JPH11511054A

JPH11511054A - 身体組織を美容再形成する装置

Info

Publication number: JPH11511054A
Application number: JP9509552A
Authority: JP
Inventors: スチュアートディーエドワーズ; エドワードジェイゴフ; ディヴィッドダグラス
Original assignee: ソムナスメディカルテクノロジーズインコーポレイテッド
Priority date: 1995-08-18
Filing date: 1996-08-16
Publication date: 1999-09-28
Also published as: EP0850023A1; AU6851496A; WO1997006741A3; AU702374B2; WO1997006741A2

Abstract

(57)【要約】身体組織における膨張反応を低減しながら身体組織の内部の少なくとも一部を切除する切除装置が提供される。この装置は、プローブ組織界面を包含するカテーテルと、このカテーテル組織界面に形成されたポートとを提供する。電極がプローブの内部に少なくとも部分的に設置され、ポートの内外に前進、後退させられるようになっている。電極は電極電磁エネルギ給送面を包含する。冷却要素が冷却材入口導管と冷却材出口導管とを包含し、これら両導管がプローブの内部を貫いて延びていて、少なくとも部分冷却されるカテーテル組織界面を形成する。電極電磁エネルギ給送面は冷却要素から熱的に隔離されている。電極前進・後退装置がプローブの内部に少なくとも部分的に設置されている。ケーブルが電極に接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】身体組織を美容再形成する装置発明の背景発明の分野本発明は、上気道開存を維持する方法、一層詳しくは、舌下神経を損なうことなく舌あるいは舌扁桃またはこれら両方の選定部分を縮小するのに電磁エネルギを利用する方法に関する。関連技術の説明睡眠時無呼吸症候群は、daytime hypersomnomulence、早朝上肢疼痛、知性鈍化、不整脈、いびきおよび睡眠時輾転反側を特徴とする医学的な状態である。これは、患者の睡眠時の頻繁な無呼吸症状の発現によって生じる。この症候群は、古典的に２つのタイプに分類される。「中枢性睡眠時無呼吸症候群」と呼ばれる１つのタイプは、反復する呼吸努力の喪失を特徴とする。「閉塞性睡眠時無呼吸症候群」と呼ばれる第２のタイプは、患者の上気道の閉塞あるいは患者の気道の、喉頭の頭側で喉頭を含まない部分の閉塞から生じる睡眠中の反復する無呼吸症状の発現を特徴とする。昔からの処置としては、種々の内科的、外科的、物理的処置がある。内科的処置では、鎮静剤あるいはアルコールのような中枢抑制剤の回避に加えて、プロトリプチリン、メドロキシプロゲステロン、アセタゾールアミド、テオフィリン、ニコチンその他の薬物を使用する。上記の内科的処置はときには有効であるが、完璧に有効であることはまれである。さらに、薬物は望ましくない副作用を持っていることが多い。外科的な介入には、口蓋垂口蓋咽頭形成術、扁桃摘出術、重症顎後退症補正術、気管切開術がある。或る手術では、顎を無理に移動させて前方へ引きだし、舌根への接近を行う。これらの処置は効果的であるかもしれないが、患者に対する手術の危険が大きく、患者にとって受け入れがたいことが多い。物理的な処置としては、体重軽減、鼻咽頭気道、鼻ＣＰＡＰおよび夜間使用の種々の舌保持装置がある。これらの処置は一部有効であるかもしれないが、煩雑で不快なものであり、長期にわたって患者が使用し続けないことが多い。体重軽減は有効であるかもしれないが、患者がこれを達成できることはまれである。中枢性睡眠時無呼吸症候群の患者では、横隔神経や横隔膜ペーシングが使用されていた。横隔神経や横隔膜ペーシングは、横隔神経によって左右相称的に刺激された換気を援助あるいは支援する患者の横隔膜を調整、制御するように電気的な刺激を使用する。このペーシングは、Direct Diaphragm Stimulation by J．M ugica et al．PACE vol．10 Jan-Feb．1987，Part II，Preliminary Test of a Muscular Diaphragm Pacing System on Human Patients by J．Mugica et al．f rom Neurostimulation; An Overview 1985 pp．263-279 and Electrical Activa tion of Respiration by Nochomovitez IEEE Eng．in Medicine and Biology; J une，1993に開示されている。しかしながら、これらの患者の多くは或る程度の閉塞性睡眠時無呼吸症も持っており、これは吸気力がペーサーによって大きくなったときに悪化するのである。横隔膜の賦活によって生じる換気も吸気の際に上気道をつぶし、患者の舌を内方へ咽喉の下に引き下げ、患者を窒息させる。それ故、これらの患者は適切な処置のために気管切開が必要となる。Physiological Laryngeal Pacemaker by F． Kaneko et al．from Trans Am Soc Artif Intern Organs 1985に記載されているような生理学的咽頭ペースメーカーは肺置換量を検知し、適切な神経を刺激して患者の声門を開き、呼吸困難を救う。この装置は、睡眠時無呼吸症の処置には効果がない。この装置は肺の置換空気量に比例して信号を発生するので、発生した信号は睡眠時無呼吸症の処置のための指標として用いるには遅すぎるのである。閉塞による睡眠時無呼吸症では置換空気量がまったくないことが多い。閉塞性睡眠時無呼吸症に有効な１つの処置は気管切開である。しかしながら、この外科的な介入はかなりの病的状態を招き、多くの患者にとって美容上も受け入れることができるものではない。他の外科的処置としては、舌をできるだけ前方へ引き出し、上気道を塞ぐ可能性のある舌部分およびその他の組織を外科的に切り取ることがある。これらの問題を克服する方法、装置の必要性がある。発明の概要したがって、本発明の一目的は舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明の別の目的は、舌の舌下神経を損なうことなく舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明のまた別の目的は、舌の膨張を減らしながら舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明のまたさらに別の目的は、舌の舌下神経を損なうことなく舌の内部の選定部位に切除エネルギを与えることによって舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明のまたさらに別の目的は、舌の舌下神経を損なうことなく舌の内部の選定部位に切除エネルギを付与することによって舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明の別の目的は、舌の表面を冷却しながら舌を美容再形成する方法および装置を提供することにある。