JP2001512230A - コンプライアンス測定用顕微鏡 - Google Patents

コンプライアンス測定用顕微鏡

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Abstract

(57)【要約】 試料表面(52)の近傍に移動させうるように構成された力感知プローブ・チップ(48)と、プローブ・チップと試料表面との間での相対的な運動を発生させる走査要素(50)と、プローブ・チップの撓みを生じさせる磁場を発生させる装置(62)と、この装置のためのドライバであって、交流源(66)と大きさが制御された第2の電流の第2の源(74)とを含むドライバと、プローブ・チップの位置を検出する検出器(60)とを備えている原子間力顕微鏡とその操作方法とが提供される。好適な作動モードでは、一方は交流であり他方は可変ではあるが固定された電流という2つの信号が与えられ、プローブ・チップの時間平均位置の変位を生じさせる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ある表面の特性をナノメータの分解能をもって観察しその表面に取
り付けられた個々の分子の特性をプローブを用いて調べる原子間力顕微鏡に関す
る。
【0002】
【従来の技術】
原子間力顕微鏡では、表面の上方に正確に位置決めすることができる先鋭なプ
ローブを用いる。このプローブは、柔軟な(スプリング状の)カンチレバーを介
して位置決め装置に取り付けられている。表面との相互作用は、カンチレバーの
駆動された端部に対するチップのプローブ端部の運動によって指示される。表面
の形状を写す(写像する、map)という通常の使用においては、その撓み(defle
ction)は、プローブが表面上を走査される際のプローブから試料までの距離を 調整することによって、一定に維持される。
【0003】 プローブと表面との間の相互作用は、それ自体が十分な関心対象である。チッ
プを表面から前後に掃引し、カンチレバーの駆動された端部に対するプローブの
撓みをモニタすることによって、Elings他による米国特許第5,224,376号、第5,2
37,859号及び第5,329,808号によって教示されるように、いわゆる力曲線(force
curves)を確定することができる。これらの曲線は、顕微鏡の動作点の設定と 表面の弾性の写像との両方に対して価値がある。
【0004】 従来技術に従って力曲線を得る方式が、図1Aに図解されている。図1Aでは
、圧電アクチュエータ1が、カンチレバー2の硬い端部を試料Sに向かってある
量(XD)だけ掃引するのに用いられる。可撓性を有するカンチレバー3(剛性 kTを有する)は、チップ4が試料を押すと、図1Aに表されているように剛性 kSのばね5によって屈曲する。その結果、チップの変位XTは、一般に、カンチ
レバーの高い端部の変位XDよりも小さくなる。この状況は、カンチレバー(kT )と試料(kS)とに対応する2つのばねの構成をアクチュエータ(XD)とチッ
プ(XT)との変位と共に示す図1Bに表されている。平衡状態では、力学的経 路に沿った力Fは、すべての点と、カンチレバーと試料とがフックばねとして振
る舞う共振周波数よりもはるかに低い周波数とにおいて、等しくなければならな
い。すなわち、 F=kT(XD−XT)=kST (1) であり、これから次の式が得られる。 XT=XDT/(kS+kT) 従って、次の式が導かれる。 F={kST/(kS+kT)}XD=keffD (2) ここで、keffは、変位と力が加えられた点における加えられた力との間の関係 を記述する有効ばね定数(effective spring constant)である。方程式(2) からは、次の(3)が得られる。 keff=kST/(kS+kT) (3) このように、剛性を測定するこの方法では、有効ばね定数は、kSとkTとによっ
て表される2つのばねの直列結合(series combination)に等しい。このような
関係では、最も弱いばねが結合のばね定数を支配する。従って、この従来技術に
よる方式は、柔らかな試料の剛性を測定する場合には、それに対応して柔らかな
(すなわち、より大きな可撓性を有する)カンチレバーが用いられない限り、使
用が限定される。柔らかなカンチレバーの使用は、表面と接触してしまうことに
なる傾向が大きいために排除される。
【0005】 更に悪いことに、従来技術による方法は、試料全体をチップに向かって上向き
に、又は、チップ・アセンブリ全体(及び走査管)を試料に向かって下向きに掃
引することに依存している。このような大きな構成要素は、その質量のために共
振周波数が低く、従って、この方法は本来的に低速であり、この点は、力曲線を
迅速に取得することを望んでいるときには短所といえる。
【0006】 この力曲線取得方法の別の短所は、変位アクチュエータとして用いられる圧電
材料に関するものである。この材料は、ヒステリシスがかなり大きい。印加され
た電圧の方向を反転させると、カンチレバーの変位は、同じ印加電圧においてで
はあるが逆方向からの走査によって得られた変位から遅れるのが通常である。こ
の様子は、典型的な力曲線を示す図2に図解されている。この図に示されている
のは、カンチレバーの変位を縦軸に表面に向かう又は表面からの移動距離を横軸
にとって得られるプロットである。チップが表面から離れているときには、カン
チレバーは撓んでいないので、プロットは平坦な水平方向の線6である。チップ
は、表面に十分に近いときには、制御不能となって表面の内部に急に移動するこ
とがしばしばあり(7に示されている)、接触したままとなって表面によって上
向きに押し上げられる(線8)掃引の方向が反転されると、チップは表面に向か
って低下する(線9)が、走査は、圧電ヒステリシスのために水平軸に沿ってあ
る量Dzだけずれる。カンチレバーのチップは、表面から再び引き離され(10
に示されている)、チップと表面との間の取り付けによって元の接触点からは更
