JP2001515526A - ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法 - Google Patents

ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 カルボン酸と式(1) 〔式中、R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル基およびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20−アルキル基であり、R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る群から選択され、そしてR3〜R7はそれらの少なくとも1つはOR9であるという条件のもとで、H、C1〜C20−アルキル基、R9がH、C1〜C20−アルキル基、それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基であるOR9、ハロゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群から互いに無関係に選択される。〕で表される少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールとの混合物を適当な触媒の存在下に十分な期間、適当な温度条件および圧力条件のもとで反応させてノボラック型重合体を生成する重合段階を含む、ノボラック型の構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】 ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法 発明の背景 本発明は置換フェニルカルビノール(“カルビノール”)、例えば4−ヒドロ キシメチル−カルビノール(HPMC)から直接的にポリヒドロキシスチレン( PHS)を製造する方法に関し、該PHSは電子化学分野の市場、例えばホトレ ジスト材料において有用性のあるノボラック型構造を有している。 従来技術の説明 ポリヒドロキシスチレン(PHS)を製造する従来法の一つは出発原料として 4−ヒドロキシスチレン(HSM)を使用している(ヨーロッパ特許出願第10 8、624号明細書参照)。4−ヒドロキシスチレンは業界で周知の化合物であ る。 4−ヒドロキシスチレンを製造する幾つもの公知の方法があるが、これらの公 知の方法は4−ヒドロキシスチレンを更に利用する場合に市場で実施することが できない。4−ヒドロキシスチレン自体は、(1)容易に分解し、かつ(2)皮 膚からの吸収による毒性があるために、単離することが困難であり、結果として 当業者は出発原料として4−ヒドロキシスチレンを用いることを避ける様なPH Sの合成法の開発が試みられて来た。 以下の従来技術の文献は米国特許庁のプラクィスおよび手続のための37CF R1.56および1.93の用語に従い開示されている。 米国特許第5、087、772号明細書(1992年2月11日公表)は、4 −アセトキシスチレン(ASM)を適当なアルコールと触媒量の適当な塩基の存 在下に反応させることによるHSMの製法を開示している。 米国特許第5、340、687号明細書には、線状のポリヒドロキシスチレン のアルキル化が開示されている。 1983年8月30日に出願されたヨーロッパ特許出願第128、984号明 細書(未公表)には、パラエチルフェノールの脱水素反応によってパラビニルフ ェノール(HSM)の製造方法が開示されている。 1983年11月4日に出願されたヨーロッパ特許出願第108、624号明 細書(未公表)には、水およびイオンの存在下にp−ビニルフェノール(HSM )を重合することによってp−ビニルフェノール重合体(ポリヒドロキシスチレ ン重合体:PHS)を製造する方法が開示されている。 1977年6月28日に公表された米国特許第4、032、513号明細書に は、HSMをニトリル、例えばCH3CNの存在下に均一反応系においてカチオ ン性重合開始剤を用いてカチオン重合することによってPHSを製造する方法が 開示されている。 本発明に関連する従来技術の他の文献には、米国特許第2、276、138号 明細書、同第3、547、858号明細書、同第4、544、704号明細書、 同第4、678、843号明細書、同第4、689、371号明細書、同第4、 689、371号明細書、同第4、822、862号明細書、同第4、857、 601号明細書、同第4、868、256号明細書、同第4、877、843号 明細書、同第4、898、916号明細書、同第4、912、173号明細書、 同第4、962、147号明細書および同第4、965、400号明細書がある 。 上記の従来技術の全ての文献およびそこに記載された他の全ての引用文献はそ っくりそのままここに引用する。 発明の要旨 ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの本発明の製造方法は、カ ルボン酸と式 〔式中、(a)R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル 基およびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20 −アルキル基であり、(b)R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る群 から選択され、そして(c)R3〜R7は、それらの少なくとも1つがOR9で あるという条件のもとで、互いにH、C1〜C20−アルキル基、R9がH、C1 〜C20−アルキル基、それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基で あるOR9、ハロゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群から 互いに無関係に選択される。