JP2001511719A - 金属製完全稠密型及び部品の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 金属製完全稠密部品、又は金属製型半部を形成するための方法を提供する。この金属製型半部は、多数の部品を鋳造するための型を形成するため、別の型半部と対をなして係合し合う。工程には、臨界パターン表面を持つパターンを開放端を持つ型枠内に置く工程が含まれる。臨界パターン表面は上を向いている。他の工程には、型枠に加えられた高濃度の熱可逆性ゲル溶液で臨界パターン表面を覆う工程、及びゲル溶液を冷却して弾性固体ゲル型を形成する工程が含まれる。この他の工程には、型枠及びパターンを弾性ゲル型から取り外す工程、及び固体ゲル型の周囲でセラミック型を鋳造する工程が含まれる。他の工程では、セラミック型から除去するためにゲル型を液化し、セラミック型をその臨界セラミック表面が上を向くように逆様にする。更に別の工程には、臨界セラミック表面を粉体で覆う工程と、所定量の溶浸材料を粉体の上に置く工程と、粉体を溶融したり焼結したりすることなく溶浸材料を溶融するのに十分な温度の炉内にセラミック型、粉体、及び溶浸材料を置く工程が含まれる。溶浸材料の量は、粒子間の空所を充填することによって完全稠密型半部を形成するのに十分である。

Description

【発明の詳細な説明】 金属製完全稠密型及び部品の形成方法 発明の分野 本発明は、原型形成を迅速に行うための方法に関し、更に詳細には、正確な金 属製部品を形成するための方法及び多数の原型部品を成形できる金属製型を形成 するための方法に関する。更に、本発明は、熱可逆性材料(heat reversible mat erial)を使用してパターンの中間型を形成することによって、正確な金属製型を 形成するための方法に関する。 発明の背景 新たな製品を競争者よりも速く市場に投入することが高い市場占有率を得る上 での鍵であることが知られている。かくして、新たな製品開発の全ての段階を迅 速に行うことが求められている。全ての市場のタイミングに大きな影響を及ぼす 製品開発の一領域は、市場調査を行うために製品及びパッケージの原型を製作す ることである。消費者が検討したり使用したりするため、このような調査には、 通常、外見、感じ、及び機能が似た多数の原型が必要とされる。 量産が必要とされる場合には、一般的には、部品を成形で製造する。量産的成 形には、代表的には、非常に高価な、多数のキャビティを持つ、鋼製の型で製造 されたプラスチック製の部品が含まれる。例えば、多くの壜は吹込成形され、多 くの壜蓋は射出成形される。通常は、製造用型の費用を正当化するため、大量に 製造される。他方、市場調査については、数百個の部品しか必要とされない。し かしながら、多くの場合、製造部品として同じ特徴を持つように原型部品を成形 することが必要とされる。 成形により原型部品を迅速に得るための方法は、試行錯誤である。少量の部品 を鋳造できる原型部品型を迅速に製作するための解決策が既に幾つか存在する。 例えば、耐火物粉体及び熱可塑性バインダーを可撓性ゴムパターン内で加熱しな がら組み合わせることができる。このプロセスにより、未処理物品(green artic le)を形成する。次いでこの未処理物品を更に加熱し、バインダーを溶融させて 除去する。結果的に得られた多孔質物品を溶融状態の低融点金属で溶浸し、機械 加工を施した表面を持たない高密度の型を形成する。このプロセスの欠点は、バ インダーの除去後に型を一体に維持するため、粉体が焼結されることである。焼 結により、粒子は、焼結されなかった場合に占有する空間よりも小さな空間を占 有する。かくして、焼結による収縮により、型及びこの型から製作された物品の 精度に影響が及ぼされる。 銅線を焼結粉体と組み合わせることによって、例えば冷却流体用のチャンネル を持つ焼結金属物品を形成できる。焼結温度を加えると、銅線が溶融し、焼結流 体の孔に吸収され、チャンネルを形成する。当該技術分野の他のプロセスは、一 体に焼結し、溶浸金属が内部で凝固できるマトリックスを形成する金属粒子を含 む。焼結プロセスは、粒子間間隔を幾分変化させ、そのため、金属を溶浸した部 品の寸法が不正確になる。 部品の原型形成を迅速に行うための別の方法は、従来の射出成形したワックス パターンの代わりに迅速原型形成システムによって製造したパターンを使用する インベストメント鋳造法である。このようなパターンの一例は、クイックキャス トである。クイックキャスト(Quick Cast)は、カリフォルニア州ヴァレンシアの ３Ｄシステムズ社の商標である。プラスチック製の中空パターンを、薄いセラミ ックシェルで、通常は浸漬プロセスによってコーティングする。プラスチックを 燃焼させてセラミックシェルから除去し、裏側に残る灰残滓を最少にする。次い で、溶融金属をセラミックシェルに注入し、金属部品又はプラスチック部品用金 属製型を鋳造する。シェルには溶融金属を入れるための小さな孔しか設けられて いないため、臨界表面(critical surface)を灰残滓について検査するのが困難で ある。臨界表面に残った灰は、金属の鋳造を台無しにする可能性がある。