JP2002000615A - 鼻腔粘膜凝固焼灼装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】凝固焼灼時に煙が発生しても患者の気管方向に
侵入することはなく、また術者の操作性を向上できる鼻
腔粘膜凝固焼灼装置を提供することにある。 【解決手段】鼻腔内の目的部位に不活性ガスを供給する
と共に，前記目的部位に高周波を印加して凝固させる凝
固焼灼プローブ３と，前記凝固動作に連動し，凝固の際
に発生する煙，ガス等を吸引管１１によって吸引して体
外に排出する吸引手段とを具備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば、アレル
ギー性鼻炎の手術的治療法として、鼻内粘膜に対する下
鼻甲介粘膜凝固等に用いられる鼻腔粘膜凝固焼灼装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】花粉症は、花粉が鼻の粘膜に付着してア
レルギー反応を起こすために現れることが知られてい
る。そこで、粘膜に処置を施してアレルギー反応を起こ
しにくい粘膜にする鼻腔粘膜除去法として、下鼻甲介粘
膜切除術、高周波電気焼灼術、レーザー焼灼術が施行さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の高周波
電気焼灼術及びレーザー焼灼術によって粘膜を凝固焼灼
すると、煙が発生する。この煙が鼻腔内に充満し、患者
の気管へ侵入するという虞がある。

【０００４】この発明は、前記事情に着目してなされた
もので、その目的とするところは、粘膜の凝固焼灼時に
煙が発生しても患者の気管方向に侵入することはなく、
また術者の操作性を向上できる鼻腔粘膜凝固焼灼装置を
提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この発明は、前記目的を
達成するために、鼻腔内の目的部位に不活性ガスを供給
すると共に，前記目的部位に高周波を印加して凝固させ
る手段と，前記凝固動作に連動し，凝固の際に発生する
煙，ガス等を吸引して体外に排出する吸引手段とを具備
したことを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置にある。

【０００６】例えば花粉症の治療における、鼻腔粘膜除
去術において、高周波を印加する手段を鼻孔から鼻腔に
挿入し、下鼻甲介粘膜等の患部に接近させるとともに、
吸引手段も鼻孔から鼻腔に挿入して患部に接近させる。
この状態で、患部に不活性ガスを供給しながら患部を高
周波によって凝固焼灼すると、鼻腔内には高周波の印加
と不活性ガスの供給によってガスと煙が発生するが、吸
引手段によって体外に排出されるため、鼻腔内にガスや
煙が滞留することはなく、患者の気管へ吸い込んでしま
うことはない。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の各実施の形態を
図面に基づいて説明する。

【０００８】図１は第１の実施形態を示し、花粉が鼻の
粘膜に付着してアレルギー反応を起こす花粉症の治療と
して鼻腔粘膜除去を行う鼻腔粘膜凝固焼灼装置の使用状
態の斜視図である。

【０００９】凝固焼灼装置１は、硬質な合成樹脂材料等
で形成された中空のシース２を有し、病変部等を処置す
る凝固焼灼プローブ３と、凝固焼灼プローブ３の手元側
に設けられた操作部４とから構成されている。

【００１０】前記凝固焼灼プローブ３は、例えば、鼻孔
ａから鼻腔ｂに挿入可能な細径の挿入部５を有し、挿入
部５の後端に手元本体部６が設けられている。凝固焼灼
プローブ３は、手元本体部６から高周波伝送線７及びガ
ス供給チューブ８が導出されている。高周波伝送線７は
高周波・ガス供給源９の高周波発振部に接続され、ガス
供給チューブ８は高周波・ガス供給源９のガス供給部に
接続されている。

【００１１】高周波・ガス供給源９にはフットスイッチ
１０が設けられ、高周波・ガス供給源９をオン・オフ操
作することにより、凝固焼灼プローブ３の先端部から鼻
腔ｂの患部ｃに向かってガス、例えばＡｒガス等の不活
性ガスを供給するとともに、その患部ｃに高周波を印加
し、患部ｃの粘膜を凝固焼灼できるようになっている。