本発明のこれらおよび他の目的は、身体組織における膨張応答を減らしながら身体組織の内部の少なくとも一部を切除する切除装置で達成される。この装置は、カテーテル組織界面とこのカテーテル組織界面に形成したポートとを包含するカテーテルを提供する。カテーテルの内部には少なくとも部分的に電極が位置しており、この電極がポート内へ前進したり、ポートから後退したりするようになっている。この電極は冷却材入口導管と冷却材出口導管とを包含し、これら両導管がカテーテルの内部を貫いて延びていて少なくとも部分冷却されるカテーテル組織界面を形成している。電極の電磁エネルギ給送面は冷却要素から断熱されている。電極前進・後退装置が、少なくとも部分的に、カテーテルの内部に位置している。ケーブルが電極に接続してある。本発明の一具体例では、身体組織を美容再形成する方法は切除装置を提供する。この切除装置は、カテーテル組織界面を備えたカテーテルと、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置してあり、カテーテルから身体組織の内部へ前進させたり、そこから後退させたりすることができる電極と、カテーテル組織界面を冷却する手段とを包含する。電極はカテーテルの内部から身体組織の外面を貫いて身体組織の内部へ前進させられる。充分な電磁エネルギが電極から身体組織の内部へ送られて身体組織の内部の一部を切除する。カテーテル組織界面は充分に冷却され、身体組織外面の膨張を低減する。次いで、電極は身体組織の内部から後退させられる。カテーテル組織界面は１０℃から３０℃の温度まで冷却することができる。電極は中空であって、注入剤源に接続してもよい。絶縁スリーブを電極の外面の少なくとも一部を取り囲んで設置してもよい。１つまたはそれ以上の電極をカテーテルに導入してもよい。さらに、１つまたはそれ以上のセンサを、電極の遠位端、電極の外面、絶縁スリーブの遠位端およびカテーテル組織界面を含む切除装置の種々の部位に設置してもよい。ＲＦ源およびマイクロ波を含む種々の電磁エネルギ源を電極に接続し得るが、別にこれらに限定するつもりはない。一具体例において、身体組織とは舌である。電極は舌の腹側面、背側面を貫いて導入される。舌の内部へ電磁エネルギを給送してからの舌の外面の膨張を少なくとも５０パーセントまで減らすために充分な冷却を行う。図面の簡単な説明第１図は、本発明の方法で使用する切除装置の横断面図である。第２図は、第１図に示す切除装置のカテーテル、コネクタを示す横断面図である。第３図は、第１図に示すコネクタの斜視図である。第４図は、第１図に示す切除装置と組み合わせた針状電極の斜視図である。第５図は、本発明の方法で利用する可撓性針状電極の斜視図である。第６図は、第１図に示す切除装置での切除領域の形成を示す。第７図は、口を閉じた状態の舌の横断面図である。第８図は、口を開いた状態の舌の横断面図である。第９図は、舌の斜視図である。第１０図は、舌の背側面の斜視図である。第１１図は、舌の横断面図である。第１２図は、舌下神経の位置と切除領域の形成を示す舌の横断面図である。第１３図は、複数の切除領域を示す舌の横断面図である。第１４図は、舌の腹側面の斜視図である。第１５図は、舌の横断面図である。第１６図は、フィードバック制御装置で使用するアナログ増幅器、アナログ・マルチプレクサおよびマイクロプロセッサを示すブロック図である。第１７図は、第１図のカテーテルを通しての冷却材の流量を制御するのに使用できる温度／インピーダンス・フィードバック装置のブロック図である。第１８図は、第１図のカテーテルを通しての冷却材流量を制御するのに使用し得る温度／インピーダンス・フィードバック装置のブロック図である。第１９図は、ＲＦ切除に続く舌の収縮パーセントを示す三次元グラフである。第２０図は、ＲＦ切除でのウシの舌組織の二次元収縮を示すグラフである。第２１図は、ＲＦ切除によるウシの舌組織の三次元収縮を示すグラフである。第２２図は、ＲＦ切除に続く舌の体積変化パーセントを示すグラフである。詳細な説明舌、口蓋垂、軟口蓋、舌扁桃、アデノイドを美容再形成し、縮小する方法は、電磁エネルギ源と、この電磁エネルギ源に接続した１つまたはそれ以上の電磁エネルギ給送電極とを包含する切除装置を提供する。少なくとも１つの電極が舌の内部に向かって前進させられる。電極からは充分な電磁エネルギを給送して舌下神経を損なうことなく舌の部分を縮小させる。次に、電極は舌の内部から取り出される。気道閉塞を処置する方法は、舌下神経を損なうことなく舌を縮小することによって達成される。電極は、舌の先端、腹側面、背側面、舌の下から導入してもよいし、舌の正中線に沿って導入してもよいし、あるいは、或る場合にはオトガイ部を通して導入してもよい。舌は舌下神経を損なうことなく切除（縮小）され、舌の再形成と美容変化を行うことになる。これは、舌下神経から十分遠いところに電極を位置させ、舌への電磁エネルギの給送中に舌下神経が損なわれないようにすることによって達成される。気道閉塞を処置する別の方法は、舌下神経を損なうことなく舌扁桃を縮小させることによって達成される。第１、２図を参照して、舌、舌扁桃、口蓋垂、口蓋軟骨、アデノイドを美容再形成し、縮小する切除装置１０は、１つまたはそれ以上のエネルギ給送装置すなわち舌を通して電極１２を舌の内部へ導入するように位置させることができる。切除装置１０は、映像化の有無にかかわらず非外傷性挿管を含み得るし、酸素あるいは麻酔剤の給送を行ってもよいし、血液あるいは他の分泌液を吸入することもできる。明らかなように、この切除装置１０を用いて気体の通過を制限する身体の種々の閉塞状態を処置することができる。一具体例は、抵抗過熱、ＲＦ、マイクロ波、超音波および熱噴流液を用いることによって舌、舌扁桃、アデノイドの選定部分を切除（細胞壊死）する電極１２を用いての睡眠時無呼吸症の処置である。好ましいエネルギ源はＲＦ源である。この場合、切除装置１０は、舌、口蓋扁桃、鼻甲介、軟口蓋組織、硬組織、粘膜組織を含む（といってこれらに限らないが）標的塊を切除するのに用いることができる。一具体例において、切除装置１０は気道の横断面積を拡大するために舌を縮小するのに用いられる。殺菌剤導入部材が口腔内に殺菌剤を導入し、切除した身体部材の感染を防ぐ。舌の縮小の前に、物理的検査、光ファイバ咽頭鏡検査、頭部規格写真分析および連続撮影モニタリングを含む手術前評価を行ってもよい。物理検査は頭部、頚部の評価を高める。また、鼻中隔、鼻甲介の閉塞性変形、長い余分な軟口蓋あるいは肥厚性口蓋扁桃からの口咽頭閉塞および突出舌根からの下咽頭閉塞を知るための鼻腔精密検査も含む。縮小装置１０は、カテーテル１４と、オプションのハンドル１６と、カテーテル１４の長手方向表面に沿って形成した異なったポート１８から、または、電極１２の遠位端から突出する１つまたはそれ以上の電極１２とを包含する。カテーテル１４はハンドピースであってもよい。前進装置２０を設けてもよい。前進装置２０はカテーテル１４の内部に設置した案内トラックあるいは案内チューブ２３を包含し得る。