溶融金 属は冷却すると収縮し、そのため臨界表面は正確には再現されない。部品が大型 になればなる程、不正確さが大きくなる。 インベストメント鋳造プロセスに対する改善は、セラミックスラリー及びセラ ミックシェルが正確に硬化するように化学的に制御されたバインダーを注入する ことによってパターンの周囲に形成されたセラミックシェルを使用することであ る。これは、シェルの製造が迅速であるため、インベストメント鋳造プロセスに 対する改善である。しかしながら、インベストメント鋳造法は、それでも、溶融 金属の収縮に起因する不正確さがそれ程大きなものとならない小型の型に限定さ れている。 完全稠密型(fully dense mold)の改良された形成方法が１９９６年４月にトー ビンに付与された米国特許第５，５０７，３３６号に開示されている。この方法 は、金属製型の製造で使用される溶浸材料よりも融点が高いチューブ内にパター ンを置く工程を含む。パターン表面とチューブの開放端との間でセラミック部材 を鋳造し、臨界パターン表面をセラミック部材に転写する。セラミック表面は、 パターン表面に対して反転している。パターンを燃焼させて除去し、セラミック 表面をチューブ内に残す。次いでセラミックをチューブの他端から入れた金属粉 体及び溶浸材料で覆い、チューブを炉内に置き、セラミック表面上で金属製部品 を形成する。金属製部品の表面は、セラミック表面に対して反転している。セラ ミック部品を除去すると、金属製型が得られる。金属製型はパターンと同形状で あり、これと反転した形状を持つプラスチック部品を成形する上で有用である。 これは、外部臨界表面を持つ部品の理想的なプロセスである。 トービンのプロセスは、セラミック型を形成するために使用されたパターンを 破壊する。パターンを破壊しないけれども正確な、セラミック型パターンを迅速 に形成するためのプロセスが必要とされている。更に、多くの場合、プラスチッ ク部品の成形を行うために、対をなして係合し合う金属製型を提供する必要があ る。これを行うため、金属製型は、パターンの反転である成形体(shape)を必要 とする。かくして、セラミック型は、パターンと同じ形状を持つ必要があり、及 び従って、セラミック型とパターンとの間で中間型を製造する必要がある。トー ビンの初期のプロセスと同様に、結果的に得られた金属製型が正確であるように セラミック型はその内面が汚れていてはならない。 パターンを破壊しなくても済むようにするため、臨界パターン表面をセラミッ ク型に転写するため、必要に応じて廃棄又は再使用できる材料でできた中間型を 使用するのが望ましい。こうした目的でワックス及びシリコーンゴムが使用され てきた。ワックス（これは熱可逆性である）には、脆性であり、パターンから取 り出す際に特にアンダーカットや薄い特徴が含まれる場所で小さな片が壊れて外 れることがあるという欠点がある。更に、加熱されたときにセラミックを膨張さ せたり亀裂を入れたりする。シリコーンゴムは硬化させる必要があり、セラミッ クがその「硬化」時に熱を放出すると、シリコーンゴムが変形し、セラミックパ ターンに不正確さを生じる場合がある。更に、シリコーンゴムは、シリコーンを セラミックから押し出す空気注入又は他の手段によってパターンから取り出さな ければならない。これは、特にアンダーカットや薄い特徴が含まれる場所でセラ ミック型を壊すことがある。 主として、部品の大きさに拘わらず比較的多数のプラスチック部品を成形でき る射出成形を行うための正確な金属製型を迅速に製作するための、焼結を伴わな い方法は提供されてこなかった。 本発明の目的は、任意の大きさのパターンの正確な複製を±０．１２７mm（０ ．００５インチ）の許容差内で製造する、パターンに対して反転形状を持つ金属 製型を製作するためのプロセスを提供することである。 更に、本発明の目的は、パターンの反転中間型の製作に弾性の熱可逆性材料を 使用するプロセスを提供することである。この反転中間型は、この型からのセラ ミック型の形成中に変形しないが、セラミック型の壊れ易い特徴を壊すことなく 、セラミック型から容易に取り外すことができる。 これらの及び他の目的は、本発明の説明から明らかである。 発明の概要 本発明の一つの特徴では、パターンから完全稠密型半部を製造する方法は、臨 界パターン表面を持つパターンを開放端を持つ型枠内に配置する工程を含む。臨 界パターン表面は、開放端に向かって上に向いている。他の工程は、臨界パター ン表面を、型枠に加えられた高濃度の熱可逆性ゲル溶液で覆う工程、及びゲル溶 液を冷却し、弾性固体ゲル型を形成する工程を含む。ゲル型は、臨界パターン表 面から転写された臨界パターン表面に対して反転した臨界ゲル型表面を有する。 別の工程は、型枠及びパターンを弾性ゲル型から取り外す工程、及び臨界ゲル型 表面から転写された、臨界ゲル型表面に対して反転した臨界セラミック表面を持 つ、セラミック型を固体ゲル型の周囲で鋳造する工程を含む。これによって、臨 界セラミック表面は、臨界パターン表面を正確に複製する。別の工程には、セラ ミック型から除去するためにゲル型を液化する工程、及び臨界セラミック表面が 上を向くようにセラミック型を逆様にする工程が含まれる。