JP2001501491A - 身体組織を形成美容外科的に改造する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 舌の形成美容外科的改造方法において、切除エネルギ源及び切除エネルギ送出し装置が用いられる。切除エネルギ送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に送り進める。舌下神経を傷つけることなく十分な量のエネルギを切除エネルギ送出し装置から舌内部へ送り込みんで舌の一部を切除する。しかる後、切除エネルギ送出し装置を舌の内部から引っ込める。この処置は、睡眠時無呼吸又は重症の鼾（いびき）を防止するための治療に適用される。

Description

【発明の詳細な説明】 身体組織を形成美容外科的に改造する装置 発明の背景 発明の分野 本発明は、患者の上気道開存性を維持する方法に関し、特に、舌下神経を傷つ けないで舌と舌扁桃の両方、又はいずれか一方の選択された部分を除去するよう 電磁エネルギを利用する方法に関する。関連技術の説明 睡眠時無呼吸症候群は、昼間における過眠、朝方の腕の疼痛、知的減退、心臓 に起因する不整脈、鼾（いびき）、及び睡眠中の手足のばたつきを示す医学的症 状である。これは患者の睡眠中に無呼吸状態が頻発することによって引き起こさ れる。この睡眠時無呼吸症候群は、伝統的な分類によれば２つのタイプに細分さ れる。「中枢性睡眠時無呼吸症候群（central sleep apnea syndrome）」と呼ば れている一タイプは、呼吸作用が繰り返し失われることを特徴としている。「閉 塞性睡眠時無呼吸症候群（obstructive sleep apnea syndrome）」と呼ばれてい るもう一つのタイプは、患者の上気道又は喉頭に対して頭方向に位置する患者の 気道の部分（ただし、喉頭は含まない）の閉塞に起因して睡眠中に繰り返し無呼 吸が起こるということを特徴としている。 従前の治療としては、種々の内科的処置、外科的処置及び理学療法的処置があ る。内科的処置としては、薬物、例えばプロトリプチリン、メドロキシプロデス テロン、アセタゾールアミド、テオフィリン、ニコチンを使用することや、中枢 神経系用抑制剤、例えば鎮静剤又はアルコールを使用回避した上での他の薬物の 使用がある。上述の内科的処置は、役に立つ場合があるが、完全に効くことは稀 である。さらに、薬物療法は望ましくない副作用をもたらす場合が多い。 外科的処置としては、口蓋垂咽頭形成術(uvulopalatopharyngoplasty)、扁桃 摘出術、重症の顎後退を矯正するための手術、及び気管開口形成術がある。一手 法では、舌底に接近できるようにするために顎を外して前に引っ張る。これらの 手法は、効果的な場合があるが、患者に対する手術の危険性を考慮して禁止され る場合があり、しかも患者の承認を得られない場合が多い。 理学療法的処置としては、体重の減量、鼻咽頭エアウェイ、鼻のＣＰＡＰ、及 び夜間に用いられる種々の舌保持器具の使用がある。これらの処置は、ある程度 有効であるが、厄介であって不快感をもたらすので、患者は長期間にわたってこ れらの処置を続けようとしない場合が多い。中枢性睡眠時無呼吸症候群のある患 者では、横隔神経又は横隔膜ペーシング（歩調取り）が用いられている。横隔神 経又は横隔膜ペーシングでは、換気を支援するよう横隔神経により両側が刺激さ れる患者の横隔膜を調整制御するために電気的刺激を利用している。このペーシ ングは、ＰＡＣＥ第１０巻パートII（1987年１−２月）に掲載されたＪ．ムジカ （J．Mugica）等の論文「直接的なダイヤフラムの刺激“Direct Diaphragm Stim ulation”」、「オーバービュー“Overview”」（1985年）２６３〜２７９頁の 神経刺激の項に掲載されたＪ．ムジカ（J．Mugica）等の論文「患者に対する筋 肉ダイヤフラム・ペーシング・システムの予備テスト“Preliminary Test of a Muscular Diaphragm Pacing System on Human Patients”」、及び、「薬及び生 物学“Medicine and Biology”」（1993年６月）に発表されたノクモビッツ・Ｉ ＥＥＥ・エンジニアリング（Nochomovitez IEEE Eng.）の論文「呼吸の電気的な 作用“Electrical Activation of Respiration”」に記載されている。 しかしながら、これらの患者の多くは又、吸気力がペースメーカーで増強され るときに悪化する閉塞性睡眠時無呼吸症状をある程度有していることが判明した 。横隔膜の働きによる換気は又、吸気の際に上気道を押しつぶして患者の舌を喉 の下に引き寄せ、患者を窒息させる。この場合、これら患者には適切な治療のた めに気管開口形成術を施す必要がある。 「トランス・エーエム・ソック・アーティフ・オルガンズ“Trans Am Soc Art if Intern Organs”」1985に発表されたＦ．かねこ（F．Kaneko）等の論文「生 理学的な喉頭ペースメーカー“Physiological Laryngeal Pacemaker”」に記載 されているような生理的喉頭ペースメーカーは、肺によって押し退けられ た体積を検出し、適当な神経に刺激を与えて患者の声門を開けて発生障害を治療 する。この装置は、睡眠時無呼吸の治療には効果がない。この装置は、肺の押退 け空気体積に比例する信号を出するが、このような方式では、発生信号睡眠時無 呼吸の治療のための指示手段として用いるには時間がかかりすぎる。閉塞に起因 して睡眠時無呼吸では押退け空気体積が検出されないことが多い。 閉塞性睡眠時無呼吸に有効な一処置は、気管開口形成術である。しかしながら 、この外科的処置は、相当な罹病率を招き、しかも美的間隔の面で患者にとって 受け入れがたい。他の外科的手法としては、舌をできるだけ前に引っ張って、上 気道を閉塞させる場合のある舌の部分又は他の組織を外科的に切断除去すること が挙げられる。 これら問題を解決する方法及び装置が要望されている。 発明の概要 したがって、本発明の目的は、舌を形成美容外科的に（cosmetically:外科的 治療法の美容術で）改造する方法を提供することにある。 本発明の別の目的は、舌下神経を傷つけないで舌を形成美容外科的に改造する 方法を提供することにある。 本発明のさらに別の目的は、舌の腫脹度を減少させた状態が得られるよう舌を 形成美容外科的に改造する方法を提供することにある。 本発明のもう一つの目的は、舌下神経を傷つけないで切除エネルギを舌の内部 の選択された部位に当てることにより舌を形成美容外科的に改造する方法を提供 することにある。 本発明のさらにもう一つの目的は、舌下神経を傷つけないで切除薬剤を舌の内 部の選択された部位に適用することにより舌を形成美容外科的に改造する方法を 提供することにある。 