電極１２を案内トラック２３内に設置し、案内トラックから舌の内部へ前進させてもよい。切除装置または縮小装置１０は、カテーテル１４と、オプションのハンドル１６と、カテーテル１４の長手方向表面に沿って形成した種々のポート１８から、あるいは、切除源給送装置１２の遠位部から突出する１つまたはそれ以上の切除源給送装置１２とを包含する。前進装置２０としても知られる切除源給送装置前進装置２０を設けてもよい。切除源給送装置前進装置２０はカテーテル１４の内部に設けた案内トラックまたは案内チューブ２３を包含してもよい。切除源給送装置１２は案内トラック２３内に設置し、案内トラックから舌の内部へ前進させてもよい。ケーブルが切除源給送装置１２に接続してある。切除源給送装置１２はカテーテル１４の内部に少なくとも部分的に設置してもよい。一具体例において、切除源給送装置１２はカテーテル１４の外面に形成したポート１８を通して前進、後退させられる。切除源給送装置前進・後退装置２０はカテーテル１４から身体組織の内部へ切除源給送装置１２を進め、また、身体組織の内部から切除源給送装置１２を後退させることができる。身体組織は種々の組織のうちの任意の部位でよいが、ここでは以後、身体組織を舌とする。切除源給送装置１２は舌の外面を穿通し、舌の内部領域まで送り込まれる。切除源１２によって充分な切除エネルギを舌の内部に給送し、充分な切除、縮小を行う。切除源給送装置１２は中空構造であり、（ｉ）選定した舌内部切除部位に種々の化学薬品を（化学的切除のために）給送するようになっており、（ｉｉ）切除を行うためのアルコールまたは他の液体あるいは半液体ならびに生理食塩水、化学療法剤などを含む（といってこれらに限定するつもりはない）種々の注入剤を給送するようになっている。ＲＦと化学療法剤、化学薬品と化学療法剤というような（といってこれらに限定するつもりはない）種々の理学療法を組み合わせて所望の切除を行ってもよい。切除源給送装置１２は舌内で移動距離が限られているとよい。ＲＦ電極での一具体例において、これは電極の外面を取り囲む絶縁スリーブによって達成される。他の装置としては、前進を制限する、切除源給送装置１２上に設けた構造であってもよいし、切除源給送装置１２の前進量を制限する、カテーテルに連結した構造、たとえば止めなどであってもよい。１つの適当な流体は電解溶液である。熱エネルギの給送のために組織と電極１２を直接接触させる代わりに、冷却した電解溶液を用いて組織に熱エネルギを給送してもよい。電解溶液は約３０℃から約５５℃までの範囲に冷却してもよい。カテーテル１４は、カテーテル組織界面２２と、冷却材入口導管２４と、カテーテル１４の内部を貫いて延びる冷却材出口導管２６とを包含する。カテーテル１４の外面にはポート１８が形成してあり、これらのポートはカテーテル組織界面２２に形成してあると好ましい。ポート１８は入口、出口導管２４、２６内を流れる冷却材から断熱されている。冷却材入口、出口導管２４、２６は少なくとも１〜２ｃｍ²のカテーテル組織界面２２の冷却部を与えるようになっている。より好ましくは、カテーテル組織界面２２の冷却部は、少なくとも、下の切除領域の横断面直径に等しい。一具体例において、カテーテル組織界面２２の冷却部は、少なくとも、下の切除領域の横断面直径に等しい。別の具体例では、カテーテル組織界面２２の冷却部は、各配置した切除源給送装置と組み合った領域のみを冷却する。カテーテル組織界面２２の冷却部のサイズは患者毎に異なる。電磁エネルギの給送に続いて舌の膨張を最小限に抑えるのに充分なサイズである。膨張の低減は５０％以上、７５％以上、９０％以上であり得る。冷却量は縮小手術を行った後に患者を短時間家庭に帰すことができ、舌による窒息の危険を招かない程度である。比較的大きい面積にわたって充分な冷却レベルを与えることによって、舌の内部領域における切除量を大きくできることがわかっている。カテーテル組織界面２２の充分に大きな冷却部を与えることによって、アデノーマ反応が最小限に抑えられる。ハンドル１６は絶縁材料で作ると好ましい。電極１２はステンレススチールのような導電性材料で作る。さらに、電極１２は、カリフォルニア州メンロパーク市のRaychem Corporationから市販されている、ニッケルチタンのような形状記憶金属で作ってもよい。一具体例において、電極１２の遠位端のみを形状記憶金属で作って所望の屈曲を得ている。口腔に導入されたとき、カテーテル１４は患者の嘔吐反応が始まるまで前進させるとよい。次に、患者の嘔吐がなくなるまでカテーテル１４を後退させる。電極１２の遠位端はやや湾曲していてもよい。この遠位端は舌の外面に一致するような形状、寸法であるとよい。本発明の一具体例においては、カテーテル１４はハンドピースである。この具体例では、別体のハンドル１６は不要である。縮小装置１０は舌の内部領域を処置するのに使用される。カテーテル１４の遠位端は口腔内に設置できる寸法である。切除源給送装置１２は、少なくとも部分的に、カテーテル１４の内部に設置する。切除源給送装置１２は切除給送面３０を包含する。切除源給送装置２０が切除源給送装置１２に連結してあり、カテーテル１４を舌の表面付近に設置したときにカテーテル１４の遠位端を含む（といってこれに限定するつもりはない）カテーテル１４から舌の内部へ切除源給送装置１２を前進させ得るように構成される。切除源給送装置１２はカテーテル１４から充分な長さの前進距離３３前進させて、舌表面の舌下神経を損なうことなく切除エネルギまたは切除効果またはこれら両方で舌の内部領域を処置する。カテーテル１４は選定切除標的部位を選んだときに舌の表面に一致するように打ち延べてあってもよい。銅のような被包軟金属あるいは焼なまし金属／プラスチック材料を用いて打ち延べカテーテル１４を形成してもよい。カテーテル１４の全部あるいは一部を打ち延べるか形状記憶金属で作ってもよい。多くの用途のために、カテーテル１４の遠位端１４′が屈曲可能であると望ましい。これは機械的に行ってもよいし、形状記憶金属を使用して達成してもよい。遠位端１４′の外面または内面のいずれかにステアリング・ワイヤあるいは他の機械的な構造を取り付けてもよい。一具体例では、ハンドル１６に設けた屈曲ノブを手術者が操ってステアリング・ワイヤに張力を与える。これが遠位端１４ ′を後退させ、その屈曲を生じさせる。明らかなように、ステアリング・ワイヤの代わりに他の機械的な装置を使用してもよい。この屈曲は接近の難しい組織部位に対して望ましい。気道の効果的な開口を達成するために、フィードバック制御の下に、舌の制御した体積縮小を行う。キシロカイン（といってこれに限定するつもりはない）を含む種々の疼痛除去薬剤を用いることができる。ディジタル式超音波測定装置を使用してもよい。超音波測定は生物学的形状変化を定量化し、超音波の送受信を利用して圧電トランスジューサ（水晶）を使用し、経過時間データを得ることができる。殺菌剤導入部材２１を口腔内に導入してもよい。殺菌剤は、切除前、切除中、切除後のいずれでも導入できる。連続的に給送してもよい。口腔の殺菌レベルは殺菌する口腔の容積に応じて選ぶとよい。殺菌の程度は変化する。切除した身体組織の感染を減らすのに殺菌を行う。殺菌剤導入部材２１は、口腔内への切除装置１０の導入前、導入後、導入中のいずれで導入してもよい。