更に別の工程は、粉 体で臨界セラミック表面を覆う工程と、所定量の溶浸材料を粉体上に置く工程、 及び粉体を溶融したり焼結したりすることなく溶浸材料を溶融するのに十分な温 度の炉内にセラミック型、粉体、及び溶浸材料を置く工程を含む。粉体は、融点 が溶浸材料よりも高い粒子を含む。これらの粒子は、間に空所を持っている。溶 浸材料の量は、粒子間の空所を充填し、これによって、完全稠密型半部を形成す るのに十分である。完全稠密型半部は、溶浸材料の凝固時に臨界セラミック表面 から転写された臨界完全稠密型表面を有する。臨界完全稠密型表面は、臨界セラ ミック表面に対して反転した形状を有する。最終工程は、完全稠密型半部からセ ラミック型を取り出し、成形を行う目的で臨界完全稠密型表面を露呈する工程を 含む。 本方法は、部品を鋳造するため、完全稠密型半部がこの半部と対をなして係合 し合う型半部と整合できるように、完全稠密型半部を機械加工する工程と、部品 を鋳造するために鋳造可能な材料を臨界完全稠密型表面に導入するため、完全稠 密型半部を貫いてスプルー孔を機械加工する工程とを更に有する。本プロセスは 、ゲル溶液を冷却して弾性固体ゲル型を形成する際にゲル溶液を脱気する工程を 更に有する。 熱可逆性ゲル溶液は、好ましくは、約３５％乃至約５０％のゲル材料、約４５ ％乃至約６５％の水、及び約０％乃至約１０％が消泡剤を含む。ゲル材料は、好 ましくはゼラチンである。ゲル溶液は、更に、ファイバ又は他のシックナーを含 む。消泡剤は、好ましくはシリコーンである。粉体はタングステンである。溶浸 材料は、銅、銅合金、及びベリリウム銅からなる群から選択される。パターンは 、エポキシでできており、立体リトグラフプロセス(stereolithography process )によって形成されたものである。 図面の簡単な説明 本明細書は、本発明を特定的に指摘し且つ明瞭に特許請求する請求の範囲で終 わるけれども、本発明は、好ましい実施形態の以下の説明を、同じ構成要素を示 すのに同じ参照番号を附した添付図面を参照して読むことによって更によく理解 されるであろう。 第１図は、第１型枠３の内側に位置決めされた臨界パターン表面１３を持つパ ターン１を正面から見た断面図である。 第２図は、高濃度のゲル溶液５を注入した第１型枠３内のパターン１を正面か ら見た断面図である。 第３図は、第２型枠８と凝固させたゲル型７との間に環状空間１２を置いて第 ２型枠８の内側に位置決めされた、臨界パターン表面１３から転写された臨界ゲ ル型表面１０を持つ凝固させたゲル型７を正面から見た断面図である。 第４図は、凝固させたゲル型７上及び環状空間１２内に石膏即ちセラミック溶 液９が注入されて臨界ゲル型表面１０を覆っている、第１型枠８を正面から見た 断面図である。 第５図は、第２型枠８及びゲル型７を取り除き、臨界ゲル型表面１０から転写 された臨界パターン表面１３の正確な複製である臨界セラミック表面１４及びセ ラミック環状壁１６を露呈した、凝固させた石膏型１１を正面から見た断面図で ある。 第６図は、発熱性石膏溶液（図示せず）を第２型枠８に加える前にゲル型７を 支持するため、環状空間１２を非発熱性石膏溶液１５で部分的に充填した、第４ 図に示す実施形態の変形例を正面から見た断面図である。 第７図は、タングステンカーバイド粒子１７が環状壁１６の内側に配置されて 臨界セラミック表面１４を覆っており、溶浸金属１８が粒子１７の上に置かれて いる、第５図の凝固させた石膏型１１を正面から見た断面図である。 第８図は、石膏型１１を粒子１７及び溶浸金属１８とともに炉内に置き、溶浸 金属を粒子内に融かし込み、これによって臨界セラミック表面１４が転写された 金属／粒子組成物型１９を製造することを示す、石膏型１１を正面から見た断面 図である。 第９図は、金属／粒子組成物１９を凝固させた後に石膏型１１を取り外し、金 属／粒子組成物１９に形成された臨界金属製型表面２０を露呈する、金属／粒子 組成物１９を正面から見た断面図である。 第１０図は、第１完全稠密金属製型半部２１を形成するために両端に機械加工 が施してある９０°回転させた金属／粒子組成物１９、及び部品を成形するため に第１型半部２１と対をなして係合し合おうとしている、同様の方法で製作され た第２型半部２２を示す断面図である。 第１１図は、対をなして係合し合う金属製の半部２１と２２との間で射出成形 された、パターン１の臨界パターン表面１３を正確に複製する外面２４を持つ部 品２３を正面から見た断面図である。 発明の詳細な説明 本明細書中で使用されているように、「セラミック」という用語は、焼成によ り硬質の製品を形成できる石膏、クレイ（ｃｒａｙ）、シリカ、又は他の非金属 材料等の材料に関する。 本明細書中で使用されているように、「ゲル」という用語は、弾性即ちゴム質 であり、固体であるが脆性でないコロイド状ゲル又は固体材料を形成する材料に 関する。ゲルを形成する上でゼラチンが好ましい材料である。ゲルは、硬化して 固体成形体になるセラミック鋳込体との接触時にゲルに加わる範囲内の温度変化 に伴って膨張したり収縮したりしない柔らかな弾性固体を形成するが、ゲルは、 セラミック成形体を加熱したとき、又は更なる発熱反応が加わったときに溶融し 、又は液化する。 