【００１２】鼻孔ａから鼻腔ｂには凝固焼灼プローブ３
とともに挿入可能な細径の吸引管１１が設けられてい
る。この吸引管１１は先端部に吸引口１２が設けられ、
基端部１３には第１の吸引チューブ１４が接続されてい
る。

【００１３】第１の吸引チューブ１４は吸引瓶１５に接
続され、吸引瓶１５は第２の吸引チューブ１６を介して
吸引ポンプ１７に接続されている。この吸引ポンプ１７
は連動用信号線１８を介して高周波・ガス供給源９に接
続され、不活性ガスの供給、高周波の印加及び患部ｃか
ら発生するガス、煙等の吸引を同時に行うようになって
いる。

【００１４】次に、第１の実施形態の作用について説明
する。

【００１５】例えば花粉症の治療における、鼻腔粘膜除
去術において、術者が凝固焼灼プローブ３の操作部４を
持って挿入部５を鼻孔ａから鼻腔ｂに挿入し、先端部を
下鼻甲介粘膜等の患部ｃに接近させるとともに、吸引管
１１も鼻孔ａから鼻腔ｂに挿入し、吸引孔１２を患部ｃ
に接近させる。

【００１６】この状態で、フットスイッチ１０をオンさ
せると、高周波・ガス供給源９が作動し、凝固焼灼プロ
ーブ３の先端部によって患部ｃを高周波によって凝固焼
灼するとともに、同時に患部ｃにＡｒガス等の不活性ガ
スが供給される。さらに、高周波・ガス供給源９の作動
によって連動用信号線１８を介して吸引ポンプ１７が作
動する。

【００１７】従って、鼻腔ｂ内には高周波の印加と不活
性ガスの供給によってガスと煙が発生するが、吸引管１
１の吸引孔１２から常に吸引を続けているためガスと煙
は吸引管１１によって吸引され、第１の吸引チューブ１
４を介して吸引瓶１５に集溜される。従って、鼻腔ｂ内
にガスや煙が滞留することはなく、患者の気管へ吸い込
んでしまうことはない。

【００１８】なお、前記第１の実施形態においては、高
周波・ガス供給源９と吸引ポンプ１７とを連動用信号線
１８によって接続し、高周波印加及びガス供給と同期し
て吸引ポンプ１７が吸引動作を行うようにしたが、高周
波印加及びガス供給と同時に吸引ポンプ１７が吸引動作
し、高周波印加及びガス供給を終了してから遅れて吸引
を停止するようにしてもよい。

【００１９】また、凝固焼灼プローブ３と吸引管１１と
を別々に設けたが、凝固焼灼プローブ３に吸引通路を設
け、１本のプローブで高周波印加、不活性ガスの供給及
び吸引を行うようにしてもよい。

【００２０】図２〜図４は第２の実施形態を示し、図２
は使用状態の斜視図、図３は凝固焼灼装置の全体の側面
図、図４は図３のＡ部を拡大した縦断側面図である。

【００２１】凝固焼灼装置２１は、病変部等を処置する
凝固焼灼プローブ２３と、凝固焼灼プローブ２３の手元
側に設けられた操作部２４とから構成されている。

【００２２】前記凝固焼灼プローブ２３は、例えば、鼻
孔ａから鼻腔ｂに挿入可能な細径の挿入部２５を有し、
挿入部２５の後端に手元本体部２６が設けられている。
凝固焼灼プローブ２３は、手元本体部２６から高周波伝
送線２７及びガス供給チューブ２８が導出されている。
高周波伝送線２７は第１の実施形態と同様に高周波・ガ
ス供給源９の高周波発振部に接続され、ガス供給チュー
ブ２８は高周波・ガス供給源９のガス供給部に接続され
ている。

