JP2001510276A - アッセイに用いるための微小構造の製造 - Google Patents
アッセイに用いるための微小構造の製造Info
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Abstract
(57)【要約】
ウェル又はチャネルの表面微小構造を有する装置を生産するための方法であって、プラスチック基体上に硬化性材料として微小構造をスクリーン印刷し、そして該材料を硬化させることを含む方法。このような装置は、照射により重合可能な又は解重合可能な材料を基体に適用し、各々ネガ型又はポジ型フォトレジストを適用し、その構造を照射し、そして非重合又は解重合化材料を除去することにより得ることもできる。
Description
【0001】 発明の分野 本発明は、アッセイに用いるための微小構造の作製に関する。
【0002】 発明の背景 種のテスト及び定量のため、分子間の結合反応のモニターのため、ドラッグデ
リバリーのための微小流体システムの製造のため、遺伝子分析のため、及び臨床
的診断アッセイのための微小構造の生産にかなりの関心が集まっている。特に、
化学的合成のため、組合せ化学のため、高スループットスクリーニングアッセイ
のため及び結合反応のためにより小さなマイクロプレートの開発に関心が増加し
ている。伝統的な96ウェルマイクロタイタープレートは、プレート上に例えば
2304までの多数のウェルが存在するシステムに取って代わりつつある。
リバリーのための微小流体システムの製造のため、遺伝子分析のため、及び臨床
的診断アッセイのための微小構造の生産にかなりの関心が集まっている。特に、
化学的合成のため、組合せ化学のため、高スループットスクリーニングアッセイ
のため及び結合反応のためにより小さなマイクロプレートの開発に関心が増加し
ている。伝統的な96ウェルマイクロタイタープレートは、プレート上に例えば
2304までの多数のウェルが存在するシステムに取って代わりつつある。
【0003】 多数の小さなウェルを有するプレートはかなりの利点を有し、これには、少量
の高価な試薬の使用及びプレート上でスクリーニングし得る多数の反応によりコ
ストを削減し、処理量を最大にすることがある。同じ装置上で液体をバルブ調節
し及びポンプするための微小構造を作り出すことも要求される。 発明の概要 本発明の一態様によれば、微小構造を製造するための方法は、シート材料上で
のスクリーン印刷の使用を含む。本発明の第2の態様によれば、微小構造はフォ
トレジスト技術によって得られる。
の高価な試薬の使用及びプレート上でスクリーニングし得る多数の反応によりコ
ストを削減し、処理量を最大にすることがある。同じ装置上で液体をバルブ調節
し及びポンプするための微小構造を作り出すことも要求される。 発明の概要 本発明の一態様によれば、微小構造を製造するための方法は、シート材料上で
のスクリーン印刷の使用を含む。本発明の第2の態様によれば、微小構造はフォ
トレジスト技術によって得られる。
【0004】 本発明の方法は、低コストで、大量に、プラスチック基体上に微小構造を製造
することができる。用いる技術に依存して、それらは3〜5μmまで小さな分解
能を有する微小構造の生産を許容する。1つの特定の実施形態において、その微
小構造は、医薬及び診断工業に関心のある反応を行うために化学品、試薬又は他
の材料がその中に分配されるマイクロタイタープレートアレイの形態である。こ
の方法により作られた装置は、液体サンプルの分析のため、結合パートナー間の
結合の検出のため、ドラッグデリバリーのため及び組合せ化学及び他の反応のた
めに用いることができる。
することができる。用いる技術に依存して、それらは3〜5μmまで小さな分解
能を有する微小構造の生産を許容する。1つの特定の実施形態において、その微
小構造は、医薬及び診断工業に関心のある反応を行うために化学品、試薬又は他
の材料がその中に分配されるマイクロタイタープレートアレイの形態である。こ
の方法により作られた装置は、液体サンプルの分析のため、結合パートナー間の
結合の検出のため、ドラッグデリバリーのため及び組合せ化学及び他の反応のた
めに用いることができる。
【0005】 発明の記載 典型的には、本発明の装置は、非伝導性基体、例えばポリエステル、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネートもしくはポリビニルクロライド又はガラスもしくはセ
ラミック上に置かれたパターン、例えばウェル又はチャネルのパターンを含む。
この層は必要に応じて適切に疎水性によるよう処理することができる。
ピレン、ポリカーボネートもしくはポリビニルクロライド又はガラスもしくはセ
ラミック上に置かれたパターン、例えばウェル又はチャネルのパターンを含む。