本明細書中で使用されているように、「熱可逆性」という用語は、約５０℃以 下の温度で凝固し、約６５℃以上の温度で溶融し即ち液化する材料に関する。 次に、添付図面のうち特に第１図を参照すると、この図には、金属製完全稠密 型の形成方法を提供する、全体に参照番号１を附した本発明の好ましいパターン が示してある。パターン１は、好ましくは、原型形成技術で周知の立体リトグラ フプロセスによって製作される。このプロセスでは、パターンは、電子ファイル に従ってポリマーをレーザー硬化させることによって迅速に製造される。更に好 ましくは、パターン１はエポキシ製であり、クイックキャスト（クイックキャス ト（ＱＵＩＣＫＣＡＳＴ）は、カリフォルニア州バレンシアの３Ｄシステムズ社 の登録商標である）プロセスによって中空ハニカム構造を持つように製造される 。パターン１は、臨界パターン表面１３を有する。この表面は例示の目的で、截 頭円錐形の壜蓋の外部を表す。 第１図は、臨界パターン表面を上方に向けて置いたエポキシパターン１及びこ のパターンの周囲に配置された型枠３を示す。型枠３は、好ましくは、両端が開 放しており、パターンの上に置かれた材料を収容するために第２図に示すように パターンの上方に延びる連続壁を有する。パターン１は、連続壁にぴったりと嵌 まっている。 弾性材料をパターン上に注ぎ込む。弾性材料は、ＲＴＶシリコーンゴムである のがよい。このようなゴム製パターンの製造は、当該技術で一般的である。ゴム 製の型をパターンから取り外す工程は、ゴム製パターンをパターンから直接引っ 張る工程又はゴム製パターンをパターンから空気放出する工程を含む。これは、 ゴム製パターンが可撓性であり、パターンに付着しないためである。別の態様で は、弾性材料は、ヒドロコロイド状ゼラチン溶液等の熱可逆性材料でできた固体 ゲルであるのがよい。ゼラチンは、熱水に容易に分散し、溶解し、冷却すると柔 らかな弾性材料を形成する。 弾性型は、臨界パターン表面をセラミック型に転写する中間型を提供しようと するものである。同様に、セラミック溶液を開放型枠内に置いた弾性型の周りに 注ぎ込み、硬化させる。しかしながら、セラミック材料は、代表的には、発熱結 合反応で熱を発生する。このような熱は、ＲＴＶシリコーンゴムを膨張させ、臨 界表面の形状を変形させる。更に、シリコーンゴム型は、最終的には、これをセ ラミック型から引っ張ることによって又は空気放出することによって、セラミッ ク型から除去しなければならない。薄い区分やアンダーカットが含まれる場合に は、このような除去工程により脆性のセラミックス型が損傷する場合がある。 ゼラチンは、これを溶融することによってセラミック型から容易に除去される 。 セラミックの発熱反応は、代表的には、隣接したゼラチンを溶融し、そのため、 セラミックの硬化時に表面の変形が生じない。結果的に得られたセラミック型を 、高温の水、グリセリン、又は酢酸で洗浄し、セラミック型を焼成して硬化させ る前に残滓を完全に除去できる。 ゼラチンは、通常は食肉等の日常的な製品から得られる蛋白質である。ゼラチ ンは、互いに絡み合い且つ部分的に関連した蛋白質分子でできた構造即ちマトリ ックスを形成し、ここに水が捕捉される。好ましいゼラチンは、アイオワ州スー 市のキングアンドノックスゼラチン社から入手できる２５０ブルーム（Ｂｌｏｏ ｍ）食用豚皮ゼラチンである。 これらの判断基準に合う他のゲル系を使用できる。ラムダカラゲーニン、及び キサンタンガム及びローカストビーンガムの混合物を使用できる。繊維又は他の 構造材料をゲル中に分散させることができる。これらの構造材料は強度を追加し 、溶融させたゼラチンとともにセラミック型から容易に除去できる。 ゲル溶液の濃度を更に高めるのがよい。一般的には、ゼラチン固形分を約３５ ％乃至約５５％含み、水を約４５％乃至約６５％含み、界面活性剤又は消泡剤を 約０％乃至約１０％含むゼラチン溶液が形成される。更に好ましくは、ゲル溶液 は、ゼラチン固形分を約３５％乃至約４５％含み、水を約５０％乃至約６５％含 み、消泡剤を約３％乃至約８％含む。例示の混合物は、４７５ccの水、２５ccの 消泡剤、及び１７５ｇのゼラチンを含む。他のゲル系に同じ比を使用する。正確 なレベルの決定は、当業者の技術に委ねられている。ゲルの水を結合でき、又は 水の活性を下げることができる他の添加剤を加えることができる。例えば、グリ セリン、砂糖、又はグリコールを加えることができる。 代表的には、ゼラチンを冷水に加える。次いでこの混合物を加熱する。水及び ゼラチン即ちゲル材料を約８０℃乃至約１００℃の範囲まで加熱する。別の態様 では、ゼラチン又は他のゲル材料を熱水に加えることができる。混合物が均質で あるように見えるようにゲルが溶解し又は分散するまで溶液を攪拌する。好まし くは、溶液を電子レンジ内で加熱し、水の温度を維持し、分散度を高める。分散 中に溶液を真空下に置き、発泡を抑える。他の脱気プロセスも使用できる。 好ましくは、水をゼラチンと結合する前に界面活性剤又は脱気剤を水に加える 。