【００２３】凝固焼灼プローブ２３の挿入部２５の内部
にはバルーンルーメン２９が設けられ、挿入部２５の先
端部には膨張・収縮可能なバルーン３０が設けられてい
る。このバルーン３０は挿入部２５の側壁に設けられた
開口孔３１を介してバルーンルーメン２９と連通してい
る。さらに、手元本体部２６にはバルーンルーメン２９
と連通するルア口金３２が設けられ、エアー供給源（図
示しない）とエアー供給チューブ（図示しない）を介し
て接続されるようになっており、このルア口金３２には
開閉コック３３が設けられている。

【００２４】さらに、高周波伝送線２７は操作部２４に
設けられたスイッチ３４を介して挿入部２５の先端部近
傍に設けられた電極３５と接続されている。この電極３
５はガス供給チューブ２８と連通し、ガスルーメン３６
に連通して挿入部２５の側壁に設けられたノズル３７に
臨んでいる。

【００２５】次に、第２の実施形態の作用について説明
する。

【００２６】例えば花粉症の治療における、鼻腔粘膜除
去術において、術者が凝固焼灼プローブ２３の操作部２
４を持って挿入部２５を鼻孔ａから鼻腔ｂに挿入する。
そして、電極３５及びノズル３７を下鼻甲介粘膜等の患
部ｃに接近させるとともに、ルア口金３２の開閉コック
３３を開放する。すると、エアー供給源からエアーが供
給され、エアーはバルーンルーメン２９、開口孔３１を
介してバルーン３０に供給される。従って、バルーン３
０は膨張し、鼻腔ｂの後壁（咽頭鼻部）近傍の咽頭に開
口した耳管咽頭口ｄより近位にて展開され、処置により
発生するガス、煙が耳管に侵入するのを防止する。

【００２７】この状態で、高周波・ガス供給源９が作動
し、凝固焼灼プローブ２３の先端部によって患部ｃを高
周波によって凝固焼灼するとともに、同時に患部ｃにＡ
ｒガス等の不活性ガスが供給される。従って、鼻腔ｂ内
には高周波の印加と不活性ガスの供給によってガスと煙
が発生するが、バルーン３０が鼻腔ｂの後壁（咽頭鼻
部）近傍の咽頭に開口した耳管咽頭口ｄより近位にて展
開されて閉塞しているため、処置により発生するガス、
煙が耳管に侵入するのを防止することができる。

【００２８】図５及び図６は第３の実施形態を示し、第
２の実施形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を
省略する。図５及び図６に示すように、本実施形態は、
凝固焼灼プローブ４０がパイプ４１と、このパイプ４１
の外側に嵌合するバルーンシース４２とから構成されて
いる。パイプ４１の基端部は手元本体部２６に固定され
ており、バルーンシース４２の基端部は嵌合部材４３に
よって手元本体部２６の嵌合部４４に着脱自在に固定さ
れている。

【００２９】パイプ４１の基端側には軸方向にキー４５
が設けられており、このキー４５はバルーンシース４２
の基端側に設けられたキー溝４６と係合し、パイプ４１
に対するバルーンシース４２の回り止めをしている。

【００３０】パイプ４１の先端側における側壁にはノズ
ル４７が設けられ、このノズル４７に対向するバルーン
シース４２には側孔４８が設けられている。また、バル
ーンシース４２の先端部にはバルーン３０が設けられ、
このバルーン３０はバルーンシース４２の内部を介して
ルア口金３２と連通している。

【００３１】前述のように構成された凝固焼灼プローブ
４０によれば、パイプ４１を被覆するバルーンシース４
２が生体に接触するために、損耗が激しいが、本実施形
態によれば、嵌合部材４３を緩めて手元本体部２６の嵌
合部４４から取り外すことにより、バルーンシース４２
をパイプ４１から抜き取って新しいバルーンシース４２
と交換することができ、ランニングコストの低減を図る
ことができる。

【００３２】図７は第４の実施形態を示し、第３の実施
形態と同一構成部分は同一番号を付して説明を省略す
る。本実施形態は、凝固焼灼プローブ５０がパイプ４１
と、このパイプ４１の外側に嵌合するバルーンシース４
２とから構成されている。パイプ４１の基端部は手元本
体部２６に固定されており、バルーンシース４２の基端
部はパイプ４１に嵌合され、軸方向に進退自在なシース
グリップ５１に固定されている。

