JP2001356357A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2001356357A
JP2001356357A JP2000180203A JP2000180203A JP2001356357A JP 2001356357 A JP2001356357 A JP 2001356357A JP 2000180203 A JP2000180203 A JP 2000180203A JP 2000180203 A JP2000180203 A JP 2000180203A JP 2001356357 A JP2001356357 A JP 2001356357A
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JP
Japan
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bus line
liquid crystal
crystal display
display device
data bus
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Application number
JP2000180203A
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Japanese (ja)
Inventor
Shogo Hayashi
省吾 林
Shuntaro Kosugi
俊太郎 小杉
Takeshi Kaneshiro
毅 金城
Makoto Kitsuki
誠 橘木
Yoichi Hirose
陽一 広瀬
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/5442Marks applied to semiconductor devices or parts comprising non digital, non alphanumeric information, e.g. symbols

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Testing Of Short-Circuits, Discontinuities, Leakage, Or Incorrect Line Connections (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device capable of contributing to the improving of productivity and the improving of manufacturing yield. SOLUTION: This display device has data bus lines 18 formed on a substrate, gate bus lines 20 intersecting the data bus lines 18 and measurement patterns 24 which consists of the electrically conductive film identical to that for the gate bus line and exist along directions intersecting the gate bus lines 20.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に高い生産性や高い生産歩留りを実現しうる液晶
表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly, to a liquid crystal display capable of realizing high productivity and a high production yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、薄くて軽量であるとと
もに、低電圧で駆動できて消費電流が少ないという長所
があり、近年、パーソナルコンピュータのディスプレイ
やテレビ等に広く用いられるようになっている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have the advantages that they are thin and lightweight, can be driven at a low voltage and consume little current, and have recently been widely used in displays of personal computers and televisions. .

【0003】従来の液晶表示装置を示す平面図を図25
を用いて説明する。
FIG. 25 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device.
This will be described with reference to FIG.

【0004】図25に示すように、ガラス基板(図示せ
ず)上には、マトリクス状に画素電極110が形成され
ている。画素電極110には、TFT(Thin Film Tran
sistor)112のソース電極114が接続されている。
TFT112のドレイン電極116は、紙面上下方向に
延在するデータバスライン118に接続されている。T
FT112のソース/ドレイン電極114、116はデ
ータバスライン118と同一の導電膜により構成されて
いる。
[0005] As shown in FIG. 25, pixel electrodes 110 are formed in a matrix on a glass substrate (not shown). The pixel electrode 110 has a TFT (Thin Film Tran)
The source electrode 114 of the sistor 112 is connected.
The drain electrode 116 of the TFT 112 is connected to a data bus line 118 extending vertically in the drawing. T
The source / drain electrodes 114 and 116 of the FT 112 are formed of the same conductive film as the data bus line 118.

【0005】データバスライン118に交差するよう
に、ゲートバスライン120が形成されている。ゲート
バスライン120は、TFT112のゲート電極を兼ね
ている。ゲートバスライン120に沿って、蓄積容量バ
スライン122が形成されている。
A gate bus line 120 is formed to cross data bus line 118. The gate bus line 120 also serves as a gate electrode of the TFT 112. A storage capacitor bus line 122 is formed along the gate bus line 120.

【0006】このような液晶表示装置は、一般に、ステ
ップ式投影露光装置等を用いて、ガラス基板上にパター
ンを順次露光することにより形成されている。
[0006] Such a liquid crystal display device is generally formed by sequentially exposing a pattern on a glass substrate using a step-type projection exposure apparatus or the like.

【0007】しかし、ステッパ露光の際に、パターンの
重ね合わせにずれが生じる場合があり、かかる場合に
は、良好な表示品質の液晶表示装置を提供することがで
きない。
However, during stepper exposure, there is a case where a deviation occurs in the superposition of patterns, and in such a case, a liquid crystal display device having good display quality cannot be provided.

【0008】このため、従来は、ゲートバスラインとソ
ース/ドレイン電極との位置関係を測定することによ
り、ステッパ露光の際におけるパターンの重ね合わせの
ずれを検査していた。
For this reason, conventionally, the positional deviation between the gate bus lines and the source / drain electrodes has been measured to check the displacement of the pattern superposition during the stepper exposure.

【0009】具体的には、図26(a)に示すように、
ある画素のI−I′間においてゲートバスライン120
とソース/ドレイン電極114、116との位置関係を
測定し、更に、他の画素のJ−J′間においてゲートバ
スライン120とソース/ドレイン電極114、116
との位置関係を測定し、更に数カ所の画素において同様
にして位置関係を測定し、これらの測定結果を比較する
ことによりパターンの重ね合わせのずれを検査してい
た。
More specifically, as shown in FIG.
A gate bus line 120 is provided between II 'of a certain pixel.
The positional relationship between the gate bus line 120 and the source / drain electrodes 114 and 116 is measured between JJ ′ of another pixel.
And the positional relationship was also measured in several pixels in the same manner, and by comparing these measurement results, the displacement of the pattern superposition was inspected.

【0010】そして、パターンの重ね合わせのずれに応
じてステップ式投影露光装置等を随時調整し、パターン
の重ね合わせのずれを小さく保つことにより、液晶表示
装置の表示品位の確保を図っていた。
The display quality of the liquid crystal display device is ensured by adjusting the step-type projection exposure apparatus or the like as needed in accordance with the shift of the pattern superposition and keeping the shift of the pattern superposition small.

【0011】また、近時では、液晶表示装置の大型化・
微細化に伴い、バスラインの断線や短絡が生じやすくな
っている。バスラインの断線や短絡の検査技術及び修復
技術を以下に説明する。
Recently, liquid crystal display devices have become larger and larger.
With miniaturization, disconnection and short-circuit of bus lines are likely to occur. An inspection technique and a repair technique for disconnection and short circuit of the bus line will be described below.

【0012】図27に示すように、データバスライン1
18a、118cは、表示領域128の外側に形成され
た周辺接続ライン132bに接続されている。また、デ
ータバスライン118b、118dは、周辺接続ライン
132aに接続されている。周辺接続ライン132a、
132bには、それぞれ電圧印加端子134a、134
bが接続されている。また、データバスライン118a
〜118dには、それぞれ電圧測定端子144a〜14
4dが接続されている。
As shown in FIG. 27, data bus line 1
18a and 118c are connected to a peripheral connection line 132b formed outside the display area 128. The data bus lines 118b and 118d are connected to the peripheral connection line 132a. Peripheral connection line 132a,
132b has voltage application terminals 134a and 134, respectively.
b is connected. Also, the data bus line 118a
To 118d have voltage measuring terminals 144a to 144d, respectively.
4d is connected.

【0013】表示領域128の外側には、データバスラ
イン118a〜118dに交差するリペア配線130
a、130bが形成されている。リペア配線130a
は、周辺接続ライン132aに接続されている。
Outside the display area 128, a repair wiring 130 crossing the data bus lines 118a to 118d is provided.
a and 130b are formed. Repair wiring 130a
Are connected to the peripheral connection line 132a.

【0014】ガラス基板(図示せず)の縁部には、プリ
ント基板(図示せず)が設けられている。プリント基板
には、配線146が形成されている。配線146は、ガ
ラス基板上に延在しており、リペア配線130aとリペ
ア配線130bとに交差している。
A printed board (not shown) is provided at an edge of the glass substrate (not shown). The wiring 146 is formed on the printed board. The wiring 146 extends on the glass substrate and crosses the repair wiring 130a and the repair wiring 130b.

【0015】データバスライン118a〜118dの検
査は、電圧印加端子134aに例えば+10Vの電圧を
印加し、電圧印加端子134bに例えば−10Vの電圧
を印加し、電圧測定端子144a〜144dで電圧を測
定することにより行われる。
In the inspection of the data bus lines 118a to 118d, a voltage of, for example, +10 V is applied to the voltage applying terminal 134a, a voltage of, for example, -10V is applied to the voltage applying terminal 134b, and the voltages are measured at the voltage measuring terminals 144a to 144d. It is done by doing.

【0016】データバスライン118a〜118dに特
段の異常がない場合には、電圧測定端子144b、14
4dで例えば+10Vの電圧が測定され、電圧測定端子
144a、144cで例えば−10Vの電圧が測定され
る。
If there is no particular abnormality in the data bus lines 118a to 118d, the voltage measurement terminals 144b, 14b
At 4d, for example, a voltage of +10 V is measured, and at the voltage measurement terminals 144a and 144c, for example, a voltage of -10 V is measured.

【0017】ここで隣接するゲートバスライン118a
〜118dに異なる電圧を印加するのは、ゲートバスラ
イン118a〜118dの短絡を検出するためである。
即ち、図28に示すように、データバスライン118a
〜118dに同じ電圧を印加した場合には、データバス
ライン118a〜118dに短絡が生じていても、電圧
測定端子144a〜144dには正常の場合と同様の電
圧が測定されるため、短絡を検出することはできない。
これに対し、隣接するデータバスライン118a〜11
8dに異なる電圧を印加した場合には、図29に示すよ
うにデータバスライン118aとデータバスライン11
8bとの間で短絡が生じていると、正常な場合に測定さ
れる電圧と異なる電圧が電圧測定端子118a〜118
dで測定されるため、ゲートバスライン118a〜11
8dに短絡が生じていることを検出することができる。
Here, the adjacent gate bus line 118a
The reason why different voltages are applied to .about.118d is to detect a short circuit of the gate bus lines 118a to 118d.
That is, as shown in FIG.
When the same voltage is applied to the data bus lines 118a to 118d, the same voltage as in the normal case is measured at the voltage measurement terminals 144a to 144d even if a short circuit occurs in the data bus lines 118a to 118d. I can't.
On the other hand, adjacent data bus lines 118a to 118a
When a different voltage is applied to the data bus line 118d and the data bus line 11a, as shown in FIG.
8b, a voltage different from the voltage measured in the normal case is applied to the voltage measurement terminals 118a to 118b.
d, the gate bus lines 118a-11
It is possible to detect that a short circuit has occurred in 8d.

【0018】一方、電圧測定端子144a〜144dで
測定される電圧が例えば0Vの場合には、対応するデー
タバスライン118a〜118dに断線が生じていると
判断することができる。例えば、図30に示すようにデ
ータバスライン118cで断線が生じている場合には、
電圧測定端子144cの電圧が0Vとなるため、データ
バスライン118cに断線が生じていると判断すること
ができる。
On the other hand, when the voltage measured at the voltage measuring terminals 144a to 144d is, for example, 0 V, it can be determined that the corresponding data bus lines 118a to 118d are disconnected. For example, if the data bus line 118c is disconnected as shown in FIG.
Since the voltage of the voltage measurement terminal 144c becomes 0 V, it can be determined that the data bus line 118c is disconnected.

【0019】このような断線が生じている場合には、以
下のようにして断線を修復する。
When such a disconnection has occurred, the disconnection is repaired as follows.