本発明の別の目的は、舌扁桃を形成美容外科的に改造する方法を提供すること にある。 本発明の上記目的及び他の目的は、舌を形成美容外科的に改造する方法によっ て達成される。切除エネルギ源及び切除エネルギ源に結合された一又は二以上の 切除エネルギ送出し電極を有する切除装置を準備する。少なくとも一つの電極を 舌の内部に前進させる。舌下神経を傷つけることなく十分な量の切除エネルギを 電極から舌の内部に送り込み、舌の一部を除去して舌を改造する。しかる後、電 極を舌の内部から引っ込める。 別の実施形態では、切除薬剤送出し装置に結合された切除薬剤源を準備する。 切除薬剤送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に前進させる。舌下神経を傷つ けることなく十分な量の切除薬剤を切除薬剤送出し装置から舌の内部に送り込み 、舌の一部を除去して舌を改造する。しかる後、切除薬剤送出し装置を舌の内部 から引っ込める。 図面の簡単な説明 図１は、本発明の方法で用いられる切除装置の横断面図である。 図２は、図１に示す切除装置のカテーテル及びコネクタを示す横断面図である 。 図３は、図１に示すコネクタの斜視図である。 図４は、図１に示す切除装置と連携したニードル電極の斜視図である。 図５は、本発明の方法で用いられる可撓性ニードル電極の斜視図である。 図６は、図１に示す切除装置で形成された切除領域を示す図である。 図７は、口を閉じた状態の舌の横断面図である。 図８は、口を開いた状態の舌の横断面図である。 図９は、舌の斜視図である。 図１０は、舌背の斜視図である。 図１１は、舌の横断面図である。 図１２は、舌下神経及び形成された切除領域の存在場所を示す舌の横断面図で ある。 図１３は、複数の切除領域を示す舌の横断面図である。 図１４は、舌の腹側面の斜視図である。 図１５は、舌の横断面図である。 図１６は、フィードバック系統に用いられるアナログ増幅器、アナログマルチ プレクサ及びマイクロプロセッサを示すブロック図である。 図１７は、図１のカテーテルを通る冷却媒体の流量を制御するのに使用できる 温度及びインピーダンスフィードバック系統のブロック図である。 図１８は、図１のカテーテルを通る冷却媒体の流量を制御するのに使用できる 温度及びインピーダンスフィードバック系統のブロック図である。 図１９は、ＲＦによる切除に続く舌の縮み度を百分率で示した三次元グラフ図 である。 図２０は、ＲＦ切除による牛の舌組織の二次元縮み度を示すグラフ図である。 図２１は、ＲＦ切除による牛の舌組織の三次元縮み度を示すグラフ図である。 図２２は、ＲＦによる切除に続く舌の体積変化百分率を示すグラフ図である。 発明の詳細な説明 舌、口蓋垂、軟口蓋、舌扁桃及び／又はアデノイドを部分除去して形成美容外 科的に（cosmetically:外科的治療法の美容術で）改造する方法では、電磁エネ ルギ源及び電磁エネルギ源に結合された１又は２以上の電磁エネルギ送出し電極 を含む切除装置が用いられる。少なくとも一つの電極を舌の内部に前進させる。 十分な電磁エネルギを電極から送り出して舌下神経を傷つけないで舌の一部を切 除する。次に、電極を舌の内部から取り出す。気道閉塞を治療する方法は、舌下 神経を傷つけないで舌を部分除去することによって達成される。電極を舌尖、腹 側面、舌背、舌の下、舌の中線に沿い、或いは場合によっては、おとがい領域を 貫通して舌中へ導入することができる。舌は、舌下神経を傷つけることなく切除 （部分除去）され、その結果、舌の改造が行われると共に形成美容外科的変化が 得られる。これは、電極を舌下神経から十分遠くに配置して舌への電磁エネルギ の送出し中、舌下神経が傷つけられないようにすることによって達成される。気 道閉塞を治療するためのもう一つの方法は、舌下神経を傷つけることなく舌扁桃 を切除することによって達成される。これらの方法は、睡眠時無呼吸を治療する ために用いられる。 図１及び図２を参照すると、舌、舌神経、口蓋垂、軟口蓋及び／又はアデノイ ドを部分除去して形成美容外科的に改造するための切除装置１０が示されている 。切除装置１０は、一又は二以上のエネルギ送出し装置又は電極１２を舌を通し て 通して舌の内部へ導入するよう位置決めすることができる。切除装置１０は、無 外傷性挿管（視覚化手段が設けられる場合があれば、設けられない場合もある） を有し、酸素又は麻酔剤の送出しを行うことができ、血液又は他の分泌液を吸引 することができる。切除装置１０は、ガスの通路が狭くなっているような身体中 の多種多様な閉塞部を治療するのに用いられることは理解されよう。一実施形態 は、電極１２を用いて舌、舌扁桃及び／又はアデノイドのうち選択された部分を 抵抗加熱、ＲＦ（無線周波数）、マイクロ波、超音波及び液体サーマルジェット を用いて切除（細胞の壊死）を行うために電極１２を用いる睡眠時無呼吸の治療 である。好ましいエネルギ源は、ＲＦ源である。この点に関し、切除装置１０は 、舌、扁桃腺、鼻甲介、軟口蓋組織、硬組織及び粘膜組織を含む（但し、これら に限定されない）標的塊を切除するために用いることができる。一実施形態では 、切除装置１０は、気道の横断面領域を増大させるよう舌を部分除去するために 用いられる。消毒薬導入部材が、口腔内に消毒薬を導入する。その目的は、切除 された身体部位の感染の恐れを少なくすることにある。 舌の部分除去に先立って、手術前評価を行うのがよく、かかる手術前評価とし ては、理学的検査、光ファイバ咽頭鏡検査、頭蓋計測、ポリグラフ記録によるモ ニタリングが挙げられる。理学的検査は、特に頭及び首の評価が得られる。これ はまた、中隔及び鼻甲介の閉塞性奇形、長い冗長軟口蓋又は肥厚性扁桃腺からの 口咽頭閉塞、突起した舌底に起因する舌咽頭閉塞部を識別するために鼻腔の厳密 な検査を含む。 部分除去装置１０は、カテーテル１４、任意的に用いられるハンドル１６及び カテーテル１４の長手方向表面に沿って設けられた種々のポート１８又はスリー ブの末端から延びる一又は二以上の電極１２を含む。カテーテル１４はハンドピ ースであるのがよい。前進装置２０を設けるのがよい。前進装置２０は、カテー テル１４の内部に配置された案内軌道又は管２３から成るのがよい。電極１２を 案内軌道２３内に配置してこれら電極を案内軌道から舌の内部へ前進させること ができる。 切除又は部分除去装置１０は、カテーテル１４、任意的に用いられるハンドル １６及びカテーテル１４の長手方向表面に沿って形成された種々のポート１８又 はスリーブの末端から延びる一又はII以上の切除源送出し装置１２を有している 。カテーテル１４はハンドピースであるのがよい。切除源送出し装置の前進装置 ２０（また、前進装置２０として知られている）を設けるのがよい。切除源送出 し装置の前進装置２０は、カテーテル１４の内部に配置された案内軌道又は管２ ３を有するのがよい。