマー等の種類等に応じて適宜設定す
ることができるが、通常はａ）光重合性プレポリマー１
０〜９０重量部（好ましくは３０〜８０重量部）及び
ｂ）光重合性モノマー９０〜１０重量部（好ましくは７
０〜２０重量部）の合計１００重量部に対し、ｃ）光開
始剤０．０１〜１０重量部（好ましくは０．０５〜５重
量部）となるようにすれば良い。
る光重合性プレポリマー等の種類等に応じて適宜設定す
ることができるが、通常はａ）光重合性プレポリマー１
０〜９０重量部（好ましくは３０〜８０重量部）及び
ｂ）光重合性モノマー９０〜１０重量部（好ましくは７
０〜２０重量部）の合計１００重量部に対し、ｃ）光開
始剤０．０１〜１０重量部（好ましくは０．０５〜５重
量部）となるようにすれば良い。
【００１２】本発明組成物では、光硬化性樹脂以外の樹
脂成分を含んでいても良い。本発明では、特にエポキシ
樹脂及びアクリルエポキシ樹脂の少なくとも１種を含有
していることが好ましい。これらの樹脂も市販品を用い
ることができる。
脂成分を含んでいても良い。本発明では、特にエポキシ
樹脂及びアクリルエポキシ樹脂の少なくとも１種を含有
していることが好ましい。これらの樹脂も市販品を用い
ることができる。
【００１３】上記樹脂成分の含有量は、用いる樹脂成分
の種類等にもよるが、通常は光硬化性樹脂１００重量部
に対して０．０３〜３０重量部（好ましくは１〜２０重
量部）となるようにすれば良い。
の種類等にもよるが、通常は光硬化性樹脂１００重量部
に対して０．０３〜３０重量部（好ましくは１〜２０重
量部）となるようにすれば良い。
【００１４】本発明組成物は、これらの成分のほか、必
要に応じて増感剤、充填剤、レベリング剤、チキソトロ
ープ性付与剤、熱重合禁止剤等の公知の添加剤を適宜配
合することもできる。
要に応じて増感剤、充填剤、レベリング剤、チキソトロ
ープ性付与剤、熱重合禁止剤等の公知の添加剤を適宜配
合することもできる。
【００１５】本発明の塗料組成物は、これらの成分を均
一に混合すれば製造することができる。例えば、攪拌
機、ニーダー等の公知の混合装置で混合すれば良い。
一に混合すれば製造することができる。例えば、攪拌
機、ニーダー等の公知の混合装置で混合すれば良い。
【００１６】本発明の塗料組成物は、基材に塗布し、塗
膜を光照射すれば耐酸性塗膜を得ることができる。基材
の種類は限定的でなく、例えばガラス、セラミックス、
金属、プラスチックス等の各種の材質に適用することが
できる。塗布方法は、公知の方法をそのまま適用でき
る。例えば、ローラー、刷毛、スプレーのほか、シルク
スクリーン印刷等の公知の印刷方法も適用できる。塗膜
の厚さも特に限定されず、最終製品の目的等に応じて適
宜設定すれば良い。光照射は、基材上に形成された塗膜
が硬化される限りは制限されないが、通常は紫外線を照
射すれば良い。不要となった塗膜は、公知の方法に従
い、有機溶剤で溶解除去したり、あるいは加熱により熱
分解除去することができる。
膜を光照射すれば耐酸性塗膜を得ることができる。基材
の種類は限定的でなく、例えばガラス、セラミックス、
金属、プラスチックス等の各種の材質に適用することが
できる。塗布方法は、公知の方法をそのまま適用でき
る。例えば、ローラー、刷毛、スプレーのほか、シルク
スクリーン印刷等の公知の印刷方法も適用できる。塗膜
の厚さも特に限定されず、最終製品の目的等に応じて適
宜設定すれば良い。光照射は、基材上に形成された塗膜
が硬化される限りは制限されないが、通常は紫外線を照
射すれば良い。不要となった塗膜は、公知の方法に従
い、有機溶剤で溶解除去したり、あるいは加熱により熱
分解除去することができる。
【００１７】本発明の塗料組成物は、特にガラスのフロ
スト加工用に適している。すなわち、ガラスのフロスト
加工におけるマスキング層の形成に本発明組成物を好適
に用いることができる。この場合、（１）本発明の耐酸
性マスキング塗料組成物を用いてガラス基材上にマスキ
ングパターンを形成する工程及び（２）マスキングパタ
ーンを光照射により硬化させる工程によりマスキングが
実施される。このマスキング以外の工程は、公知のフロ
スト加工の工程が適用できる。
スト加工用に適している。すなわち、ガラスのフロスト
加工におけるマスキング層の形成に本発明組成物を好適
に用いることができる。この場合、（１）本発明の耐酸
性マスキング塗料組成物を用いてガラス基材上にマスキ
ングパターンを形成する工程及び（２）マスキングパタ
ーンを光照射により硬化させる工程によりマスキングが
実施される。このマスキング以外の工程は、公知のフロ
スト加工の工程が適用できる。
【００１８】
【発明の効果】本発明塗料組成物では、光照射により塗