にずれることになる。ヒステリシスの量は、圧電アクチュエータの掃引速度及び
それ以外の特性とその履歴とに依存する。これは、力曲線を取得する際には、特
徴付けが適切になされていない量であり、また、かなりの不確定性の原因となる
【0007】 チップを駆動する別の方法が、Linsay et al., "Scanning Tunneling Microsc
opy and Atomic Force Microscopy Studies of Biomaterials at a Liquid-Soli
d Interface," J. Vac. Sci. Technol. 11: 808-815 (1993)、Linsayによる米国
特許第5,513,518号、Linsayによる米国特許第5,515,719号、Florin et al., "At
omic Force Microscope with Magnetic Force Modulation," Review of Scienti fic Instruments 65: 639-643 (1993)及びO'Shea et al., "Atomic Force Micro
scopy of Local Compliance at Solid-State Interfaces," Chemical Physics L etters 223: 336-340 (1994)に記載されてきている。このアプローチでは、チッ
プの上に磁気粒子又はフィルムを固定し外部の磁場をチップの駆動に用いること
によって、力はチップに対して直接に加えられる(カンチレバー・ホルダの硬質
な部分ではなく)。この様子は、図3Aに概略が図解されている。この図では、
アクチュエータ1は、固定された位置に保持され、カンチレバー・アセンブリ2
の硬質部分も同様である。磁気粒子又はフィルム12は外部の磁場によって作用
を受け、それによって、力Fを、可撓性を有するカンチレバーの端部に与え、チ
ップ4を、剛性kSのばね11によって表されている試料の中に押し入れる。こ の場合には、図3Bを参照すると、カンチレバーの硬い端部と試料との両方が固
定されるので、次の式が得られる。 F=(kS+kT)XT=kefT (4) ただし、次の関係が存在する。 keff=kT+kS (5) 従って、この場合には、カンチレバーと試料とは、並列のばねとして作用する。
この方法は、柔らかい表面(kSが小さい)でもアセンブリの共振周波数をそれ ほどには低下させないという長所を有する。更に、チップだけが移動されている
ので、そして、このチップは顕微鏡の構成要素全体の中で飛び抜けて小さな質量
を有しているので、迅速な作動が可能となる。
【0008】 チップを時期的に駆動する方法は2つある。一方の方法(図4A)では、磁気
材料13の粒子がカンチレバー12の端部に配置され、その磁気モーメントMは
、所望の運動の方向に沿って整列されている。磁場の勾配dB/dz14が、磁
気モーメントと同じ方向に沿って加えられ、その結果としてz方向に沿って次の
ような力Fzが生じる。 Fz=Mz(dB/dz) (6) 第2の幾何学的配置(図4B)では、その磁気モーメントM(15)が所望の運
動の方向と垂直であるフィルムを用いる。磁場Bが、所望の運動16の方向に加
えられ、それにより、トルクnが次の式に従ってカンチレバー上に発生される。
n=Mx (7) そして、示されている幾何学的配置では、これは、次の式によって与えられる所
望の運動の方向のカンチレバーの端部へのFzと等しい。 Fz=|n|/l(アルファベットの小文字のエル) (8) ここでl(アルファベットの小文字のエル)は、カンチレバーの長さである。こ
の後者の操作方法は、Linsayによる米国特許第5,515,718号に記載され、Han et
al., "A Magnetically-Driven Oscillating Probe Microscope for Operation i
n Liquids," Applied Physics Letters 69: 4111-4114 (1996)によって検証され
ている。これは、dB/dzの大きさに依存する先の方法よりも敏感である。大
きな磁場勾配は発生するのが困難である。第2の方法では、与えられたBによっ
てトルクが生じ、それが方程式(8)によって記述されているように、カンチレ
バーが短いことによって大きな力に変換される。
【0009】 この方法は、既に引用したLinsay及びHan et al.によって教示され、やはり既
に引用したO'Shea et al.によって得られる力曲線によって示されるように、A Cモードで操作されるときに最も感度が大きい。この操作方法は、図5A及び5
Bに概要が示されている。カンチレバー20が表面21から離れているときには
(図5A)、チップは振幅X0の範囲で振動する。駆動周波数がチップの共振周 波数よりもはるかに低い場合には、 X0=Fz/kT (9) であり、他方で、カンチレバー20が剛性kSの表面21と相互作用していると きには(図5B)、次のようになる。 X=Fz/(kS+kT) (10) 従って、次の式が得られる。 X/X0=kT/(kS+kT) (11) 表面に近づくと、kSはkTよりもはるかに大きくなるので、X/X0の比は、1 /kSになる、すなわち、試料である表面のコンプライアンスと等しくなる。注 意すべきであるのは、カンチレバーの硬い端部が駆動される場合にも方程式(1
1)と類似の関係を比XT/XDとに対して導くことができる点である。しかし、
測定されるのは(方程式11では、Xと称されている)量XTであるから、これ は実験的には有用ではない。XTは、表面から離れているときには、チップが流 体などの媒体中で駆動される場合には、たとえ共振からは離れていても、単純に
Dと関係しない。
【0010】 表面に近くでチップを直接に力で駆動する場合には、表面からの距離の関数で