切除源送出し装置１２を案内軌道２３内に配置して、案内 軌道から舌の内部へ送り込むのがよい。ケーブル類が切除源送出し装置１２に結 合されている。 切除源送出し装置１２はカテーテル１４の内部に少なくとも部分的に配置され るのがよい。一実施形態では、切除源送出し装置１２をカテーテル１４の外面に 形成されたポート１８を通って前進したり後退させる。切除源送出し装置の前進 後退装置２０は、切除源送出し装置１２をカテーテル１４から身体組織の内部へ 前進させ、また身体組織の内部から切除源送出し装置１２を後退させることがで きる。身体組織は任意の数の種々の組織であってもよいが、以下、身体組織が舌 であるものとして説明する。切除源送出し装置１２は、舌の外面に穴をあけ、舌 の内部領域へ差し向けられる。十分な切除エネルギが切除源１２によって舌の内 部へ送り出され、それにより舌は十分なほど切除又は部分除去されるようになる 。切除源送出し装置１２は、中空構造部材であるのがよく、この中空構造部材は 、（ｉ）種々の化学薬品を選択された舌内部切除部位（化学的切除のため）に送 り出すようになっており、（ii）生理食塩水を含む（これに限定されない）多種 多様な注入剤だけでなくアルコール又は他の液体、或いは半液状物を送り出して 切除及び化学療法等を達成するようになっている。互いに異なる理学療法を組み 合わせると、所望の切除を達成することができる。かかる理学療法としては、Ｒ Ｆ及び化学療法、化学薬品及び化学療法が挙げられるが、これらに限定されない 。切除源送出し装置１２は、舌内での移動距離が制限される場合がある。ＲＦ電 極を用いる一実施形態では、これは、電極の外部を包囲する関係に設けられた絶 縁スリーブによって達成される。他の装置としては、これらの前進を制限する切 除源送出し装置１２に取り付けた状態で設けられる構造体又は切除源送出し装置 １２の前進を制限するカテーテルに結合された構造体、例えばストップ等がある 。適当な一流体は、電解質溶液である。冷却された状態の電解質溶液を用いると 、 熱エネルギの送出しのために組織と電極１２を直接接触させないで、熱エネルギ を組織に送り出すことが可能になる。電解質溶液は、約３０〜５５℃の範囲に冷 却されるのがよい。 カテーテル１４は、カテーテル側組織境界面２２、冷却媒体入口導管２４及び カテーテル１４の内部を貫通して延びる冷却媒体出口導管２６を有している。ポ ート１８がカテーテル１４の外面に設けられており、これらポートは好ましくは カテーテル側組織境界面２２に形成される。ポート１８は入口及び出口導管２４ ，２６内を通って流れる冷却媒体から隔離されている。冷却媒体入口及び出口導 管２４，２６は、カテーテル側組織境界面２２の冷却断面が少なくとも１〜２cm² になるよう形作られている。より好ましくは、カテーテル側組織境界面２２の 冷却断面は、下に位置する切除域の直径方向横断面に少なくとも等しい。 一実施形態では、カテーテル側組織境界面２２の冷却断面は、下に位置する切 除域の直径方向横断面に少なくとも等しい。別の実施形態では、カテーテル側組 織境界面２２の冷却断面は、それぞれ展開された切除源送出し装置と関連した領 域に冷却作用を及ぼすにすぎない。 カテーテル側組織境界面２２の冷却断面の大きさは患者によって異なる。この 大きさは、電磁エネルギの送出しに続く舌の腫脹を最小限度に抑えるに足るほど のものである。腫脹の減少度は、５０％以上、７５％以上及び９０％以上である のがよい。得られる冷却作用の度合は、患者が部分除去手術を受けた後、舌に起 因する窒息状態を起こさないで直ぐに家に帰ることができるほどのものである。 比較的広い面積にわたり十分なレベルの冷却を行うことによって、舌の内部領域 内の切除量が増大することが判明した。カテーテル側組織境界面２２の十分に大 きな冷却断面を提供することにより、アデノマ反応が最小限に抑えられる。 ハンドル１６は好ましくは絶縁材料で作られる。電極１２は、導電性材料、例 えばステンレス鋼で作られている。さらに、電極１２を、カリフォルニア州メン ローパーク所在のレイケム・コーポレーション（Raychem Corporation）から市 販されている形状記憶合金、例えばニッケルチタンで作ってもよい。一実施形態 では、所望の撓みを生じるようにするために、電極１２の末端部のみが形状記憶 合金で作られている。口腔内へ導入すると、カテーテル１４を患者の咽頭反射が 開始されるまで前進させるのがよい。次に、カテーテル１４を引っ込めて患者の 喉詰まりを防止する。電極１２の末端部は、幾分湾曲した形態であるのがよい。 末端部は、舌の外部の形状に一致する幾何学的形状を有するのがよい。 本発明の一実施形態では、カテーテル１４はハンドピースである。この実施形 態では、別個のハンドル１６は必要ではない。部分除去装置１０は、舌の内部領 域を治療するために用いられる。カテーテル１４は、口腔内に位置決めされるよ う寸法決めされた末端部を有している。切除源送出し装置１２は、カテーテル１ ４の内部に少なくとも部分的に配置される。切除源送出し装置１２は、切除送出 し表面３０を有している。切除源送出し装置１２は、切除源送出し装置１２に結 合されており、カテーテル１４を舌の表面に隣接して配置したとき、カテーテル １４の末端位置を含む（しかしながら、これには限定されない）カテーテル１４ から切除源送出し装置１２を舌の内部へ前進させるよう校正される。切除源送出 し装置１２をカテーテル１４から、舌下神経又は舌の表面を傷つけないで、舌の 内部領域を切除エネルギと切除作用の両方又はいずれか一方で治療するのに十分 な前進距離３３にわたって送り進める。 切除標的部位を選択したときに舌の表面に形状が一致するようにするためにカ テーテル１４は順応性があるのがよい。カプセル収納軟質金属、例えば銅又は焼 きなまし金属及びプラスチック材料を用いて順応性のあるカテーテル１４を形成 するのがよい。カテーテル１４の全て又は一部を順応性のあるようにしてもよく 、或いは形状記憶合金で作ってもよい。 多くの用途においてカテーテル１４の末端部１４'が撓むことができることが 望ましい。これは、機械的に又は形状記憶合金を用いることによって達成できる 。ステアリングワイヤ又は他の機械的構造部材を末端部１４'の外部又は内部の いずれかに取り付けるのがよい。一実施形態では、医師がハンドル１６に設けら れた撓み調整ノブを操作して、ステアリングワイヤをピンと張る。これにより、 末端部１４の引込み力が得られ、その結果それが撓むことになる。ステアリング ワイヤに代えて他の機械的器具を用いてもよいことは理解されよう。撓みは、接 近困難な組織部位にとって望ましい場合がある。 フィードバック制御のもとで舌の制御された体積減少は、気道の有効開口を達 成するのに用いられる。多種多様なキシロケイン（Xylocaine）を含む（しかし ながら、これには限定されない）多種多様な鎮痛薬を用いるのがよい。