JP2001357678A - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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Abstract
手の良いCAMを備えた半導体集積回路装置を提供す
る。 【解決手段】 ラッチ回路の一対の相補の入出力ノード
と相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一対
の伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持され
た一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線の信
号を受ける比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を
複数の相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補デ
ータ線には複数ビットからなる検索データを伝え、上記
メモリセルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複
数の相補データ線に対応して配置されたワード線に共通
に接続し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記
比較論理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッ
チ線には論理しきい値電圧近傍にマッチ線をプリチャー
ジして上記メモリセルの比較論理回路によりディスチャ
ージされたか否かを上記論理しきい値電圧より判定す
る。
Description
装置に関し、特に内容呼び出しメモリを搭載したものに
利用して有効な技術に関するものである。
d Memory、以下単にCAMと呼ぶ場合がある)は、記憶
データをアドレス指定によってアクセスするのではな
く、記憶データの内容(キー)でアクセスするものであ
る。つまり、CAMは、キーを入力すると記憶データと
の間で比較論理を採り、連想条件にかなった記憶データ
にフラグ(ヒットフラグ)を立てるといった機能を持つ
ものである。
討されたCAMにおいては、図12のタイミング図に示
すように、制御信号φB のロウレベルによりマッチ線を
電源電圧VDDのようなハイレベルにプリチャージし、
上記制御信号φB のハイレベルにより入力されたキー
(検索データ)と保持されたキーとの比較を行ない、不
一致のものではマッチ線がロウレベルに引き抜かれ、一
致のものは上記プリチャージ電位を維持する。これを活
性化信号φC により論理回路を活性化して、その論理し
きい値電圧により一致/不一致を判定する。このような
判定方法では、不一致のマッチ線のレベルが検出回路
(例えばNAND回路)の論理しきい値以下にならない
とロウレベルとして検出できないため、この論理しきい
値電圧VLT以下になるまで長い時間を必要として動作
速度が遅くなってしまうという問題がある。また、CA
Mでは、誤って同じキーを重複して設定された場合、複
数のヒットフラグが検出されて誤った読み出しが行なわ
れてしまうという問題が生じる。
たCAMを備えた半導体集積回路装置を提供することに
ある。この発明の他の目的は、簡単な構成で使い勝手の
良いCAMを備えた半導体集積回路装置を提供すること
にある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。ラッチ回路の一対の相補の入出力ノー
ドと相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一
対の伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持さ
れた一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線の
それぞれの信号を受け、上記記憶情報と上記信号のいず
れか一方の相補信号において不一致のときに電流経路を
形成する比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を複
数の相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補デー
タ線には複数ビットからなる検索データを伝え、上記メ
モリセルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複数
の相補データ線に対応して配置されたワード線に共通に
接続し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記比
較論理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッチ
線には、論理しきい値電圧近傍にマッチ線をプリチャー
ジし、上記メモリセルの比較論理回路によりディスチャ
ージされたか否かを上記論理しきい値電圧より判定する
マッチ検出回路を設ける。
相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一対の
伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持された
一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線のそれ
ぞれの信号を受け、上記記憶情報と上記信号のいずれか
一方の相補信号において不一致のときに電流経路を形成
する比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を複数の
相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補データ線
には複数ビットからなる検索データを伝え、上記メモリ
セルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複数の相
補データ線に対応して配置されたワード線に共通に接続
し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記比較論
理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッチ線に
はそれをプリチャージし、上記メモリセルの比較論理回
路によりディスチャージされたか否かを判定するマッチ
検出回路を設け、上記マッチ検出回路の複数の出力信号
を、同等の容量値を持つようにされた第1と第2信号線