【0020】即ち、まず、データバスライン118cと
リペア配線130aとが交差する領域148にレーザ照
射を行うことにより、データバスライン118cとリペ
ア配線130aとを接続する。また、データバスライン
118cとリペア配線130bとが交差する領域150
にレーザ照射を行うことにより、データバスライン11
8cとリペア配線130bとを接続する。
That is, first, the data bus line 118c and the repair wiring 130a are connected by irradiating a laser to a region 148 where the data bus line 118c and the repair wiring 130a intersect. In addition, a region 150 where the data bus line 118c and the repair wiring 130b intersect with each other.
By performing laser irradiation on the data bus line 11
8c and the repair wiring 130b.

【0021】また、配線146とリペア配線130aと
が交差する領域152にレーザ照射を行うことにより、
配線146とリペア配線130aとを接続する。また、
配線146とリペア配線130bとが交差する領域15
4にレーザ照射を行うことにより、配線146とリペア
配線130bとを接続する。こうして、リペア配線13
0a、130b及び配線146により、断線したデータ
バスライン118cを修復する。
By irradiating a laser to the region 152 where the wiring 146 and the repair wiring 130a intersect,
The wiring 146 is connected to the repair wiring 130a. Also,
Region 15 where wiring 146 and repair wiring 130b intersect
The wiring 146 is connected to the repair wiring 130b by irradiating the wiring 4 with a laser. Thus, the repair wiring 13
The disconnected data bus line 118c is repaired by the lines 0a and 130b and the wiring 146.

【0022】ところで、この状態では、周辺接続ライン
132aと周辺接続ライン132bとが、データバスラ
イン118cとリペア配線130aとを介して短絡状態
となっているため、この後の検査を行うことができな
い。
In this state, since the peripheral connection line 132a and the peripheral connection line 132b are short-circuited via the data bus line 118c and the repair wiring 130a, the subsequent inspection cannot be performed. .

【0023】そこで、周辺接続ライン132の近傍の箇
所156においてリペア配線130aを切断し、これに
より周辺接続ライン132aと周辺接続ライン132b
との短絡状態を解消する。こうして、この後の検査を行
うことが可能となる。
Therefore, the repair wiring 130a is cut off at a location 156 near the peripheral connection line 132, whereby the peripheral connection line 132a and the peripheral connection line 132b are cut.
Eliminates the short circuit condition with Thus, the subsequent inspection can be performed.

【0024】また、液晶表示装置に用いられるガラス基
板は、一般にマザーガラスを切断することにより得られ
る。しかし、マザーガラスから切断した状態のままでは
切断面から割れや欠けが生じる場合があり、また、切断
面が鋭利であるため作業者の負傷を招くこともある。こ
のため、ガラス基板の切断面や角には、面取りが行われ
ている。
A glass substrate used for a liquid crystal display device is generally obtained by cutting a mother glass. However, if the cut surface is cut from the mother glass, the cut surface may be cracked or chipped, and the sharp cut surface may injure the operator. For this reason, chamfering is performed on cut surfaces and corners of the glass substrate.

【0025】図31は、ガラス基板172とガラス基板
174とを対向させることにより構成した液晶表示装置
の平面図である。ガラス基板172及びガラス基板17
4の切断面には、面取りが行われている。また、ガラス
基板172の角も、面取りが行われている。
FIG. 31 is a plan view of a liquid crystal display device in which a glass substrate 172 and a glass substrate 174 are opposed to each other. Glass substrate 172 and glass substrate 17
The cut surface of No. 4 is chamfered. The corners of the glass substrate 172 are also chamfered.

【0026】このような液晶表示装置では、ガラス基板
172の角が面取りされているので、ガラス基板の割れ
や欠けを防止することができ、作業者が負傷するのを回
避することができる。
In such a liquid crystal display device, since the corners of the glass substrate 172 are chamfered, it is possible to prevent the glass substrate from being cracked or chipped, and to prevent the operator from being injured.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図25
に示す従来の液晶表示装置では、ゲートバスライン12
0に垂直な方向におけるパターンの重ねあわせのずれは
検査できるものの、ゲートバスライン120に平行な方
向におけるパターンの重ね合わせのずれは検査できなか
った。このため、ゲートバスライン120に平行な方向
にパターンの重ね合わせのずれが生じていても、かかる
ずれを早期に発見することができず、液晶表示装置の製
造歩留りが低くなってしまっていた。
However, FIG.
In the conventional liquid crystal display device shown in FIG.
Although the displacement of the pattern overlap in the direction perpendicular to 0 can be inspected, the displacement of the pattern overlap in the direction parallel to the gate bus line 120 cannot be inspected. For this reason, even if there is a shift in the pattern superposition in a direction parallel to the gate bus line 120, such a shift cannot be detected early, and the manufacturing yield of the liquid crystal display device has been reduced.

【0028】また、図30に示すようにしてデータバス
ライン118cの断線を修復する場合には、切断すべき
リペア配線130aの近傍に近似した形状の配線が多数
形成されているため、切断すべきリペア配線130aを
特定するのに長時間を要し、生産性が低くなる要因とな
っていた。また、誤って他の配線を切断してしまうこと
があり、製造歩留りが低くなる要因となっていた。
When the disconnection of the data bus line 118c is to be repaired as shown in FIG. 30, a large number of wirings having a similar shape are formed near the repair wiring 130a to be cut. It takes a long time to specify the repair wiring 130a, which is a factor that lowers productivity. In addition, other wiring may be cut by mistake, which has been a factor of lowering the manufacturing yield.

【0029】また、従来は、ガラス基板の面取り量を管
理する技術が未確立であったため、図32(a)に斜線
で示すように、ガラス基板172の角の片側だけ削りす
ぎてしまうことがあり、かかる場合には、図32(b)
に示すようにガラス基板172に欠け175が生じてし
まうことがあった。また、図33(a)に斜線で示すよ
うに、ガラス基板172の角175を削り過ぎてしまっ
た場合には、ガラス基板172を治具に固定できなくな
ることがあった。また、研磨刃を回転させて面取りを行
う場合には、図33(b)に示すような形状に面取りさ
れてしまうこともあり、かかる場合には、ガラス基板1
72に欠けが生じてしまいやすかった。このようなガラ
ス基板の割れや欠けは、液晶表示装置の製造歩留りが低
くなる要因となっていた。
Conventionally, a technique for controlling the amount of chamfering of a glass substrate has not been established yet, so that one side of a corner of the glass substrate 172 is excessively shaved as shown by hatching in FIG. Yes, in such a case, FIG.
As shown in FIG. 7, a chip 175 may be formed in the glass substrate 172. Further, as shown by hatching in FIG. 33 (a), if the corner 175 of the glass substrate 172 is excessively cut, the glass substrate 172 may not be fixed to the jig in some cases. Further, when the chamfer is performed by rotating the polishing blade, the chamfer may be formed into a shape as shown in FIG.
72 was easily chipped. Such cracking or chipping of the glass substrate has been a factor in lowering the production yield of the liquid crystal display device.

【0030】本発明の目的は、生産性の向上や製造歩留
りの向上に寄与しうる液晶表示装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device which can contribute to improvement in productivity and production yield.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】上記目的は、基板上に形
成されたデータバスラインと、前記データバスラインに
交差するゲートバスラインと、前記ゲートバスラインと
同一の導電膜より成り、前記ゲートバスラインと交差す
る方向に延在する測定パターンとを有することを特徴と
する液晶表示装置により達成される。これにより、デー
タバスラインに交差する方向に延在する測定パターンが
形成されているので、ゲートバスラインに垂直な方向に
おけるパターンの重ね合わせのずれのみならず、ゲート
バスラインに平行な方向におけるパターンの重ね合わせ
のずれをも測定することができる。
The above object is achieved by a data bus line formed on a substrate, a gate bus line intersecting the data bus line, and the same conductive film as the gate bus line. This is achieved by a liquid crystal display device having a measurement pattern extending in a direction intersecting the bus line. As a result, since the measurement pattern extending in the direction intersecting the data bus line is formed, not only the misalignment of the pattern in the direction perpendicular to the gate bus line but also the pattern in the direction parallel to the gate bus line is performed. Can also be measured.

【0032】また、上記目的は、基板上に形成されたデ
ータバスラインと、前記データバスラインに交差するゲ
ートバスラインと、前記ゲートバスラインと同一の導電
膜より成り、前記ゲートバスラインに沿って延在する蓄
積容量バスラインと、前記蓄積容量バスラインと一体に
形成され、前記ゲートバスラインと交差する方向に延在
する測定パターンとを有することを特徴とする液晶表示
装置により達成される。これにより、データバスライン
に交差する方向に延在する測定パターンが形成されてい
るので、ゲートバスラインに垂直な方向におけるパター
ンの重ね合わせのずれのみならず、ゲートバスラインに
平行な方向におけるパターンの重ね合わせのずれをも測
定することができる。
Further, the object is to form a data bus line formed on a substrate, a gate bus line crossing the data bus line, and the same conductive film as the gate bus line. The present invention is achieved by a liquid crystal display device comprising: a storage capacitor bus line extending in a vertical direction; and a measurement pattern formed integrally with the storage capacitor bus line and extending in a direction crossing the gate bus line. . As a result, since the measurement pattern extending in the direction intersecting the data bus line is formed, not only the misalignment of the pattern in the direction perpendicular to the gate bus line but also the pattern in the direction parallel to the gate bus line is performed. Can also be measured.

【0033】また、上記目的は、表示領域の外側で配線
を切断することにより、検査を行うことが可能となる液
晶表示装置において、前記配線を切断すべき箇所を特定
する印が形成されていることを特徴とする液晶表示装置
により達成される。これにより、切断すべき領域が視覚
により把握できるようになっているので、切断すべき配
線を迅速に特定でき、また誤って他の配線を切断してし
まうのを防止することができる。
In addition, the object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which an inspection can be performed by cutting a wiring outside a display area, in which a mark for specifying a place where the wiring should be cut is formed. This is achieved by a liquid crystal display device characterized in that: As a result, the region to be cut can be visually grasped, so that the wiring to be cut can be quickly specified, and it is possible to prevent another wiring from being cut by mistake.

【0034】また、上記目的は、第1の基板と、前記第
1の基板に対向する第2の基板と、前記第1の基板と前
記第2の基板との間に封入された液晶材料とを有する液
晶表示装置において、前記第1の基板及び/又は前記第
2の基板の角の近傍に、面取り量を測定しうる印が形成
されていることを特徴とする液晶表示装置により達成さ
れる。これにより、ガラス基板の角に印が形成されてい
るため、面取り量を把握しながら面取りを行うことがで
きる。また、面取りが完了した後に、面取り量が規格に
適合するか否かを容易に検査することができる。
[0034] Further, the object is to provide a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal material sealed between the first substrate and the second substrate. Is achieved by a liquid crystal display device characterized in that a mark capable of measuring a chamfer amount is formed near a corner of the first substrate and / or the second substrate. . Thereby, since the mark is formed at the corner of the glass substrate, the chamfer can be performed while grasping the chamfer amount. Further, after the completion of the chamfering, it is possible to easily inspect whether or not the chamfering amount conforms to the standard.