ディジタ ル式超音波測定装置を用いるのがよい。超音波測定装置により、生物学的形状変 化の定量化、超音波の送受信、圧電変換器（結晶）の使用が可能になり、飛行時 間データが得られる。 消毒薬導入部材２１もまた、口腔内へ導入するのがよい。消毒薬を切除前、切 除中及び切除後に、或いはこれらのうち何れかの場合に導入するのがよい。これ は連続的に送り出すのがよい。口腔の消毒レベルは、消毒される口腔の容積に応 じて選択可能である。消毒の度合は様々である。消毒は、切除された身体組織の 感染の恐れを少なくするのに行われる。消毒薬導入部材２１を、口腔内への切除 装置１０の導入前、導入後又は導入中に送り込むのがよい。さらに、消毒薬導入 部材２１を切除装置１０を口腔から取り出すのと同時に又はこれとは異なる時に 取り出すのがよい。 消毒薬導入部材２１を、切除装置１０、カテーテル１４の内部又はカテーテル １４の外部に配置するのがよく、この消毒薬導入部材２１は、消毒薬を消毒薬源 ２３から口腔の全ての部分又は選択された部分内に導入するような形状の管腔を 備えた導入手段であるのがよい。口腔の全ての部分又は一部だけを消毒できるよ うにするために、消毒薬導入部材２１は、口腔内で移動可能であるのがよい。本 発明の開示の目的上、口腔は、感染菌が切除された舌、軟質組織等内へ入り込む 可能性のある身体内部環境である。消毒薬導入装置２１を、カテーテル１４内又 はその外部に摺動自在に配置するのがよい。変形例として、消毒薬導入部材２１ は、ＵＶ源２５を含む（しかしながら、これには限定されない）光エネルギ源に 結合された光ファイバであってもよい。光ファイバもまた、口腔内に摺動自在に 配置するのがよい。光ファイバは、口腔の全ての部分又は一部だけの選択的消毒 を行うよう形づくられており、この目的を達成するために多種多様な末端部を有 するのがよい。 適当な消毒薬としては、Peridex、即ち塩基含有水に溶解させた０.１２％クロ ルヘキシジングルシネート（１，１’−ヘキサンエチレンビス[5-(P-クロロフェ ニール)バイガナイド）ジ−Ｄ−グルコネート、１１.６％アルコール、グリセリ ン、ＰＥＧ４０ソルビタンアリソテラート、香味料、ドシウムサッカリン、及び FD&C Blue No.1を含む口すすぎ薬が挙げられるが、これには限定されない。 他の電磁波長及び種々の化学組成物を含む多種多様な消毒手段を用いることが できることは理解されよう。 電極１２は、カテーテル１４の内部に少なくとも部分的に配置されている。各 電極１２をカテーテル１４の外面に形成されたポート１８を通って前進後退させ る。前進後退装置は、電極１２をカテーテル１４から身体組織の内部へ送り進め 、カテーテル１４内へ戻す。電極１２は、舌の外面に穴をあけ、舌の内部領域へ 差し向けられる。十分な電磁エネルギが電極１２によって舌の内部へ送り出され 、それにより舌は十分に切除又は部分除去されるようになる。電極１２は、生理 食塩水を含む（しかしながら、これには限定されない）多種多様な注入剤を受け 入れるよう中空であるのがよい。電極１２は、舌内へ前進できるよう距離が制限 されるのがよい。これは、絶縁スリーブ、これらの前進を制限する電極１２に設 けられた構造体、又は電極１２の前進を制限するカテーテルに結合された構造体 、例えばストップ等を用いて達成される。 消毒薬を切除前、切除中及び切除後に、或いはこれらのうち何れかの場合に導 入するのがよい。これは連続的に送り出すのがよい。口腔の消毒レベルは、消毒 される口腔の容積に応じて選択可能である。消毒の度合は様々である。消毒は、 切除された身体組織の感染の恐れを少なくするのに行われる。 調節可能な又は調節できない絶縁スリーブ３２（図３、図４及び図５）を設け ることにより、電極１２の切除送出し表面、例えば電磁エネルギ送出し表面３０ を調節できる。絶縁スリーブ３２を、電極１２の外面に沿って前進後退させるこ とができる。その目的は、電磁エネルギ送出し表面３０の長さを増減することに ある。絶縁スリーブ３２は、ナイロン、ポリイミド、他の熱可塑性樹脂等を含む （しかしながら、これらには限定されない）種々の材料で作るのがよい。エネル ギ送出し表面３０の大きさは、多重化され又は個々に動作できる複数の電極を用 いてセグメント状電極を形成する方法等を含む（しかしながら、これには限定さ れない）他の方法によって変化させることができる。 特に図４を参照すると、切除源送出し装置１２は、カテーテル１４の外面から 延びて舌の内部に差し向けられる前進距離部分３３を有している。前進距離部分 ３３は、切除送出し表面３０を舌の内部の選択された組織部位に位置決めするの に十分である。切除送出し表面３０は、切除作用が選択組織部位に送り出され、 舌下神経を傷つけることなく所望レベルの切除を選択された組織部位に生じさせ るように十分な長さのものである。切除送出し表面３０は、常に切除源送出し装 置１２の末端部に位置しているわけではない。また、絶縁剤３２を切除源送出し 装置１２の末端部に配置するのがよい。この実施形態では、切除送出し表面３０ は、切除源送出し装置１２の末端部まで延びていない。しかしながら、切除送出 し表面３０は、依然として、舌下神経を傷つけることなく、或いは舌の表面を傷 つけないで選択された組織部位のところで舌の内部に所望レベルの細胞の壊死を 生じさせるのに十分な切除作用を送り出す。さらに、切除源送出し装置１２の側 部のうち一方だけ又は側部の一部を絶縁するのがよい。また、これにより、切除 源送出し装置１２を舌下神経に隣接した部分を含む舌全体中に配置することがで きる。切除源送出し装置１２が舌下神経に隣接して位置する場合、切除源送出し 装置１２は絶縁される。 一実施形態では、前進距離３３は１.２〜１.５cmであり、切除送出し表面３０ の長さは５〜１０mm、より好ましくは約８mmである。 別の実施形態では、前進距離３３は、舌表面のうち任意の表面、特に舌背を貫 通して導入したとき、舌下神経に達するには不十分である。 前進装置２０は、各切除源送出し装置１２の少なくとも一部を舌の内部の配設 位置まで前進させるよう形作られている。前進装置２０はまた、各切除源送出し 装置１２を引っ込めるような形状になっているのがよい。配設場所では、切除送 出し表面は、舌下神経及び／又は舌の表面を傷つけないで選択された部位の体積 を減少させるに十分な切除エネルギ及び／又は作用を送りだす。一実施形態では 、切除源送出し装置の前進後退装置２０は、案内軌道２３を用いて、或いはこれ がなくても、切除源送出し装置１２の送出しをカテーテル１４から、カテーテル の長手方向軸線に対して６０°〜９０°の角度、好ましくは約７０°の角度で舌 の内部へ差し向ける。 ある実施形態では、切除源送出し装置１２は、片方の側部、基端部、末端部等 が部分的に絶縁された一以上の絶縁表面を備えていて、舌下神経を傷つけないで 選択された組織部位の体積を減少させるよいな湾曲形状を含む（ただし、これに は限定されない）幾何学的形状を有している。