シリコーン及び非イオン系界面活性剤が良好な消泡剤である。ジメチルシリコ ーンを使用できる。好ましい脱気剤は、オハイオ州シンシナチのスペクトラムサ ービス社からフォームドロップＳとして入手できるポリジメチルシロキサンであ る。 ゲル分散系を、第２図に示すように、端部が開放した型枠内に置いたパターン の周りに注ぎ込む。高温のゼラチン溶液を注ぎ込む場合、パターンによって水分 が吸収される懸念がある。立体リトグラフで使用される樹脂は、多くの場合、水 分に対して敏感である。従って、先ず最初に、オハイオ州ソロンのシャーウィン ウィリアムズ社の製品であるクライロン（クライロン（ＫＲＹＬＯＮ）は登録商 標である。）の薄いコーティングでパターンの表面をシールするのが有利である 。 更に、ゼラチン注入工程で脱気を行うのが有利である。注入は、例えば７６２ mmHg（３０inHg）の真空チャンバ内で実施されるのがよい。同伴された空気を除 去し、気泡がパターン／ゲル界面に集まらないようにする。更に、ゲルに同伴さ れた空気又はガスは、ゲルマトリックスを不安定にする。ゼラチン注型は、部品 の大きさに応じて多数回の注入によって行うのがよく、そのため、気泡を除去す る上で脱気が更に効果的になる。多数回の注入の第１の注入は、好ましくは、次 の注入前に皮膜を形成でき、そのため、気泡は第１注入に侵入しない。 ゲルが弾性固体構造を形成するまで型枠を冷却する。ゲルの濃度、パターンの 大きさ、及びゲル層の深さに応じて、ゲルの硬化に約１時間乃至約１５時間を要 する。一般的には、４．４４℃（４０°F）又は４℃の冷蔵庫内で２時間乃至８ 時間で十分である。濃度が非常に高い溶液は、室温で数時間内に弾性固体構造を 形成する。 ゲル溶液の深さは、セラミック型についての所望のパターン及び大きさで決ま る。当業者は、実験を余り行わなくてもこれを容易に決定できる。代表的には、 各臨界パターン表面上で約２．５４cm（１インチ）の最少ゲル厚が望ましい。 次いで、凝固させた中間ゲル型をパターンから引き出す。好ましい実施形態で は、型枠は容易に取り外すことのできる側部で形成されており、これらの側部を 、ゲル型の凝固後に引き離し、その後、ゲル型をパターンから引き離す。ゲル型 は、パターンピースを容易に外すのに十分に構造的に弾性であり、アンダーカッ ト及び薄い特徴が含まれてる場合でも、パターンの臨界表面の歪みのない反転複 製(inverse replication)を保持する。 ゲル型を、冷蔵温度で、しかし凍結させることなく保管するのが好ましい。蛋 白質はそのマトリックス内に水分を保持し、約１８℃以上の暖かな温度に長期間 露呈すると、水分を放出してしまう。これは、ゲル型の臨界表面の精度に悪影響 を及ぼす。 第３図は、第２型枠内に置いたゲル型を開示する。この型枠内に石膏又はセラ ミック溶液が加えられる。ゲル型は、臨界ゲル型表面が第２型枠の開放端に向か って上に向いた状態で配置される。好ましくは、第２型枠とゲル型との間に十分 な空間を確保でき、そのため、セラミックがこの空間内でゲル型の周囲に形成さ れる。これによって形成されたセラミック型は臨界セラミック表面を取り囲む連 続した環状セラミックリムを持ち、これにより、セラミック型は、別の型枠を必 要とせずに金属溶浸型の鋳造に容易に使用できる。 石膏又は他のセラミック材料をゲル型よりも上の深さまで第２型枠に注入する 。好ましくは、この深さは、ゲル型の上方約１cm乃至約５cmである。好ましくは 、注入したセラミック材料の脱気を真空下で行い、最終的なセラミック型の形成 に悪影響を及ぼす空気を完全に除去する。石膏又はセラミック材料は先ず最初に 「硬化」し、即ち固体形状をとり、その後完全に凝固する。結合プロセス中、石 膏内で発熱反応が生じ、これにより、石膏が取り囲むゲルを溶融させる。型枠は 、好ましくは、剥離剤でコーティングしてあり、そのため、型枠をセラミック型 から容易に取り外すことができる。 好ましい実施形態では、二つの異なるセラミック材料が使用される。先ず最初 にゲル型を第１石膏又はクレイ材料に包み込む。この材料は、硬化して剛性構造 になるが、発熱せず、即ちゲル構造にその融点又は液化点に近い温度を加えるこ とがない。この非発熱性材料は、代表的には、弱い。ゲル型を固定するためにこ の材料を注入し、環状空間を充填し又は部分的に充填する。これは、これを行わ ないと、石膏の密度がゼラチンの密度よりも高いためにゲル型が全石膏構造の鋳 造中に上方に浮いてしまうためである。非発熱性セラミックは弱いため、環状壁 は、代表的には、取り扱いの目的のため、少なくとも２．５４cm（１インチ）の 厚さにつくられる。第１プラスチックは約４５分乃至９０分で硬化を完了する。 第１セラミック型の凝固後、第２の石膏又はクレイ材料を加え、第１セラミッ ク型及び臨界ゲル型表面を覆う。第２セラミック材料には発熱反応が加わりその 強度を高める。これは第１のセラミック型に容易に結合する。発熱性石膏は、代 表的には、硬化の完了に約１０分間を要する。第２石膏用のバインダーを冷却す ることは反応速度を下げることの助けとなり、石膏の脱気を行うために更に多く の時間を提供する。