【0035】[0035]

【発明の実施の形態】[第1実施形態]本発明の第1実
施形態による液晶表示装置を図1及び図2を用いて説明
する。図1は、本実施形態による液晶表示装置を示す平
面図である。図2は、本実施形態による液晶表示装置を
拡大して示した平面図である。
[First Embodiment] A liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view showing the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 2 is an enlarged plan view of the liquid crystal display device according to the present embodiment.

【0036】図1に示すように、ガラス基板(図示せ
ず)上には、マトリクス状に画素電極10が形成されて
いる。画素電極10には、TFT12のソース電極14
が接続されている。
As shown in FIG. 1, pixel electrodes 10 are formed in a matrix on a glass substrate (not shown). The pixel electrode 10 has a source electrode 14 of the TFT 12
Is connected.

【0037】TFT12のドレイン電極16は、紙面上
下方向に延在するデータバスライン18に接続されてい
る。なお、TFT12のソース電極16及びドレイン電
極14は、データバスライン18と同一の導電膜により
構成されている。
The drain electrode 16 of the TFT 12 is connected to a data bus line 18 extending in the vertical direction of the drawing. Note that the source electrode 16 and the drain electrode 14 of the TFT 12 are formed of the same conductive film as the data bus line 18.

【0038】データバスライン18に交差するように、
ゲートバスライン20が形成されている。ゲートバスラ
イン20は、TFT12のゲート電極を兼ねている。
To cross the data bus line 18,
A gate bus line 20 is formed. The gate bus line 20 also serves as a gate electrode of the TFT 12.

【0039】ゲートバスライン20に沿って、蓄積容量
バスライン22が形成されている。蓄積容量バスライン
22は、ゲートバスライン20と同一の導電膜により構
成されている。
A storage capacitor bus line 22 is formed along the gate bus line 20. The storage capacitor bus line 22 is made of the same conductive film as the gate bus line 20.

【0040】蓄積容量バスライン22には、ゲートバス
ライン20の延在方向に交差する方向に延在する測定パ
ターン24が、一体に形成されている。測定パターン2
4は、蓄積容量バスライン22及びゲートバスライン2
0と同一の導電膜により構成されている。
A measurement pattern 24 extending in a direction intersecting the direction in which the gate bus line 20 extends is formed integrally with the storage capacitor bus line 22. Measurement pattern 2
4 is a storage capacitor bus line 22 and a gate bus line 2
0 and the same conductive film.

【0041】このように構成された本実施形態による液
晶表示装置は、ステッパ露光の際におけるパターンの重
ね合わせのずれを以下のようにして測定し得る。図2
(a)は、本実施形態による液晶表示装置の一の領域を
拡大した平面図であり、図2(b)は、本実施形態によ
る液晶表示装置の他の領域を拡大した平面図である。な
お、図2(a)及び図2(b)では、画素電極が省略さ
れている。
The liquid crystal display device according to the present embodiment configured as described above can measure the displacement of the pattern superposition during the stepper exposure as follows. FIG.
FIG. 2A is an enlarged plan view of one region of the liquid crystal display device according to the present embodiment, and FIG. 2B is an enlarged plan view of another region of the liquid crystal display device according to the present embodiment. Note that pixel electrodes are omitted in FIGS. 2A and 2B.

【0042】まず、画像処理型の寸法測定器を用い、あ
る画素のA−A′間におけるソース/ドレイン電極1
4、16とゲートバスライン20との位置関係を測定す
る。
First, a source / drain electrode 1 between A and A 'of a certain pixel is measured using an image processing type dimension measuring device.
The positional relationship between 4, 6 and the gate bus line 20 is measured.

【0043】次に、同様にして、他の画素のB−B′間
におけるソース/ドレイン電極14、16とゲートバス
ライン20との位置関係を測定する。
Next, similarly, the positional relationship between the source / drain electrodes 14 and 16 and the gate bus line 20 between BB 'of another pixel is measured.

【0044】そして、更に数カ所の画素で同様にしてソ
ース/ドレイン電極14、16とゲートバスライン20
との位置関係を測定し、これらの測定結果を比較するこ
とにより、ゲートバスライン20に垂直な方向における
パターンの重ね合わせのずれを算出する。
Further, the source / drain electrodes 14 and 16 and the gate bus line 20 are similarly formed at several pixels.
By measuring the positional relationship between the two and comparing these measurement results, the shift of the pattern superposition in the direction perpendicular to the gate bus line 20 is calculated.

【0045】次に、同様にして、ある画素のC−C′間
における測定パターン24とデータバスライン18との
位置関係を測定する。
Next, similarly, the positional relationship between the measurement pattern 24 and the data bus line 18 between C and C 'of a certain pixel is measured.

【0046】また、同様にして、他の画素のD−D′間
における測定パターン24とゲートバスライン18との
位置関係を測定する。
Similarly, the positional relationship between the measurement pattern 24 and the gate bus line 18 between DD and D 'of another pixel is measured.

【0047】そして、更に数カ所の画素で同様にして測
定パターン24とデータバスライン18との位置関係を
測定し、これらの測定結果を比較することにより、ゲー
トバスライン20に平行な方向におけるパターンの重ね
合わせのずれを算出する。
Further, the positional relationship between the measurement pattern 24 and the data bus line 18 is measured in a similar manner at several pixels, and the measured results are compared to determine the pattern in the direction parallel to the gate bus line 20. The overlay deviation is calculated.

【0048】こうして、ステッパ露光の際におけるパタ
ーンの重ね合わせのずれを検査し得る。
In this way, it is possible to inspect the displacement of the pattern superposition during the stepper exposure.

【0049】本実施形態による液晶表示装置は、ゲート
バスライン22の延在方向と交差する方向に延在する測
定パターン24がゲートバスライン22と同一の導電膜
により形成されており、この測定パターン24を用いる
ことにより、ゲートバスライン22に平行な方向におけ
るパターンの重ね合わせのずれをも検査し得ることに主
な特徴がある。
In the liquid crystal display device according to the present embodiment, the measurement pattern 24 extending in the direction intersecting with the extending direction of the gate bus line 22 is formed by the same conductive film as the gate bus line 22. The main feature of the present embodiment is that it is possible to inspect the displacement of the pattern superposition in the direction parallel to the gate bus line 22 by using the gate bus line 24.

【0050】従来の液晶表示装置の製造プロセスでは、
ゲートバスラインとソース/ドレイン電極との位置関係
を測定することにより、ステッパ露光の際におけるパタ
ーンの重ね合わせのずれを検査していたため、ゲートバ
スラインに垂直な方向におけるパターンの重ねあわせの
ずれは検査できるものの、ゲートバスラインに平行な方
向におけるパターンの重ね合わせのずれは検査できなか
った。
In the conventional manufacturing process of a liquid crystal display device,
By measuring the positional relationship between the gate bus lines and the source / drain electrodes, the misalignment of the pattern in the stepper exposure was inspected. Although inspection was possible, it was not possible to inspect deviation of pattern superposition in a direction parallel to the gate bus line.

【0051】これに対し、本実施形態によれば、ゲート
バスライン22と同一の導電膜より成る測定パターン2
4がゲートバスライン22の延在方向と交差する方向に
延在するように形成されているので、測定パターン24
とデータバスライン22との位置関係を測定することに
より、ゲートバスライン20に平行な方向におけるパタ
ーンの重ね合わせのずれをも検査することができる。即
ち、本実施形態によれば、ゲートバスライン20に垂直
な方向におけるパターンの重ね合わせのずれのみなら
ず、ゲートバスライン20に平行な方向におけるパター
ンの重ね合わせのずれをも容易に検査することができ
る。
On the other hand, according to the present embodiment, the measurement pattern 2 made of the same conductive film as the gate bus line 22 is used.
4 is formed so as to extend in the direction intersecting with the direction in which the gate bus line 22 extends.
By measuring the positional relationship between the data bus line 22 and the data bus line 22, it is possible to inspect the displacement of the pattern superposition in the direction parallel to the gate bus line 20. That is, according to the present embodiment, not only the misalignment of the pattern in the direction perpendicular to the gate bus line 20 but also the misalignment of the pattern in the direction parallel to the gate bus line 20 can be easily inspected. Can be.

【0052】そして、パターンの重ね合わせのずれに応
じてステップ式投影露光装置等を随時調整するようにす
れば、パターンの重ね合わせのずれを小さく保つことが
でき、ひいては表示品位が良好な液晶表示装置を高い歩
留りで製造することができる。
If the step-type projection exposure apparatus or the like is adjusted as needed in accordance with the deviation of the pattern superposition, the deviation of the pattern superposition can be kept small, and the liquid crystal display with good display quality can be maintained. The device can be manufactured with high yield.

【0053】また、本実施形態では、測定パターン24
が蓄積容量バスライン24と一体に形成されているの
で、液晶表示装置の製造過程で測定パターン24に静電
気が蓄積されるのを防止することができ、静電気の放電
によるパターンの短絡や断線等を回避することができ
る。
In this embodiment, the measurement pattern 24
Is formed integrally with the storage capacitor bus line 24, it is possible to prevent static electricity from being accumulated in the measurement pattern 24 during the manufacturing process of the liquid crystal display device, and to prevent short-circuiting or disconnection of the pattern due to electrostatic discharge. Can be avoided.

【0054】(変形例)次に、本実施形態による液晶表
示装置の変形例を図3を用いて説明する。図3は、本変
形例による液晶表示装置を示す平面図である。
(Modification) Next, a modification of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 3 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0055】本変形例による液晶表示装置は、測定パタ
ーン24aがゲートバスライン20と一体に形成されて
いることに主な特徴がある。
The main feature of the liquid crystal display device according to this modification is that the measurement pattern 24a is formed integrally with the gate bus line 20.

【0056】このような液晶表示装置では、測定パター
ン24aとデータバスライン18との位置関係を測定す
ることにより、ゲートバスライン20に平行な方向にお
けるパターンの重ね合わせのずれを検査することができ
る。例えば、図3のE−E′間における測定パターン2
4aとデータバスライン18との位置関係を測定する。
In such a liquid crystal display device, by measuring the positional relationship between the measurement pattern 24 a and the data bus line 18, it is possible to inspect the displacement of the pattern overlapping in the direction parallel to the gate bus line 20. . For example, the measurement pattern 2 between EE ′ in FIG.
The positional relationship between the data bus line 4a and the data bus line 18 is measured.