一実施形態では、切除源送出し装 置１２は、任意の舌表面を貫通して導入され、この切除源送出し装置１２は、舌 下神経に近接して配置できる切除源送出し装置１２の一部が絶縁材３２を備える よう形作られている。上述のように、絶縁材３２を、切除源送出し装置１２の互 いに異なる部位に配置できる。 ハンドル１６は、前進後退装置２０に結合されたコネクタ３４を有するのがよ い。コネクタ３４により、電極１２は電力、フィードバック制御、温度及び／又 は撮像システムに結合される。ＲＦ／温度制御ブロック３６を設けるのがよい。 一実施形態では、医師は前進後退装置２０をコネクタ３４の末端部に向かう方 向に移動させる。電極１２はバネ押し式のものであるのがよい。前進後退装置２ ０を引き戻すと、バネにより選択された電極１２がカテーテル１４から出る。 一本以上のケーブル３８が、電極１２を電磁エネルギ源４０に結合している。 本発明では、身体組織の内部に、ＲＦ、マイクロ波、超音波、コヒーレント光及 び熱伝達を含む（ただし、これらには限定されない）電磁エネルギを伝える種々 のエネルギ源４０を用いるのがよい。好ましくは、エネルギ源４０はＲＦ発生器 である。ＲＦエネルギ源を用いると、外科医はＲＦエネルギ源４０に結合された フットスイッチ（図示せず）を用いることによってＲＦエネルギ源４０を作動さ せることができる。 一又は二以上のセンサ４２を電極１２の内面又は外面、絶縁スリーブ３２上に 配置するのがよく、或いは身体組織の内部に独立的に挿入配置してもよい。セン サ４２により、組織部位における温度の正確な測定が可能になるが、その目的は 、（ｉ）切除範囲、（ii）切除量、（iii）さらに切除が必要であるかどうか、 （iv）選択された幾何学的形状の境界又は周囲を判定することにある。さらに、 センサ４２を用いることにより、非標的組織の破壊又は切除が防止される。 センサ４２は、サーミスタ、熱電対、抵抗線等を含む（ただし、これらには限 定されない）従来設計のものである。適当なセンサ４２としては、Ｔ型銅−コン スタンタン熱電対、また、Ｊ型、Ｅ型、Ｋ型のもの、光ファイバ、抵抗線、熱電 対赤外線検出器等が挙げられる。センサ４２は温度センサである必要はないこと は理解されよう。 センサ４２は、切除のモニタリングを可能にするために温度とインピーダンス の両方又はいずれか一方を測定する。これにより、切除された標的塊の周りに位 置する組織の損傷が少なくなる。温度を身体組織内部の種々の箇所でモニターす ることにより、切除の注意状態を確かめることができるので切除がいつ完了した かが分かるようになる。もし所望の切除温度を越えたことをセンサ４２がいつで も判定できるならば、適当なフィードバック信号をエネルギ源４０で受けてエネ ルギの送出し量を調節する。 切除又は部分除去装置１０は、ビューイングスコープ、拡大接眼レンズ、ビデ オ映像装置等を含む（ただし、これらには限定されない）視覚化手段を有するの がよい。 さらに、超音波による撮像手段を用いて電極１２を配置すると共に、或いは切 除量を求めることができる。一又は二以上の超音波変換器４４を電極１２内又は 電極１２上、カテーテル１４内又はカテーテル上、或いは別個の装置上に設ける のがよい。また、撮像プローブを選択された組織部位の内部又は外部に用いるの がよい。適当な撮像プローブは、ヒューレット・パッカード・カンパニー（Hewl ett Packard Company）によって製造販売されているモデル21362である。各超音 波変換器４４は、超音波源（図示せず）に結合されている。 次に、図６を参照すると、カテーテル１４は、口腔内に導入された状態で示さ れており、多数ＲＦ電極１２が舌の内部に送り込まれており、互いに異なる切除 領域４６を形成している。ＲＦを用いると、切除装置１０を双極モードか単極モ ードかのいずれかのモードで動作させることができる。図６では、電極１２は双 極モードで動作していて、舌下神経に影響を及ぼさないで舌を部分除去するに足 る切除領域４６を生じさせると共に気道を大きくする。この部分除去により、舌 の裏は、気道から遠ざかって前方に移動する。その結果、気道の直径方向横断面 が増大することになる。 また、ＲＦを用いて切除装置１０を単極モードで動作させることができる。グ ラウンドパッドを都合のよい場所、例えばおとがいの下に配置するのがよい。第 １の切除領域４６を生じさせるために単一の電極１２を舌内に配置する。次に、 電極１２を舌の内部から引っ込めてカテーテル１４を移動させ、次に電極１２を カテーテル１４から舌の別の内側部分内へ前進させる。第２の切除領域４６が得 られる。この手順を任意の回数にわたって行うと、舌の内部に互いに異なる切除 領域を形成することができる。２本以上の電極１２を舌内に導入して双極モード で動作させるのがよい。次に、電極１２を任意の回数にわたり舌の内部に再配置 して複数の互いに繋がった、或いは繋がっていない切除領域４６を形成する。 次に、図７〜図１５を参照すると、舌及び他の組織の種々の解剖学的な図が示 されている。種々の解剖学的組織は次の通りである。おとがい舌筋又は舌体は符 号４８、おとがい舌骨筋は符号５０、顎舌骨筋は符号５２、舌骨は符号５４、舌 尖は符号５６、舌の腹側面は符号５８、舌背は符号６０、舌の下背側面は符号６ ２、喉頭蓋谷は符号６４、舌小胞は符号６６、口蓋垂は符号６８、アデノイド領 域は符号７０、舌の横方向境界部は符号７２、有郭乳頭は符号７４、口蓋扁桃は 符号７６、咽頭は符号７８、冗長咽頭組織は符号８０、舌盲孔は符号８２、舌下 神経は符号８４、舌小帯は符号８６でそれぞれ示されている。 舌背６０は、上背側面（全体の２／３）及び下背側面６２に分割されている。 この図は、有郭乳頭７４及び舌盲孔８２を基準にして作られている。下背側面６ ２は有郭乳頭７４の下、喉頭蓋谷６４の上に位置する背側面である。喉頭蓋谷６ ４は、喉頭蓋と連続した舌の表面の最も深い部分である。舌小胞６６は舌扁桃を 構成する。 カテーテル１４を鼻の中又は口腔内へ導入することができる。電極１２を舌背 表面６０、下背側面６２、腹側面５８、舌尖５６、又はおとがい舌骨筋５０を貫 通して通して舌の内部に差し込むことができる。さらに、電極を舌小胞６６の内 部及びアデノイド領域７０に導入することができる。いったん電極１２を配置す ると、絶縁スリーブ３２を、各電極１２について所望の電磁エネルギ送出し表面 ３０が得られるよう調節するのがよい。 舌下神経８４を傷つけることなく切除領域４６が形成される。これにより、気 道が広がって睡眠時無呼吸が治療される。 すべての場合において、切除領域４６の形成はもちろんのこと電極１２の配置 も、舌下神経８４が切除される或いは傷つかないようなものである。飲み込んだ り話をしたりする能力は損なわれない。 一実施形態では、ＲＦ電極１２は舌背表面上に配置される。