JP2001518048A - ミクロドメイングラファイト材料およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、プラズマ法を利用した、ミクロドメイングラファイト材料の製法および新規なミクロ−コニカルグラファイト材料の製法に関する。ミクロドメイングラファイト材料なる用語によって、フラーレン、炭素ナノチューブ、開放型コニカル炭素構造（ミクロコーンとも呼ばれる）、好ましくは平坦なグラファイトシート、またはこれらの２種もしくはこれらの全ての混合物を意味する。該新規な炭素材料は、全回位度６０°および／または１２０°（これは、それぞれ、コーン角度の１１２.９°および／または８３.６°に相当する）をもつ開放型炭素ミクロコーンである。

Description

【発明の詳細な説明】 ミクロドメイングラファイト材料およびその製造方法 発明の分野 本発明は、プラズマ法を利用した、ミクロドメイングラファイト材料の製法お よび新規なミクロ−コニカルグラファイト材料の製法に関する。ミクロドメイン グラファイト材料なる用語によって、フラーレン、炭素ナノチューブ、開放型コ ニカル炭素(open conical carbon)構造（ミクロコーン(micro-cones)とも呼ばれ る）、好ましくは平坦なグラファイトシート、またはこれらの２種もしくはこれ らの全ての混合物を意味する。該新規な炭素材料は、全回位度(total disclinat ion degree)６０°および／または１２０°（これは、それぞれ、コーン角度(co ne angle)の１１２.９°および／または８３.６°に相当する）をもつ開放型炭 素ミクロコーンである。 発明の背景 一般的に、新規な炭素材料には、その固有かつ新規な特性のために、強い関心 が寄せられている。例えば、該炭素材料は、高い水素エネルギーの貯蔵を達成し ており、そのため精製法における用途並びに電子／医薬領域の種々の用途にとっ て有用である。該特性は、グラファイト化度によって並びに網目構造中への六角 形以外のリング構造の導入によって変化する可能性がある該炭素材料のミクロ構 造に対して敏感である。フラーレンは、新規なグラファイト構造の例であり、そ こでは、１２個の五角形を、該六角形の網目構造中に導入することにより、閉じ たシエルが与えられる（参考文献１）。炭素ナノチューブも、このような可能な 構造の例である（参考文献２）。開放型コニカル構造は、可能なグラファイト構 造の更に別の例であるが、これら５種の可能な構造のうちの３種のみが、これま でに合成されているに過ぎない（参考文献３，４，５）。 フラーレンおよびナノチューブに対する最近の関心は、特に水素貯蔵の分野に おけるその利用に集中している。かくして、驚いたことに、ナノチューブについ ては、７５ｗｔ％もの水素貯蔵が報告されている（参考文献６）。このことが事 実であれば、恐らくこれは、輸送分野で使用するための、実際の水素貯蔵システ ムに関連する大きな躍進となろう。この貯蔵技術を利用した将来の燃料電池自動 車が、約８０００ｋｍの走行範囲を達成し得ることが示される。 フラーレンの場合には、７ｗｔ％を越える水素の、可逆的付加を達成する（参 考文献７，８，９）。また、金属間化合物または金属との固相混合物としてフラ ーレンを用いて、高い水素含有率、即ちフラーレン１分子当たり２４−２６個の Ｈ原子なる含有率を達成している（参考文献１０）。二次元シートの積層体とし て形成された、平坦なグラファイト材料は、ゲスト元素および化合物を吸着する ための高い表面積を有している。しかしながら、このような材料において、該吸 着法は拡散によって制限される。該グラファイトドメインが大きければ大きいほ ど、該吸着は緩慢になるであろう。特に興味深いのは、高度にグラファイト化さ れた材料であり、そこではドメインは小さく、従って該ゲスト物質は、多量の炭 素材料を介するパーコレーションによって、全ての該グラファイト質ミクロドメ インに容易に到達する。該ドメインの幾分かまたはその全体が、トポロジー的な 回位を有する場合、好ましくは各ドメインが３００°以下の回位を有し、ゲスト 物質の流動用の空洞または微小孔を形成する場合には、該ミクロドメインへの到 達性を、更に高めることができる。 これらグラファイト材料の既存の合成法に共通する問題は、低い製造歩留りで ある。該フラーレンは、最も一般的には、還元性不活性ガス雰囲気内で、炭素ア ータ放電を通して、グラファイト電極を気化させることにより合成されている。 