【0057】このように、ゲートバスライン20と一体
に測定パターン24aを形成した場合であっても、ゲー
トバスライン20に平行な方向におけるパターンの重ね
合わせのずれを検査することができる。
As described above, even when the measurement pattern 24 a is formed integrally with the gate bus line 20, it is possible to inspect the displacement of the pattern overlapping in the direction parallel to the gate bus line 20.

【0058】[第2実施形態]本発明の第2実施形態に
よる液晶表示装置を図4を用いて説明する。図4は、本
実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。図1
乃至図3に示す第1実施形態による液晶表示装置と同一
の構成要素には、同一の符号を付して説明を省略または
簡潔にする。
[Second Embodiment] The liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention will be explained with reference to FIG. FIG. 4 is a plan view illustrating the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG.
The same components as those of the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIG. 3 to FIG. 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0059】本実施形態による液晶表示装置は、測定パ
ターン24bが、ゲートバスライン20と蓄積容量バス
ライン22とから分離して形成されていることに主な特
徴がある。
The main feature of the liquid crystal display device according to the present embodiment is that the measurement pattern 24b is formed separately from the gate bus line 20 and the storage capacitor bus line 22.

【0060】図4に示すように、測定パターン24b
は、ゲートバスライン20と蓄積容量バスライン22と
から分離して、データバスライン18の近傍に形成され
ている。
As shown in FIG. 4, the measurement pattern 24b
Are formed near the data bus line 18 separately from the gate bus line 20 and the storage capacitor bus line 22.

【0061】測定パターン24bは、ゲートバスライン
20と同一の導電膜より成るものであり、ゲートバスラ
イン20と測定パターン24bとは同一の露光プロセス
を経て形成されている。従って、ゲートバスライン20
と測定パターン24bとの相対的な位置は、常に一定と
なっている。
The measurement pattern 24b is made of the same conductive film as the gate bus line 20, and the gate bus line 20 and the measurement pattern 24b are formed through the same exposure process. Therefore, the gate bus line 20
The relative position between the measurement pattern 24b and the measurement pattern 24b is always constant.

【0062】このような液晶表示装置では、測定パター
ン24bとデータバスライン18との位置関係を測定す
ることにより、ゲートバスライン20に平行な方向にお
けるパターンの重ね合わせのずれを検査することができ
る。例えば、図4のF−F′間における測定パターン2
4bとデータバスライン18との位置関係を測定する。
In such a liquid crystal display device, by measuring the positional relationship between the measurement pattern 24 b and the data bus line 18, it is possible to inspect the misalignment of the pattern in the direction parallel to the gate bus line 20. . For example, the measurement pattern 2 between FF 'in FIG.
The positional relationship between 4b and the data bus line 18 is measured.

【0063】このように、ゲートバスライン20や蓄積
容量バスライン22から分離して測定パターン24bを
形成した場合であっても、第1実施形態による液晶表示
装置と同様に、ゲートバスライン20に平行な方向にお
けるパターンの重ね合わせのずれを検査することができ
る。
As described above, even when the measurement pattern 24b is formed separately from the gate bus line 20 and the storage capacitor bus line 22, like the liquid crystal display according to the first embodiment, the gate bus line 20 is It is possible to inspect the misalignment of the pattern in the parallel direction.

【0064】また、本実施形態による液晶表示装置で
は、測定パターンをゲートバスライン20や蓄積容量バ
スライン22と一体に形成する必要がないので、測定パ
ターン24bのレイアウトの自由度を高くすることがで
きる。
In the liquid crystal display device according to the present embodiment, it is not necessary to form the measurement pattern integrally with the gate bus line 20 and the storage capacitor bus line 22, so that the degree of freedom in the layout of the measurement pattern 24b can be increased. it can.

【0065】また、測定パターンがゲートバスライン2
0や蓄積容量バスライン22と一体に形成されている場
合には、測定パターンがデータバスライン18と短絡し
た場合には、測定パターンを介してゲートバスライン2
0等とデータバスライン18等とが短絡してしまう虞が
あるが、本実施形態では、測定パターン24bがゲート
バスライン20から分離して形成されているので、測定
パターン24bを介してゲートバスライン20等とデー
タバスライン18とが短絡してしまうことはない。従っ
て、本実施形態によれば、測定パターン24bを形成し
た場合であっても、液晶表示装置の製造歩留りの低下を
回避することができる。
The measurement pattern is the gate bus line 2
0 or the storage capacitor bus line 22, when the measurement pattern is short-circuited with the data bus line 18, the gate bus line 2 is connected via the measurement pattern.
0 and the data bus line 18 may be short-circuited. However, in this embodiment, since the measurement pattern 24b is formed separately from the gate bus line 20, the gate bus is connected via the measurement pattern 24b. The line 20 and the data bus line 18 are not short-circuited. Therefore, according to the present embodiment, even when the measurement pattern 24b is formed, it is possible to avoid a decrease in the manufacturing yield of the liquid crystal display device.

【0066】なお、本実施形態では、測定パターン24
bがゲートバスライン20や蓄積容量バスライン22か
ら分離して形成されているため、液晶表示装置の製造過
程で測定パターン25bに静電気が蓄積される場合があ
り、蓄積された静電気が放電すると配線の短絡や断線等
が発生することも考えられる。このような障害を回避す
るためには、液晶表示装置の製造過程で除電対策等を施
すことが重要である。
In this embodiment, the measurement pattern 24
b is formed separately from the gate bus line 20 and the storage capacitor bus line 22, static electricity may be accumulated in the measurement pattern 25b during the manufacturing process of the liquid crystal display device. It is also conceivable that a short circuit or disconnection may occur. In order to avoid such obstacles, it is important to take countermeasures against static electricity in the manufacturing process of the liquid crystal display device.

【0067】(変形例)次に、本実施形態による液晶表
示装置の変形例を図5を用いて説明する。図5は、本変
形例による液晶表示装置を示す平面図である。
(Modification) Next, a modification of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 5 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0068】本変形例による液晶表示装置は、測定パタ
ーン24cが、データバスライン18に対向して形成さ
れていることに主な特徴がある。
The liquid crystal display according to the present modification is characterized mainly in that the measurement pattern 24c is formed so as to face the data bus line 18.

【0069】このように、データバスライン18に対向
して測定パターン24cを形成した場合であっても、図
4に示す第2実施形態による液晶表示装置の場合と同様
に、ゲートバスライン20に平行な方向におけるパター
ンの重ね合わせのずれを検査することができる。
As described above, even when the measurement pattern 24c is formed so as to face the data bus line 18, like the liquid crystal display device according to the second embodiment shown in FIG. It is possible to inspect the misalignment of the pattern in the parallel direction.

【0070】また、本変形例による液晶表示装置では、
測定パターン24cがデータバスライン18に対向して
形成されているので、測定パターン24cを形成するた
めの領域をあえて確保する必要がなく、液晶表示装置の
微細化に資することができる。
In the liquid crystal display device according to the present modification,
Since the measurement pattern 24c is formed so as to face the data bus line 18, it is not necessary to secure an area for forming the measurement pattern 24c, which can contribute to miniaturization of the liquid crystal display device.

【0071】[第3実施形態]本発明の第3実施形態に
よる液晶表示装置を図6を用いて説明する。図6は、本
実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。図1
乃至図5に示す第1又は第2実施形態による液晶表示装
置と同一の構成要素には、同一の符号を付して説明を省
略または簡潔にする。
[Third Embodiment] The liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention will be explained with reference to FIG. FIG. 6 is a plan view showing the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG.
The same components as those of the liquid crystal display device according to the first or second embodiment shown in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0072】図6に示すように、本実施形態による液晶
表示装置では、測定パターン24dがゲートバスライン
20と一体に形成されており、更に、データバスライン
18と同一の導電膜より成る測定パターン26が測定パ
ターン24dに対向して形成されていることに主な特徴
がある。測定パターン24dは、データバスライン18
と同一の露光工程を経て形成されているため、データバ
スライン18と測定パターン26との相対的な位置は、
常に一定となっている。
As shown in FIG. 6, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the measurement pattern 24d is formed integrally with the gate bus line 20, and the measurement pattern 24d is formed of the same conductive film as the data bus line 18. The main feature is that 26 is formed to face the measurement pattern 24d. The measurement pattern 24d is the data bus line 18
The relative position between the data bus line 18 and the measurement pattern 26 is determined by the same exposure process as
It is always constant.

【0073】このような液晶表示装置では、測定パター
ン24dと測定パターン26との位置関係を測定するこ
とにより、ゲートバスライン20に平行な方向における
パターンの重ね合わせのずれを検査することができる。
例えば、図6のG−G′間における測定パターン24d
と測定パターン26との位置関係を測定する。
In such a liquid crystal display device, by measuring the positional relationship between the measurement pattern 24 d and the measurement pattern 26, it is possible to inspect the misalignment of the pattern in the direction parallel to the gate bus line 20.
For example, the measurement pattern 24d between GG 'in FIG.
The positional relationship between the data and the measurement pattern 26 is measured.

【0074】このように、ゲートバスライン20と同一
の導電膜より成る測定パターン24dと、データバスラ
イン18と同一の導電膜より成る測定パターン26とを
形成することによっても、ゲートバスライン20に平行
な方向におけるパターンの重ね合わせのずれを検査する
ことができる。
As described above, by forming the measurement pattern 24 d made of the same conductive film as the gate bus line 20 and the measurement pattern 26 made of the same conductive film as the data bus line 18, the gate bus line 20 can also be formed. It is possible to inspect the misalignment of the pattern in the parallel direction.

【0075】(変形例)次に、本実施形態による液晶表
示装置の変形例を図7を用いて説明する。図7は、本変
形例による液晶表示装置を示す平面図である。
(Modification) Next, a modification of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 7 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0076】本変形例による液晶表示装置は、測定パタ
ーン26aがゲートバスライン20の紙面下側に形成さ
れており、測定パターン24eが測定パターン26aに
対向して形成されていることに主な特徴がある。
The main feature of the liquid crystal display device according to the present modification is that the measurement pattern 26a is formed below the gate bus line 20 in the drawing and the measurement pattern 24e is formed to face the measurement pattern 26a. There is.

【0077】測定パターン26aは、ゲートバスライン
と同一の導電膜により成るものであり、ゲートバスライ
ンと一体に形成されている。また、測定パターン24e
は、データバスライン18と同一の導電膜より成るもの
であり、データバスライン18と同一の露光工程を経て
形成されている。
The measurement pattern 26a is made of the same conductive film as the gate bus line, and is formed integrally with the gate bus line. The measurement pattern 24e
Are formed of the same conductive film as the data bus line 18 and are formed through the same exposure process as the data bus line 18.

【0078】このような液晶表示装置では、例えば、図
7のH−H′間における測定パターン24eと測定パタ
ーン26aとの位置関係を測定する。
In such a liquid crystal display device, for example, the positional relationship between the measurement pattern 24e and the measurement pattern 26a between HH 'in FIG. 7 is measured.