【００３３】パイプ４１の基端側には回り止めを兼ねた
軸方向に長さ（例えば３０ｍｍ）を有するキー４５が設
けられており、このキー４５はバルーンシース４２の基
端側に設けられたキー溝４６と係合している。パイプ４
１の先端側における側壁にはノズル４７が設けられ、こ
のノズル４７に対向するバルーンシース４２には軸方向
に長い側孔５２が設けられている。

【００３４】前述のように構成された凝固焼灼プローブ
５０によれば、術者が一方の手で手元本体部２６を把持
し、他方の手でシースグリップ５１を把持し、シースグ
リップ５１を進退させることにより、バルーン３０は図
２に示すように咽頭鼻部に固定されているため、ノズル
４７の位置を鼻甲介の前後方向に移動でき、処置範囲を
広くでき、処置操作が容易に行えるという効果がある。

【００３５】図８〜図１０は開示例１を示し、図８は鼻
炎治療用カテーテルの使用状態図、図９は同カテーテル
の先端部の縦断側面図、図１０は図９のＸ−Ｘ線に沿う
断面図である。鼻炎治療用カテーテル６０のカテーテル
本体６１の先端部には円環状のバルーン６２が設けら
れ、このバルーン６２はカテーテル本体６１の軸方向に
貫通するバルーン拡張用送気孔６３と連通している。

【００３６】カテーテル本体６１の軸心部にはＡｒガス
等の不活性ガス導入路６４が設けられ、この不活性ガス
導入路６４はカテーテル本体６１の先端面に開口し、こ
の開口部６５の内周壁には第１電極６６が設けられ、バ
ルーン６２の外周面には第２電極６７が設けられてい
る。第１電極６６及び第２電極６７はカテーテル本体６
１の軸方向に貫通する高周波ケーブル６８ａ，６８ｂを
介して高周波電源６９に電気的に接続されている。

【００３７】次に、開示例１の作用について説明する。

【００３８】治療前に内視鏡によって患部ｃの位置を確
認した上で、鼻炎治療用カテーテル６０を鼻孔ａから挿
入する。患部ｃを確認すると、カテーテル本体６１の先
端部が患部ｃに接触しないように、例えば５〜１０ｍｍ
程度離した状態に患部ｃに近づける。この状態で、バル
ーン拡張用送気孔６３から空気を送り込み、バルーン６
２を膨張させる。

【００３９】次に、ガスボンベ等からＡｒガス等の不活
性ガスを不活性ガス導入路６４を介して供給すると、不
活性ガスは開口部６５から患部に向かって供給される。
続いて高周波電源６９をオンすると、第１電極６６と第
２電極６７間に高周波が流れ、不活性ガスを媒体として
患部ｃに高周波が流れる。つまり、高周波電源６９、高
周波ケーブル６８ａ、第１電極６６、不活性ガス、第２
電極６７、高周波ケーブル６８ｂ、高周波電源６９とい
うループができ、高周波が流れて患部ｃが治療できる。

【００４０】本開示例によれば、高周波電流を不活性ガ
ス中に広げて照射できるので、患部ｃを広範囲を効率よ
くかつ確実に治療できる。

【００４１】図１１及び図１２は開示例２を示し、図１
１は鼻炎治療用カテーテルの先端部の縦断側面図、図１
２は図１１のＹ−Ｙ線に沿う断面図であり、開示例１と
同一構成部分は同一番号を付して説明を省略する。鼻炎
治療用カテーテル６０のカテーテル本体６１には軸方向
にスコープ挿入孔７０と吸引管路７１が設けられてい
る。スコープ挿入孔７０にはカテーテル本体６１の手元
側からスコープ７２を挿入し、患部ｃを観察できるよう
になっている。吸引管路７１は手元側が吸引ポンプ（図
示しない）と連通しているとともに、カテーテル本体６
１の先端部に開口する吸引孔７３と連通している。