ある量X/X0のプロットは、表面の相対コンプライアンス(kS/kT-1を反 映する。このような曲線は、力曲線と区別するために、コンプライアンス曲線と
称するのが適切であろう。コンプライアンス曲線の本来的に感度の高さと情報コ
ンテンツとが、上で引用したO'Shea et al.による測定によって例証されている 。
【0011】 最後に、現在、図6に図解されているように、チップと表面との間に取り付け
られた個々の分子の剛性を測定することに興味が持たれている。化学的な手段を
用いて高分子30の一端をチップ4に取り付け、他方で、他端をチップの下の表
面に取り付ける。従来技術では、分子が圧電アクチュエータ1の運動によって伸
長されたり圧縮されたりする際に力曲線(図2に示されているようなもの)を発
生させることを含んでいる。そのような測定の例は、Reif et al., "Reversible
Unfolding of Individual Titin Immunoglobulin Domains by AFM," Science 2 76: 1109-1112 (1997)という剛性の劇的な変動が、タンパク質の特定の領域が連
続的に解明されるにつれて、観察されている。
【0012】 従って、この技術分野においては、従来技術におけるヒステリシスの問題なし
に、より迅速に試料のコンプライアンスをナノメータのスケールでチップの接近
距離の関数として測定する装置を提供することの必要性が存在する。また、画像
化顕微鏡の動作点を、表面にわたってチップを走査する前に、表面コンプライア
ンスの固定値に設定する方法を提供することも必要である。
【0013】
【発明の概要】
以上の必要性は、磁気的な膜又は粒子が取り付けられている力感知用のプロー
ブ・チップとこのチップに力を加える磁場を発生するソレノイドなどの磁場発生
装置とを有する本発明によって満たされる。チップはカンチレバーに接続され、
このカンチレバーはx、y及びz方向に運動を生じさせることができる圧電アク
チュエータに接続されている。チップの運動は、位置感知性の検出器によって検
出される。本発明の好適実施例では、2つの信号がソレノイドに与えられる。一
方は、交流(AC)信号であって、チップの下にある試料のコンプライアンスを
決定するのに用いられる。他方は、静的な(固定された)電流であって、チップ
の時間平均位置の変位を生じさせるために与えられる。第1の信号に起因して急
激に変動する信号の振幅をモニタしながら第2の信号を低速で変動させることに
よって、チップと試料表面との間の距離の関数としての試料のコンプライアンス
を、圧電アクチュエータを移動させることなく、従って、ヒステリシスなしに、
迅速に取得できる。
【0014】 この好適実施例では、位置感知性検出器からの信号は位相感知性検出器に与え
られる。位相感知性検出器は、第1のAC信号の変調に起因して急速に変動する
成分の絶対値を決定し、チップを表面に接近させたり表面から遠ざたりするため
に与えられるよりゆっくりと変動する信号を排除する。位相感知性検出器の出力
は、アナログ・デジタル・コンバータに、そして更には、コンピュータに与えら
れる。この実施例では、同じコンピュータが、チップの平均位置を制御するゆっ
くりと変動する信号を発生させるのにも用いられている。このようにして、(試
料のコンプライアンスに比例する)位相感知性検出器からの信号が、表面からの
距離の関数としてディスプレイ上に写像することができる。
【0015】 本発明の別の実施例では、これらのデータは、圧電アクチュエータをいくらか
の比較的大きな量でステップ状に移動させた後に停止するという一連のステップ
を通じて収集される。そして、コンプライアンス・データが、チップを磁気的に
変位させることによって取得される。次に、圧電アクチュエータを、チップを磁
気的に再トレースしながら、先の掃引の範囲の最後まで移動させる。以後は、こ
の掃引を反復する。このようにして、コンピュータによって、大きな距離にわた
って、多数の磁気的に掃引されたコンプライアンス曲線が収集されつなぎ合わさ
れる。
【0016】 更に別の実施例では、チップが、圧電アクチュエータ又はソレノイドに加えら
れる信号のいずれかを用いて、試料の表面に対して関心のある位置まで移動され
る。次に、チップは、ソレノイドに与えられる電流をステップ状に増加又は減少
させることによって、新たな位置まで移動させる。位相感知性検出器を用いてA
C信号の振幅を記録し、アナログ・デジタル・コンバータからデジタル信号を取
得し、試料に加えられた歪みのジャンプから相対的なコンプライアンスを時間の
関数としてコンピュータ上に表示することによって、コンプライアンスがこの過
渡的なステップからの経過した時間の関数として記録される。このようにして、
試料の動的な弾性的な性質を写像することができる。高速で振動する信号の違相
(out−of−phase)成分を写像することにより、試料の粘性も得られ
る。
【0017】 距離に対するコンプライアンスをプロットするのは、プローブを表面からの正
確な位置に配置する極めて感度の高い(sensitiveな)方法であり、それを画像 化モードで用いる際には、表面からのチップの位置に対する相対的なコンプライ
アンスの曲線を用いて顕微鏡に対する動作点が選択される。
【0018】 従って、従来技術の場合よりも迅速に、そして従来技術の場合のヒステリシス
なしに、チップの接近距離の関数としてナノメータの尺度で試料のコンプライア
ンスを測定する方法を提供することが本発明の特徴である。また、チップを表面
上で走査する前に、画像化に用いる顕微鏡の動作点を表面コンプライアンスの固
定値に設定する方法を提供することも本発明の別の特徴である。本発明のこれら
の及びそれ以外の特徴は、以下の詳細な説明と、添付の図面と、特許請求の範囲
とから明らかになる。
【0019】
【発明の実施の形態】
磁気的に発振されるチップの相対的な振幅及び位相を取得する電子回路は、Ha