フラーレンへの転化率が１０−１５％であることが報告されており、この転化率 はほぼ１０ｇ／時の生成速度に相当する（参考文献１１）。 該炭素アーク法はまた、炭素ナノチューブの製造のために最も高頻度で使用さ れている方法でもある。該コア材料の、約６０％のナノチューブ収率が、最適条 件において達成されている（参考文献２）。その達成された収量は、依然として ｇ量の程度である。 少量の未特定の量の開放型コニカル炭素構造が、炭素箔を抵抗加熱し、更に高 度に配向した熱分解グラファイト表面上に、炭素蒸気を凝縮させることにより得 られる（参考文献３，４）。この方法によって生成される該コーン角度は、約１ ９°（参考文献３）ならびに１９°および６０°（参考文献４）であった。炭素 棒の抵抗加熱およびその後の低温表面上への堆積を利用して、見掛け上のコーン 角度約３９°をもつコーンを製造した（参考文献５）。グラファイトの連続シー トから、僅か５種の型のコーンを組み立てることができ、そこで各ドメインは、 以下の一般式によって与えられるそのトポロジー的な回位ＴＤによって特別に規 定されることを示すことができる。 ＴＤ＝Ｎ×６０°（ここで、Ｎ＝０，１，２，３，４，または５） このようなグラファイトドメインの該構造は、平坦な構造(Ｎ＝０)またはコニカ ル構造(Ｎ＝１〜５)を有する、グラファイトシートの積層体として大まかに記載 することができる。従って、コーン角度８３.６°および１１２.９°を有するそ れら構造のうちの２つは、これまでに報告されていない。 発明の概要 本発明の目的は、ミクロドメイングラファイト化材料の、新規な製法を提供す ることにある。この方法は、９０％以上にまで高められた大きな歩留まり率を達 成できる。 本発明のもう一つの目的は、ミクロドメイングラファイト化材料の、工業的規 模での製造に適した方法を提供することである。 更に、本発明の目的は、ミクロドメイングラファイト化材料を製造できる方法 を提供することにあり、該材料は少なくとも部分的に高度に結晶性のグラファイ ト材料からなり、該結晶性グラファイト材料は、コーン角度８３.６°および１ １２.９°を有する開放型コニカル炭素構造から構成されている。これは、Ｎ＝ １および２に相当する。該ミクロコニカルグラファイト化材料の残りは、フラー レン、炭素ナノチューブ、他の開放型炭素コーン(Ｎ＝３，４または５)、好まし くは平坦なグラファイトシート(Ｎ＝０)、またはこれらのうちの２種以上の混合 物である。 図面の簡単な説明 第１図は、反応器および周辺機器を模式的に示す図である。 第２図は、本発明の種々の型の開放型ミクロコニカル炭素を表すサンプルの、 透過型電子顕微鏡写真を示す。 第３図は、完全なグラファイトコーンに対する投影角度、即ち１９.２°、３ ８.９°、６０°、８３.６°および１１２.９°を示し、これはそれぞれ全回位 ３００°、２４０°、１８０°、１２０°および６０°に相当する。更に、投影 角度１８０°および全回位０°を有するグラファイトシートも図示されている。 第４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄおよび４Ｅ図は、本発明に係わるそれぞれ回位６０ °、１２０°、１８０°、２４０°および３００°の各型のドメインの例を示す 図である。 発明の詳細な説明 本発明は、プラズマ法に基づく方法において、炭化水素を炭素と水素とに分解 することに基づくものである。プラズマアークは、プラズマ発生器内で形成され 、該発生器は環状の電極からなり、そこで内部の電極には、一方の極の直流電位 が供給され、かつ外側電極は、電源からの対極側に接続されている。このプラズ マ発生器は、分解反応器と共に設置され、ここで該反応器は、最終生成物の取り 出し口を備えた、所定の断熱性チャンバーとして設計されている。プラズマガス は、この工程から再循環される。この一般的なプロセスおよび該装置の更なる説 明は、本出願人のノルウェー特許第176522号に記載されている。 得られる炭素材料の構造は、以下の３つのプロセスパラメータ、即ち、炭化水 素の供給速度、該プラズマガスのエンタルピーおよびその滞留時間に依存するで あろう。これらパラメータを変更することによって、該生成する炭素材料は、公 知のカーボンブラックとして、ミクロドメイングラファイト材料として、または これらの混合物として得られるであろう。