２工程石膏鋳造により、臨界セラミック表面が元のパターン の臨界パターン表面を正確に複製する、更に正確なセラミック型が得られる。第 ６図は、第１石膏１５の使用を開示する。 好ましい非発熱性燐酸塩結合石膏は、オハイオ州モーミーのランソンアンドラ ンドルフ社から入手できる８４７コアミックスである。オハイオ州モーミーのラ ンソンアンドランドルフ社から入手できるＣ１−コアミックス（ＣＯＲＥ Ｍｉ ｘ）が最も好ましい発熱性セラミック材料である。これは、石英ガラス、珪酸ジ ルコニウム、燐酸アンモニウム、シリカ（クリストバライト）、及び酸化マグネ シウムの混合物である。ランソンアンドランドルフ社から入手できるコアハード ナー（Ｃｏｒｅ ｈａｒｄｎｅｒ）２０００を使用できる。これは、非晶質シリ カ及びニカリウム−６−ヒドロキシ−３−オクソ−９−キサンテン−０−ベンゾ エートを含む。 好ましくは、ゲル型は、セラミック溶液を第２型枠内に注入するときにその冷 蔵温度にある。セラミックの硬化後、セラミック型及び残ったゼラチンをオーブ ン内で加熱し、ゲルを容易に除去するために完全に溶融させることができる。オ ーブンの温度は、ゲルを確実に溶融するために約１００℃乃至約２７５℃でなけ ればならないが、蛋白質を分解させる程高温であってはならない。マトリックス 内に水を捕捉したゼラチンはゆっくりと溶融し即ち液化し、中央部分は、約１０ ０℃以上の熱が水の沸騰に伴う問題点を生じないようにするのに十分に断熱され ている。 第２型枠の底端と対応するセラミック型の開放端により、溶融状態の即ち液状 のゲル分散系をセラミック型から注ぎ出すことができる。更に、全てのゼラチン 及び残滓が除去されたことを見るため、臨界セラミック表面を開放端から容易に 検査できる。 セラミック型を炉内に置き、これを少なくとも３時間に亘って約９９０℃（１ １００°F）まで加熱し、次のプロセスを行うために石膏を完全に硬化させる。 セラミック上に残滓が全く残らないため、水素雰囲気を使用できる。残滓は、燃 やして取り除いておく必要がある。この残滓がないということが、エポキシ及び ワックスを使用するセラミック型製造プロセスと比較した場合の重要な違いであ る。 金属製型は、１９９６年４月１６日にトビンに付与された共通に譲渡された米 国特許第５，５０７，３３６号の教示に従って製作できる。同特許に触れたこと により、その特許に開示されている内容は本明細書中に組入れたものとする。し かしながら、本発明のセラミック型が臨界セラミック表面を取り囲む連続した環 状リムを有するため、外部チューブを必要とせずに金属製型を製作できる。 第７図は、タングステン等の微粉を石膏型１１の臨界セラミック表面に加える ことを示す。石膏型は、臨界表面の上方に延びる環状壁を有する。この環状壁に より、臨界セラミック表面を粉体で完全に覆うことができる。粉体は、好ましく は、−３５０メッシュに篩分けされており、４５μｍ以下の粒径を有する。 粉体の上に、粉体粒子間の空所を充填する以上の十分な量の溶浸金属の粉体、 チップ、又はスラグを置く。溶浸金属は、銅又はその合金であるのがよいが、好 ましくは青銅粉体（銅が８０％で錫が２０％）である。本発明では、イリノイ州 フランクリンパークのＵ．Ｓ．ブロンズパウダー社から入手できるＸＦ２カッパ ーが有用である。次いでセラミック部材を水素炉に置く。この炉を約９８５℃（ 約１７７５℃）まで徐々に加熱し、この温度を約９０分間に亘って保持する。炉 の還元雰囲気内では、この温度により青銅が溶融し、未溶融の粉体に流入し、金 属組成物を形成する。粉体はフィルタとしても作用し、溶融溶浸金属からの不純 物が臨界セラミック表面に到達しないようにする。これにより、インベストメン ト鋳造法で使用されているフィルタのような多孔質セラミックフィルタの必要が なくなる。 セラミック部材は、溶浸前には、粉体に対して断熱体として作用する。粉体は 、粉体上の溶浸体程迅速には炉の温度に達しない。しかしながら溶融状態の溶浸 体がその融点以上に過熱されると、この溶浸体は、その溶浸時にこれよりも低温 の粉体を加熱する。タングステン粉体は、代表的には、その焼結温度以下であり 、これによって、粉体は臨界セラミック表面のところで焼結しない。 青銅は、冷却するに従って収縮する。しかしながら、互いに詰め込まれた未溶 融の粒子は臨界セラミック表面と隣接した材料の高い容積パーセントを提供する 。粒子は、好ましくは溶融も焼結もしないため、収縮しない。銅は粒子間を重力 及び毛管引力によって充填し、金属組成物を形成する。この組成物は、凝固時に 正 確に臨界型表面の形状をとる。このこれらの表面は、臨界セラミック表面の反転 形状を持ち、従って、パターンの臨界パターン表面を複製する。代表的には、過 剰の凝固した溶浸金属の上に収縮窪みが形成される。 粉体の粒径、粒径分布、及び粒子の形状は、プロセスに幾つかの方法で影響を 及ぼす。粒子が微細であればある程、通常は、表面仕上げが滑らかになる。粒径 分布は粉体のタップ密度に影響を及ぼし、粉体のタップ密度は、最終的に得られ た型の粉体／溶浸体比に影響を及ぼす。タングステン粉体（７μｍ乃至９μｍ） のタップ密度は、代表的には、平均で２０％乃至３０％である。