JP2002001640A - 斜めpc用フェルール及びその研磨方法 - Google Patents

斜めpc用フェルール及びその研磨方法

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JP2002001640A
JP2002001640A JP2001138573A JP2001138573A JP2002001640A JP 2002001640 A JP2002001640 A JP 2002001640A JP 2001138573 A JP2001138573 A JP 2001138573A JP 2001138573 A JP2001138573 A JP 2001138573A JP 2002001640 A JP2002001640 A JP 2002001640A
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JP
Japan
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ferrule
polishing
face
oblique
angle
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001138573A
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English (en)
Inventor
Junji Taira
淳司 平
Koji Minami
浩二 皆見
Nobuo Suzuki
信雄 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
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  • Mechanical Coupling Of Light Guides (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 斜めPC用フェルールの端面の研磨中、研磨
量が変化しても研磨面の偏心を抑えることができるよう
にすること。 【解決手段】 斜めPC用フェルール60において、先
端部に面取部を設け該面取部の角度が30°より大き
く、かつ40°より小さい範囲内の値とした。この斜め
PC用フェルールの端面を研磨するため、弾性体52の
上に置かれた研磨シート53にその端面を圧接しつつ、
研磨シートと斜めPC用フェルールとを相対運動させ、
端面を凸球面に形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、斜めPC用フェル
ール及びその研磨方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光ファイバ通信において用いられる光コ
ネクタには、挿入損失が小さく、かつ反射戻り光が少な
いことが要求される。現時点でこの要求に最も合致する
光コネクタとしては、フェルールに保持された光ファイ
バの端面をフェルール端面と共に、光ファイバの軸に垂
直な面に対して斜めに、且つ凸球面に研磨した「斜めP
Cコネクタ」と呼ばれている光コネクタが最有力であ
る。
【0003】このコネクタの端面形成は従来以下の様に
行われていた。従来の方法を図5に示す従来の光ファイ
バ端面研磨装置を参照しながら説明する。図5に示す光
ファイバ端面研磨装置において、1は光ファイバをその
軸中心の微少貫通孔に保持したフェルール、2はフェル
ール1を規格化された角度Θだけ内側に傾けて保持する
フェルール押え治具、11は基台、3は基台11上に設
けられた研磨定盤、4は研磨定盤3の上に貼られた弾性
体、5は弾性体4の上に貼られた研磨シートである。研
磨定盤3は図示されない駆動機構によって自転運動及び
公転運動をする。研磨定盤3は外周から中心に向かって
回転軸(自転あるいは公転)と垂直な平面とのなす角度
が微小角度Δで高さが増加している円錐形状である。フ
ェルール1は、フェルール保持部を形成するフェルール
押え治具2と加圧軸40によって研磨シート5に押し付
けられている。また、フェルール押え治具2は、支持棒
41により、研磨定盤3の回転につられて回転しないよ
うになっている。
【0004】上記研磨装置においては、図6に示すよう
に、フェルール1の軸1Aは研磨シート5の表面に対し
て角度γだけ傾斜しており、このときフェルール1の研
磨面における軸1Aを通る接線と軸1Aとのなす角度を
βとすると、γとβとは一致しない。これは、面取りさ
れたフェルールを用いて研磨を行うからである。
【0005】このことを図7を用いて説明する。研磨さ
れたフェルール1の端面1Bは凸状であり、その頂点A
は長さDの中点になっている(M1=M2)。しかし、
フェルール1には面取り部が付いているので、フェルー
ル1の軸1Aと凸状面との交わる点Bは長さDの中心と
はならず、この場合、L1 <L2 となる。このため、B
点での接線は研磨シート5の平面とδの差を有すること
になる。ここでδ=β−γである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この問題を解決するた
め、定盤を予めδだけ傾けておくことが考えられる。し
かし、図8に示したように、研磨が進むにつれてδはδ
1 からδ2 へと大きくなったりして( 場合により小さく
なることもある) 、適正なδの値は研磨量が変わるとそ
れに伴って変化してしまう。δが変化すると偏心が増大
する結果、光ファイバの接続時にギャップが発生し、こ
れにより生じる空気層のために光信号の反射及び損失が
増大するという問題を生じる。図でA1及びA2研摩面
の中点でN2 = N2 ' また、N1 = N1 ' である。すな
わち、研摩が進むに従って、研摩面の中点がA1 からA
2 に移る。
【0007】本発明の目的は、したがって、δの値の変
化を小さくすることができる斜めPC用フェルール及び
その研磨方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者は、フェルール端面の研磨の進行に従って
研磨面の直径Dが大きくなることによって研磨シートの
