JP2001525257A - セラミック成形型を形成するためのロスト金属原型の使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミック成形型の形成方法を提供する。 【解決手段】 本方法は、臨界原型表面（１３）を持つ原型（１）を、開放端を持つ型枠（３）内に配置する工程を含む。臨界原型表面は、開放端に向かって上を向いている。連続工程には、熱可逆性液体金属（５）を型枠（３）に加え、臨界原型表面を覆う工程と、液体金属を冷却して固体金属成形型を形成する工程が含まれる。金属成形型（７）は、臨界原型表面（１０）とは逆の臨界金属成形型（７）表面を有する。更に、工程には、原型を金属成形型（７）から外す工程、セラミック成形型（１１）を金属成形型の周囲で鋳造する工程、金属成形型を液化してセラミック成形型（１１）から除去する工程が含まれる。セラミック成形型（１１）は、臨界金属成形型表面とは逆であり、そのために臨界原型表面の正確な複製である臨界セラミック表面（１０）を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

本発明は、熱可逆性金属を使用して原型の中間成形型を形成した後、セラミッ
ク成形型を鋳造するために中間成形型を使用することによって、正確なセラミッ
ク成形型を製造するための方法に関する。次いで、セラミック成形型は、元の原
型と同様の多数のプラスチック部品を鋳造するための更に丈夫な金属成形型を形
成するのに使用できる。

【０００２】

【従来の技術】

新たな製品を競争者よりも早く市場に投入することが、大きな市場占有率を得
る上で重要である。市場タイミング全体に大きな衝撃を及ぼす製品開発の一つの
領域は、市場試験用の製品の原型及びパッケージの原型の製造である。このよう
な試験は、消費者が試験又は使用を行うため、通常は、見掛け、触感、及び機能
が同様の多数の原型を必要とする。

【０００３】 パッケージ構成要素は、一般的には、非常に高価で多数のキャビティを持つ鋼
製成形型で製造されたプラスチック部品を含む。例えば、多くの壜は吹込成形さ
れ、多くの壜の蓋は射出成形される。通常は、多くのキャビティを持つ成形型の
製造費用を正当化するため、製造量を多くする。比較的小さな市場については、
又はほんの数百個の試験部品を製造するため、単キャビティ成形型又は原型成形
型を形成する。原型成形型は、部品を一貫して製造できるかどうかについて重要
な学習を提供し、並びに試験部品の製造に使用できる工具を提供する。Ｐ２０乃
至Ｈ１３鋼等の製造等級の金属から成形型を形成する場合には、放電加工（ＥＤ
Ｍ）が使用されることが多い。ＥＤＭ電極は、これらの電極が適用される金属に
逆の原型を形成するように賦形されている。このような電極は、代表的には、銅
やグラファイトから機械加工されている。これらの電極材料は、ＥＤＭプロセス
時に壊れたり摩耗したりし、ＥＤＭプロセスを完了するために交換電極の形成及
び交換を行わなければならない。現在、摩耗抵抗が大きいＥＤＭプロセス用材料
を入手できるが、これらの材料は容易に機械加工できない。摩耗抵抗が高い電極
を機械加工なしで形成する方法が必要とされている。

【０００４】 容器又は部品を迅速に原型製作する一つの方法は、従来の射出成形ワックス原
型の代わりに迅速原型製作システムによって形成した原型を使用するインベスト
メント鋳造法である。このような原型の一例は、クイックキャスト（クイックキ
ャスト（ＱＵＩＣＫＣＡＳＴ）は、カリフォルニア州バレンシアの３Ｄシステム
ズ社の登録商標である）である。中空プラスチック原型を、通常は浸漬プロセス
によって、薄いセラミックシェルでコーティングする。セラミックシェルからプ
ラスチックを焼失せしめ、最少量の灰残滓を残す。次いで、溶融金属をセラミッ
クシェルに注入し、金属部品又はプラスチック部品用金属成形型を鋳造する。シ
ェルには、溶融金属を入れるための小さな穴が設けられているだけであるため、
灰残滓の臨界表面を検査するのが困難である。臨界表面上の灰残滓は、金属の鋳
造を台無しにする可能性がある。溶融金属は冷却し且つ収縮し、臨界表面は正確
に複製されない。部品が大きければ大きい程、不正確さが大きくなる。