〕 で表される少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールとの混合物を適当な触 媒の存在下に十分な時間、適当な温度条件および圧力条件のもとで重合させる段 階を含み、約1、000〜約500、000、好ましくは約1、000〜約10 0、000、特に好ましくは約1、000〜約30、000の分子量を有する特 有の新規なPHSである上記のノボラック型重合体を生成することを特徴とする ものである。 発明の詳細な説明 本発明は、新規のPHSおよび (a)少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールをカルボン酸と十分な時間 、適当な温度条件および圧力条件のもとで反応させて反応混合物を生成する段階 および (b)この反応混合物を適当な触媒の存在下に十分な時間、適当な温度条件およ び圧力条件のもとで重合させてノボラック型重合体を生成する段階とを含む、ノ ボラック型構造を有するPHSの新規の製造方法を提供することである。 更に本発明は、カルボン酸と式 〔式中、(a)R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル 基およびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20−ア ルキル基であり、(b)R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る 群から選択され、そして(c)R3〜R7はそれらの少なくとも1つはOR9で あるという条件のもとで、H、C1〜C20−アルキル基、またはR9がH、C1 〜C20−アルキル基、それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基 であるOR9、ハロゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群か ら互いに無関係に選択される。〕 で表される少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールとの混合物を適当な触 媒の存在下に十分な時間、適当な温度条件および圧力条件のもとで重合させる段 階を含む、ノボラック型重合体を製造する経済的な独特の方法に関する。 ここで使用される置換フェニルは、ハロゲン(塩素、臭素、弗素または沃素) 、アミノ、ニトロ、水酸基、アルキル、炭素原子数1〜10の直鎖状のまたは枝 分かれしたアルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ シ、ブトキシ、イソブトキシ、第二ブトキシ、第三ブトキシ、ペンチルオキシ、 イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニ ルオキシおよびデシルオキシ、少なくとも1つのハロゲン原子で置換されている 炭素原子数1〜8の直鎖状のまたは枝分かれしたアルキル基を意味するハロゲン 化アルキル、例えばクロロメチル、ブロモメチル、フルオロメチル、沃化メチル 、2−クロロエチル、2−ブロモエチル、2−フルオロエチル、3−クロロプロ ピル、3−ブロモプロピル、3−フルオロプロピル、4−クロロブチル、4−フ ルオロブチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、ジフルオロメチル、ジ沃化メ チル、2、2−ジクロロエチル、2、2−ジブロモエチル、2、2−ジフルオロ エチル、3、3−ジクロロプロピル、3、3−ジフルオロプロピル、4、4−ジ クロロブチル、4、4−ジフルオロブチル、トリクロロメチル、4、4−ジフル オロブチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、2、2、2−トリフルオ ロエチル、2、3、3−トリフルオロプロピル、1、1、2、2−テトラフルオ ロエチルおよび2、2、3、3−テトラフルオロプロピル、より成る群から選択 される少なくとも1種類の置換基で置換されているフェニルを意味する。 上の規定においておよび明細書全体を通して、アルキル基は炭素原子数1〜2 0の直鎖状のまたは枝分かれしたアルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル 、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二−ブチル、第三−ブチル、ペンチル 、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘ キシル、1、1、3、3−テトラメチルブチル、ノニル、デシル、ドデシル、テ トラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルおよびエイコシルを意味する。 式IおよびR3〜R7の規定の関係において“BZT”はベンゾトリアゾールを 意味し、次の構造式であらわされ そして(b)ハロゲンはCl、Br、IおよびFを意味する。 ここで使用する通り、PHS(ポリヒドロキシスチレン)は構造中に少なくと もいくつかの水酸基を持つ重合体、共重合体またはブロック重合体を包含する。 