凹の半径Rが大きくなるにつれ、δの値の増大を抑制す
る効果が生じることに着目し、フェルール端面の研磨が
進むにつれてδが増大するのを抑制すべく、研磨面の直
径が増大するようにフェルールの端面形状を設定して、
研磨量によらずδを略一定に抑えるようにした斜めPC
用フェルールの端面形状及びこの端面形状を用いたフェ
ルールの研磨方法を提案するものである。
【0009】種々の実験により、図9のように、フェル
ールの面取り角度が30度以下の場合、研磨の進行に伴
い凸球面の頂点が9度側に移動していく。つまりδが減
少していく。また、面取り角度が40度以上の場合、凸
球面頂点が7度側に移動していく。つまり、δは増大し
ていく。フェルールの面取り角度を30度〜40度の範
囲内の値に設定すると、研磨の進行によるδの変動を効
果的に抑えることができることが確認できた。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態の一例につき詳細に説明する。
【0011】図1は、本発明による斜めPC用フェルー
ルの端面を研磨する場合の研磨方法を示している。図1
において51は研磨定盤で研磨定盤51の上には弾性体
52を介して研磨シート53が貼られており、この研磨
シート53によって斜めPC用フェルール60の端面6
1を研磨し、所望の球面形状に形成する。このため、研
磨装置として図5に示した従来の研磨装置を用いること
ができる。
【0012】斜めPC用フェルール60は、未研磨の状
態の斜めPC用フェルール60を示す図2から判るよう
に、その先端部が面取りされており、この面取角度は、
本実施の形態では35°になっている。図2に示す斜め
PC用フェルール60を研磨定盤51の研磨シート53
上に所定の傾斜角γをもって押しあて、斜めPC用フェ
ルール60と研磨定盤51との間に相対トロコイド曲線
運動を与えることにより斜めPC用フェルール60の端
面61が徐々に球面に形成される。
【0013】この場合、研磨の初期にあっては図3に示
されるように、研磨シート53の表面にフェルール60
を押しあてることにより生じる研磨面53Aの直径D1
は小さく、研磨面53Aの半径R1も小さい。
【0014】研磨が進むと、図4に示すように、研磨面
53Aの直径D2はD1より大きくなり、研磨面53A
の半径R2もR1より大きくなる。ここで、斜めPC用
フェルール60の面取り角度が35°という適切な値に
設定されているので、研磨面の直径Dが増大することに
より生じるδの増大は、半径Rが増大することによりδ
を減少させる働きにより、極めて効果的に小さく抑えら
れ、結局、研磨の進行に伴って研磨量が変化しても、δ
の値は略一定に保たれることになる。
【0015】したがって、研磨によるフェルール端面の
球面状部分の偏心を極めて小さく抑えることが可能とな
り、斜めPCフェルールを接続した場合の2つの斜めP
C用フェルール端面間に生じる空隙をなくし、ここでの
光信号の反射及び損失を小さくすることができる。この
ような効果を期待できるフェルールの端面形状は、図2
に示す面取りのものにおいてその面取り角度が30°〜
40°の範囲内であった。
【0016】
【発明の効果】本発明によれば、上述の如く、斜めPC
用フェルールの端面の研磨中、研磨量が変化しても研磨
面の偏心を抑え、所望の形状の球面状端面をフェルール
に形成することができ、高性能の光ファイバ付フェルー
ルを容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による斜めPC用フェルールの端面を研
磨する場合の研磨方法を示す図。
【図2】図1に示す研磨方法の実施に用いられるフェル
ールの未研磨状態を示す正面図。
【図3】図1に示すフェルール研磨方法においてフェル
ールの研磨量が少ない場合の研磨面の状態を説明するた
めの説明図。
【図4】図1に示すフェルール研磨方法においてフェル
ールの研磨量が多くなった場合の研磨面の状態を説明す
るための説明図。
【図5】従来のフェルール研磨装置を示す断面図。
【図6】従来の研磨方法による場合の端面の傾きとフェ
ルールの傾き角との関係を説明するための説明図。
【図7】フェルール中心と研磨面中心とのずれの様子を
説明するための説明図。
【図8】研磨量の変化により研磨面の中心が変化する様
子を説明するための説明図。
【図9】フェルール端面の凸球面の頂点の移動を説明す
るための図。
【符号の説明】
52 弾性体 53 研磨シート 53A 研磨面 60 斜めPC用フェルール 61 端面
フロントページの続き (72)発明者 鈴木 信雄 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 Fターム(参考) 2H036 QA29 3C049 AA07 AB04 CA01

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 斜めPC用フェルールにおいて、先端部
    に面取部を設け該面取部の角度が30°より大きく、か
    つ40°より小さい範囲内の値としたことを特徴とする
    斜めPC用フェルール。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の斜めPC用フェルール
    の端面の研磨方法において、弾性体の上に置かれた研磨
    シートに前記斜めPC用フェルールの端面を前記斜めP
    C用フェルールの軸が前記研磨シートの平面に立てた垂
    線と所定の角度をなすようにして圧接しつつ、研磨シー
    トと斜めPC用フェルールとを相対運動させることによ
    り前記端面を凸球面に形成するようにしたことを特徴と
    する斜めPC用フェルールの研磨方法。
JP2001138573A 2001-05-09 2001-05-09 斜めpc用フェルール及びその研磨方法 Pending JP2002001640A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105759366A (zh) * 2016-04-26 2016-07-13 新富生光电(深圳)有限公司 一种零损耗光纤连接器的制作方法

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