【０００５】 完全稠密成形型を形成する改良された方法が、１９９６年にトビンに賦与され
た米国特許第５，５０７，３３６号に開示されている。この方法は、金属成形型
の製造で使用される溶浸材料よりも融点が高いチューブ内に原型を配置する工程
を含む。セラミック部材は、原型表面とチューブの開放端との間で鋳造され、臨
界原型表面をセラミック部材に転写する。セラミック表面は、原型表面に対して
逆である。原型を焼失せしめ、セラミック表面をチューブ内に残す。次いで、セ
ラミックを、チューブの他端から金属粉及び溶浸材料で覆い、チューブを炉内に
置き、金属部品をセラミック表面上に形成する。金属部品は、セラミック表面の
逆の表面を有する。セラミック片を取り外したとき、金属成形型が形成される。
金属成形型は原型と同じ形状を有し、逆の形状を持つプラスチック部品を成形す
る上で有用である。これは、外臨界表面を持つ部品用の理想的プロセスである。

【０００６】 トビンのプロセスは、セラミック成形型の形成に用いられた原型を破壊する。
原型を破壊しないが、正確なセラミック成形型原型を迅速に形成するためのプロ
セスが必要とされている。更に、プラスチック部品を型成形するための噛み合い
金属成形型を提供することが必要とされる場合が多い。これを行うため、金属成
形型は、原型とは逆の形状を必要とする。かくして、セラミック成形型は、原型
と同じ形状を持つ必要があり、及び従って、セラミック成形型と原型との間で中
間成形型を形成する必要がある。トビンの初期のプロセスと同様に、任意のセラ
ミック成形型の表面は、結果的に得られた金属成形型が正確であるように、汚染
されていてはならない。

【０００７】 原型を破壊しなくてもよいようにするため、臨界原型表面をセラミック成形型
に転写するために必要に応じて廃棄又は再使用できる材料でできた中間成形型を
使用するのが望ましい。これらの目的で、ワックス及びシリコーンゴムが使用さ
れてきた。ワックス（熱可逆性）には、脆性であり、原型から取り外すとき、特
にアンダーカットや薄い特徴が設けられている場所で小片を壊してしまうことが
あるという欠点がある。更に、加熱時に膨張し、セラミックに亀裂を入れてしま
う場合がある。シリコーンゴムは硬化させる必要があり、セラミックがその「硬
化」時に熱を発生したときに歪んでしまい、セラミック原型に不正確さを生じる
。更に、シリコーンゴムは、シリコーンをセラミックから押し出す、空気噴射又
は他の手段によって原型から取り外さなくてはならない。これは、セラミック成
形型を、特に薄い特徴が含まれる場合に壊してしまう場合がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】

従って、本発明の目的は、任意の大きさの原型の正確な複製を±０．１２７ｍ
ｍ（±０．００５インチ）の精度で製造する、灰又は他の残滓をセラミック成形
型に残さない、原型と同じ形状を持つセラミック成形型を製造するためのプロセ
スを提供することである。

【０００９】 本発明の別の目的は、セラミック成形型の形成時に変形せず、セラミック成形
型の壊れ易い特徴を壊すことなくセラミック成形型から容易に取り外すことがで
きる、原型とは逆の中間成形型を熱可逆性金属を使用して形成するプロセスを提
供することである。