に対応して設けられたヒット信号線に伝え、上記第1信
号線と第1電位との間には上記ヒット信号線にゲートが
接続された第1MOSFETを設け、上記第2信号線と
第1電位との間には、ダミーヒット信号線がゲートに接
続された第2MOSFETを設け、上記第1MOSFE
Tと第2MOSFETのコンダクタンスの比の設定によ
り、1つのヒット信号線にヒット信号が伝えられた場合
と2以上のヒット信号線にヒット信号が伝えられた場合
の第1信号線の電位変化の中間になるように第2信号線
を電位変化させて両者の電圧差をマルチヒット検出回路
で検出する。
の一実施例の概略回路構成図が示されている。この実施
例の各回路ブロックは、公知のCMOS集積回路の製造
技術によって、特に制限されないが、単結晶シリコンの
ような1個の半導体基板上において形成される。
せ)入力信号は、図外のレジスタにセットされる。この
検索データ入力は、例えば、キー0からキー63のよう
な64ビットで構成される。特に制限されないが、上記
64ビットからなる検索データ入力に対して、マクスレ
ジスタが設けられる。つまり、上記64ビットからなる
検索データ線入力に対して、マスクレジスタにより指示
されたビットに対してマスクがかけられ、CAMの相補
データ線D,/Dに供給される。このマスクレジスタ
は、特定のビットの照合を実質的に無効にさせる機能を
持つ。例えば、マスクレジスタにより指定されたビット
は、相補データ線に伝達される入力信号が共にロウレベ
ルにされる。これにより、それに対応されたCAMのメ
モリセルMCの記憶情報との比較論理出力が常に一致と
なるようにさせるものである。
対応して、256×4列からなるメモリセルが配置され
る。メモリセルは、記憶機能と比較論理機能とを持つよ
うにされる。例えば、相補データ線D,/Dに対応した
列には、256個のメモリセルが接続され、横の行には
64対の相補データ線に対応して64個×4組のメモリ
セルが配置され、64個のメモリセルに対応してワード
線、マッチ線及びディスチャージ線が配置される。個々
のマッチ線及びディスチャージ線に対応してマッチ検出
回路が設けられる。上記のようにキー当たり、256×
4列のメモリセルが設けられる場合には、マッチ検出回
路もそれに対応して256×4個のようなマッチ検出回
路が設けられる。
て、上記最大でそれぞれのキーごとに256×4個の記
憶データとが並列に比較されて、そのうち1つのマッチ
線において一致信号が形成されてメモリ回路に伝えられ
る。メモリ回路は、例えばRAMにより構成されてお
り、上記検出信号に対応して1つのワード線が選択され
る。このワード線に選択されたメモリセルに記憶された
データが検索データとしてパラレルに出力される。この
構成に替え、上記RAMによりアドレス情報を記憶させ
ておき、上記マッチ検出信号に対応されたワード線によ
り選択されたメモリセルからアドレス情報を取り出し、
そのアドレス情報により別のメモリ回路を選択して、そ
こに記憶されたデータを検索データ出力として用いるも
のであってもよい。
き込みがCAMに対して行われる。すなわち、図示しな
いCAMのワード線を選択するデコーダ回路DCRによ
り、1つのキー列に対応したワード線W1,W2,W3
・・・W256を順次選択して、それぞれの行のメモリ
セルに64ビットからなるキー情報の書き込みが行われ
る。このようなCAMへのキー情報の書き込みが終了す
ると、そのキー情報よりCAMへ順次入力すると、その
キー情報に対応してCAMはヒット情報をマッチ線から
出力する。これによって、メモリ回路のワード線の選択
動作が行われ、それぞれのキー情報に対応された検索デ
ータをメモリ回路に書き込む。あるいは、上記メモリ回
路から読み出されたアドレス情報により選択された別の
メモリ回路に検索データを記憶させる場合には、上記メ
モリ回路にそのアドレス情報を書き込み、再度キー情報
をCAMへ順次入力し、メモリ回路のワード線の選択動
作により読み出されたアドレス情報により選択された別
のメモリ回路に検索データを書き込むようにする。
に、それに対応された検索データをメモリ回路あるいは
メモリ回路を介在して選択された別のメモリ回路から読
み出すことができるものとなる。これによって、メモリ
回路の記憶データをアドレス指定によってアクセスする
のではなく、記憶データの内容(キー情報)でアクセス
することが可能になる。
ている1つのメモリセルは、入力と出力とが交差接続さ
れた2つのCMOSインバータ回路N1とN2からなる
ラッチ回路と、かかるラッチ回路の一対の入出力ノード
と上記相補データ線D,/Dとの間には、Nチャンネル
型の伝送ゲートMOSFETQ1とQ2からなる記憶部
と比較回路とを備える。上記比較論理回路は、上記一対
の入出力ノード(記憶ノード)の信号と、相補データ線
D,/Dとの信号とをゲートに受け、マッチ線とディス
チャージ線との間に設けられた直列形態のMOSFET
Q3,Q4及びQ5,Q6から構成される。
データ線に対応して、上記ワード線、マッチ線及びディ
スチャージ線に対して、上記64個のメモリセルが並列
形態に接続される。上記比較回路は、マッチ線によりワ
イヤードオア論理を構成するものであり、上記例示的に
示されている2つの直列MOSFETQ3,Q4及びQ
5,Q6のいずれか1つでもディスチャージ電流経路が
形成されることによって、マッチ線に与えられたプリチ
ャージ電圧をディスチャージさせて不一致信号を形成す
る。それ故、ラッチ回路の記憶ノードの信号は、それを
書き込み相補データ線D,/Dを受けるMOSFETQ
4、Q6に対して直列接続されるMOSFETQ3,Q
5のゲートと交差的に接続される。
発生回路で形成された制御信号φCによりゲートを開く
ナンド(NAND)ゲート回路G1とG2を通して検索
データ入力と、インバータ回路N3とで形成された反転
信号からなる相補信号を相補データ線D,/Dに伝え
る。マッチ検出回路は、マッチ検出回路制御信号発生回
路で形成された制御信号φA によりマッチ線のプリチャ
ージ動作とディスチャージ動作を行なう。これにより、
CAMでの検索データ入力と、記憶されたキーとの比較
動作が行なわれ、上記制御信号φA に応答して活性化信
号生成回路が活性化信号φB を形成するので、マッチ検
出回路での一致/不一致判定動作が行なわれる。
を入力した場合には、入力回路部のゲート回路G1によ
りハイレベルの検索データがロウレベルに反転されて、
データ線Dにはロウレベルが伝えられる。上記ハイレベ
ルの検索データは、入力回路部のインバータ回路N3及
びゲート回路G2を通してハイレベルの検索データとし
てデータ線/Dに伝えられる。このような相補信号のメ
モリセルへの書き込みによって、ラッチ回路を構成する
インバータ回路N1の入力側にはロウレベルが、出力側