本発明において、プロセスパラメータ を、ミクロドメイングラファイト材料に関して最適化することについて説明する 。 独自に開発したノズルを使用することにより、該プラズマアータゾーン近傍に おいて、該炭化水素を該分解反応器に導入する。該ノズルは、噴霧炭化水素を、 該反応器の軸方向に配向させ、しかも粗い液滴を形成するように工夫されている 。 これは、該炭化水素の蒸発を遅らせ、その結果として、以下に更に詳細に記載さ れるように、ミクロドメイングラファイト材料の生成を最適化するためである。 該プラズマアータからのエネルギーを供給して、該プラズマガスを加熱する。 該アークからのエネルギーの幾分かは、その周囲の反応器壁並びに該プラズマ発 生器自体をも加熱するであろう。得られる該プラズマガスのエネルギー含量（即 ち、プラズマガスエンタルピー）は、該炭化水素を蒸発するのに十分なものであ る。該炭化水素は、分解および重合過程を開始する。その結果、多環式芳香族炭 化水素(ＰＡＨ)を生成する。このＰＡＨは、該ミクロドメインを生成するグラフ ァイトシートの基礎となる。該プラズマガスエンタルピーは、該ガス状炭化水素 の主な部分が、指定された供給量および使用された滞留時間において、熱分解温 度に達しないようなレベルに維持される。しかしながら、該供給原料の小部分は 、該反応器内で該滞留時間中に、不可避的に十分なエネルギーに達して、熱分解 温度に達し、しかも結果として公知のカーボンブラックに転化されるであろう。 この部分を出来るかぎり低くするようにすべきである。 該ＰＡＨは、該プラズマガスと共に該反応器を離れ、再度該プラズマガスの一 部分として該反応器に導入される。該プラズマガスは、高エネルギープラズマア ークゾーンに入り、ほんの瞬時の間に、該ＰＡＨはグラファイトミクロドメイン に転化される。 グラファイトミクロドメイン材料に対して最適化するためには、該供給原料の 供給量は、本発明者によって使用された反応器では、５０−１５０ｋｇ／ｈの範 囲内にあるが、この範囲に制限される訳ではない。これよりも低いおよび高い供 給原料の供給量の両者を使用できる。該グラファイトミクロドメイン材料の収率 は、最適条件下で９０％を越える。これらドメインの少なくとも１０％は、６０ °よりも大きな全回位を有する。使用した供給原料の供給量を考慮すると、工業 的に許容される量のミクロドメイン炭素材料を得ることができる。更にスケール アップすると、これは、該材料の単位重量当たりの市販のカーボンブラックと同 程度の価格となるであろう。 第１図は、該反応器の模式的な図である。この反応器およびその周辺機器に関 する更なる詳細は、本出願人のノルウェー特許第176522号に記載されている。 第２図は、該ミクロドメイン材料の含有率の典型例を示す図である。該サンプ ル中の各部分は、単一のグラファイトドメインを形成しており、また各ドメイン における該シートの配向は、電子顕微鏡法により決定されたように、典型的な乱 層構造(turbostratic)である。該ドメインの直径は典型的には５μｍ未満であり 、かつその厚みは１００ｎｍ未満である。 コーンを、その開放端部を除き、グラファイトの連続シートで形成する場合に は、グラファイトの対称性のために、可能な５種の型のみが形成可能である。こ れらは、全回位６０°、１２０°、１８０°、２４０°および３００°に相当す る。全回位０°は、平坦なドメインに相当する。第３図は、これら構造の投影角 を模式的に示す図である。これら型のドメイン各々の例は、第４Ａ、４Ｂ、４Ｃ 、４Ｄおよび４Ｅ図に示されている。これら全てのコーンが、頂点において閉じ られていることに注意することは重要である。該コニカルドメインは、該材料の 少なくとも１０％に相当する。本発明の材料は、十分に規定された全回位ＴＤ（ 曲率）をもつグラファイトのミクロドメインからなり、該回位は以下の式によっ て与えられる離散した値を有し： ＴＤ＝Ｎ×６０°（ここで、Ｎ＝０，１，２，３，４，または５） また、該特定の全回位を与えるのに必要な五角形の有効数に相当する。 本発明の方法が基礎としているこれらの結果は、該全回位が、殆ど常に核形成 段階において測定されていることを示している。該種結晶中に五角形が形成され る可能性は、温度に依存することが、初期に見出されている（参考文献１２）。 従って、反応温度を高めることを包含するがこれに制限されない、プロセスパラ メータを変えることによって、該種結晶中の五角形の数は増大し、結果としてナ ノチューブまたは閉じたシェルを生成する可能性がある。 