【００１０】 これらの及び他の目的は、以下の説明から明らかになるであろう。

【００１１】

【課題を解決するための手段】

本発明の一つの特徴では、セラミック成形型の形成方法は、臨界原型表面を持
つ原型を、開放端を持つ型枠内に配置する工程を含む。臨界原型表面は、開放端
に向かって上を向いている。連続工程には、液体金属を型枠に加え、臨界原型表
面を覆う工程と、液体金属を冷却して固体金属成形型を形成する工程が含まれる
。金属成形型は、臨界原型表面とは逆の臨界金属成形型表面を有する。更に、工
程には、原型を金属成形型から外す工程、セラミック成形型を金属成形型の周囲
で鋳造する工程、金属成形型をセラミック成形型から除去するため加熱により液
化する工程が含まれる。セラミック成形型は、臨界金属成形型表面とは逆であり
、そのために臨界原型表面の正確な複製である臨界セラミック表面を有する。こ
の方法は、液体金属が冷却して固体金属成形型を形成する際に液体金属をガス抜
きする工程を更に含む。

【００１２】 本明細書は、本発明を特定的に指摘し且つ明瞭に特許請求する特許請求の範囲
で終わるけれども、本発明は、好ましい実施例の以下の説明を、同じ参照番号が
同じ要素に附してある添付図面を参照して読むことにより、更によく理解される
ものと考えられる。

【００１３】

【発明の実施の形態】

本明細書中で使用されているように、「セラミック」という用語は、焼成によ
り硬質の製品を形成できる石膏、粘土、シリカ、又は他の非金属材料等の材料に
関する。

【００１４】 本明細書中で使用されているように、「金属」という用語は、原型を損傷させ
たり原型を大きく熱膨張させたりする温度以下で溶融する任意の金属、合金、又
は合金複合材料に関する。このような金属、合金、又は合金複合材料は、凝固時
に大きく膨張したり収縮したりしない。更に、これらの材料は原型を大きく熱収
縮させる温度以上で凝固する。好ましくは、室温よりも約３℃高い温度で凝固す
る。金属は、硬化して固体賦形体になるセラミックの注入と関連した温度範囲に
露呈された場合の膨張又は収縮が最少の固体を形成する。 本明細書中で使用さ
れているように、「熱可逆性」という用語は、約３５℃以下の温度で凝固し、約
４５℃以上の温度で液化する金属に関する。ゼラチン等の非金属熱可逆性材料を
利用できるけれども、低融点の金属が最も速く溶融するものと考えられている。
これは金属の伝熱性が高いためである。更に、低融点の金属は、ゼラチンよりも
粘度が低く、セラミック成形型から取り外すときにセラミックの表面粒子を運び
去る傾向が小さい。成形型で成形する部品の表面仕上げを良好に維持する上で、
このような微細なセラミック粒子が重要である。

【００１５】 図１は、型枠の内面にぴったりと嵌まった原型１を示す。原型１は壜の蓋の外
部を示す。原型１は、臨界原型表面（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｐａｔｔｅｒｎ ｓｕ
ｒｆａｃｅ）１３を有する。これは、壜の蓋の外側に設けられた細部を表す。原
型は、好ましくは、原型製作技術で周知の立体リソグラフィープロセスによって
形成される。このプロセスでは、原型が記載されている電子ファイルを、ポリマ
ーのレーザー硬化により迅速に製作する。臨界原型表面を型枠の開放端に向かっ
て上に向けて原型を型枠内に置く。

【００１６】 液体金属を原型上に注入する。金属成形型は、臨界原型表面をセラミック成形
型に転写する中間成形型を形成するようになっている。セラミック溶液を、同様
に、開放した型枠内の金属成形型上に注入し、硬化させる。しかしながら、セラ
ミック材料は、代表的には、発熱結合反応で熱を発生する。最終的には、金属を
溶融することによって金属成形型をセラミック成形型から取り外さなければなら
ない。薄い区分がある場合には、金属を溶融させて除去することにより、脆性の
セラミック成形型が損傷しないようにする。再液化させた金属は、これを流出さ
せることにより、セラミック成形型から容易に除去される。セラミックの発熱反
応は、代表的には、隣接した金属を溶融し、その結果、セラミックの硬化時に表
面の変形が発生しない。結果的に得られたセラミック成形型を、焼成により硬化
させる前に、溶融状態の鑞付けフラックスで洗浄し、残滓を除去することができ
る。