【００４２】次に、開示例２の作用について説明する。

【００４３】治療前に鼻炎治療用カテーテル６０を鼻孔
ａから挿入した状態で、カテーテル本体６１のスコープ
挿入孔７０にスコープ７２を挿入し、患部ｃの位置を確
認した上で、カテーテル本体６１の先端部が患部ｃに接
触しないように、例えば５〜１０ｍｍ程度離した状態に
患部ｃに近づける。この状態で、バルーン拡張用送気孔
６３から空気を送り込み、バルーン６２を膨張させる。

【００４４】次に、ガスボンベ等からＡｒガス等の不活
性ガスを不活性ガス導入路６４を介して供給すると、不
活性ガスは開口部６５から患部ｃに向かって供給され
る。続いて高周波電源６９をオンすると、第１電極６６
と第２電極６７間に高周波が流れ、不活性ガスを媒体と
して患部ｃに高周波が流れる。つまり、高周波電源６
９、高周波ケーブル６８ａ、第１電極６６、不活性ガ
ス、第２電極６７、高周波ケーブル６８ｂ、高周波電源
６９というループができ、高周波が流れて患部ｃが治療
できる。

【００４５】また、患部ｃに向かって供給した不活性ガ
スは吸引孔７３から吸引管路７１を介して吸引ポンプに
吸引されるため、鼻腔内に不活性ガスが充満することは
ない。

【００４６】本開示例によれば、高周波電流を不活性ガ
ス中に広げて照射できるので、患部ｃを広範囲を効率よ
くかつ確実に治療でき、また不要な不活性ガスは吸引で
き、また患部ｃをスコープ７２によって観察しながら安
全に治療できるという効果がある。

【００４７】図１３は開示例３を示し、花粉症等のレー
ザ治療における、鼻腔粘膜除去術の状態を示す。鼻孔ａ
から鼻腔ｂに挿入可能な外套管７５の先端部にはサイド
ウインドー７６が設けられ、基端部には術者が把持して
外套管７５を保持する把持部７７が設けられている。外
套管７５には内視鏡７８及びレーザプローブ７９が挿入
されている。内視鏡７８の操作部８０にはライトガイド
ケーブル８１が接続されているとともに、テレビカメラ
ヘッド８２が装着され、ライトガイドケーブル８１は光
源装置（図示しない）に接続され、テレビカメラヘッド
８２はテレビカメラ装置（図示しない）に接続されてい
る。さらに、レーザプローブ７９はレーザ発振装置（図
示しない）に接続されている。

【００４８】そして、内視鏡７８の挿入部の先端部（図
示しない）をサイドウインドー７６に臨ませ、患部ｃを
観察するとともに、レーザプローブ７９のレーザ照射部
をサイドウインドー７６に臨ませ、患部ｃにレーザ光を
照射して患部ｃを焼灼できるようになっている。

【００４９】さらに、サイドウインドー７６には治療時
に発生する血液、粘液、還流液等を吸引する吸引部８３
が設けられ、この吸引部８３は把持部７７を経て吸引チ
ューブ８４によって吸引されるようになっている。

【００５０】本開示例によれば、外套管７５の先端部に
サイドウインドー７６が設けられているため、レーザプ
ローブ７９のレーザ照射部から照射されるレーザ光を目
的とする患部ｃへ確実に照射できるという効果がある。

【００５１】図１４及び図１５は開示例４を示し、図１
４は可視光マーキング付き不活性ガス電気治療装置の全
体構成図、図１５はプローブの先端部の縦断側面図であ
る。図１４に示すように、不活性ガス制御装置９１と可
視光発生装置９２及び電気メス装置９３を備えている。
不活性ガス制御装置９１はガス送気チューブ９４を介し
て合成部９５に接続され、可視光発生装置９２は光ファ
イバケーブル９６を介して合成部９５に接続されてい
る。さらに、電気メス装置９３はアクティブ側ケーブル
９７を介して合成部９５に接続されているとともに、対
極板側ケーブル９８を介して生体９９に接触する対極板
１００に接続されている。

