JP2001358262A - Thermal conduction material - Google Patents

Thermal conduction material

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JP2001358262A
JP2001358262A JP2000175281A JP2000175281A JP2001358262A JP 2001358262 A JP2001358262 A JP 2001358262A JP 2000175281 A JP2000175281 A JP 2000175281A JP 2000175281 A JP2000175281 A JP 2000175281A JP 2001358262 A JP2001358262 A JP 2001358262A
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heat conductive
heat
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Yasuhiro Kawaguchi
康弘 川口
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Kitagawa Industries Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a thermal resistance of a sheet having both a thermal conductivity and EMC function by reducing the thickness. SOLUTION: A thermal conduction material 10 is a thermal conduction base material 11 laminated with a magnetic foil 12. In installing the thermal conduction material 10, the magnetic foil 12 serves as a supporting material and supports the thermal conduction base material 11, allowing the thermal conduction material 10 to be handled easily and thus increasing the workability. Because the magnetic foil 12 supports the thermal conduction base material 11 and compensates for an insufficient strength of the thermal conduction base material 11, excessive deformation or damage of the thermal conduction base material 11 can be prevented and thereby the thickness of the thermal conduction base material 11 can be 500 μm or below. As a result, a thermal resistance is lowered dramatically, which increases a quantity of heat per unit time transferred from an electronic component to the heat sink and thereby a heat radiation effect of the thermal conduction material 10 is increased. The EMC function is performed by the magnetic foil 12.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱伝導材の技術分
野に属する。
The present invention belongs to the technical field of heat conductive materials.

【0002】[0002]

【従来の技術】多くの電子部品、例えばCPU、LS
I、IC、パワートランジスタ等には発生する熱を効率
よく放出するために放熱板等のヒートシンクが取り付け
られている。このヒートシンクと例えばCPUの外面と
の接触が良好でないと(ギャップがあると)放熱効率が
低下するので、熱伝導性の良好なインターフェース材を
ヒートシンクとCPUの間に充填してギャップを防いで
いた。このインターフェース材としての熱伝導材には例
えばシリコーンゲルが使用されていた。
2. Description of the Related Art Many electronic components such as CPUs and LSs
A heat sink such as a heat sink is attached to the I, IC, power transistor, and the like in order to efficiently release generated heat. If the heat sink is not in good contact with, for example, the outer surface of the CPU (if there is a gap), the heat radiation efficiency is reduced. Therefore, an interface material having good thermal conductivity is filled between the heat sink and the CPU to prevent the gap. . For example, silicone gel has been used as the heat conductive material as the interface material.

【0003】またCPU等からは電磁波(ノイズ)が放
射されるので電磁波遮蔽(EMC)も必要であった。そ
うした事情から、上記のインターフェース材として良好
な熱伝導性とEMC機能を持ち合わせたシートが求めら
れていた。そのようなシートの一例として磁性材料をフ
ィラーとしたシリコーンゲルのシートや熱伝導材料を混
練したシートと磁性材料を混練したシートとを積層した
もの等がある。
In addition, since electromagnetic waves (noise) are emitted from a CPU or the like, an electromagnetic wave shield (EMC) is required. Under such circumstances, a sheet having good thermal conductivity and EMC function has been demanded as the interface material. Examples of such a sheet include a sheet of a silicone gel using a magnetic material as a filler, a sheet obtained by kneading a heat conductive material and a sheet obtained by kneading a magnetic material.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、板状の熱伝
導基材による伝熱量(Q)については、下記の数式1に
示す関係が成り立つことが知られている。
By the way, it is known that the relationship shown in the following equation 1 holds for the amount of heat transfer (Q) by the plate-shaped heat conductive substrate.

【0005】[0005]

【数1】 (Equation 1)

【0006】Q:伝熱量 λ:熱伝導率[Kcal/mh℃] Q1−Q2:表裏の温度差 x:板厚 F:表面積 T:時間 したがって、熱伝導効率を上げるには(伝熱量Qを大き
くするには)、熱伝導率λのよいものを使うか板厚xを
薄くすればよい。
Q: heat transfer amount λ: thermal conductivity [Kcal / mh ° C.] Q 1 -Q 2 : temperature difference between front and back x: plate thickness F: surface area T: time Therefore, to increase the heat transfer efficiency (heat transfer amount) To increase Q), a material having a good thermal conductivity λ may be used or the thickness x may be reduced.

【0007】ところで熱伝導率λの向上(すなわち熱伝
導材の改良)には多大な研究を要するのが普通であり、
人的また経済的負担が大きい。また、先人により研究し
尽くされた感もある。これに比べて板厚xを薄くする手
法はどちらかと言えば安易である。しかし、熱伝導基材
の板厚xを薄くすると、例えば剛性が小さくなって取り
扱い難くなるという問題がある。
[0007] By the way, the improvement of the thermal conductivity λ (that is, the improvement of the thermal conductive material) usually requires a great deal of research.
High human and financial burden. There is also a feeling that they have been thoroughly studied by their predecessors. On the other hand, the method of reducing the plate thickness x is rather easy. However, when the thickness x of the heat conductive base material is reduced, for example, there is a problem that the rigidity is reduced and the handling becomes difficult.

【0008】例えばシリコーンゲル或いはシリコーンゲ
ルを基材としてフィラーを添加したものをシート状に加
工する場合、シリコーンゲルの物性(強度)から500
μm(0.5mm)以下の厚さにすることはきわめて困
難であり、またそうした厚さに加工できたとしても強度
が低いためにぼろぼろに崩れてしまって使いものになら
なかった。この問題はシリコーンゲルに限らず、他の熱
伝導基材でも同様であった。
For example, when a silicone gel or a material obtained by adding a filler with a silicone gel as a base material is processed into a sheet shape, the physical property (strength) of the silicone gel is 500
It is extremely difficult to reduce the thickness to less than μm (0.5 mm), and even if the thickness can be processed to such a thickness, the strength is so low that the material collapses and becomes unusable. This problem was not limited to the silicone gel, but was the same for other heat conductive substrates.

【0009】このため、シリコーンゲル等の熱伝導基材
を使用して熱伝導性とEMC機能を持ち合わせたシート
を作る場合、その板厚を低減して(例えば0.5mm以
下にして)、数式1に示される伝熱量Qを大きくするこ
とはできなかった。また、熱伝導性とEMC機能機能を
持たせるために異なる種類のシートを積層するのは製造
コストが高くなるという欠点もあった。
For this reason, when a sheet having both thermal conductivity and EMC function is manufactured using a heat conductive base material such as silicone gel, the sheet thickness is reduced (for example, to 0.5 mm or less), and The heat transfer amount Q shown in No. 1 could not be increased. Also, laminating different types of sheets in order to provide thermal conductivity and EMC function has a disadvantage that the manufacturing cost is high.