n et al.による米国特許第5,753,814号に記載されている。振幅信号は、方程式 11のX/X0に比例するので、チップが試料の表面に近接しているときには表 面のコンプライアンスに比例する。この量のプロットを典型的な測定のために表
面からの距離の関数として表現したものが、図7に示されている。試料の表面か
ら遠いときには、曲線32のほぼ水平な部分に示されているように、X/X0の 値は1.0である。試料の表面に近づくにつれて、この値は変化する。引力的な
相互作用(attractive interaction)によって、表面のコンプライアンスが負で
ある領域が生じることがあり、従って、X/X0は33に示されるように1を超 えることがある。しかし、更に表面に近づくと、X/X0は34に示されるよう に必然的に減少し、チップが試料の表面と確実に接触するとゼロになる。
【0020】 図8の40における挿入(inset)によって概略的に示されているように、こ の曲線は、電子的に反転させることが可能である。X/X0にオフセット信号A を加えると、出力は次のようになる。 F(Δz)=−X(Δz)/X0+A (12) この信号を試料への移動距離(Dz)の関数としてプロットすると、図2に示さ
れている力曲線との類似が生じる。しかし、液体が液体に関してとられていると
きには、力曲線は試料表面の弾性的な性質と間接的に関係しているだけであるこ
とに注意すべきである。図8においてプロットされている曲線は、方程式12及
び11によってのみ、これらの性質と関係している。F(Dz)(方程式12)
によって表現されているヌルすなわちゼロの値は、オフセット電圧Aの値を変化
させることによって、曲線に沿った任意の点に調整することができる。試料の高
さを調整するフィードバック・コントローラを備えている顕微鏡を用いてこのヌ
ル信号を維持することにより、顕微鏡を、例えば図8の点42など、コンプライ
アンス曲線上にある単一の値をとる任意の点において作動させることができる。
Aの値を増加させると曲線全体は上方向に移動し、その結果、より大きな表面コ
ンプライアンスの輪郭に対応する設定点が得られる。Aの値が小さくなると曲線
全体は下方向に移動し、その結果、より小さな表面コンプライアンスの輪郭に対
応する設定点が得られる。可能な限り大きなコンプライアンスの値でイメージを
得ることが望ましいが、その理由は、これが、表面に接触する際にはチップの発
振振幅の減少がより小さくなることに対応し、従って、試料に与えられるエネル
ギをより小さくすることができるからである。しかし、設定点コンプライアンス
を顕微鏡の安定的な作動を与える最小の値をいくらか超えて減少させる(Aを増
加させる)と、最良の解像度が得られることが多い。
【0021】 ここで与えた例では、広く知られておりこの出願の従来技術に関する説明で説
明されているように、チップを圧電アクチュエータを用いて試料の方向に移動さ
せるながら、チップの発振振幅を所望の値(典型的には、流体中での作動の場合
で、ピーク間が5ナノメータ(nm))に設定し、Han et al.による米国特許第
5,753,814号の位相感知性検出技術を用いて振幅を記録することによって、コン プライアンス信号が得られる。X/X0信号は、従来の力曲線よりも解釈が容易 ではあるが、圧電アクチュエータのヒステリシスと走査の遅さという制限を受け
る。これらの制限は、圧電アクチュエータを固定させたまま保持し、第2の信号
を駆動用ソレノイドに与えてチップを直接的に移動させる場合には解消される。
【0022】 この作動モードが図9及び10に図解されている。図9を参照すると、本発明
による力走査式顕微鏡の全体的なレイアウトが図解されている。図示されている
ように、磁気材料の薄膜又は粒子46が力感知用のカンチレバー・プローブ48
の背面に適用されている。カンチレバー・プローブ48は、プローブを試料54
の表面52の上方に保持する圧電走査トランスデューサ50などの走査要素に取
り付けられている。試料は、オプションであるが、流体56の中に沈めておくこ
ともできる。
【0023】 レーザ・ビーム58がカンチレバー・プローブ48の背面から位置感知性検出
器60の中に反射され、それによって、プローブの撓みを検出し記録することが
可能となる。小型のソレノイド62がカンチレバー・プローブ48の近くに配置
され、カンチレバーの柔軟な軸(soft axis)とほぼ垂直な磁場Bを発生させる 。また、ソレノイドをカンチレバー・プローブ48の背面に置き、磁気的な膜又
は粒子46をプローブの近くに配置しても、同様の結果を達成することができる
。ソレノイド62は、フェライトの磁芯72(米国ニューヨーク州ウォークキル
所在のフェア・ライト・プロダクト社から「フェア・ライト(Fair-Rite)77 」として市販されているマンガン亜鉛鉄酸化物など)にパイル巻きされたワイヤ
70を含む。
【0024】 プローブ・チップ64の位置を試料表面52に対して変調するために、交流(
AC)電圧源66を含むドライバ73を用いてソレノイド62を駆動する。対応
する変調レベルは、やはり基準としてソース66からのAC信号を用いて駆動さ
れる同期式位置検出器68によって検出される。図9に示された好適実施例では
、第2の信号は、プログラム可能な信号発生器74(デジタル・アナログ出力ボ
ードを備えているデジタル・コンピュータなど)からの波形という形式でドライ
バから供給され、これが、演算増幅器である加算器76を用いてチップ64を発
振させるのに用いられるAC信号66に加えられる。加算された電圧は、電圧電
流コンバータ78と更にはソレノイド62とに送られる。
【0025】 プログラム可能な電圧V(t)は、ソレノイドによって与えられる磁場(B)
にプログラムされた変化を生じさせることにより方程式7及び8に従ってチップ
上への力を変化させるように選択される。AC電圧は、適切なSN比を生じる最
小の値に設定される。これは、チップが掃引される速度とカンチレバーの剛性と
にいくぶん依存する。10mSの100nmでの1N/mのカンチレバー掃引の