本発明によって生成された該グラファイト材料中の、該ドメインのサイズの小 ささおよび種々の回位の存在は、ゲスト元素および化合物の組み込みにとって有 用である。該ドメイン間の間隔は、ゲスト物質の流動用の微小孔を与え、その結 果該ゲスト物質は各ドメインに到達できる。該ドメインのサイズの小ささは、該 ドメインを構成する各層へのおよび該層からのゲスト物質の迅速な拡散を可能と するであろう。 本発明を、以下に与えられる実施例により、更に詳しく説明する。しかしなが ら、これら実施例は何ら本発明の範囲を限定するものではない。実施例１におい ては、該プロセスパラメータを、該反応器により、第一の（かつ唯一の）炭化水 素サイクルにおいて、公知のカーボンブラックが生成されるように選択する。該 供給原料の供給量、該プラズマガスエンタルピーおよび該滞留時間を変えること によって、該反応器による第二のサイクルにおいて、該第一のサイクルで形成さ れたＰＡＨから、ミクロドメイングラファイト材料を生成し得ることが、実施例 ２において示される。 実施例１ 重質燃料油を１６０℃に加熱し、独自に開発した軸方向に配列されたノズルを 使用して、供給速度６７ｋｇ／時にて、該反応器に導入した。この反応器の圧力 は２ｂａｒに維持した。水素ガスをプラズマガスとして使用し、またプラズマガ ス供給量を３５０Ｎｍ³／ｈに設定し、一方該プラズマ発生器からの全出力を６ ２０ｋＷとした。これにより、プラズマガスエンタルピーは１.８ｋＷｈ／Ｎｍ³ Ｈ₂となった。霧化したオイルを導入した時点から、生成物が該反応器を出てゆ くまでに経過した時間は、約０.２３秒であった。 得られたカーボンブラックは、性能Ｎ−７ｘｘをもつ伝統的なアモルファス物 質であった。該カーボンブラックの揮発性物質の含有率を測定したところ、０. ６％であった。 実施例２ 本実施例においては、該オイル供給量、水素プラズマガスエンタルピー並びに 滞留時間を変更して、該気化した炭化水素が、該第一サイクル中に熱分解温度に 達しないようにした。該反応器における、該第一サイクル中の炭化水素の滞留時 間を、該オイルおよびプラズマガス供給量を増大することによって最小化した。 重質燃料油を１６０℃に加熱し、独自に開発した軸方向に配列されたノズルを 使用して、供給速度１１５ｋｇ／時にて、該反応器に導入した。この反応器の圧 力は２ｂａｒに維持した。水素プラズマガス供給量を４５０Ｎｍ³／ｈに設定し 、 一方該プラズマ発生器からの全出力を１００５ｋＷとした。これにより、プラズ マガスエンタルピーは２.２ｋＷｈ／Ｎｍ³Ｈ₂となった。該オイルを導入した時 点から、該ＰＡＨが該反応器を出てゆくまでに経過した時間は、約０.１６秒で あった。 得られたＰＡＨを、再度該反応器の該プラズマアークゾーンに導入し、９０％ を越える高い収率でミクロドメイングラファイト材料を生成した。該炭素材料の 揮発性物質の含有率を測定したところ、０.７％であった。全ての他のプロセス パラメータは該第一サイクルのパラメータと同一であった。 本発明の方法の上記実施例においては、重油をミクロドメイングラファイト材 料に転化するものとして説明したが、本発明の方法は、液状およびガス状の炭化 水素全てに対して適用できるものと理解すべきである。また、本発明の方法は、 バッチ式または１以上のプラズマ反応器を直列等に接続して、連続式で実施する ことができる。該第一の分解段階において生成された該ＰＡＨを同一のプラズマ 反応器に再度導入した場合、該第二の分解工程で形成されるミクロドメイングラ ファイト材料は、勿論任意の公知の適当な手段によって、該ＰＡＨから分離され る。この分離は、濾過、サイクロン等の使用によって実施できる。 更に、不活性かつ該ミクロドメイングラファイト生成物を汚染することのない 任意のガスを、プラズマガスとして使用することができるが、水素が特に適して おり、その理由は、この元素が該供給原料中に含まれているからである。該プラ ズマガスは、必要ならば該反応器に再循環することができる。追加の炭化水素を 該分解反応器の側部における導入口を介して導入することにより、本発明の方法 を利用して、該分解ゾーンの温度を制御しおよび／または収率を高めることも可 能である。このことについては、本出願人のノルウェー特許第176522号を参照の こと。 ４．Ｐ．Ll＆Ｋ．Sattler，Mat．Res．Soc．Symp．Proc.，359，p.87，1995.