【0079】このように、ゲートバスライン20の紙面
下側に測定パターン26aや測定パターン24eが形成
されている場合であっても、ゲートバスライン20に平
行な方向におけるパターンの重ね合わせのずれを検査す
ることができる。
As described above, even when the measurement pattern 26a and the measurement pattern 24e are formed on the lower side of the paper of the gate bus line 20, the displacement of the pattern overlapping in the direction parallel to the gate bus line 20 can be reduced. Can be inspected.

【0080】[第4実施形態]本発明の第4実施形態に
よる液晶表示装置を図8乃至図11を用いて説明する。
図8は、本実施形態による液晶表示装置を示す概念図で
ある。図9は、本実施形態による液晶表示装置のTAB
端子の近傍を示す平面図である。図10は、データバス
ラインの断線の修復状態を示す概念図である。図11
は、リペア配線を周辺接続ラインから切断した状態を示
す平面図である。図1乃至図7に示す第1実施形態乃至
第3実施形態による液晶表示装置と同一の構成要素に
は、同一の符号を付して説明を省略または簡潔にする。
[Fourth Embodiment] The liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS.
FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 9 shows the TAB of the liquid crystal display device according to the present embodiment.
It is a top view showing the neighborhood of a terminal. FIG. 10 is a conceptual diagram showing a repair state of the disconnection of the data bus line. FIG.
FIG. 4 is a plan view showing a state where a repair wiring is cut from a peripheral connection line. The same components as those of the liquid crystal display device according to the first to third embodiments shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0081】図8に示すように、ガラス基板(図示せ
ず)上には、紙面上下方向に延在するデータバスライン
18a〜18dが形成されている。また、データバスラ
イン18a〜18dに交差するように複数のゲートバス
ライン(図示せず)が形成されている。データバスライ
ン18a〜18dやゲートバスラインは、図1に示す第
1実施形態による液晶表示装置のデータバスライン18
やゲートバスライン20と同様のものである。
As shown in FIG. 8, on a glass substrate (not shown), data bus lines 18a to 18d extending in the vertical direction of the drawing are formed. Further, a plurality of gate bus lines (not shown) are formed so as to cross the data bus lines 18a to 18d. The data bus lines 18a to 18d and the gate bus lines are the data bus lines 18 of the liquid crystal display according to the first embodiment shown in FIG.
And the gate bus line 20.

【0082】表示領域28には、画素電極(図示せず)
やTFT(図示せず)等が形成されている。表示領域2
8に形成されている画素電極やTFTは、図1に示す第
1実施形態による液晶表示装置の画素電極10やTFT
12と同様のものである。
The display area 28 has a pixel electrode (not shown).
And a TFT (not shown). Display area 2
The pixel electrodes and TFTs formed in the pixel electrode 8 and the TFTs of the liquid crystal display device according to the first embodiment shown in FIG.
Same as 12.

【0083】表示領域28の外側には、データバスライ
ン18a〜18dに交差するリペア配線30a、30b
が形成されている。
Outside the display area 28, repair wirings 30a and 30b crossing the data bus lines 18a to 18d
Are formed.

【0084】更に表示領域28の外側には、周辺接続ラ
イン32a、32bが形成されている。周辺接続ライン
32aには、検査の際に周辺接続ライン32aに電圧を
印加するための電圧印加端子34aが接続されている。
周辺接続ライン32bには、検査の際に周辺接続ライン
32bに電圧を印加するための電圧印加端子32bが接
続されている。
Further, outside the display area 28, peripheral connection lines 32a and 32b are formed. A voltage application terminal 34a for applying a voltage to the peripheral connection line 32a at the time of inspection is connected to the peripheral connection line 32a.
A voltage application terminal 32b for applying a voltage to the peripheral connection line 32b at the time of inspection is connected to the peripheral connection line 32b.

【0085】リペア配線30aは、図9に示すように、
端子36と配線35とを介して周辺接続ライン32aに
接続されている。端子36の紙面下側には、三角形の印
37が形成されている。印37は、端子36と同一の導
電膜より成るものであり、例えばAl/MoN/Mo膜
より成る積層膜により構成されている。
The repair wiring 30a is, as shown in FIG.
It is connected to the peripheral connection line 32a via the terminal 36 and the wiring 35. A triangular mark 37 is formed below the terminal 36 in the drawing. The mark 37 is made of the same conductive film as the terminal 36, and is made of, for example, a laminated film made of an Al / MoN / Mo film.

【0086】なお、印37は透明なガラス基板上に形成
されており、また、印37上にはシリコン酸化膜等の透
明な膜が形成されているため、印37はルーペ等により
容易に発見し得る。
Since the mark 37 is formed on a transparent glass substrate, and a transparent film such as a silicon oxide film is formed on the mark 37, the mark 37 is easily found with a loupe or the like. I can do it.

【0087】データバスライン18aは、TAB端子3
8a及び配線39aを介して周辺接続ライン32bに接
続されている。データバスライン18bは、TAB端子
38b及び配線39bを介して周辺接続ライン32aに
接続されている。データバスライン18cは、TAB端
子38c及び配線39cを介して周辺接続ライン32b
に接続されている。データバスライン18dは、TAB
端子38d及び配線39dを介して周辺接続ライン32
aに接続されている。配線40は、端子42と配線43
とを介して周辺接続ライン32aに接続されている。
The data bus line 18a is connected to the TAB terminal 3
It is connected to the peripheral connection line 32b via the wiring 8a and the wiring 39a. The data bus line 18b is connected to the peripheral connection line 32a via a TAB terminal 38b and a wiring 39b. The data bus line 18c is connected to the peripheral connection line 32b via the TAB terminal 38c and the wiring 39c.
It is connected to the. Data bus line 18d is TAB
Peripheral connection line 32 via terminal 38d and wiring 39d
a. The wiring 40 includes a terminal 42 and a wiring 43
And to the peripheral connection line 32a.

【0088】図8に示すように、表示領域28の外側に
は、電圧測定端子44a〜44dが形成されている。デ
ータバスライン18a〜18dには、それぞれ電圧測定
端子44a〜44dに接続されている。電圧測定端子4
4a〜44dは、検査の際にデータバスライン18a〜
18dの電圧を測定するためのものである。
As shown in FIG. 8, outside the display area 28, voltage measuring terminals 44a to 44d are formed. The data bus lines 18a to 18d are connected to voltage measurement terminals 44a to 44d, respectively. Voltage measurement terminal 4
4a to 44d are the data bus lines 18a to 18d during the inspection.
This is for measuring the voltage of 18d.

【0089】ガラス基板の縁部には、プリント基板(図
示せず)が設けられている。プリント基板には、配線4
6が形成されている。配線46は、ガラス基板上に延在
しており、リペア配線30aとリペア配線30bとに交
差している。配線46は、リペア配線30aとリペア配
線30bとを電気的に接続する際に用いられるものであ
る。
At the edge of the glass substrate, a printed circuit board (not shown) is provided. Wiring 4 on the printed circuit board
6 are formed. The wiring 46 extends on the glass substrate and crosses the repair wiring 30a and the repair wiring 30b. The wiring 46 is used for electrically connecting the repair wiring 30a and the repair wiring 30b.

【0090】このような本実施形態による液晶表示装置
において、データバスラインに断線が生じている場合に
は、以下のようにして修復を行う。
In the liquid crystal display device according to the present embodiment, when a disconnection occurs in the data bus line, repair is performed as follows.

【0091】ここでは、図10に示すように、ある領域
47においてデータバスライン18cに断線が生じてい
る場合を例に説明する。
Here, as shown in FIG. 10, a case where a disconnection occurs in the data bus line 18c in a certain area 47 will be described as an example.

【0092】このような断線が生じている場合、まず、
データバスライン18cとリペア配線30aとが交差す
る領域48においてレーザ照射を行い、これによりデー
タバスライン18cとリペア配線30aとを接続する。
When such a disconnection has occurred, first,
Laser irradiation is performed in a region 48 where the data bus line 18c and the repair wiring 30a intersect, thereby connecting the data bus line 18c and the repair wiring 30a.

【0093】また、データバスライン18cとリペア配
線30bとが交差する領域50においてレーザ照射を行
い、これによりデータバスライン18cとリペア配線3
0bとを接続する。
Further, laser irradiation is performed in an area 50 where the data bus line 18c and the repair wiring 30b intersect, whereby the data bus line 18c and the repair wiring 3b are irradiated.
0b.

【0094】また、配線46とリペア配線30aとが交
差する領域52においてレーザ照射を行い、これにより
配線46とリペア配線30aとを接続する。
Further, laser irradiation is performed in a region 52 where the wiring 46 and the repair wiring 30a intersect, thereby connecting the wiring 46 and the repair wiring 30a.

【0095】また、配線46とリペア配線30bとが交
差する領域54においてレーザ照射を行い、これにより
配線46とリペア配線30bとを接続する。
Laser irradiation is performed in a region 54 where the wiring 46 and the repair wiring 30b intersect, thereby connecting the wiring 46 and the repair wiring 30b.

【0096】こうして、リペア配線30a、30b及び
配線46により、断線したデータバスライン18cが修
復される。
In this manner, the broken data bus line 18c is repaired by the repair wires 30a, 30b and the wire 46.

【0097】ところが、この段階では、データバスライ
ン18cとリペア配線30aとを介して、周辺接続ライ
ン32aと周辺接続ライン32bとが短絡状態となって
いるため、検査を行うことができない。
However, at this stage, the inspection cannot be performed because the peripheral connection lines 32a and 32b are in a short-circuit state via the data bus line 18c and the repair wiring 30a.

【0098】即ち、隣接するデータバスライン18a〜
18d同士で短絡が発生しているか否かの検査は、電圧
印加端子34aに例えば+10Vの電圧を印加し、電圧
印加端子34bに例えば−10Vの電圧を印加すること
により、隣接するデータバスライン18a〜18dに互
いに異なる電圧を印加し、電圧測定端子44a〜44d
の電圧を適宜測定することによって行われるが、周辺接
続ライン32aと周辺接続ライン32bとが短絡状態と
なっている場合には、隣接するデータバスライン18a
〜18dに互いに異なる電圧を印加することができず、
短絡が発生しているか否かを検査できない。
That is, the adjacent data bus lines 18a to 18a
Inspection as to whether or not a short circuit occurs between the adjacent data bus lines 18a by applying a voltage of, for example, + 10V to the voltage application terminal 34a and applying a voltage of, for example, -10V to the voltage application terminal 34b. To 18d, voltage measuring terminals 44a to 44d
Is appropriately measured, and when the peripheral connection line 32a and the peripheral connection line 32b are short-circuited, the adjacent data bus line 18a
-18d cannot be applied with different voltages,
It cannot be checked whether a short circuit has occurred.