場合の典型的な値は、ピーク間で1nmである。5x10-10Am2のカンチレバ
ーの平面におけるモーメントにカンチレバーが磁化されている際には、信号発生
器74からのランプ電圧は、チップから約1mmに配置された1mHのソレノイ
ドにおいて電流をゼロから300mAまで駆動するように選択される。この結果
として、ランプの継続時間の間に100nmの変位が生じる。AC成分66は、
2mAのRMS電流を駆動するように選択され、その結果として、約1ナノメー
タのピーク間振幅が生じる。
【0026】 図10Aはカンチレバーを変位させるのに用いられる波形を示し、図10Bは
ソレノイドを駆動する波形を示している。結果的なX(t)/X0曲線は、図1 0Cに示されている。これらの曲線は、圧電アクチュエータを掃引することによ
って得られたものとほとんど異ならない。しかし、これらの曲線は、より迅速に
得ることができ、圧電アクチュエータを掃引することで得られる曲線のヒステリ
シスの程度による影響を受けない。この様子は、図10Dに図解されている。こ
の図では、X(t)/X0が、帰還ランプ上で掃引方向を逆転させることによっ てDzの関数としてプロットされている。上向き及び下向きの走査は、圧電アク
チュエータを用いて得られたデータとは対照的に、ほぼ区別不可能である。
【0027】 迅速な走査は、図6に図解され上述のReif et al.によって報告されている実 験などにおいて、別個の領域が混同されることにより生じる単一の分子からデー
タを取得する際に、特に有用である。この場合には、力曲線は複雑な構造を有し
(highly structured)ており、従って、対応するコンプライアンス曲線もまた 複雑な構造を有している。しかし、コンプライアンス・データは、はるかに広い
範囲の走査速度にわたって取得することが可能であり、そうすることにより、よ
り高い力感知性を達成でき解釈もより容易となる。図11を参照すると、分子が
伸長されより硬くなると(ここでは、駆動用の磁場を与えて、ある時間のうちに
チップを表面から引き離す)、コンプライアンスの最初の減少が得られる。点8
0に対応する臨界的な歪みの時点で分子の一部が展開され(unfold)、曲線のこ
の部分81によって示されているように、コンプライアンスを急速に増加させる
。コンプライアンスは、新たな高い値まで上昇した後に、分子が伸長されるにつ
れて下降する。
【0028】 本発明の長所の1つとして、展開(unfolding)を時間の関数としてモニタし ながら分子を図11の80において記されているような臨界点まで移動させ歪み
を一定に維持することができる点がある。これには、線形的に変化する歪みから
静的な歪みへの急速な変化が要求される。これは、圧電アクチュエータを用いる
場合には応答がはるかに遅いので達成が困難である。
【0029】 ポリマ組織においては、分子が緩和して加えられた歪みに対応する速度は基本
的に重要であり、巨視的な応力・歪み曲線は、ポリマ研究の広く知られた道具で
ある。本発明を用いると、大きさがナノメータのチップの下で単一の分子又は領
域に関する動的な緩和測定を実行することが可能となる。これは、小さな変調を
与えてX(t)/X0を測定しながらプログラムされた電圧(図9の74)を用 いてチップの位置を不連続的にジャンプさせることによってなされる。そのよう
なステップ状の波形の例が、図12Aに示されている。この例では、ソレノイド
を流れる電流がt=0で変化し、それによって、チップを試料表面の中に急激に
押し込んでいる。X(t)/X0の値は、図12Bに示されている。この値は、 t=0までf0で一定であり、新たな平衡値fに達するまでt=0で崩壊を開 始する。このX(t)/X0の崩壊は次の式によって特徴付けることができる。 X(t)/X0=f0−(f0−f)[1−exp(−t/τ)] (13) ここで、tは、試料の特性緩和時間(characteristic relaxation time)である
。この方法を用いると、流体環境におけるカンチレバーの共振周波数に匹敵する
時間スケールでの緩和データを得ることが可能である。共振周波数が100kH
zであるカンチレバーは、数10ミリアンペアを1mHのインダクタンスを有す
るソレノイドに与えるという電流ステップを用いることによって、20マイクロ
秒で数ナノメータのステップ状の運動をさせることができる。200マイクロ秒
以上の緩和時間は、X(t)/X0の崩壊から容易に決定することができる。
【0030】 同様の動的な緩和データは、位相(振幅ではなく)データを用いて得ることが
できる。Han et al.による米国特許第5,753,814号に記載されている制御回路は 、振幅(信号の同相すなわち実部)と駆動信号から90度位相シフトされた信号
の量に比例する位相信号(信号の違相すなわち虚部)との両方に比例する出力を
提供する。この位相信号は、チップ・基板の機械的なシステムの機械的な損失に
関係し、実際、システムの粘性(viscosity)を決定する。上述したような動的 な応力ジャンプ実験におけるコンプライアンス信号と違相信号との同時的なプロ
ットが図13に示されている。これらのデータの組両方に適合する緩和プロセス
のためのモデルによれば、試料の弾性的な特性と粘性的な特性との両方を抽出す
ることが可能となる。
【0031】 この好適実施例に関する本発明の制約は、磁気的な撓みだけによって得られる
垂直方向の運動の範囲が限定されている点にある。すぐ上で考察した例では、3
00mAまでの電流が、カンチレバーを100nmまで撓ませた。カンチレバー
をより大きな垂直方向距離、時には1ミクロン程度まで、にわたって移動させる
ことが望ましいことも多い。加熱と駆動用ソレノイドのサイズの制限との両方の
理由により、より大きな磁場を用いることは実際的でない。この場合には、圧電
アクチュエータと磁気的なカンチレバーの撓みとの縦列(タンデム)結合によっ