【００１７】 好ましい金属は、ペンシルバニア州ベラフォンテのセルロ・メタル・プロダク
ツ社から入手できる、セルロロー（セルロロー（ＣＥＲＲＯＬＯＷ）はセルロ社
の登録商標である）１１７である。ファイバ又は他の構造材料を金属中に分散さ
せることができる。これらは、強度を追加し、溶融させた金属とともにセラミッ
ク成形型から容易に除去できる。

【００１８】 端部が開放した型枠内の原型上に金属を図２に示すように注入する。金属の鋳
造は、部品の大きさに応じて多数回注入することによって行うことができる。多
数回注入の最初の注入により、好ましくは、次の注入前に皮膜を形成し、気泡が
最初の注入に入り込まないようにする。

【００１９】 金属が凝固するまで型枠を冷却するか或いは周囲室温で冷却する。原型の大き
さ及び金属層の深さに応じて、金属の凝固に２時間乃至８時間を要する。

【００２０】 注入した金属の深さは、原型及びセラミック成形型に所望の大きさで決まる。
これには熟練を要しないということは当業者には容易に判断されよう。代表的に
は、各臨界原型表面上に約２．５ｃｍの最少金属厚が望ましい。

【００２１】 次いで、凝固させた中間金属成形型を原型から引き出す。好ましい実施例では
、型枠は、容易に取り外すことのできる側部で形成されており、これらの側部は
、金属成形型から引っ張って外され、次いで、金属成形型を原型から引っ張って
外す。金属成形型は、薄い特徴が含まれている場合でも、原型の臨界表面の歪み
のない逆複写を保持する。原型がアンダーカットのない滑らかな表面を持つこと
が重要である。アンダーカット及び粗面は、凝固した金属を原型から取り外すの
を困難にする。

【００２２】 図３は、石膏又はセラミック溶液が加えられる第２型枠内に配置された金属成
形型を開示する。金属成形型は、臨界金属成形型表面を第２型枠の開放端に向か
って上に向けて配置されている。好ましくは、第２型枠と金属成形型との間には
十分な空間があり、セラミックが前記空間内で金属成形型の周囲に形成される。
これから形成されたセラミック成形型は、臨界セラミック表面を取り囲む連続し
た環状セラミックリムを有し、そのため、別の型枠を必要とせずにセラミック成
形型を鋳造の目的で容易に使用できる。

【００２３】 石膏又は他のセラミック材料を第２型枠に金属成形型の上方の所定深さまで注
入する。好ましくは、深さは、金属成形型の上方約１ｃｍ乃至５ｃｍである。注
入したセラミック材料は、好ましくは、真空の作用でガス抜きし、セラミック成
形型の最終成形に影響を及ぼす空気を除去する。石膏又はセラミック材料は、先
ず最初に「固化」し、即ち固体形状をとり、その後完全に凝固する。結合プロセ
ス中、石膏の場合には発熱反応が起こり、これにより周囲の金属を溶融する。型
枠は、好ましくは、型枠をセラミック成形型から容易に取り外すことができるよ
うに剥離剤でコーティングしてある。

【００２４】 好ましい発熱セラミック材料は、オハイオ州モーミーのランソンアンドランド
ルフ社から入手できるＣ１−Ｃｏｒｅ Ｍｉｘである。これは、石英ガラス、ジ
ルコニウムシリケート、アンモニウムフォスフェート、シリカ（クリストバライ
ト）、及び酸化マグネシウムの混合物である。コア硬化剤２０００（これもまた
ランソンアンドランドルフ社から入手できる）を使用できる。非晶質シリカ及び
ジポタシウム６−ヒドロキシ−３−オクソ−９−キサンタン−０−ベンゾエート
を含む。