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成１１年３月２３日（１９９９．３．２３） 【補正内容】 請求の範囲 １．プラズマ発生器ど接続された反応チャンバーを有するプラズマ反応器内でミ クロドメイングラファイト材料を製造する方法において、炭化水素類のミクロド メイングラファイト材料への分解が、２つの分解工程を含む、すなわち再循環工 程を有するプラズマ反応器内での２つの工程プロセスで行われること、または該 工程が直列に接続された２つのプラズマ反応器内で行われることを特徴とするミ クロドメイングラファイト材料の製造方法。 ２．前記炭化水素類を第一の分解工程に付し、該分解工程において、該炭化水素 類を、プラズマアークゾーン近傍において分解チャンバーに供給し、そしてプラ ズマガスと混合し、そこでプロセスパラメータを、該炭化水素類がその熱分解温 度に達せず、かつ部分的にのみ分解して多環式芳香族炭化水素(ＰＡＨ)を生成す るように調節し、 ＰＡＨの形の該炭化水素類を、該第一の分解工程終了後に、プラズマガスと混 合し、プラズマガスの一部として、分解チャンバーのプラズマアークゾーンに再 導入して、第二の分解工程に付し、該第二の分解工程において、該プラズマアー クゾーンにおける強力な熱が、該ＰＡＨをミクロドメイングラファイト材料に転 化するようにすることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．前記プラズマ発生器と接続された反応チャンバーが、最終生成物の取り出し 口を備えた、所定の断熱性チャンバーとして構成された、分解チャンバーででき ており、該取り出し口が他端においてプラズマトーチと接続されていることを特 徴とする請求の範囲第１および／または２項に記載の方法。 ４．前記ミクロドメイングラファイト材料が、炭素ナノチューブ、フラーレン、 炭素ミクロコーン、および平坦なグラファイト炭素シートからなる群から選ばれ る少なくとも１種の材料からなることを特徴とする請求の範囲第１および／また は２項に記載の方法。 ５．前記ドメインのサイズが、グラファイトの堆積方向に平行な直径または長さ として、５μｍ未満であり、また該グラファイト堆積方向における厚み１００ｎ ｍ未満を有することを特徴とする請求の範囲第４項に記載の方法。 ６．前記炭化水素類のミクロドメイングラファイト材料への転化率が、０〜９０ ％以上の範囲内にあることを特徴とする請求の範囲第１および／または２項に記 載の方法。 ７．前記炭化水素類ミクロドメイングラファイト材料への転化率が、９０％を越 える値であることを特徴とする請求の範囲第１および／または２項に記載の方法 。 ８．前記炭化水素類のミクロドメイングラファイト材料への転化率が、工業的に 許容される範囲内にあり、即ち５０ｋｇ／ｈを越え、好ましくは１００ｋｇ／ｈ を越え、そして最も好ましくは１５０ｋｇ／ｈを越える値であることを特徴とす る請求の範囲第１および／または２項に記載の方法。 ９．前記生成されたミクロドメイングラファイト材料の少なくとも１０％が、６ ０°よりも大きな全回位をもつ開放型炭素ミクロコーンからなることを特徴とす る請求の範囲第１〜８項の何れか１項に記載の方法。 10．ミクロドメイングラファイト材料に転化すべき炭化水素供給原料として、重 質燃料油を使用することを特徴とする請求の範囲第１〜９項の何れか１項に記載 の方法。 11．全回位度６０°および／または１２０°（それぞれがコーン角度１１２.９ °および／または８３.６°に相当する）を有する開放型炭素ミクロコーンを含 むことを特徴とするミクロドメイングラファイト材料を含有する炭素材料。