水酸基を含有していない他の単量体が存在していてもよいしおよび/または該単 量体を使用してもよい。これらは (a)置換フェノール類 (式中、x=0〜6でありそしてy=0〜6であり、R3は既に規定したのと同 じ意味を有する。) (b)置換ジアリールアルキルまたはトリアリールアルキル (式中、n=0〜2でありそしてR2およびR3は既に規定したのと同じ意味を有 する。) それ故にPHSはここに記載した単量体および/または重合体を用いる直鎖状 の、枝分かれしたおよび/またはグラフトした各重合体の混合物であってもよい 。 カルボン酸とカルビノールを使用して反応混合物を生成し、次いでそれを重合 してノボラック型構造を持つ新規のPHSを得ることは予期できなかったことで ある。カルボン酸は反応成分としての役割で使用されるだけでなく、溶剤として も使用される。このPHSが生成される正確な原理は厳密には分かっていない。 しかしながらカルボン酸の両方の能力、すなわち反応成分および溶剤として作用 (機能)することは理論的に裏付けられている。しかしながら本発明はこの理論 によって制限されることは望ましくない。上記の通り、カルボン酸を用いること は本発明の必須要件である。 使用されるカルボン酸には、これらに制限されないが、例えば蟻酸、酢酸、プ ロピオン酸、酪酸、バレリン酸、カプリン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン 酸、ウンデカン酸、イソ酪酸、イソバレリン酸、シクロヘキサンカルボン酸およ びそれらの混合物がある。個々のカルボン酸が飽和カルボン酸、すなわち直鎖状 の飽和カルボン酸、置換された飽和カルボン酸および/または環状カルボン酸で あることも重要である。それ故にカルボン酸とカルビノールとを少なくとも当量 比で、そしてカルビノールの2倍までの過剰なカルボン酸を用いる。 カルボン酸とカルビノールとを互いに混合する温度、圧力および時間は制限が ないが、液体状態のカルボン酸を使用するのが望ましい。それ故に温度の上限は カルボン酸の液/気−相が存在する温度であるのが望ましい。 本発明で使用される触媒は制限があり、H2SO4、HCl、AlCl3、H3P O4、蓚酸、SnCl2、BF3、BBr3、BCl3、パラトルエンスルホン酸お よびメタンスルホン酸より成る群から選択される。それ故に約4.75よりも小 さいpKaを有するルイス酸およびプロトン酸が適している。 これらの触媒は、ノボラック型構造を有するPHSを得る反応、すなわち重合 反応を促進させるために任意の量で使用される。かかる量は一般に1、000、 000(ppm)当たり約1部〜約100、000ppmまたはそれ以上である 。 重合で使用される温度は一般に約120℃より低く、好ましくは約0℃〜約1 20℃である。反応圧は減圧状態でも、大気圧でもまたは過剰圧状態でもよい。 この重合段階を行う時間は制限がなく、ノボラック型構造のPHSを生成する のに十分な時間、重合を実施する。一般にこの時間は少なくとも5分であり、2 5時間ほどでまでである。 反応混合物(すなわちカルボン酸+カルビノール+任意の成核剤)を重合した 後に、所望の目的生成物(PHS)を反応生成物から任意の方法で回収すること ができる。例えば未反応カルビノールを含有するフラクションから例えば水中に 沈殿させそして濾過することによってまたは他の適当な技術によって分離するこ とができる。 要するに、反応混合物を製造するために、シード単量体の様な成核剤を使用す ることも本発明の範囲に包含される。かかる物質は式(1)のカルビノールであ るべきでなく、いかなる水酸基も有しているべきでない。かかる成核剤は、これ らに制限されるものではないが、既に規定した置換フェノール類および置換トリ アルキル類が含まれる。 重合段階の後で連鎖停止剤を使用することも本発明の範囲に含まれる。生成さ れるPHSのノボラック構造に実質的にマイナスの影響を及ぼさない限り、あら ゆる種類の連鎖停止剤を使用することができる。 反応混合物中で2種類以上のカルビノールを使用するかまたは初期重合の後で 続く重合段階で1種類以上のカルビノールを用いることも、本発明の範囲内に包 含される。すなわちそれぞれの重合段階で異なるカルビノールを用いて連続的に 重合を行う。 カルビノール/カルボン酸の反応混合物に非ノボラック型ポリヒドロキシスチ レン−単独重合体を使用し、次いで全部の反応混合物をアルキル化/重合反応に 付して、部分ノボラック型構造のポリヒドロキシスチレンを製造することも本発 明の範囲に包含される。 ミクロ電子工学的化学分野での(ノボラック型構造を持つ)PHSの用途に加 えて、かかるPHSは塗料、アニリン系印刷インキ、エポキシ樹脂用原料、複写 用紙、ゴム用粘着性付与剤および原油の分離剤としての慣用のノボラック用途で 使用することができる。 以下の例は本発明を更に詳細に説明するために示す。しかしながら本発明の範 囲は本発明を実施するために専ら使用するべきである条件、パラメータまたは値 で構成されるものではない。 例1〜11 以下の操作はPHSを製造する11の全ての例で使用した。 1リットルの三つ口フラスコに還流冷却器、加熱用ジャケット、窒素ガス供給 手段および機械式攪拌機を備え付ける。このフラスコに4−ヒドロキシフェニル メチルカルビノール(HPMC)(352.0g;2.55モル)および氷酢酸 (1051.9g;17.52モル)を導入する。HPMCの全部は溶解しない 。この懸濁物を氷浴を用いて9℃に冷却し、次いで硫酸(1.0g)を添加する 。氷浴を除くと、懸濁物が温まり、19℃でHPMCの全てが溶解する。この混 合物は発熱して、最高35℃の温度に達する。反応は室温で夜通し攪拌下に行う 。