【0010】さらに、シリコーンゲルは、電子部品に装
着して使用される時の温度条件では固形であったので、
CPUあるいはヒートシンクの形状に追随して変形する
ことがなく、例えばCPUの表面との間あるいはヒート
シンクの表面との間に微細な空隙が生じてしまい、十分
な熱伝導効果が得られないという問題もあった。
[0010] Further, since the silicone gel is solid under the temperature conditions when it is used by mounting it on an electronic component,
There is also a problem that the shape does not follow the shape of the CPU or the heat sink, and a small gap is generated between the surface of the CPU and the surface of the heat sink. there were.

【0011】なお、従来のシリコーンゲル等の熱伝導基
材を使用する場合、電子部品及びヒートシンクに接着剤
等で強固に取り付けられていたので、例えばグレードア
ップのためにCPU等を交換する際には、破壊的な方法
でヒートシンクと電子部品とを切り離さなければなら
ず、それらの一方または双方を再利用(リサイクル)す
ることができなかった。
When a conventional heat conductive base material such as silicone gel is used, it is firmly attached to an electronic component and a heat sink with an adhesive or the like. Has to separate the heat sink and the electronic components in a destructive manner, and one or both of them cannot be reused.

【0012】本発明は、熱伝導性とEMC機能を持ち合
わせたシートにおいて、その板厚を小さくすることによ
り低熱抵抗化を図るものである。
The present invention aims at lowering the thermal resistance by reducing the thickness of a sheet having both heat conductivity and EMC function.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the invention]

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するための請求項1記載の熱伝導材は、厚さが
500μm以下の板状で他の固体表面に向けて押圧され
ると該固体表面の形状に追随して変形する性質を持つ熱
伝導基材と、該熱伝導基材の2面または1面に積層され
た磁性箔とからなることを特徴とする。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention The heat conductive material according to claim 1 for solving the above problems is a plate having a thickness of 500 μm or less when pressed toward another solid surface. It is characterized by comprising a heat conductive base material having a property of being deformed following the shape of the solid surface, and a magnetic foil laminated on two or one surface of the heat conductive base material.

【0015】熱伝導基材の2面または1面に磁性箔が積
層されているので、磁性箔が支持体となって熱伝導基材
の強度不足を補い、その過剰な変形や破損を阻止する。
したがって、熱伝導基材の板厚を500μm以下にする
ことが可能となる。これにより熱抵抗が格段に低下する
から電子部品(例えばCPU)からヒートシンクへの時
間当たりの伝熱量が増加し、放熱性が良好になる。ま
た、熱伝導材を例えばCPUの表面に取り付ける際に取
り扱いが簡単となり、作業性が向上する。
Since the magnetic foil is laminated on two or one surface of the heat conductive base material, the magnetic foil serves as a support to compensate for the insufficient strength of the heat conductive base material and prevent excessive deformation and breakage thereof. .
Therefore, the thickness of the heat conductive substrate can be reduced to 500 μm or less. As a result, the thermal resistance is remarkably reduced, so that the amount of heat transferred from the electronic component (for example, CPU) to the heat sink per time is increased, and the heat dissipation is improved. In addition, when the heat conductive material is attached to, for example, the surface of the CPU, handling is simplified, and workability is improved.

【0016】しかも、磁性箔によりEMC効果が得られ
るから、電子部品(例えばCPU)からのノイズを防止
できる。磁性箔と熱伝導基材との積層は、例えば加熱プ
レスのような簡単な操作で可能だから、その加工は難し
くなく加工コストも低減できる。
In addition, since the magnetic foil provides an EMC effect, noise from electronic components (eg, CPU) can be prevented. Since the lamination of the magnetic foil and the heat conductive substrate can be performed by a simple operation such as a hot press, the processing is not difficult and the processing cost can be reduced.

【0017】熱伝導基材が他の固体表面に向けて押圧さ
れるとその固体表面の形状に追随して変形する性質を持
つので、電子部品とヒートシンクとで熱伝導材を挟持す
れば、その挟持力=押圧力により熱伝導基材が電子部品
及びヒートシンクの双方の表面形状に追随して変形す
る。また、磁性箔も同様に電子部品またはヒートシンク
のの表面形状に追随して変形する。したがって、熱源と
なる電子部品と放熱のためのヒートシンクとの双方に熱
伝導材が密着し、熱伝導材と電子部品及びヒートシンク
の表面との間に微細な空隙が生じることがないから、十
分な熱伝導効果が得られる。
When the heat conductive base material is pressed against another solid surface, it has the property of being deformed following the shape of the solid surface. The pinching force = the pressing force causes the heat conductive substrate to deform following the surface shapes of both the electronic component and the heat sink. The magnetic foil also deforms following the surface shape of the electronic component or the heat sink. Therefore, the heat conductive material is in close contact with both the electronic component serving as the heat source and the heat sink for heat radiation, and there is no minute gap between the heat conductive material and the surface of the electronic component and the heat sink. A heat conduction effect is obtained.

【0018】なお、固体表面に向けて押圧されるとその
表面形状に追随して変形する例としては、塑性変形や弾
性変形がある。つまり、そのように変形する性質として
は可塑性や弾性が例示される。磁性箔の材質には特に限
定はなく公知の磁性材料の箔を使用できる。いくつか例
示すると、Fe−Ni合金(商品名:パーマロイ)、ケ
イ素鋼(Fe−Si)、Fe−Cr合金(例えばステン
レス)、センダスト(Fe−Al−Si)、パーメンジ
ュール(Fe−Co)等がある。
Examples of deformations following the surface shape when pressed against the solid surface include plastic deformation and elastic deformation. That is, plasticity and elasticity are exemplified as the property of such deformation. The material of the magnetic foil is not particularly limited, and a foil of a known magnetic material can be used. Some examples are Fe-Ni alloy (trade name: Permalloy), silicon steel (Fe-Si), Fe-Cr alloy (for example, stainless steel), sendust (Fe-Al-Si), and permendur (Fe-Co). Etc.

【0019】熱伝導基材の2面または1面に磁性箔が積
層されているので、この磁性箔と電子部品またはヒート
シンクとは面接触しているだけであり、容易に分離でき
る。このため、例えばメモリの拡張のようなグレードア
ップ、メンテナンス、修理等のために電子部品(例えば
CPU)をとヒートシンクとを分離する際には、破壊的
な方法でヒートシンクと電子部品とを切り離す必要はな
く、例えば交換された電子部品やヒートシンクを再利用
(リサイクル)することができる。
Since the magnetic foil is laminated on two or one surface of the heat conductive substrate, the magnetic foil and the electronic component or the heat sink are only in surface contact with each other and can be easily separated. For this reason, when separating an electronic component (for example, a CPU) from a heat sink for upgrading, maintenance, repair, or the like such as expansion of a memory, it is necessary to separate the heat sink and the electronic component by a destructive method. However, for example, the replaced electronic component or heat sink can be reused (recycled).