て、所望の並進を得ることができる。これは、図14に図解されている。
【0032】 図14Aを参照すると、圧電アクチュエータ50が一定の高さに保持され、他
方で、カンチレバー・チップ64が磁場を印加することによって82の方向に掃
引して下降されている。次に、磁場を急速に反転させる(図14B)ことによっ
て、チップは83の方向に上向きに掃引され、圧電アクチュエータを84の方向
に下向きに移動させる(図14C)ことによって、チップはそれ以前の磁気的な
掃引での最も低い位置の高さに位置するようになる。次に、磁気的掃引を反復さ
せ、チップを85の方向に新たな高さの範囲を通じて走査する。更なる移動が要
求される場合には、このサイクルが必要に応じて反復される。X(t)/X0に 対するデータは、磁気によって駆動された下向きの掃引のそれぞれについてコン
ピュータに記憶され、圧電トランスデューサと磁気的に駆動されるチップとの連
続的な作用によってカバーされる垂直範囲(z)の運動全体にわたってこの量を
連続的に表示するように並置されたスクリーンに表示される。
【図面の簡単な説明】
本発明をより容易に理解するに、以下の添付された図面を例として参照する。
【図1】 図1Aは、圧電アクチュエータと、カンチレバーと、試料(ばねで表されてい
る)とを含み、従来技術による力曲線を収集する従来技術による原子間顕微鏡の
概略である。図1Bは、圧電アクチュエータの運動によって駆動される図1Aの
カンチレバーのばねと試料との概略である。
【図2】 従来技術によって収集された力曲線である。
【図3】 図3Aは、力をカンチレバーに磁気的に与える従来技術による構成の概略であ
る。図3Bは、磁気的な力によって駆動される図3Aのカンチレバー及び試料の
ばねの等価的な機械的構成の概略である。
【図4】 図4及び4Bは、力をカンチレバーに磁気的に与える従来技術による2つの代
替的な方法である。
【図5】 図5A及び5Bは、表面から離れている場合と表面に近接する場合に従来技術
によって磁気的に発振されるチップを概略的に示している。ここで、表面の弾性
的な応答によって、チップの運動は影響を受け始めるものである。
【図6】 図6は、チップと基板との間に挟まった単一の分子から力曲線を得るための構
成の概略である。
【図7】 チップが表面に向けてより近づく際の、正規化された発振振幅のプロットであ
る。
【図8】 図7のデータを挿入部分に示されているオフセット及び反転がある場合に、方
程式12に従って図7のデータを再プロットしたものを示すプロットである。
【図9】 本発明による磁気的に変調された力感知顕微鏡の全体的なレイアウトの概略的
な図解である。この顕微鏡は、プログラムされた磁気波形を用いて力感知用プロ
ーブ・チップを駆動する電子回路を含む。
【図10】 図10Aから10Dは、コンプライアンス曲線を取得するのに用いられる典型
的な波形を示すプロットである。図1Aは、チップを表面から最も遠くまで駆動
した後に表面に向けて駆動する電圧ランプを示し、図10Bは、チップの駆動に
用いられる低速のランプ及び高速の発振成分から構成される合成された電流信号
を示し、図10Cは、X(t)/X0の対応するプロットを示し、図10Dは、 ランプ方向の反転の際に走査方向を変化させることによって距離の関数として写
像されたX(t)/X0を示している。
【図11】 展開される分子などの複雑なシステムからのコンプライアンス曲線のプロット
であり、コンプライアンスが、分子が伸長される際にはまず減少し、それに続い
て、分子が展開する際には急激に増加する様子を示している。
【図12】 図12A及びBは、以下される磁場におけるジャンプを用いてチップの上に力
をステップ状に加え、それに伴うX(t)/X0の変化をモニタすることによっ て得られる動的な応力緩和データである。
【図13】 X(t)/X0の実数成分(左側の軸であり、振幅信号に対応する)とX(t )/X0の虚数成分(右側の軸であり、位相信号に対応する)とを同時に示して いるプロットである。
【図14】 拡張された運動の概略的な表現であり、磁気的な撓みと圧電アクチュエータの
運動とが組み合わされている。
【手続補正書】
【提出日】平成12年11月7日(2000.11.7)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リンゼー,スチュアート アメリカ合衆国アリゾナ州85040,フェニ ックス,イースト・フランシソ・ドライブ 2441 (72)発明者 ジング,ティアンウェイ アメリカ合衆国アリゾナ州85284,テンペ, ウエスト・エル・フレダ・ドライブ 381 (72)発明者 ハン,ウェンハイ アメリカ合衆国アリゾナ州85282,テンペ, ウエスト・ハーモサ・ドライブ 201,ナ ンバー 101 Fターム(参考) 2F063 AA04 AA43 CA11 DA01 DD02 DD08 EA16 GA33 GA57 JA04 LA04 LA11 LA29 2F069 AA04 AA60 DD25 GG04 GG06 GG07 GG62 HH04 JJ06 JJ13 LL03 MM04 MM32 NN05 NN08

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原子間力顕微鏡であって、試料表面の近傍に移動させうるよ
    うに構成された力感知プローブ・チップと、前記プローブ・チップと前記試料表
    面との間での相対的な運動を発生させる走査要素と、前記プローブ・チップの撓
    みを生じさせる磁場を発生させるデバイスと、前記デバイスのためのドライバで
    あって、交流源と大きさが制御された第2の電流源とを含むドライバと、前記プ
    ローブ・チップの位置を検出する検出器と、を備えていることを特徴とする原子
    間力顕微鏡。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の原子間力顕微鏡において、前記第2の電流源