さらに、殺菌剤導入部材２１は、切除装置１０を口腔から取り出すと同時あるいは別の時点のいずれでも取り出してよい。殺菌剤導入部材２１は切除装置１０内、カテーテル１４の内部あるいはカテーテル１４の外部のいずれに設けてもよく、殺菌材源２３から口腔の全部あるいは選定部分に殺菌剤を導入するようになった内腔を有する導入器であってもよい。殺菌剤導入部材２１は口腔内で移動させて口腔の全部あるいはほんの一部の殺菌を行うようにしてもよい。本開示の目的のために、口腔とは、感染性細菌が切除した舌、軟組織構造などに入り込む可能性のある人体内部環境を意味する。殺菌剤導入部材２１はカテーテル１４あるいはその外面に摺動可能に設置してもよい。あるいは、殺菌剤導入部材２１は、ＵＶ源２５（といってこれに限定するつもりはない）を含む光エネルギ源に接続した光ファイバであってもよい。光ファイバも口腔内に摺動可能に設置することができる。光ファイバは口腔の全部あるいはほんの一部の選択的な殺菌を行えるようになっており、この目的のために種々の遠位端を持ち得る。適当な殺菌剤としては、Peridex、水を含むベース内に０.１２％のクロルヘキシジン・グルシネート（１、１′−ヘキサンエチレンビス〔５−（ｐ−クロロフェニール）ビガナイド｝ジ−Ｄ−グルコネートを含む口腔洗浄液、１１.６％アルコール、グリセリン、ＰＥＧ４０ソルビタン・アリソテレート、フレーバー、ドジウム（dosium）・サッカリンおよびFD&C Blue No.1（といってこれらに限定するつもりはない）がある。明らかなように、他の電磁波長および種々の化学成分を含む種々の殺菌材を使用することができる。電極１２はカテーテル１４の内部に少なくとも部分的に設置する。各電極１２はカテーテル１４の外面に形成したポート１８を通して前進、後退させる。前進・後退装置は電極１２をカテーテル１４から身体組織の内部へ前進させ、カテーテル１４内へ後退させる。電極１２は舌の外面を穿通し、舌の内部領域に送り込まれる。充分な電磁エネルギが電極１２によって舌内部へ給送され、舌を充分に切除、縮小させる。電極１２は、生理食塩水（といってこれに限定するつもりはない）を含む種々の注入剤を受け入れるように中空であるとよい。電極１２は舌内へ前進する距離が限られているとよい。これは、絶縁スリーブ、電極１２の前進を制限する電極１２に設けた構造あるいは電極１２の前進を制限するカテーテルに連結した構造（たとえば、止めなど）で達成される。殺菌剤は、切除前、切除中、切除後のいずれで導入してもよい。連続的に給送してもよい。口腔の殺菌レベルは殺菌する口腔の容積に応じて選ぶとよい。殺菌の程度は変化する。切除した身体組織の感染を減らすのに殺菌を行う。電極１２の電磁エネルギ給送面３０のような切除給送面は調節可能あるいは調節不能な絶縁スリーブ３２（第３、４、５図）を設けることによって調節できる。絶縁スリーブ３２は電極１２の外面に沿って前進、後退させられて電磁エネルギ給送面３０の長さを増減することができる。絶縁スリーブ３２は、ナイロン、ポリイミドその他の熱可塑性プラスチックなどを含む（といってこれらに限定するつもりはない）種々の材料で作ることができる。電磁エネルギ給送面３０のサイズは、多重化したり、個別に活性化したりなどすることができる複数の電極を備えたセグメント化電極を作り出すこと（といってこれに限定するつもりはない）を含む他の方法では変わり得る。特に第４図を参照して、切除源給送装置１２は、カテーテル１４の外面から突出し、舌内部に送り込まれる前進長さ３３を有する。この前進長さ３３は舌内部の選定組織部位に切除給送面３０を位置させるに充分なものである。切除給送面３０は、舌下神経を損なうことなく切除効果を船体組織部位へ給送するに充分な長さである。切除給送面３０は常に切除源給送装置１２の遠位端にあるわけではない。絶縁材３２を切除源給送装置１２の遠位端に設けてもよい。この具体例では、切除給送面３０は切除源給送装置１２の遠位端まで延びていないが、なお充分な切除効果を給送して舌下神経を損なったり、舌面に損傷を与えたりすることなく選定組織部位のところで舌内部の所望レベルの細胞壊死を行うことができる。さらに、切除源給送装置１２の側部の片側のみあるいは側面の一部のみを絶縁するだけでもよい。これにより、切除源給送装置１２を舌下神経に隣接した部位を含めて舌中に設置することができる。切除源給送装置１２が舌下神経に隣接しているときには、切除源給送装置１２は絶縁される。一具体例において、前進長さ３３は１.２ｃｍから１.５ｃｍであり、切除給送面３０の長さは５〜１０ｍｍ、一層好ましくは約８ｍｍである。別の具体例において、前進長さ３３は舌面の任意のところ、特に舌背側を通して導入されたときに舌下神経に達しない程度である。前進装置２０は各切除源給送装置１２の少なくとも一部を舌内部の設置位置へ前進させるようになっている。前進装置２０は各切除源給送装置１２を後退させるようにもなっている。設置位置で、切除給送面は充分な切除エネルギあるいは切除効果またはこれら両方を給送して舌下神経あるいは舌面またはこれら両方を損なうことなく選定部位の体積を縮小する。一具体例において、切除源給送装置前進・後退装置２０は、案内トラック２３の有無を問わず、カテーテル１４の長手軸線に対して６０〜９０度、好ましくは約７０度の角度でカテーテル１４から舌内部へ切除源給送装置１２を送り込む。或る具体例では、切除源給送装置１２は、近位端、遠位端などのところで片側を部分的に絶縁された１つまたはそれ以上の絶縁面を包含し、舌下神経を損なうことなく選定組織部位の体積を縮小するようになっている湾曲形態（といってこれに限定するつもりはない）を含む幾何学形状を有する。一具体例において、切除源給送装置１２は舌面を貫いて導入され、舌下神経に接近して位置する可能性のある切除源給送装置１２の部分が絶縁材３２を備えるようになっている。先に延べたように、絶縁材３２は切除源給送装置１２の種々の部位に設置し得る。ハンドル１６は前進・後退装置２０に連結したコネクタ３４を包含し得る。コネクタ３４は電極１２を電源装置、フィードバック装置、温度測定装置、像形成装置などに接続する。ＲＦ／温度制御ブロック３６を含めてもよい。一具体例において、手術者はコネクタ３４の遠位端に向かって前進・後退装置２０を移動させる。電極１２はばね負荷式であってもよい。前進・後退装置２０を後退させたとき、ばねが選定電極１２をカテーテル１４から前進させる。１つまたはそれ以上のケーブル３８が電極１２を電磁エネルギ源４０に接続している。本発明では、ＲＦ、マイクロ波、超音波、コヒーレント光、熱伝達（といってこれらに限定するつもりはない）を含む種々のエネルギ源４０を用いて身体組織の内部へ電磁エネルギを伝達することができる。好ましくは、エネルギ源４０はＲＦ発生器である。ＲＦエネルギ源を用いた場合、手術者はＲＦエネルギ源４０に接続したフートスイッチ（図示せず）を用いてＲＦエネルギ源４０を作動させ得る。１つまたはそれ以上のセンサ４２を電極１２の内面または外面、絶縁スリーブ３２上に設置してもよいし、個別に身体組織の内部に挿入してもよい。センサ４２は組織部位のところの温度を正確に測定し、（ｉ）切除の範囲、（ii）切除の量、（iii）さらに切除が必要かどうか、（iv）切除部位の境界あるいは周縁を知ることができる。