【0020】熱伝導基材の厚さは500μm以下であれ
ば良好な熱伝導効率とできるが、これが薄ければ薄いほ
どよいことは言うまでもない。よって、好ましくは20
0μm以下である。ただし、薄くしすぎると、磁性箔が
あっても取付作業時の破断などの可能性が高まる。した
がって、熱伝導基材の板厚は100μm以上とするのが
好ましい。つまり、熱伝導基材の厚さは100〜200
μmの範囲とするのが好ましい。
If the thickness of the heat conductive base material is 500 μm or less, good heat transfer efficiency can be obtained, but it goes without saying that the thinner the heat conductive base material, the better. Therefore, preferably 20
0 μm or less. However, if the thickness is too small, the possibility of breakage during the mounting operation increases even if there is a magnetic foil. Therefore, it is preferable that the thickness of the heat conductive base material be 100 μm or more. That is, the thickness of the heat conductive substrate is 100 to 200.
It is preferred to be in the range of μm.

【0021】同様に、熱伝導の面からは磁性箔も薄い方
がよい。ただし、熱伝導基材の物性との関係であまり薄
くしすぎるのも強度不足となるおそれがあってよくな
い。また箔の加工技術の点からも薄くするには限度があ
る。したがって、熱伝導基材の物性及び磁性箔の物性
(主にこれら双方の機械的な強度)にも依存するが、請
求項3記載のように、磁性箔の厚さは50μm以下、5
μm以上とするのが好ましい。
Similarly, the thinner the magnetic foil, the better from the viewpoint of heat conduction. However, if the thickness is too small in relation to the physical properties of the heat conductive substrate, the strength may be insufficient, which is not good. Also, there is a limit to how thin the foil can be processed. Therefore, depending on the physical properties of the heat conductive base material and the physical properties of the magnetic foil (mainly the mechanical strength of both of them), the thickness of the magnetic foil is 50 μm or less.
It is preferably at least μm.

【0022】なお、さらに好ましくは、熱伝導基材と磁
性箔を合計した厚さすなわち熱伝導材の厚さを請求項4
記載のように200μm以下とするのがよい。磁性箔は
熱伝導基材の両面に積層されてよく、そうすれば電子部
品をとヒートシンクとを分離するのがきわめて簡単であ
る。また熱伝導材の強度も高まる。
[0022] More preferably, the total thickness of the heat conductive base material and the magnetic foil, that is, the thickness of the heat conductive material is defined as claim 4.
As described above, the thickness is preferably 200 μm or less. The magnetic foil may be laminated on both sides of the heat-conducting substrate, so that it is very easy to separate the electronic components from the heat sink. Also, the strength of the heat conductive material is increased.

【0023】しかし、両面に積層するとその分だけ熱伝
導材の板厚が増すことになり、伝熱性能(熱抵抗)の面
でデメリットがある。また、2面に積層するので加工コ
ストも高くなる。これらのことを考慮すると、請求項2
記載のように、磁性箔を熱伝導基材の1面にのみ積層し
た構成が好ましい。
However, laminating on both sides increases the thickness of the heat conductive material by that much, and has a disadvantage in terms of heat transfer performance (thermal resistance). In addition, since they are laminated on two surfaces, the processing cost also increases. In view of these things, claim 2
As described, a configuration in which the magnetic foil is laminated on only one surface of the heat conductive substrate is preferable.

【0024】1面にのみ積層する構造の場合、磁性箔の
無い面が電子部品またはヒートシンクに密着して切り離
しが難しくなるおそれがあるが、メンテナンスやリペア
に当たっては電子部品とヒートシンクが分離できればよ
いのであって、例えば再利用する場合に熱伝導材が装着
されたままなら新たに装着する必要がないから、かえっ
て好ましいともいえる。
In the case of a structure in which only one surface is laminated, there is a possibility that the surface without the magnetic foil is in close contact with the electronic component or the heat sink, and it is difficult to separate the electronic component or the heat sink. For this reason, for example, when the heat conductive material is kept mounted when it is reused, it is not necessary to newly mount the heat conductive material.

【0025】請求項5記載の熱伝導材は、請求項1ない
し4のいずれか記載の熱伝導材において、前記熱伝導基
材は、有機材料と、該有機材料より高い熱伝導性を有す
る充填剤とを含有し、少なくとも常時使用温度帯域の3
0〜65℃において可塑化して、接触する相手の表面形
状に追随して柔軟に変形することを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the heat conductive material according to any one of the first to fourth aspects, the heat conductive base material comprises an organic material and a filler having a higher thermal conductivity than the organic material. And at least 3 times the temperature band at all times.
It is characterized by plasticizing at 0 to 65 ° C. and deforming flexibly following the surface shape of the contacting partner.

【0026】この熱伝導材は、少なくとも常時使用温度
帯域の30〜65℃において可塑化して(軟化して)、
接触する相手の表面形状に追随して柔軟に変形するの
で、例えば常温で使用する場合には、例えば適度な堅さ
を有するゴム状の物質であり、手等にくっつくことがな
いから、熱伝導材を電子部品の近傍に配置する作業が容
易である。
The heat conductive material is plasticized (softened) at least in a temperature range of 30 to 65 ° C., which is always used, and
Because it deforms flexibly following the surface shape of the contacting partner, when it is used at room temperature, for example, it is a rubber-like substance with appropriate hardness and does not stick to hands etc. The work of arranging the material near the electronic component is easy.

【0027】また、例えば電子部品の温度が上昇し、熱
伝導材が30〜60℃になった場合には、熱伝導材は可
塑化し、接触する相手の電子部品の形状に追随して柔軟
に変形して、電子部品の表面に密着する。この熱伝導材
は、高い熱伝導性を有しているので、電子部品から効率
よく熱を奪って放熱し、電子部品の温度の上昇を抑制す
ることができる。
Further, for example, when the temperature of the electronic component rises and the temperature of the heat conductive material reaches 30 to 60 ° C., the heat conductive material is plasticized and follows the shape of the electronic component with which it comes into contact, and becomes flexible. Deforms and adheres to the surface of the electronic component. Since this heat conductive material has high thermal conductivity, it can efficiently remove heat from the electronic component and radiate heat, thereby suppressing an increase in the temperature of the electronic component.

【0028】更に、電子部品のOFFにより、電子部品
の温度が例えば常温に低下した場合には、熱伝導材は、
軟化した状態から変化して、例えばゴム状の状態にまで
固化するので、電子部品から熱伝導材を剥がす作業が極
めて容易である。尚、ここで、可塑化するとは、熱によ
り(接触する相手の表面形状に追随できる程度に)柔軟
化することをいう。
Further, when the temperature of the electronic component is reduced to, for example, room temperature by turning off the electronic component, the heat conductive material is
Since the state changes from a softened state to a solidified state, for example, a rubbery state, the operation of peeling the heat conductive material from the electronic component is extremely easy. Here, plasticizing means softening by heat (to the extent that it can follow the surface shape of the contact partner).