第１の電極は乳カ ク乳頭に近接して、これに対して０.５cmのところに配置される。他の電極は、 互いに１.６cm離し、舌の中心軸線から１cm離して設けられる。一実施形態では 、４６５ＭＨｚＲＦが当てられる。電極１２の末端部のところにおける温度は約 100℃であった。絶縁スリーブ３２の末端部のところの温度は約６０℃であった 。別の実施形態では、絶縁スリーブ３２の末端部のところの温度は４３℃以上で あった。ＲＦエネルギを、低ＲＦの短い持続時間のパルスとして当てるのがよい 。所望の切除部位が正確に標的にされる。一以上の電極１２を用いると、体積三 次元的切除を達成することができる。種々の幾何学的形状の切除が可能であり、 かかる幾何学的形状としては、直線、多面体形状、その他の形状、対称又は非対 称形状が挙げられるが、これらには限定されない。 次に、図１６及び図１７を参照すると、開ループ又は閉ループフィードバック システムがセンサ４２をエネルギ源４０に結合している。組織又は電極１２の温 度がモニターされ、それに応じてエネルギ源４０の出力が調整される。さらに、 口腔内の感染レベルをモニターすることができる。医師は、所望ならば閉ループ システム又は開ループシステムをオーバーライドすることができる。電力を調整 するだけでなく、電源のスイッチを入れたり切ったりするために閉ループシステ ム又は開ループシステムにマイクロプロセッサを組み込むのがよい。閉ループシ ステムは、コントローラとして役立ち、温度を監視し、ＲＦ出力を調節し、結果 を考察し、結果を再送し、次に出力を調節するマイクロプロセッサ８８を利用し ている。 センサ４２及びフィードバック制御システムを用いると、ＲＦ電極１２に隣接 して位置する組織を妨害されることなく、選択された時間にわたって所望の温度 に維持することができる。各ＲＦ電極１２は、各ＲＦ電極１２について互いに独 立した出力を生じさせる源に接続されている。出力は、選択された時間の長さに わたってＲＦ電極１２のところに選択されたエネルギを維持する。 ＲＦ電極を用いる場合、ＲＦ電極１２を通って送られる電流は電流センサ９０ によって測定される。電圧は、電圧センサ９２によって測定される。次に、イン ピーダンス及び電力を電力及びインピーダンス計算装置９４のところで計算する 。次に、これらの値をデイスプレイ付きユーザインタフェース９６のところで表 示するのがよい。電力及びインピーダンスを表わす信号は、コントローラ９８に よって受け取られる。 実測値と所望値の差に比例する制御信号がコントローラ９８によって生じる。 制御信号は電源回路又は電力回路１００によって用いられ、それにより電力出力 を適当な量、調節する。その目的は、それぞれのＲＦ電極１２から送り出される 所望の電力を維持することにある。 同様に、センサ４２のところで検出された温度により、選択された電力を維持 するためのフィードバックが可能になる。実際の温度は、温度測定装置１０２の ところで測定され、これらの温度はディスプレイ付きユーザインタフェース９６ のところで表示される。実測温度と所望温度の差に比例する制御信号がコントロ ーラ９８によって発生する。この制御信号は電源回路１００によって用いられて 電力出力を適当な量調節する。その目的は、それぞれのセンサから送り出される 所望の温度を維持することにある。多くのセンサ４２のところの電流、電圧及び 温度を測定するためにマルチプレクサを設けるのがよく、エネルギを単極方式又 は双極方式でＲＦ電極１２に送ることができる。 コントローラ９８は、ディジタル又はアナログコントローラであってもよく、 或いはソフトウェアを備えたコンピュータであってもよい。コントローラ９８が コンピュータである場合、これはシステム母線によって結合されたＣＰＵを有す るのがよい。このシステムは当該技術分野で知られているようにキーボード、デ ィスク駆動機構又は他の不揮発性記憶装置、ディスプレイ及び他の周辺装置を含 むのがよい。また、システム母線には、プログラム記憶装置及びデータ記憶装置 が結合されている。 ディスプレイ付きユーザインタフェース９６は、オペレータ制御装置及びディ スプレイを有している。コントローラ９８を、超音波、ＣＴスキャナ、Ｘ線、Ｍ ＲＩ、乳房Ｘ線撮影法等を含む（ただし、これらには限定されない）撮像システ ムに結合するのがよい。さらに、直接的視覚化及び触覚撮像手段を利用するの がよい。 電流センサ９０及び電圧センサ９２の出力はコントローラ９８によって用いら れ、それにより、選択された電力レベルがＲＦ電極１２のところに維持される。 送り出されたＲＦエネルギの量によって電力量が制御される。出力の送出しプロ フィールをコントローラ９８内に入れることができ、エネルギの送出し設定量の プロフィールもまた決定できる。切除エネルギ及び／又は切除剤の制御された量 を維持するために他の切除源送出し装置１２について、センサ９０，９２に類似 した他のセンサの出力をコントローラ９８によって利用するのがよい。 回路、ソフトウェア及びコントローラ９８へのフィードバックは、これらを用 いた結果として、プロセス制御及び電圧又は電流の変化とは無関係な選択された 電力の維持が可能であり、また（ｉ）選択された電力、（ii）デューティーサイ クル（オンオフ及びワット数）、（iii）双極又は単極エネルギ送出し量、及び （iv）流量及び圧力を含む注入薬送出し量を変えるのに用いられる。センサ４２ のところでモニターされた温度に基づき、電圧又は電流の変化とは無関係に電力 の所望送出し量を維持しながら、これらプロセス変数を制御して変化させる。 電流センサ９０及び電圧センサ９２は、アナログ増幅器１０４の入力に接続さ れている。アナログ増幅器１０４は、センサ４２と併用される従来型差動増幅器 回路であるのが良い。アナログ増幅器１０４の出力は、アナログマルチプレクサ １０６によってアナログ−ディジタル変換器１０８の入力に順次接続されている 。アナログ増幅器１０４の出力は、検出された各温度を表す電圧である。ディジ タル化された増幅器出力電圧は、アナログ−ディジタル変換器１０８によってマ イクロプロセッサ８８に供給される。マイクロプロセッサ８８は、モトローラ（ Motorola）社から入手できる６８ＨＣIIタイプである。しかしながら、任意適当 なマイクロプロセッサ又は汎用ディジタル又はアナログ式コンピュータを用いて もインピーダンス又は温度を計算できることは理解されよう。 マイクロプロセッサ８８は、インピーダンス及び温度のディジタル表示を順次 受け取って記憶する。マイクロプロセッサにより受け取られる各ディジタル値は 、互いに異なる温度及びインピーダンスに対応している。 出力及びインピーダンスの計算値をディスプレイ付きユーザインタフェース ９６で表示するのが良い。変形例として、或いは出力又はインピーダンスの数値 表示に加えて、インピーダンス及び出力の計算値をマイクロプロセッサ８８によ り出力及びインピーダンス限界値と比較しても良い。