さらに、センサ４２は非標的組織を破壊したり、切除したりするのを防ぐ。センサ４２は、サーミスタ、サーモカップル、抵抗線などを含む（といってこれらに限定するつもりはない）普通の設計のものである。適当なセンサ４２としては、銅コンスタンタンを備えるＴタイプ・サーモカップル、Ｊタイプ、Ｅタイプ、Ｋタイプ、光ファイバ、抵抗線、サーモカップルＲＦディテクタなどがある。明らかなように、センサ４２は熱センサである必要はない。センサ４２は温度あるいはインピーダンスを測定し、切除モニタリングを可能とする。これは標的切除塊を取り囲む組織への損傷を減らす。身体組織内部の種々の部位で温度をモニタすることによって、切除の周縁を確認することができ、切除完了時を知ることができる。いつでもセンサ４２が所望切除温度を超えたことを検知した場合には、適切なフィードバック信号がエネルギ源４０に送られ、給送エネルギ量が調節される。切除装置すなわち縮小装置１０は、観察スコープ、拡大接眼レンズ、光ファイバ、ビデオ画像などを含む（といってこれらに限定するつもりはない）可視能力を含み得る。さらに、超音波像形成を用いて電極１２を位置決めしたり、切除量を決定したりすることもできる。１つまたはそれ以上の超音波トランスジューサ４４を電極１２の内外、カテーテル１４の内外、あるいは別体の装置上に設置してもよい。像形成プローブも選定組織部位の内外で用い得る。適当な像形成プローブとしては、Hewlett Pachard Companyの製造、販売するModel21362がある。各超音波トランスジューサ４４は超音波源（図示せず）に接続する。次に第６図を参照して、ここには、カテーテル１４を口腔内へ導入し、複数のＲＦ電極１２を舌内部へ前進させて種々の切除領域４６を作り出している状態が示してある。ＲＦを用いる場合、切除装置１０は双極モード、単極モードのいずれでも操作可能である。第６図において、電極１２は双極モードで操作されており、充分な切除領域４６を形成し、舌下神経に影響を与えることなく舌を縮小し、大きな気道を確保している。この縮小の場合、舌の背面は気道から前方へ移動する。その結果、気道の横断面直径が拡大する。ＲＦ使用では、切除装置１０は単極モードでも操作され得る。アースパッドを普通の場所、たとえば、オトガイの下に設置するとよい。次に、単一の電極１２を舌内部から後退させ、カテーテル１４を移動させ、次いで、電極１２をカテーテル１４から舌の別の内部へ前進させる。こうして第２の切除領域４６が形成される。この手術は何回か行われて舌内部に異なった切除領域を形成する。２つ以上の電極１２を舌内へ導入し、双極モードで操作してもよい。電極１２は、次に、何回も舌内部で再配置し、複数のつながった、あるいは、つながっていない切除領域４６を形成する。次に第７図から第１５図を参照して、ここには、舌および他の組織の種々の解剖図が示してある。種々の解剖組織は次の通りである。舌のオトガイ舌筋または本体が４８で示してあり、オトガイ舌骨筋が５０で示してあり、顎舌骨筋が５２で示してあり、舌骨が５４で示してあり、舌先端が５６で示してあり、舌尖が５６で示してあり、舌腹側面が５８で示してあり、舌背側面が６０で示してあり、舌の下背側が６２で示してあり、喉頭蓋谷反射部が６４で示してあり、舌小胞が６６で示してあり、アデノイド部が７０で示してあり、舌の外側縁が７２で示してあり、有郭乳頭が７４で示してあり、口蓋扁桃が７６で示してあり、咽頭が７８で示してあり、余剰咽頭組織が８０で示してあり、盲孔が８２で示してあり、舌下神経が８４で示してあり、舌小帯が８６で示してある。舌背側６０は前部２／３と後部背側６２とに分けられる。描写は有郭乳頭７４と舌盲孔８２によって決まる。後部背側６２は有郭乳頭７４の下、喉頭蓋谷６４の上方反射部の下の背側面である。喉頭蓋谷６４の反射部は喉頭蓋に隣接する舌表面の最も深い部分である。舌小胞６６は舌扁桃を含む。カテーテル１４は鼻あるいは口腔を通して導入することができる。電極１２は背側面６０、後部背側面６２、腹側面５８、舌尖５６あるいはオトガイ舌骨筋５０を通して舌内部に挿入することができる。さらに、電極は舌小胞６６の内部あるいはアデノイド部７０に導入してもよい。電極１２をひとたび位置決めしたならば、絶縁スリーブ３２を調節して電極１２毎に所望の電磁エネルギ給送面３０を設けることができる。切除領域４６は舌下神経８４を損なうことなく形成される。これにより、より大きな気道を形成し、睡眠時無呼吸症の治療を行う。あらゆる場合に、電極１２の位置決めならびに切除領域４６の形成は、舌下神経８４を切除したり、損傷を与えたりしないように行う。嚥下、発声能力は損なわれない。一具体例において、ＲＦ電極１２は舌背側面に置く。第１の電極は有郭乳頭に接近して０.５ｃｍのところに位置させる。他の電極は１.６ｃｍずつ離して設置し、舌の中心軸線から１ｃｍ離して置く。一具体例において、４６５ＭＨｚのＲＦを加えた。電極１２の遠位端のところの温度は約１００℃であった。絶縁スリーブ３２の遠位端のところの温度は約６０℃であった。別の具体例では、絶縁スリーブ３２の遠位端のところの温度は４３℃以上であった。ＲＦエネルギは低周波ＲＦで短時間パルスとして印加することができる。所望切除部位の精密な標的化が達成される。１つまたはそれ以上の電極１２を用いて体積三次元切除を行うことができる。直線、多角形、再決定形状、対称形、非対称形を含む（といってこれらに限定するつもりはない）種々の切除形状、寸法が可能である。次に第１６、１７図を参照して、開いたあるいは閉じたループ・フィードバック装置がセンサ４２をエネルギ源４０に接続する。組織または電極１２の温度はモニタされ、それに従ってエネルギ源４０の出力が調節される。さらに、口腔内の殺菌レベルもモニタすることができる。手術者は、所望に応じて、閉じたあるいは開いたループ装置を無効にすることができる。閉じたあるいは開いたループ装置内にマイクロプロセッサを組み込んで電力をオン、オフしたり、電力を調節したりすることができる。閉じたループ装置はマイクロプロセッサ８８を利用してコントローラとして作用し、温度を監視し、ＲＦ電力を調節し、結果を検討し、それをフィードバックし、電力を調節する。センサ４２およびフィードバック制御装置を使用する場合、ＲＦ電極１２に隣接する組織は損なわれることなく選定時間、所望温度に維持され得る。各ＲＦ電極１２はリソースに接続され、これらのリソースが各ＲＦ電極１２の独立した出力を発生する。或る出力はＲＦ電極１２を選定時間にわたって選定エネルギに維持する。ＲＦ電極を使用した場合、ＲＦ電極１２から給送される電流は電流センサ９０によって測定される。電圧は電圧センサ９２によって測定される。次に、インピーダンスおよび電力が電力・インピーダンス計算装置９４で計算される。これらの値はユーザ・インターフェイス・ディスプレイ９６のところに表示される。電力値およびインピーダンス値を表す信号がコントローラ９８へ送られる。制御信号がコントローラ９８によって発生され、これは実測定値と所望値との差に比例する。制御信号は電力回路１００で使用されて適切な量に電力出力を調節し、それぞれのＲＦ電極１２に給送される所望電力を維持する。