溶液を水(3×3000mL)中に注ぎ込み、固体を濾過によって分離する。 固体を水(3×3000mL)で洗浄し、減圧乾燥し(50℃、60torr、 2日)そして秤量する(288.7g;94.3%)。 得られる固体は、アセトン、メタノール、テトラヒドロフランに溶解しそして 非極性有機化合物に不溶で艶のある白色粉末である。重量平均分子量は3675 であり、1.53の多分散度が得られる。TGAによる熱安定性測定にると、2 00℃以下で分解せず、ガラス転移温度は143℃である。実験条件および結果 を表1、2、3および4に示す。 例12(比較例) 例1〜11に説明した操作を利用するが、例12では酢酸の代わりにメタノー ルを使用する。例12では、重合下に(ノボラック様構造を有する)PHSを生 成しないベンジルエーテル(4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノール−メチ ルエーテル)が得られる。従って有機アルコールは、ノボラック型構造を形成す るためにカルボン酸の代替え物として適していない。 考察 実験の結果から、カルボン酸(例えば酢酸)をカビノールと一緒に用いること で、重合前の反応混合物の1HNMR−およびTLC−分析により測定される通 り、例えば酢酸エステルを生成することが明らかである。触媒(例えばH2SO4 )を続いて添加することが4−HPMCのポリアルキル化単独重合体の生成を促 進させる。この反応の全体は次の通り反応式1で示される: 反応式1 2−ヒドロキシフェニルメチルカルビノール、3−メチル−4−ヒドロキシフ ェニルメチルカルビノール、4−アセトキシフェニルメチルカルビノール、3− メチル−4−アセトキシフェニル−メチルカルビノールおよび4−ヒドロキシベ ンジルアルコールが同じ条件のもとで全て反応してポリアルキル化重合体が得ら れることを見いだした。更に、ポリ(4−ヒドロキシスチレン)がこの条件のも とで4−HPMCにてアルキル化されることを見いだした(表1)。 重合を表1、2、3および4に説明する。いずれの場合にも転化率が高く、T LCまたはGPCにより分析される通り残留単量体が検出できない。一連の4− HPMC重合体の重量平均分子量は5、300〜7、000の範囲にある。殆ど の多分散度は2.00より低い。熱分析による4−HPMCの分子量は5、00 0〜6、000であり、ガラス転移温度は143℃でありそして200℃以下で は重量損失がない。4−HPMCを用いる例4のアルキル化生成物を表3および 4に示す。単量体および一連のモデル化合物と比較される通り、13CNMRに見 られる化学的シフトの比較では、パラ−、オルト−パラ−およびオルト−オルト −パラ−置換された構造の三つの予想される構造を示す(表3)。例4について は、これらの構造がほぼ1:1:1の比であるが、x+y+z(式1)が1であ るから、個々の構造は1:1:1(または1/3:1/3:1/3)に限定され ない。それ故に構造比には制限がない。 上記の記述はノボラック型構造を持つPHSの生成に関していくつかの原理が 含まれること分かるが、出願人は本発明をそれらに限定することを望まない。 表1 置換カルビノールの重合条件 14-HPMCは4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 2MHPMCは3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 3APMCは4−アセトキシフェニルメチルカルビノールである。 42-HPMCは2−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 5HBAは4−ヒドロキシベンジルアルコールである。表2 酢酸中での置換フェニルカルビノールの重合 1PDは多分散度(Mw/Mn)である。 24-HPMCは4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 3MHPMCは3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 4APMCは4−アセトキシフェニルメチルカルビノールである。 52-HPMCは2−ヒドロキシフェニルメチルカルビノールである。 6HBAは4−ヒドロキシベンジルアルコールである。表3 置換フェノールカルビノールの重合により得られる構造 表4 置換フェニルカルビノールの重合によって得られる構造 本発明を上記のいくつかの例で詳細に説明したが、本発明はこれらに制限され ない。むしろ本発明は上述の一般的に説明した範囲に相当する。色々の変方およ び実施態様はその精神および範囲からはずれない。
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Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. (a)少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールをカルボン酸と十分な時間 、適当な温度条件および圧力条件のもとで反応させて反応混合物を生成する段 階および (b)この反応混合物を適当な触媒の存在下に十分な時間、適当な温度条件およ び圧力条件のもとで重合させてノボラック型重合体を生成する段階 を含む、ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法。 