この層は必要に応じて適切に疎水性によるよう処理することができる。
【0006】 スクリーン印刷を用いる場合、スクリーン印刷可能な層の連続層がシート材料
上に構築されて要求されるパターンを供する。その材料は、そのパターンにより
形成されたウェル内で行われる反応のために必要な適切な耐性、表面エネルギー
又は表面張力特徴を供するように選択される。例えば、極めてアグレッシブな溶
媒(例えばTHF,DMF,NMP,DMSO、キシレン又はジオキサン)中で
反応を行う組合せ化学反応のために、印刷可能な層は、溶媒に対して耐性である
ことが知られているゲル−ゾルシステム、架橋エポキシ樹脂又は他の化学的もし
くはUV架橋ポリマーを部分的に含み得る。高スループットスクリーニング分野
における適用のため、又はレセプター結合反応をスクリーニングするため、用い
るシステムは水性であり;この場合、そのインクは、有利には、正確な表面張力
及び湿潤性因子を供するように選択され;溶媒に対する耐性はあまり重要でない
。基体も、要求される耐性特徴又はタンパク質もしくは他の結合因子に付着する
能力を供するように選択することができる。
上に構築されて要求されるパターンを供する。その材料は、そのパターンにより
形成されたウェル内で行われる反応のために必要な適切な耐性、表面エネルギー
又は表面張力特徴を供するように選択される。例えば、極めてアグレッシブな溶
媒(例えばTHF,DMF,NMP,DMSO、キシレン又はジオキサン)中で
反応を行う組合せ化学反応のために、印刷可能な層は、溶媒に対して耐性である
ことが知られているゲル−ゾルシステム、架橋エポキシ樹脂又は他の化学的もし
くはUV架橋ポリマーを部分的に含み得る。高スループットスクリーニング分野
における適用のため、又はレセプター結合反応をスクリーニングするため、用い
るシステムは水性であり;この場合、そのインクは、有利には、正確な表面張力
及び湿潤性因子を供するように選択され;溶媒に対する耐性はあまり重要でない
。基体も、要求される耐性特徴又はタンパク質もしくは他の結合因子に付着する
能力を供するように選択することができる。
【0007】 スクリーン印刷を用いることにより、そのパターンの分解能は50〜70μm
まで下がり得る。これにより、各々のウェルの直径は50〜70μmまで下げる
ことができる。例えば、ウェルは、50〜500μmの直径であり、それらは5
〜100μmの深さであり得る。 別の実施形態において、3〜5μm程度の小さな分解能を有する微小構造は、
ホトイメージング法により、スクリーン印刷された絶縁層内に形成することがで
きる。この方法において、光の適用により重合することができる物質又は光の適
用により破壊される結合を有し得るものの使用を含むホトイメージングにより構
造が作られる。これらの光感受性材料は、光像形成性レジストとしても知られる
。それらの使用は、ガラス上で処理することにより作られたものに匹敵する、こ
れらの適用のための特性を有する、プラスチック基体内の微小構造の作製のため
の低コストの便利な方法を供する。
まで下がり得る。これにより、各々のウェルの直径は50〜70μmまで下げる
ことができる。例えば、ウェルは、50〜500μmの直径であり、それらは5
〜100μmの深さであり得る。 別の実施形態において、3〜5μm程度の小さな分解能を有する微小構造は、
ホトイメージング法により、スクリーン印刷された絶縁層内に形成することがで
きる。この方法において、光の適用により重合することができる物質又は光の適
用により破壊される結合を有し得るものの使用を含むホトイメージングにより構
造が作られる。これらの光感受性材料は、光像形成性レジストとしても知られる
。それらの使用は、ガラス上で処理することにより作られたものに匹敵する、こ
れらの適用のための特性を有する、プラスチック基体内の微小構造の作製のため
の低コストの便利な方法を供する。
【0008】 本方法の典型的な適用において、装置は、必要に応じて親水性化するよう処理
することができる非伝導性基体上に置かれたパターンを含む。光像形成可能な疎
水性層、例えば光像形成性ネガ型レジストは、蒸着、シルクスクリーン印刷、ス
ピンコーティング又はリトグラフ印刷のような方法により基体材料上に析出され
る。
することができる非伝導性基体上に置かれたパターンを含む。光像形成可能な疎
水性層、例えば光像形成性ネガ型レジストは、蒸着、シルクスクリーン印刷、ス
ピンコーティング又はリトグラフ印刷のような方法により基体材料上に析出され
る。
【0009】 要求されるパターンの像は装置の表面に保持され、次にそのシステムは適切な
期間、適切な光源に露出される。次にその光像形成可能な層は露出されたこれら
の領域内の光源により光重合される。マスクによりおおわれた領域において、光