にはハイレベルが記憶される。
き、比較回路のMOSFETQ3は上記ラッチ回路を構
成するインバータ回路N1の出力信号のハイレベルに対
応してオン状態にされ、MOSFETQ5は上記インバ
ータ回路N1の入力信号のロウレベルに対応してオフ状
態にされている。この状態において、データ線Dがハイ
レベルで、データ線/Dがロウレベルの不一致の検索デ
ータが入力されると、上記オン状態にされたMOSFE
TQ3と直列に接続されるMOSFETQ4が上記デー
タ線Dのハイレベルによりオン状態にされて、マッチ線
及びディスチャージ線との間に電流経路を形成し、マッ
チ線のプリチャージ電荷をディスチャージさせる。
のMOSFETQ3がオン状態にされ、MOSFETQ
5がオフ状態にされている状態において、データ線Dが
ロウレベルで、データ線/Dがハイレベルの一致の検索
データが入力されると、上記オン状態にされたMOSF
ETQ3と直列に接続されるMOSFETQ4が上記デ
ータ線Dのロウレベルによりオフ状態にされて、マッチ
線及びディスチャージ線との間に電流経路を形成しない
から、マッチ線はプリチャージ電圧を維持するものとな
る。また、上記データ線/DのハイレベルによりMOS
FETQ6はオン状態にされるが、それと直列形態のM
OSFETQ5は記憶情報に応じてオフ状態にされてい
るので、マッチ線及びディスチャージ線との間に電流経
路を形成しない。
ータを入力した場合には、入力回路部のゲート回路G1
によりロウレベルの検索データがハイレベルに反転され
て、データ線Dにはハイレベルが伝えられる。上記ロウ
レベルの検索データは、入力回路部のインバータ回路N
3及びゲート回路G2を通してロウレベルの検索データ
としてデータ線/Dに伝えられる。このような相補信号
のメモリセルへの書き込みによって、ラッチ回路を構成
するインバータ回路N1の入力側にはハイレベルが、出
力側にはロウレベルが記憶される。
き、比較回路のMOSFETQ3は上記ラッチ回路を構
成するインバータ回路N1の出力信号のロウレベルに対
応してオフ状態にされ、MOSFETQ5は上記インバ
ータ回路N1の入力信号のハイレベルに対応してオン状
態にされている。この状態において、データ線Dがロウ
レベルで、データ線/Dがハイレベルの不一致の検索デ
ータが入力されると、上記オン状態にされたMOSFE
TQ5と直列に接続されるMOSFETQ6が上記デー
タ線/Dのハイレベルによりオン状態にされて、マッチ
線及びディスチャージ線との間に電流経路を形成し、マ
ッチ線のプリチャージ電圧をディスチャージさせる。
のMOSFETQ3がオフ状態にされ、MOSFETQ
5がオン状態にされている状態において、データ線Dが
ハイレベルで、データ線/Dがロウレベルの一致の検索
データが入力されると、上記オン状態にされたMOSF
ETQ5と直列に接続されるMOSFETQ6が上記デ
ータ線/Dのロウレベルによりオフ状態にされて、マッ
チ線及びディスチャージ線との間に電流経路を形成しな
いから、マッチ線はプリチャージ電圧を維持するものと
なる。また、上記データ線DのハイレベルによりMOS
FETQ4はオン状態にされるが、それと直列形態のM
OSFETQ3は記憶情報に応じてオフ状態にされてい
るので、マッチ線及びディスチャージ線との間に電流経
路を形成しない。
4個のメモリセルに対応した比較回路が並列形態に接続
されるものであるため、上記64個のメモリセルに対応
した比較回路においては、いずれか1ビットでも不一致
のものがあれば、マッチ線のプリチャージ電荷をディス
チャージさせるように動作する。これにより、全ビット
一致のときにのみ、マッチ線がプリチャージ電圧を維持
するものとなる。
の回路図が示されている。マッチ検出回路は、マッチ線
のプリチャージ動作及びディスチャージ動作を制御する
回路と、レベルを判定する判定回路から構成される。こ
の実施例のマッチ検出回路は、高速な判定動作を行なう
ようにするため、マッチ線のプリチャージ電圧を、それ
を判定する論理回路の論理しきい値電圧近傍に設定する
ものである。
のレベルを判定する論理ゲート回路G3の論理しきい値
電圧VLT近傍まで、マッチ線を急速にプリチャージす
るPチャンネル型のドライバMOSFETQ11と、こ
のMOSFETQ11のゲートをコントロールしてマッ
チ線の電圧を上記論理しきい値電圧VLT近傍のレベル
に確定する帰還回路と、上記マッチ線のレベルをその論
理しきい値電圧VLTにより判定して、一致/不一致を
検出する2入力の上記論理ゲート回路G3、ディスチャ
ージ線を介してマッチ線の電荷を引き抜くNチャンネル
型のMOSFETQ12、マッチ線をVSSにリセット
するNチャンネル型のMOSFETQ13、活性化信号
φB を生成する活性化信号生成回路から成る。
その論理しきい値電圧VLTにより判定する論理ゲート
回路G3と同じ論理しきい値電圧を持つようにされた論
理ゲート回路G4を用いたレベル判定回路を含む。この
帰還回路出力は、オアゲート回路G5を通して上記プリ
チャージ動作を行なうドライバMOSFETQ11とデ
ィスチャージ用MOSFETQ12の制御を行なう。マ
ッチ線と電源電圧との間には、上記論理ゲート回路G3
の出力信号を受けて動作するPチャンネル型のMOSF
ETQ14が設けられてラッチ回路が構成される。つま
り、論理ゲート回路G3により、マッチ線がハイレベル
と判定されたなら、その出力信号のロウレベルによりP
チャンネル型のMOSFETQ14をオン状態にして、
フローティング状態でプリチャージ電圧を維持している
マッチ線を電源電圧VDD側にプルアップして上記判定
結果を保持させる。
例を説明するための波形図が示されている。CAMが非
動作時には制御信号φA がハイレベルであり,制御信号
φAのハイレベルによりMOSFETQ13がオン状態
となり、マッチ線はロウレベルにリセットされる。上記
信号φA のハイレベルにより帰還回路もリセットされて
帰還回路出力をロウレベルに、ゲート回路G5の出力信
号がハイレベルとされて、プリチャージ用のPチャンネ
ル型のドライバMOSFETQ11はオフ状態に、ディ
スチャージ線のMOSFETQ12はオン状態にされ
る。これによりマッチ線とディスチャージ線はVSSに
リセットされている。
φA がロウレベルになることでゲート回路G5の出力信
号がロウレベルとなって、Pチャンネル型のMOSFE
TQ11をオン状態に、Nチャンネル型のMOSFET
Q12とQ13をオフ状態にする。これにより、ドライ
バMOSFETQ11のオン状態によりマッチ線のプリ
チャージが開始される。マッチ線のレベルがレベル判定
を行なう論理ゲート回路G3の論理しきい値電圧VLT
を超えると、帰還回路に設けられた同様な論理しきい値