【0099】従って、かかる検査を行うためには、周辺
接続ライン32aと周辺接続ライン32bとの短絡状態
を解消すべく、リペア配線30aを周辺接続端子32a
から電気的に切り離す必要がある。
Therefore, in order to perform such an inspection, the repair wiring 30a is connected to the peripheral connection terminal 32a in order to eliminate the short circuit between the peripheral connection line 32a and the peripheral connection line 32b.
Must be electrically disconnected from the

【0100】しかし、図9に示すように、TAB端子3
8a〜38dや端子36、42の形状は互いに近似して
おり、また、配線35、39a〜39d、43の形状も
互いに近似しているため、切断すべき配線35を特定す
るのは容易ではない。このため、従来は、切断すべき配
線35を特定するのに長時間を要したり、誤って他の配
線39a〜39d、43を切断してしまうことがあっ
た。
However, as shown in FIG.
Since the shapes of 8a to 38d and the terminals 36 and 42 are similar to each other, and the shapes of the wirings 35, 39a to 39d and 43 are also similar to each other, it is not easy to specify the wiring 35 to be cut. . Therefore, conventionally, it may take a long time to specify the wiring 35 to be cut, or the other wirings 39a to 39d and 43 may be cut by mistake.

【0101】そこで本実施形態では、端子36の近傍に
印37を形成することにより、切断すべき配線35を特
定しやすくしている。本実施形態では、切断すべき端子
36の近傍に印37が形成されているので、切断すべき
配線35を容易に特定することができ、例えば、図11
に示すように適切な箇所56で配線35を切断すること
ができる。
Therefore, in the present embodiment, a mark 37 is formed in the vicinity of the terminal 36 so that the wiring 35 to be cut can be easily specified. In the present embodiment, since the mark 37 is formed near the terminal 36 to be cut, the wiring 35 to be cut can be easily specified.
The wiring 35 can be cut at an appropriate place 56 as shown in FIG.

【0102】本実施形態によれば、切断すべき配線35
を容易に特定することができるので、検査の迅速化を図
ることができ、ひいては液晶表示装置の製造コストを低
減することができる。
According to the present embodiment, the wiring 35 to be cut
Can be easily specified, the inspection can be speeded up, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced.

【0103】また、本実施形態によれば、誤って他の配
線39a〜39d、43を切断してしまうことを防止す
ることができるので、液晶表示装置の製造歩留りの向上
をも実現することができる。
Further, according to the present embodiment, it is possible to prevent the other wirings 39a to 39d and 43 from being cut by mistake, and therefore, it is possible to improve the production yield of the liquid crystal display device. it can.

【0104】[第5実施形態]本発明の第5実施形態に
よる液晶表示装置を図12及び図13を用いて説明す
る。図12は、本実施形態による液晶表示装置を示す概
念図である。図13は、周辺接続ラインを切断した状態
を示す概念図である。図1乃至図11に示す第1実施形
態乃至第4実施形態による液晶表示装置と同一の構成要
素には、同一の符号を付して説明を省略または簡潔にす
る。
[Fifth Embodiment] The liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. FIG. 12 is a conceptual diagram illustrating the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 13 is a conceptual diagram showing a state where the peripheral connection lines are cut. The same components as those of the liquid crystal display devices according to the first to fourth embodiments shown in FIGS. 1 to 11 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0105】図12に示すように、データバスライン4
4a、44bは、TAB端子38a、38b及び配線3
9a、39bを介して周辺接続ライン32cに接続され
ている。周辺接続ライン32cには、電圧印加端子34
aが接続されている。
As shown in FIG. 12, data bus line 4
4a and 44b are the TAB terminals 38a and 38b and the wiring 3
It is connected to the peripheral connection line 32c via 9a and 39b. A voltage application terminal 34 is connected to the peripheral connection line 32c.
a is connected.

【0106】データバスライン44a、44bに交差す
るように、ゲートバスライン18a、18bが形成され
ている。ゲートバスライン20a、20bは、図1に示
す第1実施形態による液晶表示装置のゲートバスライン
20と同様のものである。
Gate bus lines 18a and 18b are formed so as to cross data bus lines 44a and 44b. The gate bus lines 20a and 20b are the same as the gate bus lines 20 of the liquid crystal display according to the first embodiment shown in FIG.

【0107】ゲートバスライン20a、20bは、絶縁
膜(図示せず)に形成されたコンタクトホール58a、
58bを介して、それぞれ電圧測定端子60a、60b
に接続されている。
The gate bus lines 20a and 20b are formed with contact holes 58a, formed in an insulating film (not shown).
58b, voltage measuring terminals 60a, 60b
It is connected to the.

【0108】また、ゲートバスライン20、20bは、
絶縁膜(図示せず)に形成されたコンタクトホール62
a、62bを介してTAB端子64a、64bに接続さ
れている。TAB端子64a、64bは、それぞれ配線
66a、66bを介して周辺接続ライン32cに接続さ
れている。周辺接続ライン32cには、電圧印加端子3
4bが形成されている。
The gate bus lines 20, 20b are
Contact hole 62 formed in an insulating film (not shown)
a and 62b are connected to TAB terminals 64a and 64b. The TAB terminals 64a and 64b are connected to the peripheral connection line 32c via wirings 66a and 66b, respectively. A voltage application terminal 3 is connected to the peripheral connection line 32c.
4b is formed.

【0109】周辺接続ライン32cには、図12に示す
ように、矢形の印37aが形成されている。印37a
は、周辺接続ライン32cと同一の導電膜により構成さ
れている。
As shown in FIG. 12, an arrow-shaped mark 37a is formed on the peripheral connection line 32c. Mark 37a
Are formed of the same conductive film as the peripheral connection line 32c.

【0110】データバスライン18a、18bとゲート
バスライン20a、20bとが周辺接続ライン32cを
介して電気的に接続されているのは、液晶表示装置の製
造過程で生じる静電気によりTFT等が破壊されるのを
回避するためである。即ち、データバスライン18a、
18bとゲートバスライン20a、20bとを電気的に
接続しておけば、データバスライン18a、18bとゲ
ートバスライン20a、20bとが等電位に保持される
ため、静電気によってTFT等が破壊されてしまうこと
はない。
The data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b are electrically connected to each other via the peripheral connection lines 32c because the TFTs and the like are destroyed by static electricity generated during the manufacturing process of the liquid crystal display device. This is to avoid the situation. That is, the data bus lines 18a,
If the gate bus lines 20a and 20b are electrically connected to each other, the data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b are held at the same potential. It will not be lost.

【0111】ところが、この段階では、データバスライ
ン18a、18bとゲートバスライン20a、20bと
がリペア配線32cを介して短絡状態となっているた
め、液晶表示装置の検査を行うことができない。
However, at this stage, since the data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b are short-circuited via the repair wiring 32c, the liquid crystal display device cannot be inspected.

【0112】即ち、データバスライン18a、18bと
ゲートバスライン20a、20bとの間で短絡が発生し
ているか否かの検査は、電圧印加端子34aに例えば+
10Vの電圧を印加し、電圧印加端子34bに例えば−
10Vの電圧を印加することにより、データバスライン
18a、18bとゲートバスライン20a、20bとに
互いに異なる電圧を印加し、電圧測定端子44a、44
b、60a、60bの電圧を適宜測定することによって
行われるが、電圧印加端子34aと電圧印加端子34b
とが周辺接続ライン32cを介して短絡状態となってい
る場合には、データバスライン18a、18bとゲート
バスライン20a、20bとに互いに異なる電圧を印加
することができず、短絡が発生しているか否かを検査で
きない。
That is, whether or not a short circuit has occurred between the data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b is determined by, for example, applying +
A voltage of 10 V is applied, and for example,-
By applying a voltage of 10 V, different voltages are applied to the data bus lines 18a, 18b and the gate bus lines 20a, 20b, and the voltage measurement terminals 44a, 44
b, 60a, and 60b by appropriately measuring the voltages. The voltage application terminals 34a and 34b
Are short-circuited via the peripheral connection line 32c, different voltages cannot be applied to the data bus lines 18a, 18b and the gate bus lines 20a, 20b, and a short circuit occurs. Cannot be checked.

【0113】従って、かかる検査を行うためには、電圧
印加端子34aと電圧印加端子34bとの短絡状態を解
消すべく、周辺接続ライン32cを切断する必要があ
る。
Therefore, in order to perform such an inspection, it is necessary to disconnect the peripheral connection line 32c in order to eliminate the short circuit between the voltage application terminal 34a and the voltage application terminal 34b.

【0114】しかし、周辺接続ライン32cの近傍に
は、周辺接続ライン32cに近似した配線が多数形成さ
れている場合があり、かかる場合には、従来は、切断す
べき周辺接続ライン32cを特定するのに長時間を要し
たり、誤って他の配線を切断してしまうことがあった。
また、切断すべき周辺接続ライン32cを特定できたと
しても、どの箇所で切断すべきかを判断するのに長時間
を要すこともあった。
However, there are cases where a number of wirings similar to the peripheral connection line 32c are formed near the peripheral connection line 32c. In such a case, the peripheral connection line 32c to be cut is conventionally specified. In some cases, it took a long time, or another wiring was cut by mistake.
Even if the peripheral connection line 32c to be disconnected can be specified, it may take a long time to determine where to disconnect.

【0115】そこで、本実施形態では、周辺接続ライン
32cの切断すべき箇所の近傍に矢形の印37aを形成
している。本実施形態では、切断すべき箇所の近傍に矢
形の印37aが形成されているので、切断すべき周辺接
続ライン32cを容易に特定でき、また切断すべき箇所
をも容易に特定することができる。そして、例えば、図
13に示すように適切な箇所68で周辺接続ライン32
cを切断することができる。
Therefore, in the present embodiment, an arrow-shaped mark 37a is formed near the portion of the peripheral connection line 32c to be cut. In the present embodiment, since the arrow-shaped mark 37a is formed near the portion to be cut, the peripheral connection line 32c to be cut can be easily specified, and the portion to be cut can also be easily specified. . Then, for example, as shown in FIG.
c can be cut.

【0116】そして、短絡が発生しているか否かを検査
を行うべく、電圧印加端子34aに例えば+10Vの電
圧を印加し、電圧印加端子34bに例えば−10Vの電
圧を印加すると、正常な場合には、電圧測定端子44
a、44bで+10Vの電圧が測定され、電圧測定端子
60a、60bで−10Vの電圧が測定される。
When a voltage of, for example, +10 V is applied to the voltage applying terminal 34a and a voltage of, for example, -10 V is applied to the voltage applying terminal 34b in order to check whether or not a short circuit has occurred. Is a voltage measuring terminal 44
The voltage of + 10V is measured at a and 44b, and the voltage of -10V is measured at the voltage measurement terminals 60a and 60b.