像形成性層は重合しないままである。それゆえ、マスクは、次のステップにおい
て現像液により溶けてなくなるレジストへ領域をおおうようにデザインされる。
期間、適切な光源に露出される。次にその光像形成可能な層は露出されたこれら
の領域内の光源により光重合される。マスクによりおおわれた領域において、光
像形成性層は重合しないままである。それゆえ、マスクは、次のステップにおい
て現像液により溶けてなくなるレジストへ領域をおおうようにデザインされる。
【0010】 次に装置は、適切な時間、光像形成性層が重合しなかった領域を溶かし出して
その下の層を表に出す現像液に露出される。この方法において、規則的なパター
ンを作製することができる。 本発明の別の実施形態においては、ポジ型光像形成レジスト(この場合、レジ
スト内の分子間の結合は光を適用した時に破壊される)で、同じ基体を用いる。
この場合、ポジ型レジストは所定の方法により先の層に適用され、マスクはその
コートされた装置上におかれる。そのマスクは次の段階で現像液により溶け出す
レジストの領域を露出するようにデザインされる。そのアセンブリーは光源に露
出され、その光に露出されたレジストの領域は光により破壊された分子間結合を
有し、次の段階に用いる現象液中にそれらを溶かす。レジストの露出されない領
域は影響を受けず、現像液に対して耐性である。これにより、次に装置を現象液
に露出した場合、レジストはその露出した領域において現像液により溶け出しパ
ターンが表れる。
その下の層を表に出す現像液に露出される。この方法において、規則的なパター
ンを作製することができる。 本発明の別の実施形態においては、ポジ型光像形成レジスト(この場合、レジ
スト内の分子間の結合は光を適用した時に破壊される)で、同じ基体を用いる。
この場合、ポジ型レジストは所定の方法により先の層に適用され、マスクはその
コートされた装置上におかれる。そのマスクは次の段階で現像液により溶け出す
レジストの領域を露出するようにデザインされる。そのアセンブリーは光源に露
出され、その光に露出されたレジストの領域は光により破壊された分子間結合を
有し、次の段階に用いる現象液中にそれらを溶かす。レジストの露出されない領
域は影響を受けず、現像液に対して耐性である。これにより、次に装置を現象液
に露出した場合、レジストはその露出した領域において現像液により溶け出しパ
ターンが表れる。
【0011】 装置を作製する別の方法は、乾燥自立構造(frecstanding)光像
形成フィルムレジスト、例えば5〜50μmの使用に関する。先の手順により記
述されるようなこれらのフィルムレジストのパターンは、基体上に形成すること
ができる。 これら全ての方法において、装置の他の露出領域を損傷させないであろうマイ
ルドな溶液(水性又は非水性)中で現像され得るレジストが選択される。あるい
は、現像液から装置の極めてセンシティブな部分を保護するためにマスクを装置
に適用することができる。
形成フィルムレジスト、例えば5〜50μmの使用に関する。先の手順により記
述されるようなこれらのフィルムレジストのパターンは、基体上に形成すること
ができる。 これら全ての方法において、装置の他の露出領域を損傷させないであろうマイ
ルドな溶液(水性又は非水性)中で現像され得るレジストが選択される。あるい
は、現像液から装置の極めてセンシティブな部分を保護するためにマスクを装置
に適用することができる。
【0012】 一回で数千の装置を作製することができる。これにより、本方法は、多くの工
業的及びヘルスケア適用のために要求される多量低コスト生産のために適する。
その装置は一回用いて捨てることができるほど十分に安く製造することができ、
それにより再使用に関する持ち越し又は記憶の問題を防止することができる。 本発明により作製された装置は、種の分析に用いるために要求されるいくつか
の特徴を有する。例えば、均一の大きさ及び形状の規則的なパターンを作ること
ができる。そのパターンは、いずれの形状、例えば円、正方形、方形又は帯状の
ものであり得る。更に、スクリーン印刷される層の下部の基体のために、種々の
材料、例えば処理されたプラスチック及びプラスチック/金属ラミネートを用い
ることができる。それらの層は、以下に記述するように、付加的な分子の結合を
増強するように改変することができる。
業的及びヘルスケア適用のために要求される多量低コスト生産のために適する。
その装置は一回用いて捨てることができるほど十分に安く製造することができ、
それにより再使用に関する持ち越し又は記憶の問題を防止することができる。 本発明により作製された装置は、種の分析に用いるために要求されるいくつか
の特徴を有する。例えば、均一の大きさ及び形状の規則的なパターンを作ること