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，Ｍ Ｗ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ， ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，Ｅ Ｓ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＧＷ，ＨＵ，ＩＤ ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，Ｍ Ｇ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ， ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，Ｖ Ｎ，ＹＵ，ＺＷ (72)発明者 ホックス ケティル ノールウェー国 エヌ―7021 トロンヘイ ム ゲルトレルヴェイエン 10 (72)発明者 ヒルドルム ランゲ ノールウェー国 エヌ―0874 オスロ ニ ルスルドクレイヴァ 11 (72)発明者 ノルドヴィク マグネ ノールウェー国 エヌ―1475 フィンスタ ッドヨルデット フィンスタドリア 103

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．プラズマ発生器と接続された反応チャンバーを使用して、炭化水素類をミク ロドメイングラファイト材料に分解することを特徴とするミクロドメイングラフ ァイト材料の製造方法。 ２．前記炭化水素類を第一の分解工程に付し、該分解工程において、該炭化水素 類を、プラズマアークゾーン近傍において分解チャンバーに供給し、そしてプラ ズマガスと混合し、そこでプロセスパラメータを、該炭化水素類がその熱分解温 度に達せず、かつ部分的にのみ分解して多環式芳香族炭化水素(ＰＡＨ)を生成す るように調節し、 ＰＡＨの形の該炭化水素類を、該第一の分解工程終了後に、プラズマガスと混 合し、プラズマガスの一部として、分解チャンバーのプラズマアークゾーンに再 導入して、第二の分解工程に付し、該第二の分解工程において、該プラズマアー クゾーンにおける強力な熱が、該ＰＡＨをミクロドメイングラファイト材料に転 化するようにすることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．前記プラズマ発生器と接続された反応チャンバーが、最終生成物の取り出し 口を備えた、所定の断熱性チャンバーとして構成された、分解チャンバーででき ており、該取り出し口が他端においてプラズマトーチと接続されていることを特 徴とする請求の範囲第１および／または２項に記載の方法。 ４．前記ミクロドメイングラファイト材料が、炭素ナノチューブ、フラーレン、 炭素ミクロコーン、および平坦なグラファイト炭素シートからなる群から選ばれ る少なくとも１種の材料からなることを特徴とする請求の範囲第１および／また は２項に記載の方法。 ５．前記ドメインのサイズが、グラファイトの堆積方向に平行な直径または長さ として、５μｍ未満であり、また該グラファイト堆積方向における厚み１００ｎ ｍ未満を有することを特徴とする請求の範囲第４項に記載の方法。 ６．前記炭化水素類のミクロドメイングラファイト材料への転化率が、０〜９０ ％以上の範囲内にあることを特徴とする請求の範囲第１および／または２項に記 載の方法。 ７．前記炭化水素類ミクロドメイングラファイト材料への転化率が、９０％を越 える値であることを特徴とする請求の範囲第１および／または２項に記載の方法 。 ８．前記炭化水素類のミクロドメイングラファイト材料への転化率が、工業的に 許容される範囲内にあり、即ち５０ｋｇ／ｈを越え、好ましくは１００ｋｇ／ｈ を越え、そして最も好ましくは１５０ｋｇ／ｈを越える値であることを特徴とす る請求の範囲第１および／または２項に記載の方法。 ９．前記生成されたミクロドメイングラファイト材料の少なくとも１０％が、６ ０°よりも大きな全回位をもつ開放型炭素ミクロコーンからなることを特徴とす る請求の範囲第１〜８項の何れか１項に記載の方法。 10．ミクロドメイングラファイト材料に転化すべき炭化水素供給原料として、重 質燃料油を使用することを特徴とする請求の範囲第１〜９項の何れか１項に記載 の方法。 11．全回位度６０°および／または１２０°（それぞれがコーン角度１１２.９ °および／または８３.６°に相当する）を有する開放型炭素ミクロコーンを含 むことを特徴とするミクロドメイングラファイト材料を含有する炭素材料。