【0029】そして、請求項6記載の熱伝導材は、請求
項5記載の熱伝導材において、前記熱伝導体は、60℃
において、6.0g/cm2以上の圧力が加わった場合
に可塑化して、接触する相手の表面形状に追随して柔軟
に変形することを特徴とする。
The heat conductive material according to claim 6 is the heat conductive material according to claim 5, wherein the heat conductor is at 60 ° C.
, Is characterized by plasticizing when a pressure of 6.0 g / cm 2 or more is applied and flexibly deforming following the surface shape of the contacting partner.

【0030】この熱伝導材は、60℃において、6.0
g/cm2以上の圧力が加わった場合に可塑化して、接
触する相手の表面形状に追随して柔軟に変形するので、
請求項5に記載したのと同様な効果(作業性の向上、放
熱性の向上)を奏する。請求項6に記載の熱伝導基材
は、次のa、b、cの条件を満たせば得ることができ
る。
The heat conductive material has a temperature of 6.0 at 60 ° C.
g / cm 2 or more, when it is plasticized, it is plasticized and follows the surface shape of the contacting partner and deforms flexibly.
The same effects (improvement in workability and heat radiation) as described in claim 5 can be obtained. The heat conductive substrate according to claim 6 can be obtained if the following conditions a, b, and c are satisfied.

【0031】a.有機材料の融点が30〜70℃の範囲
にあること。 b.100℃における有機材料の粘度が70000cP
以上であること。 c.充填剤の熱伝導基材全体に対する割合が30〜90
重量%の範囲にあること。
A. The melting point of the organic material is in the range of 30 to 70 ° C. b. The viscosity of the organic material at 100 ° C. is 70,000 cP
That is all. c. The ratio of the filler to the entire heat conductive substrate is 30 to 90.
Be in the range of weight%.

【0032】この熱伝導基材の母材となる有機材料とし
ては、オレフィン系樹脂、具体的には酢酸ビニル−エチ
レン共重合体、ポリエチレン、ポリイソブチレン、エチ
レン−エチルアルコール等のオレフィン系樹脂であっ
て、上記の条件(融点が30〜70℃、100℃におけ
る粘度が70000cP以上)を満たすもの、分子量7
000〜50000の未加硫EPDM(未加硫エチレン
−プロピレンゴム)等が例示されるが、上記の融点及び
粘度条件を満たすものなら特に限定なく使用できる。
The organic material serving as the base material of the heat conductive base material is an olefin resin, specifically, an olefin resin such as vinyl acetate-ethylene copolymer, polyethylene, polyisobutylene, ethylene-ethyl alcohol and the like. Satisfying the above conditions (melting point is 30 to 70 ° C., viscosity at 100 ° C. is 70,000 cP or more), molecular weight 7
Examples include 000 to 50,000 unvulcanized EPDM (unvulcanized ethylene-propylene rubber), but any material that satisfies the above melting point and viscosity conditions can be used without any particular limitation.

【0033】充填材としては、セラミックス、その一種
であるソフトフェライト、金属粉、金属磁性体、炭素繊
維等を使用できる。セラミックスは熱伝導率が高いた
め、熱伝導基材の熱伝導性能を高めることができる。セ
ラミックスの例としては炭化珪素、窒化硼素、アルミ
ナ、水酸化アルミニウム、酸化亜鉛、マグネシア、水酸
化マグネシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム等をあげ
ることができる。
As the filler, ceramics, one of which is soft ferrite, metal powder, metal magnetic material, carbon fiber and the like can be used. Since ceramics have high thermal conductivity, the thermal conductivity of the thermally conductive substrate can be enhanced. Examples of ceramics include silicon carbide, boron nitride, alumina, aluminum hydroxide, zinc oxide, magnesia, magnesium hydroxide, silicon nitride, aluminum nitride, and the like.

【0034】ソフトフェライトとしてはNi−Zn系フ
ェライト、Mn−Znフェライト等が例示される。ソフ
トフェライトは磁性シールド効果が高いため、これを充
填剤とすることによって、熱伝導基材にもEMC機能を
持たせることができる。金属粉の場合、金、銀、銅、ア
ルミ等を使用できる。これらの金属粉は、熱伝導率が高
いと同時に電界シールド効果に優れるため、これらを充
填剤とすることによって、熱伝導効果と電界シールド効
果によるEMC機能に優れた熱伝導基材を実現できる。
Examples of the soft ferrite include Ni-Zn ferrite and Mn-Zn ferrite. Since soft ferrite has a high magnetic shielding effect, by using this as a filler, the heat conductive substrate can also have an EMC function. In the case of metal powder, gold, silver, copper, aluminum and the like can be used. Since these metal powders have a high thermal conductivity and an excellent electric field shielding effect, by using them as a filler, it is possible to realize a heat conductive base material having an excellent EMC function due to the heat conduction effect and the electric field shielding effect.

【0035】金属磁性体としては、ケイ素鋼(Fe−S
i)、パーマロイ(商品名)、センダスト(Fe−Al
−Si)、パーメンジュール(Fe−Co)、ステンレ
ス等のFe−Cr合金がある。こうした金属磁性体は磁
性シールド効果が高いため、これらを充填剤とすること
によって磁性シールド効果によるEMC機能に優れる熱
伝導基材を実現できる。
As the metal magnetic material, silicon steel (Fe—S)
i), Permalloy (trade name), Sendust (Fe-Al
-Si), permendur (Fe-Co), and Fe-Cr alloys such as stainless steel. Since such a metal magnetic material has a high magnetic shielding effect, by using these as a filler, it is possible to realize a heat conductive base material having an excellent EMC function due to the magnetic shielding effect.

【0036】炭素繊維は、PAN系、ピッチ系、VGC
F、グラファイト、カール状等を使用できる。炭素繊維
は熱伝導率が高いと同時に電界シールド効果が高いた
め、これらを熱伝導基材とすることによって、熱伝導効
果と電界シールド効果の双方に優れた熱伝導基材が実現
できる。
The carbon fibers are PAN type, pitch type, VGC
F, graphite, curl, and the like can be used. Since carbon fibers have a high thermal conductivity and a high electric field shielding effect at the same time, by using them as a heat conducting substrate, a heat conducting substrate excellent in both the heat conducting effect and the electric field shielding effect can be realized.

【0037】なお、充填材は上に例示したものに限定さ
れるわけではない。また、1種類の充填材を単独で使用
してもよいし、複数種類を混用してもよい。充填剤の構
成単位の形状としては、粒状のもの、フレーク状のも
の、あるいは繊維状のもの等が使用可能である。
The filler is not limited to those exemplified above. In addition, one type of filler may be used alone, or a plurality of types may be mixed. As the shape of the constituent unit of the filler, a granular one, a flake-like one, a fibrous one or the like can be used.