【００２５】 セラミックの硬化後、セラミック成形型及び残存金属をオーブン内で又は加熱
銃によって加熱でき、金属を容易に除去するために完全に溶融できる。オーブン
の温度は、金属を確実に溶融するために約２００℃乃至約５００℃でなければな
らない。

【００２６】 第２型枠の底端と対応するセラミック成形型の開放端により、溶融させた金属
即ち液状金属をセラミック成形型から容易にアクセスできる。

【００２７】 セラミック成形型を炉中に配置し、これを少なくとも９９０℃（１１００⁰F）
まで少なくとも３時間に亘って加熱し、次の加工のため石膏を完全に硬化させる
。燃やして除去する必要がある残滓がセラミックに全く残っていないため、水素
雰囲気を使用できる。エポキシ及び蝋を使用するセラミック成形型製造プロセス
と比較した場合、このように残滓がないということが重要である。

【００２８】 本発明の特定の実施例を例示し且つ説明したが、本発明の精神及び範囲から逸
脱することなく、様々な変形及び変更を行うことができ、本発明の範疇に含まれ
る全てのこのような変更が添付の特許請求の範囲に含まれるということは当業者
に明らかである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 第１型枠３の内側に位置決めされた、臨界原型表面１３を持つ原型１の正面断
面図である。

【図２】 液体金属５を注入した第１型枠３の内側の原型１の正面断面図である。

【図３】 第２型枠８の内側にこの型枠８との間に環状空間１２を置いて位置決めされた
、臨界金属成形型表面１０が臨界原型表面１３から転写された、凝固させた金属
成形型７の正面断面図である。

【図４】 石膏又はセラミック溶液９を、凝固させた金属成形型７上及び環状空間１２内
に注入し、臨界金属成形型表面１０を覆っている、第２型枠８の正面断面図であ
る。

【図５】 第２型枠８及び金属成形型７を除去し、臨界金属成形型表面１０から転写され
た、臨界原型表面１３の正確な複製である臨界セラミック表面１４を露呈した、
凝固させた石膏成形型１１の正面断面図である。

【符号の説明】

１ 原型 ３ 第１型枠 ５ 液体金属 ７ 金属成形型 ８ 第２型枠 ９ 石膏又はセラミック溶液 １０ 臨界金属成形型表面 １２ 環状空間 １３ 臨界原型表面 １４ 臨界セラミック表面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ， ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，Ｌ Ｕ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ， ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，Ｕ Ｇ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ 【要約の続き】