ができる。そのパターンは、いずれの形状、例えば円、正方形、方形又は帯状の
ものであり得る。更に、スクリーン印刷される層の下部の基体のために、種々の
材料、例えば処理されたプラスチック及びプラスチック/金属ラミネートを用い
ることができる。それらの層は、以下に記述するように、付加的な分子の結合を
増強するように改変することができる。
【0013】 パターンを形成した後、そのパターンを、分析、例えば金属、タンパク質、酵
素、触媒及び特定の結合パートナー、例えば抗体、抗原、DNA又はRNA、ア
ビジン、ビオチン又は遺伝子プローブの析出又は結合もしくは吸着のために改変
することができる。これらは、いくつかの方法、例えばインクジェット印刷、電
気めっき、電着及びマイクロディスペンシングにより析出させることができる。
素、触媒及び特定の結合パートナー、例えば抗体、抗原、DNA又はRNA、ア
ビジン、ビオチン又は遺伝子プローブの析出又は結合もしくは吸着のために改変
することができる。これらは、いくつかの方法、例えばインクジェット印刷、電
気めっき、電着及びマイクロディスペンシングにより析出させることができる。
【0014】 そのパターンにおける結合の分析は、例えば蛍光、光散乱又は吸収分析により
、行うことができる。光の出力は上から、又は透明な基体を用いるなら下から読
みとることができる。 カバースリップを装置の上におくことができる。これは、例えばキャピラリー
作用又は拡散により、装置を通る流れを補助することができる。
、行うことができる。光の出力は上から、又は透明な基体を用いるなら下から読
みとることができる。 カバースリップを装置の上におくことができる。これは、例えばキャピラリー
作用又は拡散により、装置を通る流れを補助することができる。
【0015】 本発明の方法は微小電気泳動分析構造の製造のために用いることができる。こ
れらの構造は、細胞系の融合を促進するため、細胞成分、例えばタンパク質、D
NAプラスミドもしくはゲノムDNAを抽出するために細胞の溶解を促進するた
め、又は細胞成分を分離するために、生物細胞の操作のために用いることができ
る。細胞成分の分離を行うために装置上の電極間にポテンシャル勾配を設定する
ことができる。
れらの構造は、細胞系の融合を促進するため、細胞成分、例えばタンパク質、D
NAプラスミドもしくはゲノムDNAを抽出するために細胞の溶解を促進するた
め、又は細胞成分を分離するために、生物細胞の操作のために用いることができ
る。細胞成分の分離を行うために装置上の電極間にポテンシャル勾配を設定する
ことができる。
【0016】 種々の微小構造のいずれも得ることができる。例えば、細胞の破壊、脂質及び
タンパク質成分の沈殿、及びパターン上の別の部位でのDNAの分析により、分
析のためにDNAの分離を行うようにパターンを形成することができる。 別の実施形態において、チャンバー及び構造は、ろ過、細胞溶解及び細胞ソー
ティングを行うために、細胞の大きさと同じオーダーで作ることができる。これ
は、細胞サイトメトリー及び血液学において重要である。その構造内に作製され
た電極間の電気泳動を、細胞系の融合、細胞成分の分離、DNA/RNA分離及
びタンパク質分離を行うために用いることができる。
タンパク質成分の沈殿、及びパターン上の別の部位でのDNAの分析により、分
析のためにDNAの分離を行うようにパターンを形成することができる。 別の実施形態において、チャンバー及び構造は、ろ過、細胞溶解及び細胞ソー
ティングを行うために、細胞の大きさと同じオーダーで作ることができる。これ
は、細胞サイトメトリー及び血液学において重要である。その構造内に作製され
た電極間の電気泳動を、細胞系の融合、細胞成分の分離、DNA/RNA分離及
びタンパク質分離を行うために用いることができる。
【0017】 パターンは、微小パターンでの流体の動き、例えば音の流れを介して薄膜上を
伝達する超音波又は微小流状システム内での細胞の電気浸透性ポンピングについ
ての技術と組み合わせて用いることもできる。 パターンは、リガンド及びモニターされ得るそれらの結合パートナーの間に結
合反応がおこる小さな反応チャンバー又は反応部位/ウェルの形成のために成形
することもできる。例は、組合せ化学、タンパク質とレセプターとの間の結合、
並びに部位内のRNA/DNAと溶液内の相補性遺伝子配列との間の結合反応で
ある。後者は、遺伝子マッピング及び診断に適用できるであろう。
伝達する超音波又は微小流状システム内での細胞の電気浸透性ポンピングについ
ての技術と組み合わせて用いることもできる。 パターンは、リガンド及びモニターされ得るそれらの結合パートナーの間に結
合反応がおこる小さな反応チャンバー又は反応部位/ウェルの形成のために成形
することもできる。例は、組合せ化学、タンパク質とレセプターとの間の結合、