同様にして、センサ４２で検出された温度は選定電力を維持するためのフィードバック値となる。実温度は温度測定装置１０２で測定され、ユーザ・インターフェイス・ディスプレイ９６に表示される。実測定温度と所望温度の差に比例する制御信号がコントローラ９８によって発生される。制御信号は電力回路１００で使用されて適切な量に電力出力を調節し、それぞれのＲＦ電極１２に給送される所望電力を維持する。マルチプレクサを設けて種々のセンサ４２のところで電流、電圧、温度を測定してもよいし、単極モードあるいは双極モードでエネルギをＲＦ電極１２に給送してもよい。コントローラ９８はディジタルあるいはアナログのコントローラあるいはソフトウェア付きのコンピュータであってもよい。コントローラ９８がコンピュータの場合、それはシステム・バスを通じて接続したＣＰＵを包含することができる。このシステム上には、この技術分野では周知のように、キーボード、ディスクドライブその他の非揮発性記憶装置、ディスプレイおよび他の周辺機器があってもよい。また、バスにプログラム・メモリとデータ・メモリが接続してある。ユーザ・インターフェイス・ディスプレイ９６はオペレータ制御器とディスプレイを包含する。コントローラ９８は、超音波装置、ＣＴスキャナ、Ｘ線装置、ＭＲＩ、マンモグラフＸ線装置などを含む（といってこれらに限定するつもりはない）像形成装置に接続してもよい。さらに、直接可視化および触覚像形成を利用してもよい。電流センサ９０および電圧センサ９２の出力はコントローラ９８で使用されてＲＦ電極１２を選定電力レベルに維持する。給送されたＲＦエネルギの量は電力の量を制御する。給送電力の分布はコントローラ９８に組み込み、給送すべきエネルギの予設定量を分布させることもできる。センサ９０、９２に類似する他のセンサを他の切除源給送装置１２のためにコントローラ９８で使用して切除エネルギあるいは切除剤またはこれら両方の制御可能量を維持してもよい。コントローラ９８への回路、ソフトウェアおよびフィードバックがプロセス管理を行い、電圧あるいは電流の変化とは独立した選定電力の維持を行い、（ｉ）選定電力、（ii）デューティサイクル（オン・オフおよびワット数）、（iii）双極あるいは単極のエネルギ給送、（iv）流量、圧力を含む注入材給送を変えるのに使用される。これらのプロセス変数は、センサ４２のところでモニタされた温度に基づいて電圧または電流の変化と独立して所望電力供給を維持しながら制御され、変えられる。電流センサ９０および電圧センサ９２はアナログ増幅器１０４の入力部に接続する。アナログ増幅器１０４はセンサ４２と共に使用する普通の差動増幅器回路であってよい。アナログ増幅器１０４の出力部はアナログ・マルチプレクサ１０６によってＡ／Ｄコンバータ１０８に接続してある。アナログ増幅器１０４の出力はそれぞれの検知された温度を表す電圧である。ディジタル化された増幅器出力電圧はＡ／Ｄコンバータ１０８によってマイクロプロセッサ８８に送られる。マイクロプロセッサ８８はMotorolaから入手できるタイプ68HCIIであってよい。しかしながら、インピーダンスあるいは温度を計算するのに任意適当なマイクロプロセッサあるいは汎用ディジタルあるいはアナログコンピュータを使用し得ることは明らかであろう。マイクロプロセッサ８８は、次に、インピーダンスおよび温度のディジタル値を受け取り、記憶する。マイクロプロセッサ８８の受け取った各ディジタル値は種々の温度、インピーダンスに対応する。計算された電力値、インピーダンス値はユーザ・インターフェイス・ディスプレイ９６に表示され得る。あるいは、電力またはインピーダンスの数値に加えて、計算したインピーダンス値、電力値をマイクロプロセッサ８８によって電力、インピーダンスの限界値と比較してもよい。値が所定の電力値あるいはインピーダンス値を超えたとき、ユーザ・インターフェイス・ディスプレイ９６に警告が表示され、さらに、ＲＦエネルギの給送を減らしたり、変更したり、中断したりしてもよい。マイクロプロセッサ８８からの制御信号はエネルギ源４０によって供給される電力レベルを変更してもよい。第１８図はカテーテル１４をと押して冷却材流量を制御するのに使用できる温度／インピーダンス・フィードバック装置のブロック図である。電磁エネルギはエネルギ源４４によって電極１２に給送され、組織に加えられる。モニタ１１０が組織に給送されたエネルギに基づいて組織インピーダンスを確認し、測定インピーダンスを設定値と比較する。測定インピーダンスが設定値を超えている場合には、使用禁止信号１１２がエネルギ源４０に送られ、電極１２へのさらなるエネルギの給送を停止させる。測定インピーダンスが許容限界内にある場合には、エネルギは組織に印加され続ける。組織へのエネルギの付与中、センサ４２は組織あるいは電極１２またはこれら両方の温度を測定する。測定温度を表す信号を比較器１１４が受け取り、この値を所望温度を表す予設定信号と比較する。組織温度が高すぎる場合にはより大きい冷却材流量の必要を表す信号を流量調節器１１６に送り、温度が所望温度を超えていない場合には流量を維持する信号を送る。実施例１切除装置１０をウシの二次元縮みを決定するのに用いた。ＲＦ体積縮小は単一の針状電極を用いて行った。４つの小型超音波水晶を四角形の配置で設置した。最初１５ワットでの１３％体積縮小を行い、次いで１５ワットで四時間かけて次の４％体積縮小を行って、対照体積縮小、ポスト体積縮小で測定を行った。前部で１７％の体積縮小を行った。実施例２ウシの舌の三次元縮小を決定するために切除装置１０を使用した。ＲＦ体積縮小を、立方体を形成する８つの小型超音波水晶を備えた単一の針状電極で行った。最初の１６ワットの付与で舌の１７％体積縮小が行われ、最初に２５ワットを付与したときに２５％体積縮小が行われ、数時間後の２５ワットの付与でさらに４％の縮小が行われ、全部で２９％の体積縮小が行われた。実施例３初期に２０ワットの付与での三次元グロスによって３５％体積縮小をブタ生体内で達成した。次に第１９図を参照して、切除体積寸法を多次元ディジタル・ソノマイクロメトリ（sonomicrometry）で測定した。Ｚ方向の平均減少は２０％であり、体積縮小は２６％であった。針による生体内ＲＦ切除による舌組織の三次元縮小（２０ワットでの切除）が第２０図に示してある。切除前の対照体積を切除後体積と比較する。第２０図は、針状電極でのＲＦ切除によるウシ舌組織の二次元縮小を示している。切除前、切除後の結果が示してある。第２１図は、切除後組織対対照組織の、１７％体積縮小となる１６ワットでの切除を示すグラフである。２５ワットでの切除は切除後に２５％体積縮小となった。切除後長時間（４時間）対切除直後ではさらに４％の面積縮小が得られた。第２２図は、ＲＦ切除後の体積パーセントを示している。１６ワットは２０分間の１６ワットでの切除を示し、２５ワットは２０分間の２５ワットでの切除を示し、２５ワット（４時間）は長期間後切除（２５ワット切除後４時間）を示す。本発明の好ましい具体例を説明してきたが、本発明をここに開示した詳細な形態に限定するつもりはない。当業者にとって多くの修正、変更が実施できることは明らかであろう。本発明の範囲は以下の請求の範囲および均等物によって定義されるものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者ゴフエドワードジェイアメリカ合衆国カリフォルニア州 94025 メンロパークアディソンウェイ 31 (72)発明者ダグラスディヴィッドアメリカ合衆国カリフォルニア州 94062 ウッドサイドアルビオンアベニュー 545