膜形成が行えるので、従来技術のような乾燥工程を必要
とせず、より簡単かつ安全にマスキング層の形成を行う
ことができる。このため、本発明塗料組成物は、マスキ
ング層の形成を必要とする製品の工業的規模での生産に
最適である。
膜形成が行えるので、従来技術のような乾燥工程を必要
とせず、より簡単かつ安全にマスキング層の形成を行う
ことができる。このため、本発明塗料組成物は、マスキ
ング層の形成を必要とする製品の工業的規模での生産に
最適である。
【００１９】
【実施例】以下、実施例を示し、本発明の特徴とすると
ころをより一層明確にする。但し、本発明の範囲は、こ
れら実施例に限定されるものではない。
ころをより一層明確にする。但し、本発明の範囲は、こ
れら実施例に限定されるものではない。
【００２０】実施例１ 下記に示す光重合性プレポリマー１を１６．９重量部、
光重合性プレポリマー２を６７．５重量部、光重合性モ
ノマーを４．６重量部、光開始剤１を２．５重量部、光
開始剤２を０．１重量部、エポキシ樹脂を８．４重量部
を用い、これら成分を攪拌機で均一に混合することによ
り本発明塗料組成物を調製した。
光重合性プレポリマー２を６７．５重量部、光重合性モ
ノマーを４．６重量部、光開始剤１を２．５重量部、光
開始剤２を０．１重量部、エポキシ樹脂を８．４重量部
を用い、これら成分を攪拌機で均一に混合することによ
り本発明塗料組成物を調製した。
【００２１】・光重合性プレポリマー１：商品名「カヤ
ラッドＵＸ４１０１」、日本化薬製、ウレタンアクリレ
ート、重量平均分子量６７００±６００ ・光重合性プレポリマー２：商品名「アロニックスＭ７
１００」、東亜合成化学製、ポリエステルアクリレー
ト、重量平均分子量約１０００ ・光重合性モノマー：商品名「ＫＳ−ＴＰＧＤＡ」、日
本化薬製、トリプロピレングリコールジアクリレート ・光開始剤：商品名「イルガキュア９０７」、チバスペ
シャリティケミカルズ製、２−メチル−１−（４−（メ
チルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１
系 ・エポキシ樹脂：商品名「エピコート８２８」、油化シ
ェルエポキシ製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エ
ポキシ当量１８４〜１９４２ 次いで、得られた塗料組成物をマスキング剤として用い
てフロスト加工を行った。上記組成物をガラス基板上に
スクリーン印刷法により印刷した後、紫外線を照射する
ことによりマスキング層を形成できた。次に、フロスト
加工液としてフッ酸溶液を用いてフロスト加工し、その
後に電気炉中５００℃で加熱することによりマスキング
層を除去した。マスキングされた部分は、フロスト加工
前の状態のままであった。
ラッドＵＸ４１０１」、日本化薬製、ウレタンアクリレ
ート、重量平均分子量６７００±６００ ・光重合性プレポリマー２：商品名「アロニックスＭ７
１００」、東亜合成化学製、ポリエステルアクリレー
ト、重量平均分子量約１０００ ・光重合性モノマー：商品名「ＫＳ−ＴＰＧＤＡ」、日
本化薬製、トリプロピレングリコールジアクリレート ・光開始剤：商品名「イルガキュア９０７」、チバスペ
シャリティケミカルズ製、２−メチル−１−（４−（メ
チルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１
系 ・エポキシ樹脂：商品名「エピコート８２８」、油化シ
ェルエポキシ製、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エ
ポキシ当量１８４〜１９４２ 次いで、得られた塗料組成物をマスキング剤として用い
てフロスト加工を行った。上記組成物をガラス基板上に
スクリーン印刷法により印刷した後、紫外線を照射する
ことによりマスキング層を形成できた。次に、フロスト
加工液としてフッ酸溶液を用いてフロスト加工し、その
後に電気炉中５００℃で加熱することによりマスキング
層を除去した。マスキングされた部分は、フロスト加工
前の状態のままであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 175/14 Ｃ０９Ｄ 175/14 Ｆターム(参考） 4J038 CG142 CH172 DB002 FA261 FA271 FA281 KA03 MA14 NA04 PA17 PC03
Claims (9)
- 【請求項１】樹脂成分として光硬化性樹脂を含むことを
特徴とする耐酸性マスキング塗料組成物。 - 【請求項２】樹脂成分がエポキシ樹脂及びアクリルエポ
キシ樹脂の少なくとも１種ならびに光硬化性樹脂からな