これらの値が出力又はイン ピーダンスの所定値を越えていると、ディスプレイ付きユーザインタフェース９ ６に警告が出され、さらに、ＲＦエネルギの送出し量が減少し、修正され、或い は中断される。マイクロプロセッサ８８からの制御信号は、エネルギ源４０によ って供給された出力レベルを修正できる。 図１８は、カテーテル１４中を通る冷却媒体の流量を制御するために使用でき る温度及びインピーダンスフィードバック系統のブロック図を示している。エネ ルギ源によって電磁エネルギが電極１２に送られ、組織に当てられる。モニター １１０が、組織に送りだされたエネルギに基づいて組織インピーダンスを確かめ 、インピーダンス測定値を設定値と比較する。もしインピーダンス測定値が設定 値よりも大きければ、動作不能信号１１２がエネルギ源４０に送られて電極１２ へのそれ以上のエネルギ送出しを停止させる。インピーダンス測定値が許容限度 内にあれば、エネルギは引き続き組織に当てられる。組織へのエネルギの印加中 、センサ４２は組織と電極１２の両方、又はいずれか一方の温度を測定する。コ ンパレータ１１４が、温度測定値を表す信号を受け取り、この値を所望温度を表 す事前に設定された信号と比較する。コンパレータ１１４は、組織温度が高すぎ る場合に冷却媒体の流量を多くする必要があることを表す信号を流量調整弁１１ ６に送り、又は、組織温度が所望温度を越えていなかった場合には冷却媒体流量 を維持するための信号を流量調整弁１１６に送る。 実験例 １ 切除装置１０を用いて牛につき二次元的な縮み度を求めた。単一のニードル電 極を用いてＲＦによる体積減少を達成した。４つのミニチュア超音波結晶を正方 形となるように配置した。１５ワットの電力を印加して対照及び切除後の体積減 少率の測定値を取ったが、当初は１３％の体積減少率であり、１５ワットを４時 間にわたって印加すると更に４％の体積減少率を得た。合計で１７％の体積減少 率が達成された。 実験例 ２ 切除装置１０を用いて牛の舌の三次元的縮み度を求めた。８つのミニチュア超 音波結晶が立方体を形成した状態で単一のニードル電極を用いてＲＦによる体積 減少を達成した。当初、１６ワットの電力を印加したところ当初、牛舌の１７％ の体積減少率が得られたが、２５ワットでは当初、２５％の体積減少率が得られ 、数時間後に２５ワットを印加すると、更に４％の体積減少率が得られ、結局合 計で２９％の体積減少率が得られた。 実験例 ３ 当初２０ワットの印加による三次元的総合結果では、豚につき生体内で３５％ の体積減少率が得られた。 次に、図１９を参照すると、多次元ディジタル式ソノマイクロメトリー（sono micrometry）を用いて切除体積の寸法を測定した。Ｚ方向における平均減少率は ２０％であり体積縮み度は２６％であった。ニードルを用いた生体内ＲＦ切除に 起因する舌組織の三次元縮み度が図２０に示されている。切除前の対照体積が切 除後体積と比較されている。 図２０は、ニードル電極を用いたＲＦによる切除に起因する牛舌組織の二次元 縮み度を示している。切除前後についての結果が示されている。 図２１は、組織の１７％体積縮み度という結果をもたらした１６ワットでの切 除を、切除後のものと対照例を比較した形態でグラフ図で示している。２５ワッ トでの切除の結果として、体積縮み度は切除後、２５％であった。上述の切除後 の場合に対して切除後に長期間（４時間）経過した場合では、付加的な４％の面 積縮み度が後になって得られた。 図２２は、ＲＦ切除後における体積変化百分率を示している。１６ワット及び ２０分間にわたる１６ワットを条件とする切除例、２５ワット及び２０分間にわ たる２５ワットを条件とする切除例、２５ワット（４時間）及び長期間経過した 場合の切除例（２５ワットでの切除後、４時間）が示されている。 本発明の好ましい実施形態についての上記説明は例示のためのものである。本 発明は、開示した形態そのものに限定される訳ではない。当業者であれば、多く の設計変更例及び変形例を想到できよう。本発明の範囲は、請求の範囲に記載さ れた事項及びその均等範囲に基づいて定められる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成９年９月２３日（１９９７．９．２３） 【補正内容】 27．舌の形成美容外科的改造方法であって、 切除エネルギ源及び切除エネルギ送出し装置を有する切除装置を準備する段 階と、 切除エネルギ送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に前進させる段階と、 舌下神経の主分枝を恒久的に傷つけることなく十分な量のエネルギを切除エ ネルギ送出し装置から舌の内部に送り込み、舌の一部を除去して舌を改造する 段階と、 切除エネルギ送出し装置を舌の内部から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 42．舌の形成美容外科的改造方法であって、 切除薬剤送出し装置に結合された切除薬剤源を準備する段階と、 切除薬剤送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に前進させる段階と、 舌下神経の主分枝を恒久的に傷つけることなく十分な量の切除薬剤を切除薬 剤送出し装置から舌の内部に送り込み、舌の一部を除去して舌を改造する段階 と、 切除薬剤送出し装置を舌の内部から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 47．舌の体積を減少させることにより舌を形成美容外科的に改造する方法であっ て、 ＲＦエネルギ源に結合された一又は二以上のＲＦ電極を有する切除装置を準 備する段階と、 少なくとも一つの電極を舌の内部に配置する段階と、 ＲＦエネルギを電極から舌の内部に送り込む段階と、 舌下神経を傷つけないで舌内部の一部を切除する段階と、 を含むことを特徴とする方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，Ｈ Ｕ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ， ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．舌の形成美容外科的改造方法であって、 電磁エネルギ源及び電磁エネルギ源に結合された一又は二以上の電磁エネル ギ送出し電極を有する切除装置を準備する段階と、 少なくとも一つの電極を舌の内部に前進させる段階と、舌下神経を傷つける ことなく十分な量の電磁エネルギを電極から舌の内部に送り込み、舌の一部を 除去して舌を改造する段階と、 電極を舌の内部から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 ２．