【0038】熱伝導基材を構成する有機材料の融点が3
0〜70℃の温度範囲にあるので、この融点以上に加熱
されると有機材料が液化する。ただし、有機材料の10
0℃における粘度が70000cP以上であるから、融
点付近ではそれよりも高粘度である。このため融点以上
となって液化してもきわめて流動しにくい状態である。
また、有機材料中に分散している充填剤が有機材料の過
度の流動化を防止する。したがって、熱伝導基材として
は例えば粘土のような可塑性を呈する。この有機材料が
液化した状態での熱伝導基材の可塑性(流動性)は充填
剤の配合割合によって調整できる。この場合、有機材料
及び充填剤の種類(組合せ)にもよるが、充填材の配合
割合は熱伝導基材の30〜90重量%の範囲にするとよ
い。
The melting point of the organic material constituting the heat conductive substrate is 3
Since the temperature is in the range of 0 to 70 ° C., the organic material is liquefied when heated above this melting point. However, 10 of organic materials
Since the viscosity at 0 ° C. is 70,000 cP or more, the viscosity is higher near the melting point. For this reason, even if it liquefies because it has a melting point or higher, it is in a state where it is extremely difficult to flow.
In addition, the filler dispersed in the organic material prevents excessive fluidization of the organic material. Therefore, the heat conductive base material exhibits plasticity such as clay. The plasticity (fluidity) of the heat conductive substrate in a state where the organic material is liquefied can be adjusted by the mixing ratio of the filler. In this case, depending on the type (combination) of the organic material and the filler, the compounding ratio of the filler is preferably in the range of 30 to 90% by weight of the heat conductive substrate.

【0039】このように比較的低温(有機材料の融点以
上)で可塑性を持つので、これを電子部品の表面に接触
させた状態で有機材料の融点以上に加熱し、電子部品の
表面形状に追随して塑性変形させることができる。つま
り、熱伝導材を電子部品の表面に密着させることができ
る。その際に、電子部品とヒートシンクとで熱伝導基材
を挟んでおけば電子部品とヒートシンクとの双方に熱伝
導材を密着させることができる。
Since the material has plasticity at a relatively low temperature (above the melting point of the organic material), it is heated above the melting point of the organic material while being in contact with the surface of the electronic component, and follows the surface shape of the electronic component. And can be plastically deformed. That is, the heat conductive material can be brought into close contact with the surface of the electronic component. In that case, if the heat conductive base material is sandwiched between the electronic component and the heat sink, the heat conductive material can be adhered to both the electronic component and the heat sink.

【0040】有機材料の融点を高め(70℃に近い温
度)に設定しておけば、熱伝導基材が電子部品の通常の
使用状態で可塑性を持つ可能性は低い。この場合、上記
のようにして電子部品とヒートシンクの間に熱伝導材を
挟んで可塑化させることで密着させてから電子部品を使
用すればよい。
If the melting point of the organic material is set to be high (a temperature close to 70 ° C.), the possibility that the heat conductive base material has plasticity in a normal use state of the electronic component is low. In this case, the electronic component may be used after the heat conductive material is sandwiched between the electronic component and the heat sink and plasticized to make them adhere to each other as described above.

【0041】また有機材料の融点を低め(30℃に近い
温度)に設定しておけば、熱伝導材が接触する電子部品
からの熱により昇温して熱伝導基材が可塑性を持つ。そ
して、電子部品及びヒートシンクの表面形状に追随して
変形し、電子部品及びヒートシンクに良好に密着する。
なお、上述したとおり粘性が高いから、電子部品の発熱
によって流出する(液だれする)ことはない。
If the melting point of the organic material is set low (a temperature close to 30 ° C.), the heat is raised by heat from the electronic component in contact with the heat conductive material, so that the heat conductive base material has plasticity. And it deforms following the surface shape of an electronic component and a heat sink, and adheres well to an electronic component and a heat sink.
As described above, since the viscosity is high, the component does not flow out (drip) due to heat generation of the electronic component.

【0042】電子部品の発熱の程度と有機材料の融点の
設定とにより上記のような2通りの使用ができるが、ど
ちらにしても熱伝導材を電子部品及びヒートシンクに良
好に密着させることができる。その結果、熱伝導材を介
しての熱伝導効率が良好となり、電子部品の熱を良好に
放熱できる。
Depending on the degree of heat generation of the electronic component and the setting of the melting point of the organic material, the above two types can be used. In any case, the heat conductive material can be brought into good contact with the electronic component and the heat sink. . As a result, the heat conduction efficiency through the heat conductive material is improved, and the heat of the electronic component can be radiated well.

【0043】また、電子部品及びヒートシンクの表面形
状に忠実に追随して変形するから、ヒートシンクから電
子部品にかかる荷重が均等に分散され、電子部品の一部
に偏った荷重がかることがない。さらに、常温で可塑性
を有する有機材料を用いれば、熱伝導材を例えば電子部
品の表面にあてがう際に電子部品の表面形状に追随させ
て塑性変形させることができるから、その後の加熱ある
いは昇温によって有機材料が液化したときの密着性がよ
り良好になる。
Further, since the deformation is made in accordance with the surface shapes of the electronic component and the heat sink, the load applied from the heat sink to the electronic component is evenly distributed, so that an uneven load is not applied to a part of the electronic component. Furthermore, if an organic material having plasticity at normal temperature is used, when a heat conductive material is applied to the surface of an electronic component, for example, it can be plastically deformed by following the surface shape of the electronic component. Adhesion when the organic material is liquefied becomes better.

【0044】特に、熱伝導材の使用条件下で熱伝導基材
が可塑化するように調製しておくと、電子部品の熱で磁
性箔が膨張(線膨張)した場合に熱伝導基材がこれに応
じて塑性変形するので、両者の熱膨張係数の違いによっ
て剥離したり、あるいは磁性箔にしわが寄る等の不具合
は生じない。
In particular, if the heat conductive material is prepared to be plasticized under the conditions of use of the heat conductive material, the heat conductive material is expanded when the heat of the electronic component expands the magnetic foil (linear expansion). Since it is plastically deformed in response to this, there is no problem such as peeling or wrinkling of the magnetic foil due to the difference in thermal expansion coefficient between the two.

【0045】従来の例えばシリコーンゲルのシート(熱
伝導基材)とEMC機能を持つシートとを積層した熱伝
導材にあっては、両シートの熱膨張係数の違いによる剥
離等の不具合が避けられなかった。これに比べて、本発
明の熱伝導材が、上記の性質(使用条件下で熱伝導基材
が可塑化)により発揮する効果はきわめて優れた効果と
言える。
In a conventional heat conductive material in which a sheet of a silicone gel (heat conductive base material) and a sheet having an EMC function are laminated, problems such as peeling due to a difference in thermal expansion coefficient between the two sheets can be avoided. Did not. In comparison, it can be said that the effect of the heat conductive material of the present invention exerted by the above properties (the heat conductive base material is plasticized under use conditions) is an extremely excellent effect.

【0046】[0046]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例により発明
の実施の形態を説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to an embodiment of the present invention.