電圧VLTを持つゲート回路G4が応答して、帰還回路
の出力をハイレベルにしてその状態を保持する。
チャンネル型のMOSFETQ11がオフ状態となり、
マッチ線のレベルは上記ゲート回路G3(G4)の論理
しきい値電圧VLTを越えた電圧で停止する。上記プリ
チャージ用のMOSFETQ11がオフ状態になると同
時に、ディスチャージ用のMOSFET12がオン状態
となり、不一致となったマッチ線の電荷は比較回路とデ
ィスチャージ線を介してVSSに引き抜かれる。これに
より,マッチ線のレベルは論理ゲート回路G3(G4)
の論理しきい値電圧VLT付近から下がり始め、かかる
レベル判定の基準である論理しきい値電圧VLT以下に
なるまでの時間が大幅に短縮でき、上記制御信号φA を
ロウレベルにしてから活性化信号φB を発生させるタイ
ミングを大幅に短くすることができ、動作の高速化が図
られる。
セスバラツキを持つが、半導体集積回路に形成される素
子相互の相対的なバラツキは小さい。つまり、同じ半導
体集積回路においては、論理ゲート回路G3の論理しき
い値電圧と、論理ゲート回路G4の論理しきい値電圧と
は高い精度で一致させることができる。これにより、マ
ッチ線のプリチャージ電圧は、そのレベル判定を行なう
論理しきい値電圧VLTに対して高い精度でわずかに高
い電圧に設定することができる。つまり、ゲート回路G
4により帰還回路の出力が形成されてから、MOSFE
TQ11がオフ状態になるまでの時間差に対応して、上
記マッチ線の電位は論理しきい値電圧VLTより僅かに
高い電圧に精度よく設定することができ、プロセスバラ
ツキに対しても安定した動作マージンを確保することが
できる。
の具体的回路図が示されている。この実施例では、回路
の簡素化のために前記プリチャージ用のドライバMOS
FETQ11をMOSFETQ111とQ112のよう
に2個のPチャンネル型MOSFETの直列回路から構
成し論理機能が持たせられる。つまり、プリチャージ開
始前にMOSFETQ112をオン状態にしておいて、
MOSFETQ111のオン状態によりプリチャージ動
作を開始し、帰還回路でのレベル判定結果により上記M
OSFETQ112のオフ状態によりプリチャージ動作
を終了させる。
ート回路G3は、活性化信号φB とマッチ線の電圧をそ
れぞれゲートに受ける直列形態のNチャンネル型MOS
FETQ20とQ21と、上記活性化信号φB と上記マ
ッチ線の電圧とをそれぞれゲートに受ける並列形態のP
チャンネル型MOSFETQ22とQ23により構成さ
れる。特に制限されないが、この実施例では、上記Pチ
ャンネル型MOSFETQ23には、ゲートに定常的に
回路の接地電位が与えられることにより抵抗素子として
作用するPチャンネル型MOSFETQ24が直列形態
に設けられる。このMOSFETQ24により、電流制
限動作が行なわれてマッチ線が論理しきい値電圧VLT
付近にされたときに、論理ゲート回路G3のMOSFE
TQ23〜Q21及びQ20を通して流れる貫通電流を
制限する。
〜Q24と同様なMOSFETQ30〜Q34により、
帰還回路の論理ゲート回路G4が構成される。MOSF
ETQ32とQ31のゲートにはマッチ線の電圧が印加
され、MOSFETQ30とQ33のゲートには、イン
バータ回路N6で反転された制御信号φA が供給され
る。かかる論理ゲート回路G4の出力信号は、インバー
タ回路N5を通してMOSFETQ112とQ12のゲ
ートと、前記ゲート回路G3の電流制限を行なうMOS
FETQ24に対応したMOSFETQ34のゲートに
伝えられる。上記論理ゲート回路G4の出力ノードと回
路の接地電位間には、上記インバータ回路N6の出力信
号と、インバータ回路N5の出力信号を受けるMOSF
ETQ40とQ41とが直列形態に設けられる。
る。制御信号φA のハイレベルの期間では、マッチ線は
ロウレベルにリセットされており、帰還回路ではゲート
回路G4の出力がハイレベルとなり、インバータ回路N
5を通してMOSFETQ112をオン状態にさせてい
る。この状態で、制御信号φA をロウレベルに変化させ
ると、MOSFETQ111がオン状態となり、MOS
FETQ13がオフ状態となって、上記オン状態のMO
SFETQ112とともにプリチャージ電流経路を形成
してマッチ線をプリチャージさせる。
G4の論理しきい値電圧VLTを超えると、インバータ
回路N5の出力信号がロウレベルからハイレベルに変化
して、MOSFETQ112をオフ状態にさせる。これ
に対応してMOSFETQ12がオン状態なって、不一
致となったマッチ線の電荷は比較回路とディスチャージ
線を介してVSSに引き抜く。
出力信号のハイレベルより、Pチャンネル型のMOSF
ETQ34がオフ状態にされ、Nチャンネル型MOSF
ETQ41がオン状態になる。したがって、制御信号φ
A のロウレベルによりオン状態になっているMOSFE
TQ40により、ゲート回路G4の出力ノードをロウレ
ベルにリセットさせる。つまり、インバータ回路N5と
MOSFETQ41とQ40によりラッチ回路が構成さ
れて、上記論理ゲート回路G4のロウレベル出力を保持
する。したがって、上記不一致となったマッチ線の電荷
が比較回路とディスチャージ線を介してVSSに引き抜
かれても、帰還回路のゲート回路G4がそれに応答して
出力信号を再びハイレベルすることはなく、言い換える
ならば、上記不一致により誤ってプリチャージ動作が開
始させてしまうことはない。
施例の具体的回路図が示されている。この実施例では、
帰還回路に次のような変更が加えられる。前記論理ゲー
ト回路G4の他方の入力には、固定的にハイレベルが供
給されて実質的にはインバータ回路として動作させられ
る。このゲート回路G4の出力信号は、Pチャンネル型
MOSFETQ50とNチャンネル型MOSFETQ5
1及びそのスイッチ制御を行なうインバータ回路N7か
らなる第1のCMOSスイッチを通して出力される。こ
の出力信号は、インバータ回路N9を通して前記Pチャ
ンネル型のMOSFETQ112のゲート及びNチャン
ネル型MOSFETQ12のゲートに供給される。
OSFETQ111のゲート及びNチャンネル型MOS
FETQ13のゲートに伝えられるとともに、Pチャン
ネル型MOSFETQ52とNチャンネル型MOSFE
TQ53及びインバータ回路N8からなる第2のCMO
Sスイッチの制御信号とされる。この第2のCMOSス
イッチは、上記インバータ回路N9の出力信号を上記第
1のCMOSスイッチの制御信号として伝達するために
用いられる。上記第1のCMOSスイッチの制御入力と
回路の接地電位との間には、上記制御信号φA を受ける
リセット用のNチャンネル型MOSFETQ54が設け
られる。
がハイレベルのときに第1のCMOSスイッチの制御入