電磁エネルギ源は、ＲＦ源であることを特徴とする請求項１記載の方法。 ３．電磁エネルギ源は、マイクロ波源であることを特徴とする請求項１記載の方 法。 ４．電極は、舌の腹側面を貫通して舌の内部に送り進められることを特徴とする 請求項１記載の方法。 ５．電極は、舌の下背側面を貫通して舌の内部に送り進められることを特徴とす る請求項１記載の方法。 ６．電極は、舌の舌背面を貫通して舌の内部に送り進められることを特徴とする 請求項１記載の方法。 ７．電極は、舌の舌尖を貫通して舌の内部に送り進められることを特徴とする請 求項１記載の方法。 ８．二以上の電極が、舌の別の内部領域中に送り進められることを特徴とする請 求項１記載の方法。 ９．二三以上の電極が、舌の別の表面部位中へ導入されることを特徴とする請求 項１記載の方法。 10．切除装置は、内腔を備えたカテーテルを更に有し、電極はカテーテル内腔か ら舌の内部に配備されることを特徴とする請求項１記載の方法。 11．カテーテルは、冷却要素を更に備えていることを特徴とする請求項１記載の 方法。 12．冷却要素は、カテーテルの内部に設けられた冷却チャンネルを備え、冷却チ ャンネルは、冷却媒体を受け入れてカテーテルの内部へ循環させることを特徴 とする請求項１１記載の方法。 13．電極が舌の内部を切除している間、舌の表面を冷却する段階を更に含むこと を特徴とする請求項１記載の方法。 14．カテーテルは、口腔内へ導入され、一以上の電極が、舌の下背側面、舌背面 、及び舌尖のうち何れか一つを貫通して舌の内部に導入されることを特徴とす る請求項１０記載の方法。 15．カテーテルは、口腔内へ導入され、一以上の電極が、舌の腹側面を貫通して 舌の内部に導入されることを特徴とする請求項１０記載の方法。 16．撮像装置を準備する段階を更に含むことを特徴とする請求項１記載の方法。 17．撮像装置は、超音波装置であることを特徴とする請求項１６記載の方法。 18．舌の部分除去に先立って舌を撮像する段階を更に含むことを特徴とする請求 項１６記載の方法。 19．舌の部分除去後に舌を撮像する段階を更に含むことを特徴とする請求項１６ 記載の方法。 20．舌扁桃の形成美容外科的改造方法であって、 電磁エネルギ源及び電磁エネルギ源に結合された一以上の電磁エネルギ送出 し電極を有する切除装置を準備する段階と、 少なくとも一つの電極を舌扁桃内に前進させる段階と、 舌扁桃を部分除去して舌扁桃を改造するのに十分な電磁エネルギを電極から 舌扁桃内に送り込む段階と、 電極を舌扁桃から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 21．電磁エネルギは、ＲＦ源であることを特徴とする請求項２０記載の方法。 22．一又は二以上の電極が、舌扁桃の別の部分内へ送り進められることを特徴と する請求項２０記載の方法。 23．撮像装置を準備する段階を更に含むことを特徴とする請求項２０記載の方法 。 24．撮像装置は、超音波装置であることを特徴とする請求項２３記載の方法。 25．部分除去に先立って舌扁桃を撮像する段階を更に含むことを特徴とする請求 項２３記載の方法。 26．部分除去後に舌を撮像する段階を更に含むことを特徴とする請求項２３記載 の方法。 27．舌の形成美容外科的改造方法であって、 切除エネルギ源及び切除エネルギ送出し装置を有する切除装置を準備する段 階と、 切除エネルギ送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に前進させる段階と、 舌下神経を傷つけることなく十分な量のエネルギを切除エネルギ送出し装置 から舌の内部に送り込み、舌の一部を除去して舌を改造する段階と、 切除エネルギ送出し装置を舌の内部から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 28．エネルギ源は、ＲＦ源であり、切除エネルギ送出し装置は、ＲＦ電極である ことを特徴とする請求項２７記載の方法。 29．エネルギ源は、コヒーレント光源であり、切除エネルギ送出し装置は、光フ ァイバであることを特徴とする請求項２７記載の方法。 30．エネルギ源は、加熱流体であり、切除エネルギ送出し装置は、加熱流体を受 け入れるような形状になった閉鎖チャンネルを備えるカテーテルであることを 特徴とする請求項２７記載の方法。 31．エネルギ源は、加熱流体であり、切除エネルギ送出し装置は、加熱流体を受 け入れるような形状になった開放チャンネルを備えるカテーテルであることを 特徴とする請求項２７記載の方法。 32．エネルギ源は、冷却された流体であり、切除エネルギ送出し装置は、冷却さ れた流体を受け入れるような形状になった閉鎖チャンネルを備えるカテーテル であることを特徴とする請求項２７記載の方法。 33．エネルギ源は、冷却された流体であり、切除エネルギ送出し装置は、冷却さ れた流体を受け入れるような形状になった開放チャンネルを備えるカテーテル であることを特徴とする請求項２７記載の方法。 34．エネルギ源は、極低温流体であることを特徴とする請求項２７記載の方法。 35．エネルギ源は、９１５ＭHz〜２.４５ＧHzのエネルギを出すマイクロ波源で あり、切除エネルギ送出し装置は、マイクロ波アンテナであることを特徴とす る請求項２７記載の方法。 36．エネルギ源は、超音波源であり、切除エネルギ送出し装置は、超音波エミッ タであることを特徴とする請求項２７記載の方法。 37．エネルギ源は、マイクロ波源であることを特徴とする請求項２７記載の方法 。 38．電極は、舌の腹側面を貫通して舌の内部に送り進められることを特徴とする 請求項２７記載の方法。 39．切除エネルギ送出し装置は、舌の下背側面を貫通して舌の内部に送り進めら れることを特徴とする請求項２７記載の方法。 40．切除エネルギ送出し装置は、舌の舌背面を貫通して舌の内部に送り進められ ることを特徴とする請求項２７記載の方法。 41．切除エネルギ送出し装置は、舌の舌尖を貫通して舌の内部に送り進められる ことを特徴とする請求項２７記載の方法。 42．舌の形成美容外科的改造方法であって、 切除薬剤送出し装置に結合された切除薬剤源を準備する段階と、 切除薬剤送出し装置の少なくとも一部を舌の内部に前進させる段階と、 舌下神経を傷つけることなく十分な量の切除薬剤を切除薬剤送出し装置から 舌の内部に送り込み、舌の一部を除去して舌を改造する段階と、 切除薬剤送出し装置を舌の内部から引っ込める段階と、 を含むことを特徴とする方法。 43．切除薬剤は、化学組成物及び組成物の混合物であることを特徴とする請求項 ４２記載の方法。 44．切除薬剤は、アルコール組成物を含むことを特徴とする請求項４２記載の方 法。 45．切除薬剤は、化学療法薬剤であることを特徴とする請求項４２記載の方法。 46．電磁エネルギを舌の内部に送り出すＲＦ電極を準備する段階を更に含むこと を特徴とする請求項４５記載の方法。