る請求項１記載の耐酸性マスキング塗料組成物。 - 【請求項３】光硬化性樹脂が、ａ）光重合性プレポリマ
ー、ｂ）光重合性モノマー及びｃ）光開始剤を含む混合
物である請求項１又は２に記載の耐酸性マスキング塗料
組成物。 - 【請求項４】光重合性プレポリマーが、ポリエステルア
クリレート、ポリウレタンアクリレート及びポリエーテ
ルアクリレートの少なくとも１種である請求項３記載の
耐酸性マスキング塗料組成物。 - 【請求項５】光重合性プレポリマーが、分子量５００〜
５０００００である請求項３又は４に記載の耐酸性マス
キング塗料組成物。 - 【請求項６】光硬化性樹脂が、ａ）光重合性プレポリマ
ー１０〜９０重量部及びｂ）光重合性モノマー９０〜１
０重量部の合計１００重量部に対し、ｃ）光開始剤０．
０１〜１０重量部を含む混合物である請求項３〜５のい
ずれかに記載の耐酸性マスキング塗料組成物。 - 【請求項７】エポキシ樹脂及びアクリルエポキシ樹脂の
少なくとも１種が、光硬化性樹脂１００重量部に対して
０．０３〜３０重量部含む請求項３〜６のいずれかに記
載の耐酸性マスキング塗料組成物。 - 【請求項８】請求項１〜７のいずれかに記載のフロスト
加工用組成物。 - 【請求項９】ガラスのフロスト加工において、（１）請
求項１〜７のいずれかに記載の耐酸性マスキング塗料組
成物を用いてガラス基材上にマスキングパターンを形成
する工程及び（２）マスキングパターンを光照射により
硬化させる工程によりマスキングが実施されることを特
徴とするフロスト加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000188949A JP2002003750A (ja) | 2000-06-23 | 2000-06-23 | 耐酸性マスキング塗料組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000188949A JP2002003750A (ja) | 2000-06-23 | 2000-06-23 | 耐酸性マスキング塗料組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002003750A true JP2002003750A (ja) | 2002-01-09 |
Family
ID=18688654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000188949A Pending JP2002003750A (ja) | 2000-06-23 | 2000-06-23 | 耐酸性マスキング塗料組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002003750A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2733128A2 (en) * | 2011-07-13 | 2014-05-21 | Vidrio Plano De México, S.A. De C.V. | Method and system for forming removal windows on a glass substrate |
| CN105315861A (zh) * | 2015-11-24 | 2016-02-10 | 安徽旺家源门业有限公司 | 一种门用水性紫外光固化漆及其制备方法 |
-
2000
- 2000-06-23 JP JP2000188949A patent/JP2002003750A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2733128A2 (en) * | 2011-07-13 | 2014-05-21 | Vidrio Plano De México, S.A. De C.V. | Method and system for forming removal windows on a glass substrate |
| EP2733128A4 (en) * | 2011-07-13 | 2015-04-15 | Vidrio Plano De México S A De C V | METHOD AND SYSTEM FOR FORMING REMOVAL WINDOWS ON A GLASS SUBSTRATE |
| CN105315861A (zh) * | 2015-11-24 | 2016-02-10 | 安徽旺家源门业有限公司 | 一种门用水性紫外光固化漆及其制备方法 |
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