Claims

【特許請求の範囲】１．身体組織の内部の少なくとも一部を切除する装置であって、カテーテル組織界面とこのカテーテル組織界面に形成したポートを包含するカテーテルと、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置してあり、ポートの内外へ前進、後退させられるようになっている電極であり、電極電磁エネルギ給送面を包含する電極と、冷却材入口導管および冷却材出口導管を包含し、これらの導管がカテーテルの内部を貫いて延びていて少なくとも部分冷却されるカテーテル組織界面を形成している冷却要素であり、電極電磁エネルギ給送面から熱的に隔離されている冷却要素と、電極に接続したケーブルとを包含することを特徴とする装置。２．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置した電極前進・後退装置を包含することを特徴とする装置。３．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、電極毎に少なくとも１ｃｍ² の被冷却組織界面を備えた２つまたはそれ以上の電極を包含することを特徴とする装置。４．請求の範囲第１項記載の装置において、冷却材の入口、出口導管が被冷却カテーテル組織界面を１０〜３０℃の温度まで冷却するようになっていることを特徴とする装置。５．請求の範囲第１項記載の装置において、電極が中空であることを特徴とする装置。６．請求の範囲第５項記載の装置において、さらに、電極に接続した注入材源を包含することを特徴とする装置。７．請求の範囲第６項記載の装置において、注入材源が生理食塩水であることを特徴とする装置。８．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、電極の外面の少なくとも一部を取り囲んで設置した絶縁スリーブを包含することを特徴とする装置。９．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、電極の遠位端に設置したセンサを包含することを特徴とする装置。 10．請求の範囲第８項記載の装置において、さらに、電極の遠位端に設置した第１センサと、絶縁スリーブの遠位端に設置した第２センサとを包含することを特徴とする装置。 11．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、電極の外面に設置したセンサを包含することを特徴とする装置。 12．請求の範囲第９項記載の装置において、さらに、絶縁スリーブの遠位端に設置したセンサを包含することを特徴とする装置。 13．請求の範囲第１項記載の装置において、さらに、カテーテル組織界面に設置したセンサを包含することを特徴とする装置。 14．請求の範囲第１項記載の装置において、電極がＲＦエネルギ源に接続してあることを特徴とする装置。 15．請求の範囲第１項記載の装置において、電極がマイクロ波エネルギ源に接続してあることを特徴とする装置。 16．請求の範囲第１項記載の装置において、電極が舌の腹側面を通して舌内部に前進させられることを特徴とする装置。 17．請求の範囲第１項記載の装置において、電極が舌の後部背側面を通して舌内部へ前進させられることを特徴とする装置。 18．請求の範囲第１項記載の装置において、電極が舌の背側面を通して舌内部へ前進させられることを特徴とする装置。 19．請求の範囲第１項記載の装置において、２つまたはそれ以上の電極の各々が舌の種々の内部領域に前進させられることを特徴とする装置。 20．身体組織の内部の少なくとも一部を切除する装置であって、カテーテル内部、カテーテル遠位端、カテーテル近位端、カテーテル組織界面およびカテーテルに形成したポートを包含するカテーテルと、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置してあり、身体組織の内部に対してポートから前進、後退させられ、充分な電磁エネルギを給送して身体組織の内部の一部を縮小させるようになっている電極と、カテーテル組織界面の少なくとも一部を充分に冷却して身体組織の内部への電磁エネルギの給送後の身体組織の外面の膨張を低減する手段と、電極に接続したケーブルとを包含することを特徴とする装置。 21．請求の範囲第２０項記載の装置において、さらに、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置された電極前進・後退装置を包含することを特徴とする装置。 22．請求の範囲第２０項記載の装置において、カテーテル内部に少なくとも２つの電極が少なくとも部分的に設置してあり、各電極が身体組織の内部へ別々のポートを通して配置されることを特徴とする装置。 23．請求の範囲第２０項記載の装置において、身体組織が舌であることを特徴とする装置。 24．請求の範囲第２０項記載の装置において、身体組織の外面が舌の背側面であることを特徴とする装置。 25．請求の範囲第２０項記載の装置において、身体組織の外面が舌の腹側面であることを特徴とする装置。 26．請求の範囲第２０項記載の装置において、身体組織の外面が舌の後部背側面であることを特徴とする装置。 27．請求の範囲第２０項記載の装置において、冷却する手段が冷却材源と出口導管に接続した入口導管を包含することを特徴とする装置。 28．請求の範囲第２７項記載の装置において、入口導管および出口導管がカテーテルの内部に閉じたループを形成していることを特徴とする装置。 29．請求の範囲第２０項記載の装置において、さらに、ケーブルに接続した電磁エネルギ源を包含することを特徴とする装置。 30．請求の範囲第２９項記載の装置において、電磁エネルギ源がＲＦ源であることを特徴とする装置。 31．請求の範囲第２０項記載の装置において、冷却する手段が、舌内部に電磁エネルギを給送した後の舌の外面膨張を少なくとも５０パーセント減少させることを特徴とする装置。 32．請求の範囲第２０項記載の装置において、冷却する手段が舌内部への電磁エネルギの給送後の舌の外面の膨張を少なくとも７５パーセント減少させることを特徴とする装置。 33．舌内部の少なくとも一部を切除する装置であって、近位端、遠位端およびカテーテル組織界面を包含するカテーテルと、カテーテル内部に少なくとも部分的に設置され、カテーテルの内外への前進、後退をさせられるようになっている電極と、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置された電極前進・後退装置と、電極による舌内部への電磁エネルギの給送時に舌の表面に対するアデノーマ反応を低減する手段と、電極に接続したケーブルとを包含することを特徴とする装置。 34．