粒径分布を調節 することによって、タップ密度を大幅に高めることができる。 第９図は、石膏型を除去して臨界金属製型表面を露呈する工程を示す。その後 、金属／粒子組成物の端部に機械加工を施し、第２型半部と第１０図に示すよう に噛み合う、即ち対をなして係合し合うことのできる第１型半部を形成する。更 に、第１型半部にスプルー孔２５を機械加工で形成する。 第１０図は、第１型半部と噛み合って、即ち対をなして係合し合って第１型半 部との間に型キャビティを形成する第２型半部を示す。第２型半部は、同様の迅 速原型形成法によって製作されているのがよい。好ましくは、これらの型半部を 組み合わせて射出型を形成する。溶融状態のプラスチック樹脂をスプルー孔２５ を通してキャビティに注入すると、プラスチック製の蓋２４が成形される。プラ スチック製の蓋２４は、第１１図に型から取り出した状態で示してある。 このプロセスの重要な特徴は、簡単で迅速なターンアラウンドエ程(turn-arou nd steps)を使用すること、及び臨界表面を成形される部品にパターンから正確 に転写することである。更に、この型製作プロセスは、収縮による不正確さが部 品の大きさに従って大きくなるインベストメント鋳造法とは異なり、小型部品に 限定されない。本発明の金属製完全稠密型構造は、選択された材料のため、熱伝 導度及び耐摩耗性の両方が非常に高い。 溶浸金属の溶融前に鋼製の冷却水チューブ及び／又はイジェクタースリーブ（ 図示せず）を粒子に加えるのがよい。この場合、溶融状態の青銅は未溶融の鋼製 挿入体の周囲で凝固し、これらの挿入体を所定位置に固定する。 本発明の特に好ましい実施形態では、パターン１は、電子ファイルに従って立 体リトグラフプロセスによってカリフォルニア州ヴァレンシアの３Ｄシステムズ 社が製造しているＳＬＡ−２５０機を使用して、３Ｄシステムズ社から入手でき る第ＳＬ５１７０号エポキシ樹脂で製作されている。 本発明の好ましい実施形態は、金属製完全稠密型を製作するために金属粉体及 び金属溶浸体を使用するが、粒子溶浸による型の製作に使用できる材料には多く の可能な組み合わせがある。金属粉体（タングステン）及び金属溶浸体（銅合金 −青銅）が選択された。これは、これによって結果的に得られた組成物材料の機 械的特性が適当であり、熱伝導度が良好であり、及びプラスチック射出型用金属 製挿入体を製造する上での機械加工性が優れているためである。 パターン成形体を十分に且つ正確に製造するための粉体及び溶浸体についての 主な判断基準は以下の三つであり、即ち、１）ベース粉体（ファイバ、大径粒子 、微粉、及びこれらの組み合わせを含む）及び溶浸体材料は、ベース粉体を溶浸 するのに使用された温度範囲で、互いに、及びセラミック型に関して化学的に安 定していなければならず、２）溶浸体材料は、ベース粉体粒子の焼結、収縮、又 は変形を阻止するため、ベース粉体の融点の半分以下の温度でベース粉体に侵入 できなければならず、及び３）ベース粉体及び溶浸体の組み合わせの表面湿潤性 が、迅速であり且つ全体的な溶浸のために毛管吸引を促さなければならない。場 合によっては、溶浸プロセスを補助するために還元雰囲気及び／又は圧力を使用 できる。 本発明で使用できるベース粉体及び溶浸体についての別の材料の組み合わせの 例には、熱硬化性エポキシ樹脂を溶浸した金属粉体、アルミニウムを溶浸したセ ラミック粉体、及び熱硬化性エポキシ樹脂を溶浸したセラミック粉体が含まれる 。 本発明の特定の実施形態を図示し且つ説明したが、本発明の精神及び範囲から 逸脱することなく様々な変形及び変更を行うことができ、本発明の範疇のこれら の変更は全て、添付の請求の範囲内に含まれるということは当業者には明らかで あろう。例えば、本発明の説明は、主として、金属製型の製作に関する。考えら れる他の潜在的な用途には、放電加工（ＥＤＭ）用の電極の製作が含まれる。銅 合金／タングステン合金からなる組成物金属製電極は、放電加工プロセスに重要 な優れた導電性及び耐摩耗性を提供する。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】 よって完全稠密型半部を形成するのに十分である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． パターンから完全稠密型半部を製造する方法において、 ａ）臨界パターン表面を持つパターンを、開放端を持つ型枠内に前記臨界パター ン表面が前記開放端に向かって上方に面するように配置する工程と、 ｂ）前記臨界パターン表面を、前記型枠に加えられた高濃度の熱可逆性ゲル溶液 で覆う工程と、 ｃ）前記ゲル溶液を冷却し、前記臨界パターン表面から転写された、前記臨界パ ターン表面に対して反転した臨界ゲル型表面を持つ、弾性固体ゲル型を形成する 工程と、 ｄ）前記型枠及び前記パターンを前記弾性ゲル型から取り外す工程と、 ｅ）前記臨界ゲル型表面から転写された、前記臨界ゲル型表面に対して反転し、 これによって前記臨界パターン表面を正確に複製する臨界セラミック表面を持つ 、セラミック型を、前記固体ゲル型の周囲で鋳造する工程と、 ｆ）前記セラミック型から除去するため、前記ゲル型を液化する工程と、 