並びに部位内のRNA/DNAと溶液内の相補性遺伝子配列との間の結合反応で
ある。後者は、遺伝子マッピング及び診断に適用できるであろう。
【0018】 別の実施形態において、微小構造は、サンプル中のDNA/RNAを分析し又
は配列決定するためにDNA/RNAがアレイに結合するマイクロアレイである
。サンプルDNA/RNA間の結合は、蛍光、ルミネセンス又は他の分析技術に
よりモニターすることができる。 別の実施形態において、その構造は、アッセイに用いる細胞単層を含む。細胞
は、吸収、吸着、共有結合により、又は別の方法により装置内の表面に結合され
る。
は配列決定するためにDNA/RNAがアレイに結合するマイクロアレイである
。サンプルDNA/RNA間の結合は、蛍光、ルミネセンス又は他の分析技術に
よりモニターすることができる。 別の実施形態において、その構造は、アッセイに用いる細胞単層を含む。細胞
は、吸収、吸着、共有結合により、又は別の方法により装置内の表面に結合され
る。
【0019】 一般的な例では、マイクロタイタープレートは、ポリプロピレン又は他のプラ
スチックシート上におかれたスクリーン印刷可能な層により形成されたマイクロ
ウェルのアレイから作製される。そのウェルは、50μmの直径まで小さくされ
るが、好ましくは1〜0.5mmの直径のオーダーである。各々のマイクロプレー
ト上に数千のウェルが配置される。それらの層により形成された各々のウェルの
深さは5〜100μmの範囲である。ウェルの深さを数百μmに増加させるため
にスクリーン印刷可能な試薬のいくつかの層を加えることができる。そのウェル
は、ウェル内に分配された試薬で、医薬又は診断産業に用いるために適した反応
のために用いられる。ウェルは、その産業において反応をモニターするために現
在用いられるいずれかの方法、例えばELISA、蛍光結合、ルミネセンス及び
光散乱により読み取られる。
スチックシート上におかれたスクリーン印刷可能な層により形成されたマイクロ
ウェルのアレイから作製される。そのウェルは、50μmの直径まで小さくされ
るが、好ましくは1〜0.5mmの直径のオーダーである。各々のマイクロプレー
ト上に数千のウェルが配置される。それらの層により形成された各々のウェルの
深さは5〜100μmの範囲である。ウェルの深さを数百μmに増加させるため
にスクリーン印刷可能な試薬のいくつかの層を加えることができる。そのウェル
は、ウェル内に分配された試薬で、医薬又は診断産業に用いるために適した反応
のために用いられる。ウェルは、その産業において反応をモニターするために現
在用いられるいずれかの方法、例えばELISA、蛍光結合、ルミネセンス及び
光散乱により読み取られる。
【0020】 ポリマー基体、例えばポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリカ
ーボネート及びポリテトラフルオロエチレン上にUV架橋インクを用いて印刷さ
れた微小チャネル構造で、ポリメラーゼ鎖反応(PCR)及びリガーゼ鎖反応(
LCR)のような化学的増幅反応を行うことができる。 図1は、多重ウェルアレイを示す。図2は、サンプル/緩衝液リザーバ1、直
径0.5〜3mm(1d)、及びチャンネルを介して接続した反応/混合チャンバ
ー2、例えば0.05〜0.5mm幅(3d)、並びに収集/癈水リザーバ4を含
むチャネル構造を示す。
ーボネート及びポリテトラフルオロエチレン上にUV架橋インクを用いて印刷さ
れた微小チャネル構造で、ポリメラーゼ鎖反応(PCR)及びリガーゼ鎖反応(
LCR)のような化学的増幅反応を行うことができる。 図1は、多重ウェルアレイを示す。図2は、サンプル/緩衝液リザーバ1、直
径0.5〜3mm(1d)、及びチャンネルを介して接続した反応/混合チャンバ
ー2、例えば0.05〜0.5mm幅(3d)、並びに収集/癈水リザーバ4を含
むチャネル構造を示す。
【0021】 本発明の一実施形態において、マイクロチャネルは、ポリマー基体上に析出さ
せた。Electra PolymersからのCarapaceのようなUV
架橋性ポリマー層上へのホトマスクの使用によりパターン形成される。UV光に
露出させた後、その微小構造は、炭酸ナトリウム水溶液でプラスチックシートを
処理することにより開発される。マイクロチャネル構造は、マイクロチャネルに
沿って温度制御を供するために、スクリーン印刷され、又は重層された伝導層の
伝導層上におくことができる。あるいは、マイクロチャネルはスクリーン印刷す
ることができる。このような実施形態を図3に示す。ここには、サーモスタット
伝導層5、入口6及び出口7を含む。
せた。Electra PolymersからのCarapaceのようなUV
架橋性ポリマー層上へのホトマスクの使用によりパターン形成される。UV光に