    が、変動する電流を生じることを特徴とする原子間力顕微鏡。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の原子間力顕微鏡において、前記位置検出器か
    らの信号を受信するように構成された位相感知性検出器をさらに含むことを特徴
    とする原子間力顕微鏡。
  4. 【請求項4】 プローブ・チップを有する力感知カンチレバーを含む走査プ
    ローブ顕微鏡の操作方法であって、前記力感知カンチレバーに磁気的な駆動力を
    加えるステップと、前記プローブ・チップが試料表面に対して移動される際に前
    記駆動力に応答する前記プローブ・チップの移動を測定するステップと、を含む
    ことを特徴とする方法。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の方法において、前記プローブ・チップの前記
    移動が、前記試料表面からのプローブ・チップの距離に対する前記プローブ・チ
    ップの相対的な変位のデータとして記録されることを特徴とする方法。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の方法において、前記記録されたデータを用い
    て、前記試料表面からの距離に対する相対的な変位のプロット上の点を選択する
    ことにより前記顕微鏡の動作点を設定するステップを含むことを特徴とする方法
  7. 【請求項7】 請求項4記載の方法において、前記駆動力が、前記プローブ
    ・チップの発振運動を生じさせる第1の信号と、前記プローブ・チップの時間平
    均位置の変位を生じさせる第2の信号と、を含むことを特徴とする方法。
  8. 【請求項8】 請求項7記載の方法において、前記第2の信号が時間的に変
    動するようになされていることを特徴とする方法。
  9. 【請求項9】 請求項7記載の方法において、前記移動が位置感知性検出器
    によって感知されるようになされていることを特徴とする方法。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の方法において、位相感知性検出器に対する
    前記プローブ・チップの移動量の関数である前記位置感知性検出器からの第3の
    信号を供給するステップを含むことを特徴とする方法。
  11. 【請求項11】 プローブ・チップを有する力感知カンチレバーを含む走査
    プローブ顕微鏡を用いて試料の動的な弾性を測定する測定する方法であって、駆
    動力を前記プローブ・チップに加えるステップと、前記駆動力を変化させるステ
    ップと、時間の関数として前記プローブ・チップの移動を記録するステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の方法において、前記駆動力が、ソレノイ
    ドによって供給される磁気的な駆動力であり、前記磁気的な駆動力が、前記ソレ
    ノイドに与えられる電流を変化させることによって変化させられるようになされ
    ていることを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項11記載の方法において、前記駆動力が、圧電アク
    チュエータによって供給され、前記駆動力が、前記プローブ・チップに磁気的な
    駆動力を与えることによって変化させられるようになされていることを特徴とす
    る方法。
  14. 【請求項14】 請求項11記載の方法において、前記プローブ・チップの
    違相運動を記録するステップを含むことを特徴とする方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107193008A (zh) * 2017-07-25 2017-09-22 安徽大学 一种超声波测距装置及方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2145055C1 (ru) * 1999-02-08 2000-01-27 Ао "Автэкс" Способ сбора и обработки информации о поверхности образца
US6377066B1 (en) * 1999-07-09 2002-04-23 Mfi Technologies Corporation Method and apparatus for sub-micron imaging and probing on probe station
US6188322B1 (en) * 1999-09-28 2001-02-13 Rockwell Technologies, Llc Method for sensing electrical current
FR2807162B1 (fr) 2000-03-31 2002-06-28 Inst Curie Sonde d'analyse de surface pour un microscope a force atomique et microscope a force atomique la comportant
EP1197726A1 (en) * 2000-10-04 2002-04-17 Eidgenössische Technische Hochschule Zürich Multipurpose Sensor and cantilever for it
US6989075B1 (en) 2000-11-03 2006-01-24 The Procter & Gamble Company Tension activatable substrate
US6734438B1 (en) 2001-06-14 2004-05-11 Molecular Imaging Corporation Scanning probe microscope and solenoid driven cantilever assembly