力端子をロウレベルにリセットさせておくことにより、
第1のCMOSスイッチをオン状態にさせている。した
がって、マッチ線のリセット状態より、ゲート回路G4
の出力信号がハイレベルであるため、上記第1のCMO
Sスイッチを通してハイレベルの出力信号がインバータ
回路N9の入力に伝えられる。この結果、インバータ回
路N9の出力信号がロウレベルとなって、Pチャンネル
型MOSFETQ112をオン状態にさせている。
の変化により、MOSFETQ111がオン状態となっ
て、マッチ線のプリチャージ動作が開始される。これに
応答して、第2のCMOSスイッチがオン状態となっ
て、上記インバータ回路N9のロウレベルの出力信号を
伝えて、第1のCMOSスイッチをオン状態に維持する
信号を形成している。マッチ線のプリチャージ電圧がゲ
ート回路G4の論理しきい値電圧VLTを超えると、イ
ンバータ回路N9の出力信号がロウレベルからハイレベ
ルに変化して、MOSFETQ112をオフ状態にさせ
る。これに対応してMOSFETQ12がオン状態なっ
て、不一致となったマッチ線の電荷は比較回路とディス
チャージ線を介してVSSに引き抜く。
出力信号のハイレベルが第2のCMOSスイッチを通し
て第1のCMOSスイッチの制御端子に伝えられて、か
かる第1のCMOSスイッチをオフ状態にさせる。した
がって、上記不一致となったマッチ線の電荷が比較回路
とディスチャージ線を介してVSSに引き抜かれて帰還
回路のゲート回路G4がそれに応答して出力信号を再び
ハイレベルにしても、上記第1のCMOSスイッチのオ
フ状態によりプリチャージを再開させるような信号が形
成されない。言い換えるならば、上記不一致により誤っ
てプリチャージ動作が開始させてしまうことはない。
重複して設定されていると、そのままではメモリ回路の
ワード線が重複して選択され、その結果として誤って検
索データが出力されてしまうという問題が生じる。この
ような重複選択を回避するためには重複選択検出回路を
設けることが必要であるが、この実施例のように256
個×4のような多くのキー情報を記憶できるようなもの
では、論理回路により実現することが困難となる。仮に
それを論理回路で構成しようとすると、多数のゲート回
路が必要となって半導体集積回路装置の集積度が大幅に
低下してしまうので現実的でない。しかしながら、上記
のような重複選択検出回路がないと、セットされたキー
情報の管理が複雑になり使い勝手が悪くなる。そこで、
本願発明者等においては、簡単な回路構成でマルチヒッ
ト検出機能を実現することを考えた。
出回路の一実施例の基本的回路図が示されている。シグ
ナルデータ線とリファレンスデータ線からなる2つの信
号線に対して、前記CAMのマッチ検出回路の出力信号
が伝えられるヒットワード線が交差するように配置され
る。前記実施例のように256×4列からなるCAMに
おいては、256×4(=1024)個のマッチ検出回
路が設けられ、それぞれに対応してヒットワード線は1
024本から構成される。
線との交点には、ゲートが上記ヒットワード線に接続さ
れ、ドレインがシグナルデータ線に共通に接続され、ソ
ースが回路の接地電位点に接続されたMOSFETが設
けられる。これらのMOSFETは、そのゲート幅(チ
ャネル幅)がWnのように設定される。上記シグナルデ
ータ線とリファレンスデータ線との配線容量CLを等し
くするために、リァレンスデータ線側にも上記同様なゲ
ート幅がWnに形成されたMOSFETのドレインが接
続される。これらのMOSFETは、リファレンスデー
タ線にドレイン容量を接続するものであればよいので、
ゲートとソースを回路の接地電位に接続して定常的にオ
フ状態にされる。
線に対して、ダミーヒットワード線が設けられる。この
ダミーヒットワード線とリファレンスデータ線との交点
には、ゲートが上記ダミーヒットワード線に接続され、
ドレインがリファレンスデータ線に共通に接続され、ソ
ースが回路の接地電位点に接続されたMOSFETが設
けられる。これらのMOSFETは、そのゲート幅(チ
ャネル幅)が3/2Wnのように前記ヒットワード線に
設けられるMOSFETに比べて、1.5倍のゲート幅
を持つようにされる。上記シグナルデータ線とリファレ
ンスデータ線との配線容量CLを等しくするために、シ
グナルデータ線側にも上記同様にゲート幅が3/2Wn
に形成されたMOSFETのドレインが接続される。こ
れらのMOSFETは、リファレンスデータ線にドレイ
ン容量を接続するものであればよいので、ゲートとソー
スを回路の接地電位に接続して定常的にオフ状態にされ
る。
タ線には、プリチャージ回路と差動アンプが設けられ
る。プリチャージ回路は、制御信号に応答してシグナル
データ線とリファレンスデータ線の配線容量CLに、例
えば電源電圧VDDのようなプリチャージ電圧を供給す
る。差動アンプは、制御信号により活性化されて上記シ
グナルデータ線とリファレンスデータ線の電位差に対応
したマルチヒット検出出力を形成する。
作原理を説明するための波形図が示されている。例えば
CAMがプリチャージ動作のときに、前記プリチャージ
回路によりシグナルデータ線及びリファレンスデータ線
を電源電圧VDDのようなハイレベルにプリチャージし
て置く。前記CAMにおいて、マッチ線のレベル判定出
力タイミングに対応して、つまりヒットワード線の立ち
上がりに対応してダミーヒットワード線もハイレベルに
立ち上げる。
いてヒット信号が出力されると、それに対応した1つの
ヒットワード線が選択状態となり、上記ゲート幅がWn
にされた1つのMOSFETがオン状態となり、VDD
にプリチャージされたシグナルデータ線をロウレベルに
引き抜く。これと同時に、ダミーヒットワード線の選択
状態により、上記ゲート幅が3/2Wnにされた1つの
MOSFETがオン状態となり、VDDにプリチャージ
されたリファレンスデータ線をロウレベルに引き抜く。
上記のようにリファレンスデータ線のMOSFETの方
がゲート幅が1.5倍も大きく形成されて、大きなコン
ダクタンスを持つようにされる。この結果、リファレン
スデータ線のロウレベルの引き抜き速度がシグナルデー
タ線より速くなってΔVe1とΔVrm(=3/2ΔVe1)
ような電位差が生じる。
いてヒット信号が出力されると、それに対応した2つの
ヒットワード線が選択状態となり、上記ゲート幅がWn
にされた2つのMOSFETがオン状態となり、VDD
にプリチャージされたシグナルデータ線をロウレベルに
引き抜く。したがって、この場合にはシグナルデータ線
をロウレベルに引き抜くMOSFETのゲート幅が2W
nとなり、リファレンスデータ線のMOSFETのゲー
ト幅1.5Wnに対して大きなゲート幅のMOSFET
でディスチャージを行なうこととなり、シグナルデータ