露出させた後、その微小構造は、炭酸ナトリウム水溶液でプラスチックシートを
処理することにより開発される。マイクロチャネル構造は、マイクロチャネルに
沿って温度制御を供するために、スクリーン印刷され、又は重層された伝導層の
伝導層上におくことができる。あるいは、マイクロチャネルはスクリーン印刷す
ることができる。このような実施形態を図3に示す。ここには、サーモスタット
伝導層5、入口6及び出口7を含む。
【0022】 電気泳動及びクロマトグラフィーのような分離法を、スクリーン印刷及び写真
印刷法によりポリマー基体上に作られたマイクロチャネル上で行うことができる
。印刷されたマイクロチャネルの表面特性は、そのチャネルの内壁上にアニオン
、カチオン及び機能的な反応基を含む種々の化学種を生産するための化学的手段
により、変化させ、又は改変させることができる。
印刷法によりポリマー基体上に作られたマイクロチャネル上で行うことができる
。印刷されたマイクロチャネルの表面特性は、そのチャネルの内壁上にアニオン
、カチオン及び機能的な反応基を含む種々の化学種を生産するための化学的手段
により、変化させ、又は改変させることができる。
【0023】 一実施形態において、印刷されたマイクロチャネルの内壁上に残ったエポキシ
基は、二官能性分子、典型的には主に負電荷の表面を作るために1又は複数のメ
チレン基により分離された一級アミン及びカルボキシ基と反応させることができ
る。負電荷は、ポリマー及び界面活性剤のような表面活性剤の受動的吸着によっ
ても導入することができる。電気泳動分離は、分離チャネルを横切る電位差の適
用により行うことができる。
基は、二官能性分子、典型的には主に負電荷の表面を作るために1又は複数のメ
チレン基により分離された一級アミン及びカルボキシ基と反応させることができ
る。負電荷は、ポリマー及び界面活性剤のような表面活性剤の受動的吸着によっ
ても導入することができる。電気泳動分離は、分離チャネルを横切る電位差の適
用により行うことができる。
【0024】 別の実施形態において、マイクロチャネルの改変は、親水性及び荷電した表面
を供するために、プラスチック基体上に、エポキシ樹脂又は官能化ビニル樹脂含
有シリカ微小粒子の薄層を印刷することにより行われる。 別の実施形態において、アフィニティー及びイオン交換クロマトグラフィーを
含むクロマトグラフィー分離を、マイクロチャネルの内壁へのリガンド及びイオ
ノゲン基の共有結合により行うことができる。リガンドは、抗体、抗原、酵素、
基質、ホルモン、レセプター及び合成有機分子を含み得る。あるいは、マイクロ
チャネルは、固定した分離媒体、例えば天然のポリマー、例えばアガロース、デ
ンプン及びセルロース、並びに合成クロマトグラフィー媒体、例えばポリアクリ
ルアミド、ポリスチレン−ジビニルベンゼン及びシリカを満たすことができる。
これらのゲルで満たされたマイクロチャネルは、慣用的なクロマトグラフィー技
術を用いて“ナノスケール”分離を行うのに用いることができる。
を供するために、プラスチック基体上に、エポキシ樹脂又は官能化ビニル樹脂含
有シリカ微小粒子の薄層を印刷することにより行われる。 別の実施形態において、アフィニティー及びイオン交換クロマトグラフィーを
含むクロマトグラフィー分離を、マイクロチャネルの内壁へのリガンド及びイオ
ノゲン基の共有結合により行うことができる。リガンドは、抗体、抗原、酵素、
基質、ホルモン、レセプター及び合成有機分子を含み得る。あるいは、マイクロ
チャネルは、固定した分離媒体、例えば天然のポリマー、例えばアガロース、デ
ンプン及びセルロース、並びに合成クロマトグラフィー媒体、例えばポリアクリ
ルアミド、ポリスチレン−ジビニルベンゼン及びシリカを満たすことができる。
これらのゲルで満たされたマイクロチャネルは、慣用的なクロマトグラフィー技
術を用いて“ナノスケール”分離を行うのに用いることができる。
【0025】 この型の典型的なマイクロチャネル構造を図4に示す。チャネル8は例えば0
.05〜0.5mm幅である。それは、荷電した種、リガンドL又は固定相SPを
含む;図5及び6を参照のこと。 更なる実施形態において、液体ハンドリング/操作のためにデザインされた構
造を、スクリーン印刷及び/又は写真印刷を用いてマイクロチャネル内に作製す
ることができる。このような構造には、フリット、フィルター、バルブ及びポン
プがある。例えば、図7は、マイクロチャネル内の、フィルター9、固定相10
及びフリット11を示す。同様に、図8は、磁石粒子12及び開いた(O)又は
閉じた(C)バルブを示す。
.05〜0.5mm幅である。それは、荷電した種、リガンドL又は固定相SPを
含む;図5及び6を参照のこと。 更なる実施形態において、液体ハンドリング/操作のためにデザインされた構