【００５２】前記合成部９５には可視光マーキング機能
付きプローブ１０１が接続されている。可視光マーキン
グ機能付きプローブ１０１は、図１５に示すように、外
周にガス送気チューブ１０２が設けられ、このガス送気
チューブ１０２の内側には絶縁被膜１０３を介して円筒
状のアクティブ電極１０４が設けられている。さらに、
アクティブ電極１０４の軸心部には光ファイバー１０５
が設けられ、これらガス送気チューブ１０２、アクティ
ブ電極１０４及び光ファイバー１０５はプローブ先端部
１０６まで延長している。

【００５３】本開示例によれば、ガス送気チューブ１０
２、アクティブ電極１０４及び可視光を導光する光ファ
イバー１０５が同軸上に設けられているため、全体とし
てプローブが細径となり、内視鏡のチャンネルへの挿入
性が向上する。また、不活性ガス流の中心軸と可視光マ
ーキングの中心軸が一致し、凝固エリアの指標として確
実なマーキングが可能となる。

【００５４】図１６は開示例５を示し、開示例４と同一
構成部分は同一番号を付して説明を省略する。図１６は
プローブの先端部の縦断側面図であり、可視光マーキン
グ機能付きプローブ１０１は、軸心を挟んで一側にガス
送気チューブ１０２が設けられ、このガス送気チューブ
１０２の軸心には光ファイバー１０５が設けられてい
る。可視光マーキング機能付きプローブ１０１の軸心を
挟んで他側に絶縁被膜１０３を介して円筒状のアクティ
ブ電極１０４が設けられている。そして、ガス送気チュ
ーブ１０２及び光ファイバー１０５はプローブ先端部１
０６において屈曲されている。

【００５５】なお、可視光マーキング機能付きプローブ
１０１に光ファイバー１０５を内蔵したガス送気チュー
ブ１０２とアクティブ電極１０４を一体的に設けたが、
これらを別体に構成してもよい。

【００５６】本開示例によれば、不活性ガス流の中心軸
と可視光マーキングの中心軸が一致し、凝固エリアの指
標として確実なマーキングが可能となる。また、ガス送
気チューブ１０２とアクティブ電極１０４を別体にした
ものは、汎用的な電極を用いることが可能となる。

【００５７】図１７は開示例６を示し、開示例４及び５
と同一構成部分は同一番号を付して説明を省略する。図
１７はプローブの先端部の縦断側面図であり、可視光マ
ーキング機能付きプローブ１０１は、軸心を挟んで一側
にガス送気チューブ１０２が設けられ、他側には絶縁被
膜１０３を介して円筒状のアクティブ電極１０４が設け
られている。さらに、アクティブ電極１０４の軸心には
光ファイバー１０５が設けられている。そして、ガス送
気チューブ１０２はプローブ先端部１０６において屈曲
されている。

【００５８】なお、可視光マーキング機能付きプローブ
１０１に光ファイバー１０５を内蔵したアクティブ電極
１０４とガス送気チューブ１０２とを一体的に設けた
が、これらを別体に構成してもよい。

【００５９】本開示例によれば、光ファイバー１０５が
不活性ガス流と完全に分離されており、ファイバーが燃
えることによる損傷を防止できる。また、構造が簡単で
あり、製作が容易である。また、ガス送気チューブ１０
２とアクティブ電極１０４を別体にしたものは、ガス送
気チューブなしでもスプレー凝固の簡易的な凝固エリア
マーカー付き電極として使用も可能である。

【００６０】前記各実施形態によれば、次のような構成
が得られる。

【００６１】（付記１）鼻腔内の目的部位に不活性ガス
を供給すると共に，前記目的部位に高周波を印加して凝
固させる手段と，前記凝固動作に連動し，凝固の際に発
生する煙，ガス等を吸引して体外に排出する吸引手段と
を具備したことを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００６２】（付記２）付記１における、凝固させる手
段と吸引手段は連動していることを特徴とする鼻腔粘膜
凝固焼灼装置。