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 セラミック成形型の形成方法において、 ａ）臨界原型表面を持つ原型を、開放端を持つ型枠内に、前記臨界原型表面を前
   記開放端に向かって上に向けて配置する工程と、 ｂ）前記臨界原型表面を前記型枠に加えた熱可逆性液体金属で覆う工程と、 ｃ）前記金属溶液を冷却し、前記臨界原型表面から転写された前記臨界原型表面
   とは逆の臨界金属成形型表面を持つ固体金属成形型を形成する工程と、 ｄ）前記型枠及び前記原型を前記金属成形型から取り外す工程と、 ｅ）前記臨界金属成形型表面から転写された前記臨界金属成形型表面とは逆の臨
   界セラミック表面を持ち、これによって前記臨界セラミック表面は前記臨界原型
   表面の正確な複製である、セラミック成形型を前記固体金属成形型の周囲で鋳造
   する工程と、 ｆ）前記セラミック成形型から除去するために前記金属成形型を液化する工程と
   を含む、ことを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 前記金属は、セルロロー１１７である、ことを特徴とする請
   求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 前記液体金属を冷却して固体金属成形型を形成する際にガス
   抜きする工程を更に有する、ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】 前記液体金属はファイバ又は他の増粘剤を更に含む、ことを
   特徴とする請求項１に記載の方法。
5. 【請求項５】 セラミック成形型の形成方法において、 ａ）臨界原型表面を持つ原型を、開放端を持つ第１型枠内に、前記臨界原型表面
   を前記開放端に向かって上に向けて配置する工程と、 ｂ）前記臨界原型表面を前記第１型枠に加えた熱可逆性液体金属で覆う工程と、 ｃ）前記液体金属をガス抜きしながら前記液体金属を冷却し、前記臨界原型表面
   から転写された前記臨界原型表面とは逆の臨界金属成形型表面を持つ固体金属成
   形型を形成する工程と、 ｄ）前記原型及び前記第１型枠を前記金属成形型から外し、前記臨界金属成形型
   表面を前記第２成形型の開放端に向かって上に向けて前記金属成形型を第２成形
   型内に配置する工程と、 ｅ）前記臨界金属成形型表面を前記第２成形型に加えたセラミック溶液で、この
   セラミック溶液をガス抜きしながら覆い、前記セラミック溶液を凝固した後、発
   熱結合により前記金属成形型の周囲にセラミック成形型を形成する工程であって
   、前記セラミック成形型は、前記臨界金属成形型表面から転写された、前記臨界
   金属成形型表面とは逆の臨界セラミック表面を有し、前記セラミック臨界表面は
   、これによって前記臨界原型表面の正確な複製である、セラミック成形型形成工
   程と、 ｆ）加熱により前記金属成形型を液化し、前記金属を前記セラミック成形型から
   除去し、前記第２型枠を前記セラミック成形型から除去する工程とを含む、こと
   を特徴とする方法。
6. 【請求項６】 前記液体金属は、ファイバ又は他の増粘剤を更に含む、こと
   を特徴とする請求項６に記載の方法。
7. 【請求項７】 ａ）臨界原型表面を持つ原型を、開放端を持つ第１型枠内に、前記臨界原型表面
   を前記開放端に向かって上に向けて配置する工程と、 ｂ）前記臨界原型表面を前記第１型枠に加えた金属溶液で覆う工程と、 ｃ）前記金属溶液をガス抜きしながら前記金属溶液を冷却し、前記臨界原型表面
   から転写された前記臨界原型表面とは逆の臨界金属成形型表面を持つ弾性固体金
   属成形型を形成する工程と、 ｄ）前記原型及び前記第１型枠を前記金属成形型から外し、前記臨界金属成形型
   表面を、前記金属成形型の周囲に環状空間を形成する寸法の前記第２成形型の開
   放端に向かって上に向けて前記金属成形型を第２成形型内に配置する工程と、 ｅ）前記環状空間を、前記第２型枠に加えた第１セラミック溶液で、この第１セ
   ラミック溶液のガス抜きを行いながら充填し、前記金属成形型を所定位置に固定
   し、前記臨界金属成形型表面を取り囲む連続した環状リムを形成するため、前記
   第１セラミック溶液は熱を発生することなく凝固して第１セラミック成形型を形
   成する工程と、 ｆ）前記第１セラミック成形型及び前記金属成形型を前記第２型枠に加えられた
   第２セラミック溶液で覆い、前記第２セラミック溶液は、発熱結合により、前記
   第１セラミック成形型に結合された第２セラミック成形型を形成する工程であっ
   て、前記第２セラミック成形型は、前記臨界金属成形型表面から転写された前記
   臨界金属成形型表面とは逆の臨界セラミック表面を持ち、これによって前記臨界
   セラミック表面は前記臨界原型表面の正確な複製である、セラミック成形型形成
   工程と、 ｇ）前記金属成形型を加熱により液化して前記金属を前記第１及び第２のセラミ
   ック成形型から除去し、前記第２型枠を前記第１及び第２のセラミック成形型か
   ら除去する工程とを含む、ことを特徴とする方法。