【0047】[0047]

【実施例】(熱伝導基材)以下に示す有機材料と充填材
を2本ロールの混練機を用いて混練した後、成形し、シ
ート状の熱伝導基材(実施例1、2、比較例1、2)を
得た。なお、比較例1は有機材料としての未加硫EPD
Mを単独で成形してシート状としたものである。実施例
1、2及び比較例2の熱伝導基材は、図1に例示するよ
うに有機材料中に充填剤が分散した構造となっている。 〈実施例1〉 未加硫EPDM(有機材料) :100重量部 SiC(充填剤) :230重量部 〈実施例2〉 未加硫EPDM(有機材料) :100重量部 BN(充填剤) :120重量部 〈比較例1〉 未加硫EPDMのみ 〈比較例2〉 パラフィン(分子量1000)(有機材料) :100重量部 Al2O3(充填剤) :150重量部 これら実施例1、2及び比較例1、2の熱伝導基材の特
性は表1に示す通りである。なお、粘度はB型粘度計を
用いて測定し、熱伝導率は京都電子工業が販売する熱伝
導計QTM−500を用いて測定した。
EXAMPLES (Thermal Conductive Substrate) The following organic materials and fillers were kneaded using a two-roll kneader, then molded and formed into a sheet-like thermal conductive substrate (Examples 1 and 2; Examples 1 and 2) were obtained. Comparative Example 1 is an unvulcanized EPD as an organic material.
M is formed alone to form a sheet. The heat conductive base materials of Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 have a structure in which a filler is dispersed in an organic material as illustrated in FIG. <Example 1> Unvulcanized EPDM (organic material): 100 parts by weight SiC (filler): 230 parts by weight <Example 2> Unvulcanized EPDM (organic material): 100 parts by weight BN (filler): 120 Parts by weight <Comparative Example 1> Unvulcanized EPDM only <Comparative Example 2> Paraffin (molecular weight: 1000) (organic material): 100 parts by weight Al2O3 (filler): 150 parts by weight These Examples 1, 2 and Comparative Examples 1 and 2 The properties of the heat conductive substrate No. 2 are as shown in Table 1. The viscosity was measured using a B-type viscometer, and the thermal conductivity was measured using a thermal conductivity meter QTM-500 sold by Kyoto Electronics Industry.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】ここで、液だれとは、熱伝導基材を電子部
品とヒートシンクの間に挟んで使用した際に熱伝導基材
が流動化し流れ出す現象をいう。表1から明らかなとお
り、実施例1、2の熱伝導基材は、熱伝導率が高く、有
機材料の融点を大幅に上回る100℃でも液だれを生じ
ていない。
Here, the dripping means a phenomenon in which the heat conductive base material flows and flows out when the heat conductive base material is used between the electronic component and the heat sink. As is clear from Table 1, the heat conductive base materials of Examples 1 and 2 have high thermal conductivity and do not cause dripping even at 100 ° C., which is much higher than the melting point of the organic material.

【0050】一方、比較例1の場合は100℃で液だれ
を起こしている。このことから充填剤の使用が液だれ防
止に有効なことが判る。また、比較例2の熱伝導基材
は、熱伝導率が低く、100℃で液だれを起こしてい
る。 (可塑化実験)実施例1、2の熱伝導基材の軟化の状態
を確認する実験を行った。
On the other hand, in the case of Comparative Example 1, dripping occurred at 100 ° C. This indicates that the use of the filler is effective for preventing dripping. Further, the heat conductive base material of Comparative Example 2 has a low heat conductivity and dripping at 100 ° C. (Plasticization Experiment) Experiments were conducted to confirm the softened state of the heat conductive base materials of Examples 1 and 2.

【0051】この実験は、ヒータの上に熱伝導材を配置
し、その上にブロック(ブロック1又はブロック2)を
配置した状態で、ヒータをオンにし、熱伝導材の温度を
60℃となる様に設定した。 ブロック1としては、3×3×6cm2の比重1のブ
ロックを用いた。このブロック1の重量は54g、その
底面積は9cm2であるので、熱伝導材に加える圧力
は、54÷9=6g/cm2である。
In this experiment, the heater is turned on with the heat conductive material placed on the heater and the block (block 1 or block 2) placed thereon, and the temperature of the heat conductive material becomes 60 ° C. Was set as follows. As the block 1, a block having a specific gravity of 1 of 3 × 3 × 6 cm 2 was used. Since the weight of the block 1 is 54 g and its bottom area is 9 cm 2 , the pressure applied to the heat conductive material is 54 ÷ 9 = 6 g / cm 2.

【0052】ブロック2としては、3×3×6cm2
のの比重9のブロックを用いた。このブロック2の重量
は486g、その底面積は9cm2であるので、熱伝導
材に加える圧力は、486÷9=54g/cm2であ
る。この実験の結果、熱伝導材の温度が60℃の場合
に、加えた圧力が6g/cm 2及び54g/cm2のと
き、従って、加えた圧力が6g/cm2以上となると、
熱伝導基材が可塑化し、接触する相手の表面形状に追随
して柔軟に変形することが確認された。 (熱伝導材)上記実施例1、2の熱伝導基材を使用し
て、図2(a)に示す構造の熱伝導材を製造した。この
熱伝導材10は、実施例1(または実施例2)の熱伝導
基材11と磁性箔12とから構成されている。
As block 2, 3 × 3 × 6 cmTwo
A block having a specific gravity of 9 was used. Weight of this block 2
Is 486g and its bottom area is 9cmTwoSo the heat conduction
The pressure applied to the material is 486 ÷ 9 = 54 g / cmTwoIn
You. As a result of this experiment, when the temperature of the heat conducting material is 60 ° C.
And the applied pressure is 6 g / cm TwoAnd 54g / cmTwoNoto
And therefore the applied pressure is 6 g / cmTwoThen,
The heat conductive substrate plasticizes and follows the surface shape of the contact partner
It was confirmed that it deformed flexibly. (Thermal Conductive Material) Using the thermal conductive base material of Examples 1 and 2,
Thus, a heat conductive material having a structure shown in FIG. 2A was manufactured. this
The heat conducting material 10 is the heat conducting material of the first embodiment (or the second embodiment).
It is composed of a base material 11 and a magnetic foil 12.

【0053】本例では磁性箔12をシート状の熱伝導基
材11に載せて約100℃に加熱しながらプレスして両
者を密着させて熱伝導材10を製造した。磁性箔12に
はパーマロイ(商品名)製で厚さは20μmの箔を使用
し、完成時の熱伝導材10の厚さ(熱伝導基材11+磁
性箔12)を200μmする設定で製造した。なお、図
2は熱伝導材10の断面構造を模式的に示すものであ
り、実際の寸法を反映してはいない。
In this example, the heat conductive material 10 was manufactured by placing the magnetic foil 12 on the sheet-shaped heat conductive base material 11 and pressing it while heating it to about 100 ° C. to bring them into close contact with each other. The magnetic foil 12 was made of Permalloy (trade name) and had a thickness of 20 μm, and was manufactured with the thickness of the heat conductive material 10 (the heat conductive substrate 11 + magnetic foil 12) at the time of completion set to 200 μm. FIG. 2 schematically shows a cross-sectional structure of the heat conductive material 10 and does not reflect actual dimensions.