ｇ）前記臨界セラミック表面が上を向くように前記セラミック型を逆様にする工 程と、 ｈ）融点が溶浸材料よりも高く、空所を間に持つ粒子を含む粉体で前記臨界セラ ミック表面を覆う工程と、 ｉ）前記粒子間の前記空所を充填するのに十分な所定量の溶浸材料を前記粉体上 に置き、前記粉体を溶融したり焼結したりすることなく前記溶浸材料を溶融する のに十分な温度の炉の内部に前記セラミック型、前記粉体、及び前記溶浸材料を 置き、これによって、前記溶浸材料の凝固時に前記臨界セラミック表面から転写 された、前記臨界セラミック表面に対して反転した形状を持つ臨界完全稠密型表 面を持つ、完全稠密型半部を形成する工程と、 ｊ）前記完全稠密型半部から前記セラミック型を取り除き、成形を行う目的で前 記臨界完全稠密型表面を露呈する工程とを含む、ことを特徴とする方法。 ２． 前記熱可逆性ゲル溶液は、約３５％乃至約５０％がゲル材料であり、約 ４５％乃至約６５％が水であり、約０％乃至約１０％が消泡剤であることを特徴 とする、請求項１に記載の方法。 ３． 前記ゲル材料はゼラチンである、請求項２に記載の方法。 ４． 前記ゲル溶液を冷却して弾性固体ゲル型を形成する際に前記ゲル溶液を 脱気する工程を更に有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。 ５． 前記ゲル溶液は、ファイバ又は他のシックナーを更に有することを特徴 とする、請求項１、２、又は４に記載の方法。 ６． ｋ）部品を鋳造するため、前記完全稠密型半部がこの半部と対をなして 係合し合う型半部と整合するように、前記完全稠密型半部を機械加工する工程と 、 ｌ）前記部品を鋳造するために可鋳性材料を前記臨界完全稠密型表面に導入する ため、前記完全稠密型半部を貫くスプルー孔を機械加工する工程とを更に有する ことを特徴とする、請求項１、２、４、又は５のうちのいずれか一項に記載の方 法。 ７． パターンから完全稠密型半部を製造する方法において、 ａ）臨界パターン表面を持つパターンを、開放端を持つ第１型枠内に前記臨界パ ターン表面が前記開放端に向かって上方に面するように配置する工程と、 ｂ）前記臨界パターン表面を、前記第１型枠に加えられたゼラチン溶液で覆う工 程と、 ｃ）前記ゼラチン溶液を脱気しながら冷却し、前記臨界パターン表面から転写さ れた、前記臨界パターン表面に対して反転した臨界ゼラチン型表面を持つ、弾性 固体ゼラチン型を形成する工程と、 ｄ）前記パターン及び前記第１型枠を前記ゼラチン型から取り外し、前記ゼラチ ン型を、前記ゼラチン型の周囲に環状空間を提供する寸法の第２型枠内に、前記 臨界ゼラチン型表面が前記第２型枠の開放端に向かって上に向いた状態で置く工 程と、 ｅ）前記ゼラチン型を定位置に固定するため、及び前記臨界ゼラチン型表面を取 り囲む連続した環状壁を形成するため、前記環状空間を、熱を発生することなく 凝固して第１セラミック型を形成する前記第２型枠に加えられた第１セラミック 溶液で、前記第１セラミック溶液を脱気しながら充填する工程と、 ｆ）前記第１セラミック型及び前記ゼラチン型を前記第２型枠に加えられた第２ セラミック溶液で覆う工程であって、前記第２セラミック溶液は発熱反応で結合 し、前記第１セラミック型と結合した第２セラミック型を形成し、前記第２セラ ミック型は、前記臨界ゼラチン型表面から転写された、前記臨界ゼラチン型表面 に対して反転し、これによって、前記臨界パターン表面を正確に複製する臨界セ ラミック表面を有する、工程と、 ｇ）前記ゼラチン型を加熱によって液化し、前記ゼラチンを前記第１及び第２の セラミック型から除去し、前記第２型枠を前記第１及び第２のセラミック型から 取り外す工程と、 ｈ）前記臨界セラミック表面が上を向くように前記第１及び第２のセラミック型 を逆様にする工程と、 ｉ）融点及び焼結温度が溶浸金属の融点よりも高く、空所を間に持つ粒子を含む 粉体で前記環状壁内の前記臨界セラミック表面を覆う工程と、 ｊ）前記粒子間の前記空所を充填するのに十分な量の溶浸金属を前記粉体の上に 置く工程と、 ｋ）金属製完全稠密型半部を形成するため、前記第１及び第２のセラミック型を 約１１４９℃（約２１００°F）の水素炉内に置き、これによって、前記粒子を 溶融したり焼結したりすることなく前記溶浸金属を前記粉体の前記粒子間の前記 空 所に融かし込む工程であって、前記金属製完全稠密型半部は、前記溶浸金属の凝 固時に前記臨界セラミック表面から転写された臨界金属製型表面を有する、工程 と、 ｌ）前記セラミック部材を前記金属製完全稠密型半部から取り除き、成形を行う 目的で前記臨界金属製型表面を露呈する工程とを有する、ことを特徴とする方法 。 ８． 前記ゼラチン溶液は、約３５％乃至約４５％がゼラチンであり、約５０ ％乃至約６５％が水であり、約３％乃至約８％が消泡剤であることを特徴とする 、請求項７に記載の方法。 ９． 前記ゲル溶液を冷却して弾性固体ゲル型を形成する際に前記ゲル溶液を 脱気する工程を更に有することを特徴とする、請求項７又は８に記載の方法。 １０． 前記ゼラチンは、ファイバ又は他のシックナーを更に有することを特 徴とする、請求項７、８、又は９に記載の方法。