線のロウレベルの引き抜き速度がリファレンスデータ線
より速くなってΔVrmとΔVe2(=2ΔVe1)ような電
位差が生じる。2本以上のヒットワード線が選択される
と、更にシグナルデータ線の引き抜きは速くなる。
ルの変化を、リファレンスデータ線のロウレベルへの変
化電圧を参照電圧として、差動アンプでセンスすること
により、1つのヒットワード線が選択された、あるいは
2本以上のヒットワード線が選択されたかを判定するこ
とができる。この実施例回路では、シグナルデータ線及
びリファレンスデータ線からなる2つの信号線と、それ
に交差するようマッチ検出回路の出力信号を伝えるヒッ
トワード線及びダミーヒットワード線を設け、それぞれ
の交点に上記のようなMOSFETを配置するという簡
単な構成により、1024本の中でいずれか1本又は2
本以上のヒット信号が出力されたか検出することができ
る。
重複して設定されていると、それをマルチヒット検出回
路が検出することができるから、メモリ回路から出力を
無効にして、誤った検索データの出力を未然に防止する
ことができる。これにより、セットされたキー情報の管
理が簡便となり、複数のプログラム等によりCAMを共
通に使用してそれぞれのプログラムによりキー情報を独
自に設定するものとしても、同じキー情報がセットされ
ているか否かを簡単に判定することができるから、勝手
を良くすることができる。
他の動作波形図が示されている。前記のように1024
個ものヒットワード線のマルチヒットを検出する場合、
図7のように遠端ダミーヒットワード線を設け、それを
ハイレベルとしてダミーヒットメモリセルの付近で信号
振幅が現れてもその信号振幅が差動アンプの入力点に伝
わるまでにリファレンスデータ線自身の配線容量と配線
抵抗による遅延が生じてしまう。したがって、差動アン
プに隣接して設けられたヒットワード線が選択されて、
シグナルデータ線をディスチャージした場合には、配線
遅延時間を待たないと正しいマルチヒット検出動作が行
なわれない。つまり、1つのエントリー一致時でも、マ
ルチヒット検出信号が形成されてしまうので、マルチヒ
ットの判定タイミングを遅くする必要がある。
出回路の他の一実施例の回路図が示されている。この実
施例のマルチヒット検出回路は、動作速度と動作マージ
ンの改善に向けられている。つまり、差動アンプからみ
た配線容量と配線抵抗の積をほぼ同じにするため差動ア
ンプの入力をデータ線の中間とすることと、リファレン
ス用回路(ダミーヒットメモリセル)を分散させること
により、差動アンプの入力部での遅延時間差を低減し、
差動アンプに必要な電位差を確保することにある。
ファレンスデータ線ての中間部に差動アンプの入力電圧
取り出し口が設けられ、かかる入力電圧取り出し口の電
圧が上記シグナルデータ線及びリファレンスデータ線と
は別の配線により差動アンプの入力に導かれる。これと
共に、シグナルデータ線及びリファレンスデータ線の両
端及び中間部にダミーヒットメモリセルが設けられる。
つまり、ダミーヒットワード線にゲートが接続され、ド
レインがリファレンスデータ線に接続され、ソースが回
路の接地電位点に接続された1/2WnのMOSFET
が設けられる。それと同じMOSFETのドレインが上
記ダミーヒットワード線と交差部においてリファレンス
データ線に接続される。上記のような1/2WnのMO
SFETが両端と中間部の3箇所で3個設けられるか
ら、上記リファレンスデータ線をディスチャージさせる
MOSFETのゲート幅は、3/2Wnのようになる。
線の配線遅延の影響を小さくするにはダミーヒットメモ
リセルとヒットメモリセルのそれぞれから差動アンプま
での配線容量と配線抵抗の積をほぼ同じにする必要があ
る。このため、この実施例ではシグナルデータ線及びリ
ファレンスデータ線の配線長が1/2となる箇所を差動
アンプの入力とした。また、ダミーヒットワード線とど
のヒットワード線の組み合わせで選択されてもシグナル
データ線とリファレンスデータ線のタイミングを合わせ
るため、リファレンス用回路(ダミーヒットメモリセ
ル)を3箇所に分散させた。これによりダミーヒットワ
ード線で引き抜きくリファレンスデータ線とシグナルデ
ータ線の遅延時間差を低減することができる。
一実施例の回路図が示されている。この実施例では、動
作速度と動作マージンのいっそうの改善に向けられてい
る。この実施例では、シグナルデータ線及びリファレン
スデータ線の配線長が1/3となる箇所を差動アンプの
入力とした。これにより,遅延時間差については前記図
9の実施例と比べて低減できる。
一実施例の回路図が示されている。この実施例では、動
作速度と動作マージンの更なる改善に向けられている。
この実施例ではシグナルデータ線及びリファレンスデー
タ線の配線長が1/4となる箇所(つまり、ヒットワー
ド線を256本ずつに分けた)を入力電圧取り出し口と
して、上記データ線とは異なる配線により差動アンプの
入力に接続するものである。また、リファレンス用回路
を6箇所に分散させた。このような分散に対応して、個
々のMOSFETのゲート幅は1/4Wnのように小さ
く形成されるが、全体では6×1/4Wn=3/2Wn
のように前記実施例と同様となる。これにより、遅延時
間差については前記図10の実施例に比べてもいっそう
低減できる。
記の通りである。 (1) ラッチ回路の一対の相補の入出力ノードと相補
データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一対の伝送
ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持された一対
の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線のそれぞれ
の信号を受け、上記記憶情報と上記信号のいずれか一方
の相補信号において不一致のときに電流経路を形成する
比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を複数の相補
データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補データ線には
複数ビットからなる検索データを伝え、上記メモリセル
の伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複数の相補デ
ータ線に対応して配置されたワード線に共通に接続し、
上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記比較論理回
路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッチ線には、
論理しきい値電圧近傍にマッチ線をプリチャージし、上