【0054】この熱伝導材10は、磁性箔12をヒート
シンク側にして電子部品とヒートシンクとの間に挿入さ
れて使用される。その装着手順は次のようなものであ
る。まず、熱伝導材10の磁性箔12が無く熱伝導基材
11が露出している面(図2(a)における下の面)を
電子部品(例えばCPU)の放熱面に当接し、例えば1
00℃程度に加熱する。すると、熱伝導基材11が可塑
化して電子部品の放熱面に密着する。また、一旦密着し
た熱伝導基材11は電子部品から剥がれ難い(実質的に
剥がれない)。
The heat conductive material 10 is inserted between the electronic component and the heat sink with the magnetic foil 12 facing the heat sink. The mounting procedure is as follows. First, the surface of the heat conductive material 10 where the magnetic foil 12 is not present and the heat conductive base material 11 is exposed (the lower surface in FIG. 2A) is brought into contact with the heat radiating surface of the electronic component (eg, CPU).
Heat to about 00 ° C. Then, the heat conductive base material 11 is plasticized and adheres to the heat dissipation surface of the electronic component. Further, the thermally conductive base material 11 once adhered is hard to peel off (substantially does not peel off) from the electronic component.

【0055】その後、磁性箔12側にヒートシンクを当
ててビスなどで電子部品に固定する。このビス等による
力(例えば締め付け力)が、ヒートシンクと電子部品と
で熱伝導材10を挟み付ける力(挟持力)として作用す
る。熱伝導材10は厚さが500μm以下(実施例では
約200μm)の板状で、熱伝導基材11は電子部品ま
たはヒートシンクの表面に向けて押圧されるとその表面
の形状に追随して変形する性質を持つので、電子部品と
ヒートシンクとで熱伝導材10を挟持すれば、その挟持
力=押圧力により熱伝導基材11が電子部品及びヒート
シンクの双方の表面形状に追随して変形する。また、磁
性箔12もヒートシンクの表面形状に追随して変形す
る。これにより熱源となる電子部品と放熱のためのヒー
トシンクとの双方に熱伝導材10が密着する。熱伝導材
10と電子部品及びヒートシンクの表面との間に微細な
空隙が生じることがないから、十分な熱伝導効果が得ら
れる。
Thereafter, a heat sink is applied to the magnetic foil 12 side, and the magnetic foil 12 is fixed to the electronic component with screws or the like. The force of the screw or the like (for example, a tightening force) acts as a force (a holding force) for holding the heat conductive material 10 between the heat sink and the electronic component. The heat conductive material 10 is a plate having a thickness of 500 μm or less (about 200 μm in the embodiment), and the heat conductive base material 11 is deformed following the surface shape of the electronic component or the heat sink when pressed against the surface. When the heat conductive material 10 is sandwiched between the electronic component and the heat sink, the heat conductive base material 11 is deformed following the surface shapes of both the electronic component and the heat sink by the sandwiching force = pressing force. The magnetic foil 12 also deforms following the surface shape of the heat sink. As a result, the heat conductive material 10 comes into close contact with both the electronic component serving as a heat source and the heat sink for heat dissipation. Since there is no minute gap between the heat conductive material 10 and the surfaces of the electronic component and the heat sink, a sufficient heat conductive effect can be obtained.

【0056】なお熱伝導材10をヒートシンクの取付前
には加熱せずに、ヒートシンクの取り付け後に加熱して
熱伝導基材11を可塑化させてもよい。或いはヒートシ
ンクの取付前後に加熱して可塑化させてもよい。また
は、電子部品の使用に伴う発熱で熱伝導基材11が加熱
されれば、それによって可塑化して電子部品及びヒート
シンクの表面に密着する。その結果、熱伝導材10を介
しての熱伝導効率が良好となり、電子部品の熱を良好に
放熱できる。
The heat conducting material 10 may not be heated before the heat sink is attached, but may be heated after the heat sink is attached to plasticize the heat conducting substrate 11. Alternatively, it may be heated and plasticized before and after the attachment of the heat sink. Alternatively, if the heat conductive base material 11 is heated by the heat generated by the use of the electronic component, the heat conductive base material 11 is plasticized by the heat and adheres to the surface of the electronic component and the heat sink. As a result, the heat conduction efficiency through the heat conductive material 10 is improved, and the heat of the electronic component can be radiated well.

【0057】また、電子部品及びヒートシンクの表面形
状に忠実に追随して変形するから、ヒートシンクから電
子部品にかかる荷重が均等に分散され、電子部品の一部
に偏った荷重がかることがない。熱伝導材10の取付作
業に当たっては、磁性箔12が支持材となって熱伝導基
材11を支持するので、取り扱いやすく、作業性も良好
になる。磁性箔12が支持体となって熱伝導基材11の
強度不足を補い、その過剰な変形や破損を阻止するの
で、熱伝導基材11の板厚を500μm以下(実施例で
は200μm以下)にすることが可能となる。これによ
り熱抵抗が格段に低下するから電子部品(例えばCP
U)からヒートシンクへの時間当たりの伝熱量が増加
し、放熱性が良好になる。
In addition, since the deformation is made to closely follow the surface shapes of the electronic component and the heat sink, the load applied from the heat sink to the electronic component is evenly distributed, so that an uneven load is not applied to a part of the electronic component. In mounting the heat conductive material 10, the magnetic foil 12 serves as a supporting material to support the heat conductive base material 11, so that it is easy to handle and workability is improved. Since the magnetic foil 12 serves as a support and compensates for the insufficient strength of the heat conductive base material 11 and prevents its excessive deformation or breakage, the thickness of the heat conductive base material 11 is set to 500 μm or less (200 μm or less in the embodiment). It is possible to do. As a result, the thermal resistance is significantly reduced, so that electronic components (for example, CP
The amount of heat transfer per unit time from U) to the heat sink increases, and the heat dissipation is improved.

【0058】磁性箔12は熱伝導性が良いから、電子部
品からヒートシンクへの伝導を阻害しない。また、磁性
箔12によるEMC効果があるので電子部品(例えばC
PU)からのノイズを良好に遮蔽できる。或いは外部か
ら電子部品へのノイズを遮蔽できる。
Since the magnetic foil 12 has good thermal conductivity, it does not hinder conduction from the electronic components to the heat sink. Further, since the magnetic foil 12 has an EMC effect, electronic components (for example, C
PU) can be shielded well. Alternatively, noise from outside to the electronic component can be shielded.