造を、スクリーン印刷及び/又は写真印刷を用いてマイクロチャネル内に作製す
ることができる。このような構造には、フリット、フィルター、バルブ及びポン
プがある。例えば、図7は、マイクロチャネル内の、フィルター9、固定相10
及びフリット11を示す。同様に、図8は、磁石粒子12及び開いた(O)又は
閉じた(C)バルブを示す。
【0026】 装置は、小さな携帯用の装置と共に用いることができる。この方法において、
種の現地分析のために、又は一般医院又は病院内でのサンプルの分析のために完
全に携帯用の装置を作製することができる。その装置からの出力は、溶液中の被
検体のレベルに関連する。 装置は、サンプルを容器から装置に運ぶためのサンプルセル又は多孔質層も含
み得る。サンプルセル又は多孔質層は、装置のパターンに達する前にサンプルを
プレ処理するための緩衝液及び/又は他の試薬も含み得る。例えば、サンプル細
胞又は多孔質層は、血漿又は完全な血液の流れを補助するために緩衝塩又は界面
活性剤を含み得る。本発明のこの態様によるアッセイ装置は、読み取りのための
装置にはめ込まれる使い捨てユニットとして用いることができる。
種の現地分析のために、又は一般医院又は病院内でのサンプルの分析のために完
全に携帯用の装置を作製することができる。その装置からの出力は、溶液中の被
検体のレベルに関連する。 装置は、サンプルを容器から装置に運ぶためのサンプルセル又は多孔質層も含
み得る。サンプルセル又は多孔質層は、装置のパターンに達する前にサンプルを
プレ処理するための緩衝液及び/又は他の試薬も含み得る。例えば、サンプル細
胞又は多孔質層は、血漿又は完全な血液の流れを補助するために緩衝塩又は界面
活性剤を含み得る。本発明のこの態様によるアッセイ装置は、読み取りのための
装置にはめ込まれる使い捨てユニットとして用いることができる。
【0027】 以下の例は本発明を詳述する。 実施例1 直径300〜500μm及び深さ100μmの寸法のマイクロウェルのアレイ
を、ポリプロピレン又はポリスチレンから作られたプラスチックシート上に誘電
性材料の層(Electra Polymers and Chemicals Ltd, Kent, UK) をスクリーン印
刷して、96ウェルマイクロタイタープレートと同様のフットプリントを伴う9
600ウェルのプレートを供する。その印刷されたアレイは80℃で数時間で硬
化する。ウェルの深さは、誘電性材料の更なる層を印刷することにより増加させ
ることができる。次にそのウェルを用いてそのウェルに分散させた試薬で結合反
応を行うことができる。そのウェルでの反応のモニターは、蛍光及びルミネセン
スを含むセンシティブな技術により行われる。
を、ポリプロピレン又はポリスチレンから作られたプラスチックシート上に誘電
性材料の層(Electra Polymers and Chemicals Ltd, Kent, UK) をスクリーン印
刷して、96ウェルマイクロタイタープレートと同様のフットプリントを伴う9
600ウェルのプレートを供する。その印刷されたアレイは80℃で数時間で硬
化する。ウェルの深さは、誘電性材料の更なる層を印刷することにより増加させ
ることができる。次にそのウェルを用いてそのウェルに分散させた試薬で結合反
応を行うことができる。そのウェルでの反応のモニターは、蛍光及びルミネセン
スを含むセンシティブな技術により行われる。
【0028】 実施例2 直径20〜25μmのマイクロウェルのアレイを、ホトマスクの使用によりプ
ラスチックシート上に析出させたUV架橋性ポリマー層(Carapace)上
にパターン形成した。UV光に露出した後、ウェルを、そのプラスチックシート
を炭酸ナトリウム溶液で処理することにより現像した。
ラスチックシート上に析出させたUV架橋性ポリマー層(Carapace)上
にパターン形成した。UV光に露出した後、ウェルを、そのプラスチックシート
を炭酸ナトリウム溶液で処理することにより現像した。
【0029】 実施例3 ポリプロピレン500μm厚のシート(Adhesive & Display Products, North
ampton, UK) に、UV架橋性インク(Carapace)の約50μm厚の層を
印刷した。そのマイクロチャネル構造を、ポジ型ホトマスクを用いて層上に露出
した。その露出されなかったチャネルを炭酸ナトリウム溶液ではぎとった。その
マイクロチャネル構造は、各々2つの交差した直線状のチャネル1.5及び4cm
長に対応する。チャネルは100μm幅で40〜50μmの深さであった。チャ
ネルの末端に、3mm直径の穴をサンプル、緩衝液及び収集リザーバとして各々ド
リルであけた。そのチャネルは、250μm厚の裏面に接着剤のついたMyla
rシートでおおった。