舌の内部に切除部を形成する装置であって、近位端、遠位端およびカテーテル組織界面を包含するカテーテルと、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置されており、舌の外面を通してカテーテルの内外へ前進、後退させられるようになっている電極であり、舌内部に切除領域を形成するようになっている舌内部に設置したＲＦエネルギ給送面を有する電極と、ＲＦエネルギ給送面を冷却することなく熱的に隔離しながらカテーテル組織界面の少なくとも一部および舌外面の少なくとも一部を冷却する手段と、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置された電極前進・後退装置と、電極に接続したケーブルとを包含することを特徴とする装置。 35．身体組織を美容再形成する方法であって、カテーテル組織界面を備えたカテーテルと、カテーテルの内部に少なくとも部分的に設置されており、カテーテルから身体組織の内部に対して前進、後退することができる電極と、カテーテル組織界面を冷却する手段とを包含する切除装置を用意する段階と、カテーテルの内部から身体組織外面を通して身体組織の内部へ電極を前進させる段階と、電極から身体組織の内部へ充分なエネルギを給送して身体組織の内部の一部を切除する段階と、カテーテル組織界面を充分に冷却して身体組織外面の膨張を減ずる段階と、身体組織の内部から電極を後退させる段階とを包含することを特徴とする方法。 36．請求の範囲第３５項記載の方法において、身体組織が舌であることを特徴とする方法。 37．請求の範囲第３６項記載の方法において、身体組織外面が舌の背側面であることを特徴とする方法。 38．請求の範囲第３６項記載の方法において、身体組織外面が舌の腹側面であることを特徴とする方法。 39．請求の範囲第３６項記載の方法において、外面が舌の後部背側面であることを特徴とする方法。 40．請求の範囲第３６項記載の方法において、充分な電磁エネルギが舌の内部へ給送されて舌の表面の切除を最小限に抑えながら舌内部の少なくとも一部を切除することを特徴とする方法。 41．請求の範囲第４０項記載の方法において、舌表面の味蕾を切除しないことを特徴とする方法。 42．請求の範囲第３５項記載の方法において、カテーテル組織界面が１０〜３０ ℃の温度まで冷却されることを特徴とする方法。 43．請求の範囲第３５項記載の方法において、カテーテル組織界面の少なくとも１ｃｍ²が冷却されることを特徴とする方法。 44．請求の範囲第３５項記載の方法において、切除装置が２つまたはそれ以上の電極を包含し、各電極がカテーテル組織界面に形成した個別のポートから前進、後退させられることを特徴とする方法。 45．請求の範囲第３５項記載の方法において、舌の内部が充分に切除されて気道の横断面積を拡大することを特徴とする方法。 46．気道閉塞を処置する装置であって、近位端および遠位端を包含し、遠位端を咽頭に挿入でき、舌の後面に隣接して位置させられる第１アームと、近位端および遠位端を包含し、顎の上方に位置する第２アームと、第１、第２のアームを機械的に連結する連結部材であり、この連結部材の長手軸線まわりの各アームの回転運動を許す連結部材と、第１アーム内に設置した複数のＲＦ電極であり、舌の背面に前進させられ、舌から第１アーム内へ後退させられるＲＦ電極とを包含することを特徴とする装置。 47．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、複数の絶縁スリーブを包含し、各絶縁スリーブが１つのＲＦ電極と組み合わせてあり、ＲＦ電極の外面まわりに摺動可能に設置されてＲＦ切除面を構成することを特徴とする装置。 48．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第２アーム内に設置された複数のＲＦ電極を包含し、これらのＲＦ電極が舌の下面の内外へ前進させられることを特徴とする装置。 49．請求の範囲第４８項記載の装置において、さらに、複数の絶縁スリーブを包含し、各絶縁スリーブが第２アーム内に設置された１つのＲＦ電極と組み合わされ、ＲＦ電極の外面まわりに摺動可能に設置されてＲＦ切除面を構成することを特徴とする装置。 50．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１、第２のアームに連結したハンドルを包含することを特徴とする装置。 51．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１アーム内に設置された複数のＲＦ電極と組み合わされた複数のセンサを包含することを特徴とする装置。 52．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１アーム内に設置された複数のＲＦ電極と組み合わされた複数のセンサを包含することを特徴とする装置。 53．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１、第２のアームのうちの一方に連結した可視化装置を包含することを特徴とする装置。 54．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１アームの遠位端の外面上に設置してあり、舌の背面の温度を測定する複数のセンサを包含することを特徴とする装置。 55．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、患者に酸素を導入するために第１アームを貫いて延びる内腔を包含することを特徴とする装置。 56．請求の範囲第４６項記載の装置において、さらに、第１アームを貫いて延びていて第１アーム遠位端のところで麻酔剤を注入する麻酔剤内腔を包含することを特徴とする装置。 57．請求の範囲第４６項記載の装置において、連結部材がヒンジであることを特徴とする装置。 58．請求の範囲第４６項記載の装置において、連結部材が第１、第２のアームに圧縮力を付与することを特徴とする装置。 59．気道閉塞を治療する装置であって、近位端と遠位端とを包含し、遠位端がのどに挿入可能であり、舌の背面に隣接して位置させられる第１アームと、近位端および遠位端を包含し、顎の下に設置される第２アームと、第１アームを第２アームと連結し、長手軸線まわりに各アームを回転運動させ得る連結部材と、第１アーム内に設置された複数のＲＦ電極であり、舌の背面に前進させられ、舌から第１アーム内へ後退させられるＲＦ電極と、ＲＦ電極の内部または外部あるいは第１アーム遠位端の内面あるいは外面に設置してあり、インピーダンスまたは温度を検出するための１つまたはそれ以上のセンサと、センサに接続してあってＲＦ電極付近の組織を所望温度に維持するセンサ・フィードバック装置とを包含することを特徴とする装置。 60．請求の範囲第１４項記載の装置において、ＲＦ電極の各々が独立してリソースに接続してあり、これらのリソースが各ＲＦ電極のための独立した出力を発生することを特徴とする装置。 61．請求の範囲第５６項記載の装置において、リソースが、選定時間にわたってＲＦアンテナのところに選定エネルギを維持する出力を与えることを特徴とする装置。