2. カルビノールが式 〔式中、R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル基お よびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20−アル キル基であり、R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る群から選択さ れ、そしてR3〜R7はそれらの少なくとも1つがはOR9であるという条件 のもとで、H、C1〜C20−アルキル基、R9がH、C1〜C20−アルキル基 、それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基であるOR9、ハロ ゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群から互いに無関係に 選択される。〕 で表される請求項1に記載の方法。 3. 触媒がルイス酸である請求項1に記載の方法。 4. (a)および(b)段階の温度が約0℃〜約120℃である請求項1に記 載の方法。 5. 触媒がH2SO4、HCl、AlCl3、H3PO4、蓚酸、SnCl2、BF 3、BBr3、BCl3、パラトルエンスルホン酸およびメタンスルホ ン酸より成る群から選択される請求項1に記載の方法。 6. カルボン酸が酢酸である請求項1に記載の方法。 7. 触媒がH2SO4である請求項1に記載の方法。 8. カルビノールが4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノール、2−ヒドロ キシフェニルメチルカルビノールおよびそれらの混合より成る群から選択され る請求項1に記載の方法。 9. カルビノールが3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノール である請求項1に記載の方法。 10. カルビノールが4−アセトキシフェニルメチルカルビノールである請求 項1に記載の方法。 11. カルビノールが3−メチル−4−アセトキシフェニルメチルカルビノー ルである請求項1に記載の方法。 12. カルビノールが4−ヒドロキシベンジルアルコール、2−ヒドロキシベ ンジルアルコールおよびそれらの混合物よりなる群から選択される請求項1に 記載の方法。 13. 請求項1〜12のいずれか一つに記載の方法によって製造された生成物 。 14. ノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレンの製造方法において 、カルボン酸と式 〔式中、(a)R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニ ル基およびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20 −アルキル基であり、(b)R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る 群から選択され、そして(c)R3〜R7はそれらの少なくとも1つはOR9 であるという条件のもとで、H、C1〜C20−アルキル基、R9が H、C1〜C20−アルキル基、それのエステルまたは置換または非置換のフ ェニル基であるOR9、ハロゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基よ り成る群から互いに無関係に選択される。〕 で表される少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールを適当な触媒の存在 下に十分な期間、適当な温度条件および圧力条件のもとで重合させて上記ポリ ヒドロキシスチレンを生成することを特徴とする、上記方法。 15. (a)触媒がH2SO4であり、(b)温度が約0℃〜約120℃であ り、(c)カルボン酸が酢酸であり、(d)カルビノールがヒドロキシフェニ ルカルビノールでありそして(e)ノボラック重合体が約1.0〜約2.0の 多分散度および約1000〜約30、000の分子量を有する請求項25に記 載の方法。 16. 請求項14または15の方法によって製造された生成物。 17. 少なくとも2種類のカルビノールが(a)段階の反応混合物中に存在す る請求項1に記載の方法。 18. 少なくとも2種類のカルビノールを使用し、ノボラック型のブロック重 合体を生成するために、第二のおよび更に別の任意のカルビノールを、予備重 合段階の後に別に添加する請求項1に記載の方法。 19. ノボラック型重合体と連鎖反応停止剤との反応段階(c)を含む請求項 1に記載の方法。 20. 段階(a)で成核剤を含む請求項1に記載の方法。 21. 請求項17、18、19または20に記載の方法によって製造された生 成物。 22. 段階(a)で非ノボラック型構造のポリヒドロキシスチレンを反応混合 物に添加する請求項1に記載の方法。 23. (a)少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールをカルボン酸と十 分な時間、適当な温度条件および圧力条件のもとで反応させて反応混合物を生 成する段階、および (b)この反応混合物を適当な触媒の存在下に十分な時間、適当な温度条件およ び圧力条件のもとで重合させてポリヒドロキシスチレンを生成する段階 を含む方法によって製造されるノボラック型構造を持つポリヒドロキシスチレ ン。 