ampton, UK) に、UV架橋性インク(Carapace)の約50μm厚の層を
印刷した。そのマイクロチャネル構造を、ポジ型ホトマスクを用いて層上に露出
した。その露出されなかったチャネルを炭酸ナトリウム溶液ではぎとった。その
マイクロチャネル構造は、各々2つの交差した直線状のチャネル1.5及び4cm
長に対応する。チャネルは100μm幅で40〜50μmの深さであった。チャ
ネルの末端に、3mm直径の穴をサンプル、緩衝液及び収集リザーバとして各々ド
リルであけた。そのチャネルは、250μm厚の裏面に接着剤のついたMyla
rシートでおおった。
【0030】 色のある染料を1つの口に注入し、毛管作用によるチャネルを介しての流れを
観察した。このような回路は、チャネル内の種の流速及び流れの方向の両方を動
電学的に制御するために、チャネルの端の4つの穴に管材を接続することにより
形成されたリザーバに挿入された電極と合わせて用いることができる。あるいは
、伝導性電極は、伝導性インクをスクリーン印刷することによりその穴の基部に
印刷することができる。
観察した。このような回路は、チャネル内の種の流速及び流れの方向の両方を動
電学的に制御するために、チャネルの端の4つの穴に管材を接続することにより
形成されたリザーバに挿入された電極と合わせて用いることができる。あるいは
、伝導性電極は、伝導性インクをスクリーン印刷することによりその穴の基部に
印刷することができる。
【図1】 Figure1は、本発明により製造され得る多重ウェル装置の部分的に拡大
した概略平面図である。
した概略平面図である。
【図2,3及び4】 Figure2,3及び4は、各々、本発明により製造され得る更なる装置の
概略平面図である。
概略平面図である。
【図5,6,7及び8】 Figure5,6,7及び8は上記装置内のチャネルの概略断面図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成12年1月14日(2000.1.14)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 1/00 G01N 27/26 331E (72)発明者 マッカン,ジェームズ イギリス国,ケンブリッジ シービー4 1エックスティー,ダウンハムズ レー ン,ダウンハムズ ハウス,ケンブリッジ センサーズ リミティド (72)発明者 イーペン,セイジ イギリス国,ケンブリッジ シービー4 1エックスティー,ダウンハムズ レー ン,ダウンハムズ ハウス,ケンブリッジ センサーズ リミティド (72)発明者 ローウュ,クリストファー ロビン イギリス国,ケンブリッジ シービー4 1エックスティー,ダウンハムズ レー ン,ダウンハムズ ハウス,ケンブリッジ センサーズ リミティド
Claims (10)
- 【請求項1】 ウェル又はチャネルの表面微小構造を有する装置を製造する
ための方法であって、プラスチック基体上に硬化性材料として微小構造をスクリ
ーン印刷し、そして該材料を硬化させる1又は複数のステップを含む方法。 - 【請求項2】 ウェル又はチャネルの表面微小構造を有する装置を製造する
ための方法であって、照射により重合可能であるか又は解重合可能である材料を
基体に適用し、各々ネガ型又はポジ型フォトレジストを適用し、該構造に照射し
、そして非重合又は解重合化材料を除去することを含む方法。 - 【請求項3】 前記ウェル又はチャネルが少くとも50μmの幅を有するこ
とを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 前記ウェル又はチャネルが少くとも3μmの幅を有すること
を特徴とする請求項2に記載の方法。 - 【請求項5】 前記装置が、100を超えるウェルを含むことを特徴とする
先の請求項のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 前記装置が、50〜500μmの直径のウェルを含むことを
特徴とする先の請求項のいずれかに記載の方法。 - 【請求項7】 前記装置が、5〜300μmの深さのウェルを含むことを特
徴とする先の請求項のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 前記装置がチャネルを含み、該チャネルをおおうことを更に
含む請求項1〜4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 前記チャネルの先端にリザーバを形成することを更に含む請
求項8に記載の方法。 - 【請求項10】 前記リザーバに電極を挿入することを更に含む請求項9に
記載の方法。
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