【００６３】（付記３）付記１における、凝固させる手
段は、鼻孔から鼻腔内に挿入可能な凝固焼灼プローブで
あることを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００６４】（付記４）付記１における、吸引手段は、
鼻孔から鼻腔内に凝固焼灼プローブとともに挿入可能な
吸引管であることを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００６５】（付記５）付記３における、凝固焼灼プロ
ーブの先端部に耳管咽頭口を閉塞するバルーンが設けら
れていることを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００６６】（付記６）付記３における、凝固焼灼プロ
ーブに吸引手段が設けられていることを特徴とする鼻腔
粘膜凝固焼灼装置。

【００６７】（付記７）付記３における、凝固焼灼プロ
ーブに不活性ガス供給手段が設けられていることを特徴
とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００６８】（付記８）付記５における、高周波の電極
の一方をバルーンに設けたことを特徴とする鼻腔粘膜凝
固焼灼装置。

【００６９】（付記９）付記７における、不活性ガス供
給手段の出射方向に視野を持つ観察手段を設けたことを
特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。

【００７０】

【発明の効果】以上説明したように、この発明は、鼻腔
内の目的部位に不活性ガスを供給すると共に，高周波を
印加して凝固し、この凝固動作に連動し，凝固の際に発
生する煙，ガス等を吸引して体外に排出することによ
り、鼻腔粘膜凝固粘膜の凝固焼灼時に煙が発生しても患
者の気管方向に侵入することはなく、また術者の操作性
を向上できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態を示し、鼻腔粘膜凝
固焼灼装置の使用状態の斜視図。

【図２】この発明の第２の実施形態を示し、凝固焼灼プ
ローブの使用状態の側面図。

【図３】同実施形態の凝固焼灼プローブの全体の側面
図。

【図４】同実施形態を示し、図３のＡ部を拡大して示す
縦断側面図。

【図５】この発明の第３の実施形態を示し、凝固焼灼プ
ローブの全体の縦断側面図。

【図６】同実施形態を示し、図５のＷ−Ｗ線に沿う断面
図。

【図７】この発明の第４の実施形態を示し、凝固焼灼プ
ローブの全体の縦断側面図。

【図８】開示例１を示し、凝固焼灼プローブの使用状態
の側面図。

【図９】同開示例を示し、凝固焼灼プローブの先端部の
縦断側面図。

【図１０】同開示例を示し、図９のＸ−Ｘ線に沿う断面
図。

【図１１】開示例２を示し、凝固焼灼プローブの先端部
の縦断側面図。

【図１２】同開示例を示し、図１１のＹ−Ｙ線に沿う断
面図。

【図１３】開示例３を示し、鼻腔粘膜除去術の状態を示
す側面図。

【図１４】開示例４を示し、可視光マーキング付き不活
性ガス電気治療装置の全体構成図。

【図１５】同開示例を示し、プローブの先端部の縦断側
面図。

【図１６】開示例５を示し、プローブの先端部の縦断側
面図。

【図１７】開示例６を示し、プローブの先端部の縦断側
面図。

【符号の説明】

１…凝固焼灼装置 ２…シース ３…凝固焼灼プローブ ４…操作部 ９…高周波・ガス供給源 １１…吸引管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 関野 直己 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 水川 聡 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 八田 信二 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 上杉 武文 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 石川 学 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 田畑 孝夫 東京都渋谷区幡ヶ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4C060 KK04 KK10 KK13 KK47 MM24

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 鼻腔内の目的部位に不活性ガスを供給す
   ると共に，前記目的部位に高周波を印加して凝固させる
   手段と，前記凝固動作に連動し，凝固の際に発生する
   煙，ガス等を吸引して体外に排出する吸引手段と，を具
   備したことを特徴とする鼻腔粘膜凝固焼灼装置。