記メモリセルの比較論理回路によりディスチャージされ
たか否かを上記論理しきい値電圧より判定するマッチ検
出回路を設けることにより、動作の高速化を図ることが
できるという効果が得られる。
路として、第1の動作タイミング信号に応答してマッチ
線のレベルを判定する第1の論理回路と、上記第1の論
理回路と同等の論理しきい値電圧を有する第2の論理回
路を用いて上記マッチ線のプリチャージレベル判定を行
なってプリチャージ動作を停止させることにより、プロ
セスバラツキに影響されないで、高い精度でのプリチャ
ージ電圧の設定と動作マージンの確保が可能になるとう
い効果が得られる。
ノードと相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行な
う一対の伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保
持された一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ
線のそれぞれの信号を受け、上記記憶情報と上記信号の
いずれか一方の相補信号において不一致のときに電流経
路を形成する比較論理回路を備えたメモリセルの複数個
を複数の相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補
データ線には複数ビットからなる検索データを伝え、上
記メモリセルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記
複数の相補データ線に対応して配置されたワード線に共
通に接続し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上
記比較論理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マ
ッチ線にはそれをプリチャージし、上記メモリセルの比
較論理回路によりディスチャージされたか否かを判定す
るマッチ検出回路を設け、上記マッチ検出回路の複数の
出力信号を、同等の容量値を持つようにされた第1と第
2信号線に対応して設けられたヒット信号線に伝え、上
記第1信号線と第1電位との間には上記ヒット信号線に
ゲートが接続された第1MOSFETを設け、上記第2
信号線と第1電位との間には、ダミーヒット信号線がゲ
ートに接続された第2MOSFETを設け、上記第1M
OSFETと第2MOSFETのコンダクタンスの比の
設定により、1つのヒット信号線にヒット信号が伝えら
れた場合と2以上のヒット信号線にヒット信号が伝えら
れた場合の第1信号線の電位変化の中間になるように第
2信号線を電位変化させて両者の電圧差をマルチヒット
検出回路で検出することにより、簡単な構成で使い勝手
のよいCAMを得ることができるという効果が得られ
る。
第2信号線を等距離に分割する1ないし複数の分岐点に
信号取り出し口が設け、かかる信号取り出し口を相互に
接続する配線により上記マルチヒット検出回路を接続
し、上記第2信号線の両端とその中央部に上記第2MO
SFETを分散して配置し、分散された第2MOSFE
Tのゲートの各々に対してダミーヒット信号を設けるよ
うにすることにより、動作の高速化と動作マージンの改
善を図ることができるという効果が得られる。
は、上記メモリセルの比較論理回路によりディスチャー
ジされたか否か論理しきい値電圧より判定する論理回路
の近傍にプリチャージするプリチャージ回路を設けるこ
とにより、動作の高速化を図ることができるという効果
が得られる。
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、マッ
チ検出回路の帰還回路は、前記のようにマッチ線のプリ
チャージ電圧を、そのレベル判定を行なう論理回路と同
じ論理回路を用いて、前記のようなプリチャージを終了
させ、マッチ線のCAMの判定結果に影響されないでプ
リチャージの終了を維持するものであれば何であっても
よい。また、上記マルチヒット検出回路は、前記のよう
なCAMのヒット数を検出するもの他、複数の信号のう
ち1かそれ以上の信号が形成されるかを判定する回路に
広く利用できる。この発明は、CAMや上記マルチヒッ
ト検出回路を備えた各種半導体集積回路装置に広く利用
できる。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。ラッチ回路の一対の相補の入出力ノー
ドと相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一
対の伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持さ
れた一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線の
それぞれの信号を受け、上記記憶情報と上記信号のいず
れか一方の相補信号において不一致のときに電流経路を
形成する比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を複
数の相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補デー
タ線には複数ビットからなる検索データを伝え、上記メ
モリセルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複数
の相補データ線に対応して配置されたワード線に共通に
接続し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記比
較論理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッチ
線には、論理しきい値電圧近傍にマッチ線をプリチャー
ジし、上記メモリセルの比較論理回路によりディスチャ
ージされたか否かを上記論理しきい値電圧より判定する
マッチ検出回路を設けることにより、動作の高速化を図
ることができる。
相補データ線対との間で記憶情報の伝達を行なう一対の
伝送ゲートMOSFET、上記ラッチ回路に保持された
一対の相補の記憶情報と上記一対の相補データ線のそれ
ぞれの信号を受け、上記記憶情報と上記信号のいずれか
一方の相補信号において不一致のときに電流経路を形成
する比較論理回路を備えたメモリセルの複数個を複数の
相補データ線にそれぞれ設け、上記複数の相補データ線
には複数ビットからなる検索データを伝え、上記メモリ
セルの伝送ゲートMOSFETのゲートを上記複数の相
補データ線に対応して配置されたワード線に共通に接続
し、上記ワード線と平行にマッチ線を設けて上記比較論
理回路をワイヤード論理構成に接続し、上記マッチ線に