【0117】一方、図13に示すように、データバスラ
イン18bとゲートバスライン20bとが領域70で短
絡しているような場合には、電圧測定端子44a、44
bで測定される電圧と電圧測定端子58a、58bで測
定される電圧とが等しくなる。このような場合には、デ
ータバスラインとゲートバスラインとの間で短絡が発生
していると判断することができる。
On the other hand, as shown in FIG. 13, when the data bus line 18b and the gate bus line 20b are short-circuited in the region 70, the voltage measurement terminals 44a, 44
The voltage measured at b and the voltage measured at the voltage measurement terminals 58a and 58b become equal. In such a case, it can be determined that a short circuit has occurred between the data bus line and the gate bus line.

【0118】このように本実施形態によれば、周辺接続
ライン32cの切断すべき箇所68の近傍に矢形の印3
7aが形成されているので、切断すべき箇所68を容易
に特定でき、検査の迅速化を図ることができる。従っ
て、本実施形態によれば、液晶表示装置の製造コストの
低減を図ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the arrow mark 3 is placed near the point 68 of the peripheral connection line 32c to be cut.
Since the portion 7a is formed, the portion 68 to be cut can be easily specified, and the inspection can be speeded up. Therefore, according to the present embodiment, the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced.

【0119】また、本実施形態によれば、誤って他の配
線を切断してしまうことを防止することができるので、
液晶表示装置の製造歩留りの向上をも実現することがで
きる。
Further, according to the present embodiment, it is possible to prevent other wirings from being accidentally cut off.
It is also possible to improve the production yield of the liquid crystal display device.

【0120】[第6実施形態]本発明の第6実施形態に
よる液晶表示装置を図14及び図15を用いて説明す
る。図14は、本実施形態による液晶表示装置を示す概
念図である。図15は、配線を切断した状態を示す概念
図である。図1乃至図13に示す第1乃至第5実施形態
による液晶表示装置と同一の構成要素には、同一の符号
を付して説明を省略または簡潔にする。
[Sixth Embodiment] The liquid crystal display according to a sixth embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. FIG. 14 is a conceptual diagram illustrating the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 15 is a conceptual diagram showing a state where the wiring is cut. The same components as those of the liquid crystal display devices according to the first to fifth embodiments shown in FIGS. 1 to 13 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0121】本実施形態による液晶表示装置は、図12
に示す第5実施形態による液晶表示装置のような電圧印
加端子34a、34bは設けられていず、TAB端子3
8a、38b、64a、64bに適宜電圧を印加するこ
とにより検査を行うものである。
The liquid crystal display device according to the present embodiment has the structure shown in FIG.
Are not provided with the voltage application terminals 34a and 34b as in the liquid crystal display device according to the fifth embodiment shown in FIG.
The inspection is performed by appropriately applying a voltage to 8a, 38b, 64a, and 64b.

【0122】図14に示すように、本実施形態による液
晶表示装置では、配線39a、39b、66a、66b
の切断すべき箇所の近傍に矢形の印37bが形成されて
いる。印37bは、図12に示す第5実施形態による液
晶表示装置の印37aと同様のものである。
As shown in FIG. 14, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the wirings 39a, 39b, 66a, 66b
An arrow-shaped mark 37b is formed near the portion to be cut. The mark 37b is similar to the mark 37a of the liquid crystal display according to the fifth embodiment shown in FIG.

【0123】データバスライン18a、18bとゲート
バスライン20a、20bとが周辺接続ライン32cを
介して電気的に接続されているのは、第5実施形態によ
る液晶表示装置と同様の理由、即ち液晶表示装置の製造
過程で生じる静電気によりTFT等が破壊されるのを回
避するためである。
The data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b are electrically connected via the peripheral connection line 32c for the same reason as in the liquid crystal display device according to the fifth embodiment, that is, for the liquid crystal display device. This is to prevent TFTs and the like from being destroyed by static electricity generated during the manufacturing process of the display device.

【0124】本実施形態による液晶表示装置の場合も、
データバスライン18a、18bとゲートバスライン2
0a、20bとがリペア配線32cを介して短絡状態と
なっているため、このままでは検査を行うことができな
い。
In the case of the liquid crystal display device according to the present embodiment,
Data bus lines 18a, 18b and gate bus line 2
Since 0a and 20b are short-circuited via the repair wiring 32c, the inspection cannot be performed as it is.

【0125】即ち、データバスライン18a、18bと
ゲートバスライン20a、20bとの間で短絡が発生し
ているか否かの検査は、TAB端子38a、38bに例
えば+10Vの電圧を印加し、TAB端子64a、64
bに例えば−10Vの電圧を印加することにより、デー
タバスライン18a、18bとゲートバスライン20
a、20bとに互いに異なる電圧を印加し、電圧測定端
子44a、44b、60a、60bの電圧を適宜測定す
ることによって行われるが、TAB端子38a、38b
とTAB端子64a、64bとが周辺接続ライン32c
を介して短絡状態となっている場合には、データバスラ
イン18a、18bとゲートバスライン20a、20b
とに互いに異なる電圧を印加することができず、短絡が
発生しているか否かを検査できない。
That is, to check whether or not a short circuit has occurred between the data bus lines 18a and 18b and the gate bus lines 20a and 20b, a voltage of, for example, +10 V is applied to the TAB terminals 38a and 38b. 64a, 64
For example, by applying a voltage of −10 V to the data bus lines 18 a and 18 b and the gate bus line 20.
A and 20b are applied by applying different voltages to each other and appropriately measuring the voltages at the voltage measuring terminals 44a, 44b, 60a and 60b.
And the TAB terminals 64a and 64b are connected to the peripheral connection line 32c.
Are short-circuited via the data bus lines 18a, 18b and the gate bus lines 20a, 20b.
Cannot apply different voltages to each other, and it cannot be checked whether a short circuit has occurred.

【0126】従って、かかる検査を行うためには、TA
B端子38a、38bとTAB端子64a、64bとの
短絡状態を解消すべく、配線39a、39b、66a、
66bを切断する必要がある。
Therefore, in order to perform such an inspection, the TA
In order to eliminate the short circuit between the B terminals 38a, 38b and the TAB terminals 64a, 64b, the wirings 39a, 39b, 66a,
66b needs to be cut.

【0127】しかし、配線39a、39b、66a、6
6bの近傍には、近似した形状の配線が多数形成されて
いる場合があり、かかる場合には、従来は、切断すべき
配線39a、39b、66a、66bを特定するのに長
時間を要したり、誤って他の配線を切断してしまうこと
があった。
However, the wirings 39a, 39b, 66a, 6
In the vicinity of 6b, there are cases where a large number of wirings having similar shapes are formed. In such a case, it takes a long time conventionally to specify the wirings 39a, 39b, 66a, 66b to be cut. Or accidentally cut other wiring.

【0128】そこで、本実施形態では、切断すべき配線
39a、39b、66a、66bの近傍に矢形の印37
bを形成している。本実施形態では、切断すべき配線3
9a、39b、66a、66bの近傍に矢形の印37b
が形成されているので、切断すべき配線39a、39
b、66a、66bを容易に特定でき、また誤って他の
配線を切断してしまうのを防止することができる。そし
て、例えば、図15に示すように適切な箇所71a〜7
1dで配線39a、39b、66a、66bを切断する
ことができる。
Therefore, in this embodiment, an arrow mark 37 is provided near the wirings 39a, 39b, 66a, 66b to be cut.
b is formed. In the present embodiment, the wiring 3 to be cut
Arrows 37b near 9a, 39b, 66a, 66b
Are formed, the wires 39a and 39 to be cut are cut.
b, 66a, 66b can be easily specified, and it can be prevented that other wirings are cut by mistake. Then, for example, as shown in FIG.
The wiring 39a, 39b, 66a, 66b can be cut by 1d.

【0129】そして、短絡が発生しているか否かを検査
を行うべく、TAB端子38a、38bに例えば+10
Vの電圧を印加し、TAB端子64a、64bに例えば
−10Vの電圧を印加すると、正常な場合には、電圧測
定端子44a、44bで+10Vの電圧が測定され、電
圧測定端子60a、60bで−10Vの電圧が測定され
る。
Then, in order to check whether or not a short circuit has occurred, for example, +10 is applied to the TAB terminals 38a and 38b.
When a voltage of V is applied and a voltage of, for example, -10 V is applied to the TAB terminals 64a, 64b, in a normal case, a voltage of +10 V is measured at the voltage measurement terminals 44a, 44b, and-at the voltage measurement terminals 60a, 60b. A voltage of 10 V is measured.

【0130】一方、図13に示すように、データバスラ
イン18bとゲートバスライン20bとが領域70で短
絡しているような場合には、電圧測定端子44a、44
bで測定される電圧と電圧測定端子58a、58bで測
定される電圧とが等しくなる。このような場合には、デ
ータバスラインとゲートバスラインとの間で短絡が発生
していると判断することができる。
On the other hand, as shown in FIG. 13, when the data bus line 18b and the gate bus line 20b are short-circuited in the region 70, the voltage measurement terminals 44a, 44
The voltage measured at b and the voltage measured at the voltage measurement terminals 58a and 58b become equal. In such a case, it can be determined that a short circuit has occurred between the data bus line and the gate bus line.

【0131】このように本実施形態によれば、切断すべ
き配線39a、39b、66a、66bの近傍に矢形の
印37bが形成されているので、切断すべき配線39
a、39b、66a、66bを容易に特定でき、検査の
迅速化を図ることができる。従って、本実施形態によれ
ば、液晶表示装置の製造コストを低減することができ
る。 また、本実施形態によれば、誤って他の配線を切
断してしまうことを防止することができるので、液晶表
示装置の製造歩留りの向上をも実現することができる。
As described above, according to the present embodiment, since the arrow mark 37b is formed near the wirings 39a, 39b, 66a, 66b to be cut, the wiring 39 to be cut is formed.
a, 39b, 66a, 66b can be easily specified, and the inspection can be speeded up. Therefore, according to the present embodiment, the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced. Further, according to the present embodiment, it is possible to prevent other wirings from being cut by mistake, and therefore, it is also possible to improve the production yield of the liquid crystal display device.

【0132】[第7実施形態]本発明の第7実施形態に
よる液晶表示装置を図16及び図17を用いて説明す
る。図16は、本実施形態による液晶表示装置を示す平
面図である。図17は、本実施形態による液晶表示装置
を示す斜視図である。図1乃至図15に示す第1実施形
態乃至第6実施形態による液晶表示装置と同一の構成要
素には、同一の符号を付して説明を省略または簡潔にす
る。
[Seventh Embodiment] The liquid crystal display according to a seventh embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. FIG. 16 is a plan view showing the liquid crystal display device according to the present embodiment. FIG. 17 is a perspective view of the liquid crystal display device according to the present embodiment. The same components as those of the liquid crystal display devices according to the first to sixth embodiments shown in FIGS. 1 to 15 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted or simplified.