24. カルビノールが式 〔式中、R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル基お よびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20−アル キル基であり、R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る群から選択さ れ、そしてR3〜R7はそれらの少なくとも1つがOR9であるという条件の もとで、H、C1〜C20−アルキル基、R9がH、C1〜C20−アルキル基、 それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基であるOR9、ハロゲ ン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群から互いに無関係に選 択される。〕 で表される請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 25. 触媒がルイス酸である請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 26. (a)および(b)段階の温度が約0℃〜約120℃である請求項23 に記載のポリヒドロキシスチレン。 27. 触媒がH2SO4、HCl、AlCl3、H3PO4、蓚酸、SnCl2、B F3、BBr3BCl3、パラトルエンスルホン酸およびメタンスルホン酸より 成る群から選択される請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 28. カルボン酸が酢酸である請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 29. 触媒がH2SO4である請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 30. カルビノールが4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノール、2−ヒド ロキシフェニルメチルカルビノールおよびそれらの混合より成る群から選択さ れる請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 31. カルビノールが3−メチル−4−ヒドロキシフェニルメチルカルビノー ルである請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 32. カルビノールが4−アセトキシフェニルメチルカルビノールである請求 項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 33. カルビノールが3−メチル−4−アセトキシフェニルメチルカルビノー ルである23に記載のポリヒドロキシスチレン。 34. カルビノールが4−ヒドロキシベンジルアルコール、2−ヒドロキシベ ンジルアルコールおよびそれらの混合物よりなる群から選択される請求項23 に記載の方法。 35. カルボン酸と式 [(a)R1はH、C1〜C20−アルキル基、置換または非置換のフェニル基お よびC(O)R8より成る群から選択され、その際にR8はC1〜C20−アル キル基であり、(b)R2はHおよびC1〜C20−アルキル基より成る群から 選択され、そして(c)R3〜R7はそれらの少なくとも1つがOR9である という条件のもとで、H、C1〜C20−アルキル基、R9がH、C1〜C20− アルキル基、それのエステルまたは置換または非置換のフェニル基であるO R9、ハロゲン原子、BZT、ニトロ基およびアミノ基より成る群から互い に無関係に選択される。〕 で表される少なくとも1種類の置換フェニルカルビノールを適当な触媒の存在 下に十分な期間、適当な温度条件および圧力条件のもとで重合させて上記ポリ ヒドロキシスチレンを生成することを特徴とするノボラック型構造を持つポリ ヒドロキシスチレンを製造する方法によって製造されるノボラック構造を持つ ポリヒドロキシスチレン。 36. (a)触媒がH2SO4であり、(b)温度が約0℃〜約120℃であり 、(c)カルボン酸が酢酸であり、(d)カルビノールがヒドロキシフェニ ルカルビノールでありそして(e)ノボラック重合体が約1.0〜約2.0の 多分散度および約1000〜約30、000の分子量を有する請求項35に記 載のポリヒドロキシスチレン。 37. 少なくとも2種類のカルビノールが(a)段階の反応混合物中に存在す る請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。 38. 少なくとも2種類ノカルビノールを使用し、ノボラック型のブロック重 合体を生成するために、第二のおよび更に別の任意のカルビノールを、予備重 合段階の後に別に、かつ続いて添加する請求項23に記載のポリヒドロキシス チレン。 39. ノボラック型重合体と連鎖反応停止剤との反応段階(c)を含む請求項 23に記載のポリヒドロキシスチレン。 40. 段階(a)で成核剤を含む請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン 。 41. 一般式 [(C89O)x(C88O)y(C87O)zn [式中、x+y+zは1でありそしてnは1〜200である。] で表されるノボラック型構造を有するポリヒドロキシスチレン。 42. 実質的に架橋していない請求項23〜41項のいずれか一つに記載のポ リヒドロキシスチレン。 43. 多分散度が2.0よりも小さくそして分子量が30.000よりも小さ い請求項23〜42項のいずれかに記載のポリヒドロキシスチレン。 44. 段階(a)において非ノボラック型構造のポリヒドロキシスチレンを反 応混合物に添加する請求項23に記載のポリヒドロキシスチレン。
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