はそれをプリチャージし、上記メモリセルの比較論理回
路によりディスチャージされたか否かを判定するマッチ
検出回路を設け、上記マッチ検出回路の複数の出力信号
を、同等の容量値を持つようにされた第1と第2信号線
に対応して設けられたヒット信号線に伝え、上記第1信
号線と第1電位との間には上記ヒット信号線にゲートが
接続された第1MOSFETを設け、上記第2信号線と
第1電位との間には、ダミーヒット信号線がゲートに接
続された第2MOSFETを設け、上記第1MOSFE
Tと第2MOSFETのコンダクタンスの比の設定によ
り、1つのヒット信号線にヒット信号が伝えられた場合
と2以上のヒット信号線にヒット信号が伝えられた場合
の第1信号線の電位変化の中間になるように第2信号線
を電位変化させて両者の電圧差をマルチヒット検出回路
で検出することにより、簡単な構成で使い勝手のよいC
AMを得ることができる。
路構成図である。
路図である。
するための波形図である。
体的回路図である。
す具体的回路図である。
例を示す基本的回路図である。
するための波形図である。
図である。
実施例を示す回路図である。
一実施例を示す回路図である。
一実施例を示す回路図である。
を説明するためのタイミング図である。
路、N1〜N9…インバータ回路。
Claims (5)
- 【請求項1】 一対の相補の入出力ノードを持つラッチ
回路と、 上記ラッチ回路の一対の入出力ノードと相補データ線対
との間で記憶情報の伝達を行なう一対の伝送ゲートMO
SFETと、 上記ラッチ回路に保持された一対の相補の記憶情報と上
記一対の相補データ線のそれぞれの信号を受ける直列形
態にされた2組のMOSFETからなり、上記記憶情報
と上記信号のいずれか一方の相補信号において不一致の
ときに電流経路を形成する比較論理回路を備えたメモリ
セルを複数備え、 上記複数の相補データ線にはそれぞれ複数のメモリセル
が設けられ、上記複数の相補データ線には複数ビットか
らなる検索データが伝えられ、 上記メモリセルの伝送MOSFETのゲートは、上記複
数の相補データ線に対応して配置されたワード線に共通
に接続され、 上記ワード線と平行に設けられたマッチ線に上記比較論
理回路がワイヤード論理構成に接続され、 上記マッチ線には、論理しきい値電圧近傍にマッチ線を
プリチャージし、上記メモリセルの比較論理回路により
ディスチャージされたか否かを上記論理しきい値電圧よ
り判定するマッチ検出回路を設けている内容呼び出しメ
モリ回路を具備することを特徴とする半導体集積回路装
置。 - 【請求項2】 請求項1において、 上記マッチ検出回路は、 第1の動作タイミング信号に応答してマッチ線のレベル
を判定する第1の論理回路と、 上記第1の論理回路と同等の論理しきい値電圧を有する
第2の論理回路により構成され、上記マッチ線のレベル
判定を行なうレベル判定回路と、 上記レベル判定回路の出力信号と第2タイミング信号と
を受けて、上記マッチ線にプリチャージ電流を供給する
第1スイッチMOSFETとを含むことを特徴とする半
導体集積回路装置。 - 【請求項3】 一対の相補の入出力ノードを持つラッチ
回路と、 上記ラッチ回路の一対の入出力ノードと相補データ線対
との間で記憶情報の伝達を行なう一対の伝送ゲートMO
SFETと、 上記ラッチ回路に保持された一対の相補の記憶情報と上
記一対の相補データ線のそれぞれの信号を受ける直列形
態にされた2組のMOSFETからなり、上記記憶情報
と上記信号のいずれか一方の相補信号において不一致の
ときに電流経路を形成する比較論理回路を備えたメモリ
セルを複数備え、 上記複数の相補データ線にはそれぞれ複数のメモリセル
が設けられ、上記複数の相補データ線には複数ビットか
らなる検索データが伝えられ、 上記メモリセルの伝送ゲートは、上記複数の相補データ
線と交差するように配置されたワード線に共通に接続さ
れ、 上記ワード線と平行に設けられたマッチ線に上記比較論
理回路がワイヤード論理構成に接続され、 上記マッチ線には、それをプリチャージし、上記メモリ
セルの比較論理回路によりディスチャージされたか否か
を検出するマッチ検出回路が設けられ、 上記マッチ検出回路の複数の出力信号は、同等の容量値
を持つようにされた第1と第2信号線に対応して設けら
れたヒット信号線に伝えられ、 上記第1信号線と第1電位との間には上記ヒット信号線
にゲートが接続された第1MOSFETが設けられ、 上記第2信号線と第1電位との間には、ダミーヒット信
号線がゲートに接続された第2MOSFETが設けら
れ、 上記第1信号線と第2信号線には、それをプリチャージ
し、その電圧差を検出するマルチヒット検出回路が設け
られ、 上記第1MOSFETと第2MOSFETのコンダクタ
ンスの比の設定により、1つのヒット信号線にヒット信
号が伝えられた場合と2以上のヒット信号線にヒット信
号が伝えられた場合の第1信号線の電位変化の中間にな
るように第2信号線を電位変化させてなる内容呼び出し
メモリを具備することを特徴とする半導体集積回路装
置。 - 【請求項4】 請求項3において、 上記第1信号線と第2信号線を等距離に分割する1ない
し複数の分岐点に信号取り出し口が設けられ、かかる信
号取り出し口を相互に接続する配線により上記マルチヒ
ット検出回路を接続してなり、 上記第2信号線の両端とその中央部に上記第2MOSF
ETを分散して配置し、分散された第2MOSFETの
ゲートの各々に対してダミーヒット信号を設けてなるこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。 - 【請求項5】 請求項3又は4において、 上記マッチ線には、上記メモリセルの比較論理回路によ
りディスチャージされたか否か論理しきい値電圧より判
定する論理回路の近傍にプリチャージするプリチャージ
回路が設けられてなることを特徴とする半導体集積回路
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000181855A JP2001357678A (ja) | 2000-06-16 | 2000-06-16 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000181855A JP2001357678A (ja) | 2000-06-16 | 2000-06-16 | 半導体集積回路装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
JP (1) | JP2001357678A (ja) |
Cited By (2)
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