【0059】磁性箔12と熱伝導基材11との積層は、
加熱プレスのような簡単な操作で可能だから、その加工
は難しくなく加工コストも低減できる。この熱伝導材1
0は、熱伝導基材11が加熱によって可塑化されること
を利用して熱伝導基材11と電子部品とを密着させてお
り、一旦密着すると電子部品から剥がすことはきわめて
難しい。
The lamination of the magnetic foil 12 and the heat conductive substrate 11
Since it is possible with a simple operation such as a heating press, the processing is not difficult and the processing cost can be reduced. This heat conductive material 1
In the case of No. 0, the heat conductive base material 11 is adhered to the electronic component by utilizing the plasticization of the heat conductive base material 11 by heating.

【0060】しかし、熱伝導基材11の他の面には磁性
箔12が積層されているので、この磁性箔12とヒート
シンクとは面接触するだけであり、容易に分離できる。
このため、例えばメモリの拡張のようなグレードアッ
プ、メンテナンス、修理等のために電子部品(例えばC
PU)をとヒートシンクとを分離する際には、破壊的な
方法でヒートシンクと電子部品とを切り離す必要はな
く、例えば交換された電子部品やヒートシンクを再利用
(リサイクル)することができる。
However, since the magnetic foil 12 is laminated on the other surface of the heat conductive substrate 11, the magnetic foil 12 and the heat sink only come into surface contact with each other and can be easily separated.
For this reason, electronic components (for example, C
When separating the PU and the heat sink, it is not necessary to separate the heat sink and the electronic component by a destructive method, and for example, the replaced electronic component or the heat sink can be reused (recycled).

【0061】特に、有機材料の融点が低く(実施例は4
5℃)、その100℃における粘度が70000cPと
高粘度であり、また有機材料中に充填剤を分散させてい
るので、熱伝導基材11は有機材料の融点以上となって
液化してもきわめて流動しにくく、使用中に液だれする
ことはない。
In particular, the melting point of the organic material is low (Example 4
5 ° C.), the viscosity at 100 ° C. is as high as 70,000 cP, and the filler is dispersed in the organic material. It does not flow easily and does not drip during use.

【0062】また熱伝導基材11が比較的低温(有機材
料の融点以上)で可塑性を持つので、使用時に電子部品
の熱で可塑化して表面形状に追随して塑性変形して電子
部品の表面に密着する。よって、使用中に電子部品との
密着度が高まるという効果がある。
Further, since the heat conductive base material 11 has plasticity at a relatively low temperature (above the melting point of the organic material), it is plasticized by the heat of the electronic component during use and plastically deforms to follow the surface shape, thereby deforming the surface of the electronic component. Adhere to Therefore, there is an effect that the degree of adhesion to the electronic component is increased during use.

【0063】さらに、熱伝導材10の使用条件下で熱伝
導基材11が可塑化するから、電子部品の熱で磁性箔1
2が膨張(線膨張)した場合に熱伝導基材11がこれに
応じて塑性変形するので、両者の熱膨張係数の違いによ
って剥離したり、あるいは磁性箔12にしわが寄る等の
不具合は生じない。
Further, since the heat conductive base material 11 is plasticized under the use conditions of the heat conductive material 10, the heat of the electronic component causes the magnetic foil 1
When 2 expands (linearly expands), the heat conductive base material 11 is plastically deformed in response to the expansion, so that problems such as peeling or wrinkling of the magnetic foil 12 due to a difference in thermal expansion coefficient between the two do not occur. .

【0064】なお、図2(b)に例示するように、熱伝
導基材11の両面に磁性箔12を積層した構造とするこ
とも可能である。このようにすれば、電子部品及びヒー
トシンクの双方から簡単に分離できる。以上、本発明に
ついて説明したが、本発明は上述の各例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でさまざま
に実施できることは言うまでもない。
As shown in FIG. 2B, a structure in which the magnetic foil 12 is laminated on both surfaces of the heat conductive base material 11 is also possible. In this way, it can be easily separated from both the electronic component and the heat sink. Although the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above-described examples, and it goes without saying that various embodiments can be made without departing from the spirit of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施例の熱伝導基材の内部構造の模式図であ
る。
FIG. 1 is a schematic diagram of the internal structure of a heat conductive substrate of an example.

【図2】 実施例の熱伝導基材を用いた熱伝導材の説明
図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a heat conductive material using the heat conductive base material of the example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 熱伝導材 11 熱伝導基材 12 磁性箔 Reference Signs List 10 heat conductive material 11 heat conductive base material 12 magnetic foil

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 厚さが500μm以下の板状で他の固体
表面に向けて押圧されると該固体表面の形状に追随して
変形する性質を持つ熱伝導基材と、 該熱伝導基材の2面または1面に積層された磁性箔とか
らなることを特徴とする熱伝導材。
1. A heat conductive base material having a property of deforming following the shape of a solid surface when pressed toward another solid surface in a plate shape having a thickness of 500 μm or less; And a magnetic foil laminated on two or one of the surfaces.
【請求項2】 請求項1記載の熱伝導材において、 前記磁性箔は前記熱伝導基材の1面にのみ積層されてい
ることを特徴とする熱伝導材。
2. The heat conductive material according to claim 1, wherein the magnetic foil is laminated only on one surface of the heat conductive base material.
【請求項3】 請求項1または2記載の熱伝導材におい
て、 前記磁性箔の厚さは50μm以下、5μm以上であるこ
とを特徴とする熱伝導材。
3. The heat conductive material according to claim 1, wherein the thickness of the magnetic foil is 50 μm or less and 5 μm or more.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか記載の熱伝
導材において、 該熱伝導材の厚さが200μm以下であることを特徴と
する熱伝導材。
4. The heat conductive material according to claim 1, wherein the heat conductive material has a thickness of 200 μm or less.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか記載の熱伝
導材において、 前記熱伝導基材は、有機材料と、該有機材料より高い熱
伝導性を有する充填剤とを含有し、少なくとも常時使用
温度帯域の30〜65℃において可塑化して、接触する
相手の表面形状に追随して柔軟に変形することを特徴と
する熱伝導材。
5. The heat conductive material according to claim 1, wherein the heat conductive base material contains an organic material and a filler having a higher thermal conductivity than the organic material. A heat conducting material characterized by being plasticized at a temperature range of 30 to 65 ° C. in a working temperature range and flexibly deformed following the surface shape of a contact partner.
【請求項6】 請求項5記載の熱伝導材において、 前記熱伝導体は、60℃において、6.0g/cm2
上の圧力が加わった場合に可塑化して、接触する相手の
表面形状に追随して柔軟に変形することを特徴とする熱
伝導材。
6. The heat conductive material according to claim 5, wherein the heat conductor is plasticized when a pressure of 6.0 g / cm 2 or more is applied at 60 ° C., and the heat conductive material is brought into contact with the surface shape of the mating member. A heat conductive material characterized by flexible deformation following it.
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WO2014155977A1 (en) * 2013-03-25 2014-10-02 パナソニック株式会社 Heat dissipating sheet and heat dissipating structural body using same
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