JP2005520320A (ja) * 2001-06-21 2005-07-07 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド 位置に依存しない力によるソレノイド・アクチュエータ
US8252316B2 (en) 2002-05-03 2012-08-28 Purepharm Inc. Method of topically applying glycopyrrolate solution using absorbent pad to reduce sweating
CA2384922C (en) * 2002-05-03 2008-09-02 Purepharm Inc. Topical glycopyrrolate product for the reduction of sweating
EP1644937A1 (en) * 2003-07-15 2006-04-12 University Of Bristol Probe for an atomic force microscope
US7146282B1 (en) * 2005-05-06 2006-12-05 Wisconsin Alumni Research Foundation Mechanical force detection of magnetic fields using heterodyne demodulation
JP5046039B2 (ja) * 2008-04-16 2012-10-10 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 液中観察用センサ及び液中観察装置
SG171994A1 (en) * 2008-12-11 2011-07-28 Infinitesima Ltd Dynamic probe detection system
US20150075264A1 (en) * 2012-03-27 2015-03-19 Hysitron, Inc. Microscope objective mechanical testing instrument
US8973161B2 (en) * 2012-06-22 2015-03-03 Rutgers, The State University Of New Jersey Method and apparatus for nanomechanical measurement using an atomic force microscope
WO2017123779A1 (en) 2016-01-12 2017-07-20 Stuart Lindsay Porous material functionalized nanopore for molecular sensing apparatus
US10073057B2 (en) * 2016-06-14 2018-09-11 Universidad De Santiago De Chile Micro magnetic trap and process for evaluating forces with pico Newton resolution

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5224376A (en) * 1989-12-08 1993-07-06 Digital Instruments, Inc. Atomic force microscope
US5237859A (en) * 1989-12-08 1993-08-24 Digital Instruments, Inc. Atomic force microscope
US5266896A (en) * 1992-06-09 1993-11-30 International Business Machines Corporation Mechanical detection and imaging of magnetic resonance by magnetic moment modulation
JP2743761B2 (ja) * 1993-03-19 1998-04-22 松下電器産業株式会社 走査型プローブ顕微鏡および原子種同定方法
US5461907A (en) * 1993-03-23 1995-10-31 Regents Of The University Of California Imaging, cutting, and collecting instrument and method
US5406832A (en) * 1993-07-02 1995-04-18 Topometrix Corporation Synchronous sampling scanning force microscope
JP3076889B2 (ja) * 1993-09-02 2000-08-14 セイコーインスツルメンツ株式会社 磁気力顕微鏡
US5513518A (en) * 1994-05-19 1996-05-07 Molecular Imaging Corporation Magnetic modulation of force sensor for AC detection in an atomic force microscope
US5515719A (en) * 1994-05-19 1996-05-14 Molecular Imaging Corporation Controlled force microscope for operation in liquids

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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