【0133】図16に示すように、ガラス基板72に
は、データバスライン18、ゲートバスライン20が形
成されている。また、ガラス基板72には、TFT(図
示せず)や画素電極(図示せず)等が形成されている。
ガラス基板72に対向して、ガラス基板74が設けられ
ている。
As shown in FIG. 16, a data bus line 18 and a gate bus line 20 are formed on a glass substrate 72. Further, a TFT (not shown), a pixel electrode (not shown), and the like are formed on the glass substrate 72.
A glass substrate 74 is provided to face the glass substrate 72.

【0134】ガラス基板72の角には、三角形の印76
が複数形成されている。印76は、例えば金属膜により
構成されている。なお、印76は、ガラス基板72のす
べての角に形成してもよいし、一部の角にのみ形成して
もよい。
At the corners of the glass substrate 72, triangular marks 76
Are formed. The mark 76 is made of, for example, a metal film. The mark 76 may be formed at all corners of the glass substrate 72 or may be formed only at some corners.

【0135】ガラス基板72の角は、面取りされてい
る。図17(a)は、面取りを行う前の状態を示してお
り、図17(b)は、面取を行った後の状態を示してい
る。
The corners of the glass substrate 72 are chamfered. FIG. 17A shows a state before chamfering, and FIG. 17B shows a state after chamfering.

【0136】本実施形態による液晶表示装置は、ガラス
基板72の角に三角形の印76が形成されていることに
主な特徴がある。図31に示す従来の液晶表示装置で
は、面取り量を容易に確認することができなかったが、
本実施形態では、ガラス基板72の角に三角形の印76
が形成されているので、面取り量を容易に確認すること
ができる。従って、本実施形態によれば、面取り量を容
易に確認しながら面取り作業を行うことができ、面取り
の精度を向上することができる。
The liquid crystal display according to the present embodiment is characterized mainly in that a triangular mark 76 is formed at a corner of the glass substrate 72. In the conventional liquid crystal display device shown in FIG. 31, the amount of chamfer could not be easily confirmed.
In the present embodiment, triangular marks 76 are provided at the corners of the glass substrate 72.
Is formed, so that the amount of chamfer can be easily confirmed. Therefore, according to the present embodiment, the chamfering operation can be performed while easily checking the chamfering amount, and the accuracy of the chamfering can be improved.

【0137】また、本実施形態では、ガラス基板72の
角に三角形の印76が形成されているため、面取りが完
了した後に、面取り量が規格に適合するか否かを容易に
検査することができる。
In this embodiment, since the triangular mark 76 is formed at the corner of the glass substrate 72, it is possible to easily inspect whether the chamfer amount conforms to the standard after the chamfering is completed. it can.

【0138】また、本実施形態によれば、面取り量が規
格に適合していないガラス基板を、面取りの工程内で排
除することができるので、不良のガラス基板が次の工程
に流出するのを容易に防止することができ、ひいては高
い歩留りで液晶表示装置を製造することができる。
Further, according to the present embodiment, the glass substrate whose chamfer amount does not conform to the standard can be eliminated in the chamfering step, so that the defective glass substrate is prevented from flowing out to the next step. The liquid crystal display device can be easily prevented, and the liquid crystal display device can be manufactured with a high yield.

【0139】(変形例(その1))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その1)を図18を用いて
説明する。図18は、本変形例による液晶表示装置を示
す斜視図である。
(Modification (Part 1)) Next, a modification (Part 1) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 18 is a perspective view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0140】図18(a)に示すように、本変形例によ
る液晶表示装置は、印76に対応して数字が付されてい
ることに主な特徴がある。数字は、例えば、印76と同
一の導電膜により構成する。
As shown in FIG. 18A, the main feature of the liquid crystal display device according to the present modification is that numerals are given corresponding to the marks 76. The numerals are made of, for example, the same conductive film as the mark 76.

【0141】そして、例えば、2という数字が付された
印76の先端まで面取りを行うと、図18(b)のよう
になる。
Then, for example, when chamfering is performed up to the tip of the mark 76 with the numeral 2 as shown in FIG. 18B.

【0142】本変形例によれば、印76に対応して数字
が付されているので、図16に示す第7実施形態による
液晶表示装置の場合に比べて、更に容易に面取り量を検
査することができる。
According to this modification, since the numbers are given corresponding to the marks 76, the chamfer amount can be inspected more easily than in the case of the liquid crystal display device according to the seventh embodiment shown in FIG. be able to.

【0143】なお、ここでは印76に数字を付す場合を
例に説明したが、数字に限定されるものではなく、あら
ゆる文字や記号等を付すことができる。
Here, the case where a numeral is attached to the mark 76 has been described as an example. However, the invention is not limited to the numeral, and any character, symbol, or the like can be attached.

【0144】(変形例(その2))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その2)を図19を用いて
説明する。図19は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 2)) Next, a modification (Part 2) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 19 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0145】図19に示すように、本変形例による液晶
表示装置は、ガラス基板72の縁から内側に向かって、
線状の印76aが複数形成されていることに主な特徴が
ある。
As shown in FIG. 19, in the liquid crystal display device according to the present modification, the edge of the glass
The main feature is that a plurality of linear marks 76a are formed.

【0146】本変形例によれば、このような印76aが
形成されているので、均等な角度で面取りを行うことが
でき、割れや欠けの発生をより低減することができる。
According to the present modification, since such a mark 76a is formed, chamfering can be performed at an equal angle, and the occurrence of cracks and chips can be further reduced.

【0147】(変形例(その3))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その3)を図20を用いて
説明する。図20は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 3)) Next, a modification (Part 3) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 20 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0148】図20に示すように、本変形例による液晶
表示装置は、矩形の印76bが形成されていることに主
な特徴がある。
As shown in FIG. 20, the liquid crystal display according to the present modification is characterized mainly in that a rectangular mark 76b is formed.

【0149】このような矩形の印76bを形成した場合
であっても、面取り量を容易に検査することができる。
Even when such a rectangular mark 76b is formed, the chamfer amount can be easily inspected.

【0150】(変形例(その4))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その4)を図21を用いて
説明する。図21は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 4)) Next, a modification (Part 4) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 21 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0151】図21に示すように、本変形例による液晶
表示装置は、矩形の印を組み合わせて多角形の印76c
が形成されていることに主な特徴がある。
As shown in FIG. 21, the liquid crystal display device according to the present modification has a polygonal mark 76c formed by combining rectangular marks.
The main feature is that is formed.

【0152】本変形例によれば、このような多角形の印
76cが形成されているので、矩形の印76bを一つだ
け形成した図20に示す変形例(その3)による液晶表
示装置に比べて、更に容易に面取り量を検査することが
できる。
According to the present modification, since such a polygonal mark 76c is formed, the liquid crystal display device according to the modification (No. 3) shown in FIG. Compared with this, the chamfer amount can be more easily inspected.

【0153】(変形例(その5))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その5)を図22を用いて
説明する。図22は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 5)) Next, a modification (Part 5) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 22 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0154】図22(a)に示すように、本変形例によ
る液晶表示装置は、幅の広い矩形の印76dと幅の狭い
矩形の印76eとが適宜形成されていることに主な特徴
がある。
As shown in FIG. 22A, the main feature of the liquid crystal display device according to this modification is that a wide rectangular mark 76d and a narrow rectangular mark 76e are appropriately formed. is there.

【0155】このように幅の異なる矩形の印を形成した
場合であっても、容易に面取り量を検査することができ
る。
Even when the rectangular marks having different widths are formed, the chamfer amount can be easily inspected.

【0156】また、図22(b)に示すように、幅の等
しい印を連続的に配置し、適宜、幅の異なる印を連続的
に配置してもよい。
As shown in FIG. 22B, marks having the same width may be continuously arranged, and marks having different widths may be continuously arranged as appropriate.

【0157】また、幅や形状の異なる印を交互に形成し
てもよい。
Also, marks having different widths and shapes may be formed alternately.

【0158】(変形例(その6))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その6)を図23を用いて
説明する。図23は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 6)) Next, a modification (Part 6) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 23 is a plan view showing a liquid crystal display device according to the present modification.

【0159】図23に示すように、本変形例による液晶
表示装置は、正方形の印76fが形成されていることに
主な特徴がある。
As shown in FIG. 23, the liquid crystal display according to the present modification is characterized mainly in that a square mark 76f is formed.

【0160】このような正方形の印76fを形成した場
合であっても、容易に面取り量を検査することができ
る。
Even when such a square mark 76f is formed, the chamfer amount can be easily inspected.

【0161】(変形例(その7))次に、本実施形態に
よる液晶表示装置の変形例(その7)を図24を用いて
説明する。図24は、本変形例による液晶表示装置を示
す平面図である。
(Modification (Part 7)) Next, a modification (Part 7) of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be explained with reference to FIG. FIG. 24 is a plan view showing a liquid crystal display device according to this modification.

【0162】図24に示すように、本変形例による液晶
表示装置は、ガラス基板72の縁部に形成された配線7
8と一体に印76gが形成されていることに主な特徴が
ある。
As shown in FIG. 24, in the liquid crystal display device according to the present modification, the wiring 7 formed on the edge of the glass
The main feature is that the mark 76g is formed integrally with the mark 8.

【0163】このように他の目的で形成された配線78
と一体に印76gを形成する場合であっても、容易に面
取り量を検査することができる。
The wiring 78 thus formed for another purpose
Even if the mark 76g is formed integrally with the substrate, the chamfer amount can be easily inspected.

【0164】なお、図24では、矩形の印76gを配線
78と一体に形成したが、あらゆる形状の印を配線78
と一体に形成してもよい。
Although the rectangular mark 76g is formed integrally with the wiring 78 in FIG.
And may be formed integrally.

【0165】[変形実施形態]本発明は上記実施形態に
限らず種々の変形が可能である。
[Modified Embodiment] The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made.

【0166】例えば、第1乃至第3実施形態による液晶
表示装置で示した測定パターンは例示にすぎず、製造装
置の仕様、製造過程で生じるパーティクル、製造過程で
生じる静電気、画素設計の仕様等に応じて、適切な測定
パターンを用いることができる。
For example, the measurement patterns shown in the liquid crystal display devices according to the first to third embodiments are merely examples, and may vary depending on the specifications of the manufacturing apparatus, particles generated during the manufacturing process, static electricity generated during the manufacturing process, pixel design specifications, and the like. Accordingly, an appropriate measurement pattern can be used.

【0167】また、第1乃至第3実施形態で形成した測
定パターンは、必ずしもすべての画素に形成する必要は
ない。液晶表示装置の表示特性に悪影響を及ぼさないよ
うに考慮しつつ、必要に応じて適宜測定パターンを形成
すればよい。
The measurement patterns formed in the first to third embodiments need not always be formed in all pixels. The measurement pattern may be appropriately formed as necessary while taking into consideration that the display characteristics of the liquid crystal display device are not adversely affected.

【0168】また、第4実施形態では、印37を端子3
6と同一の導電膜により構成したが、印37は必ずしも
端子36と同一の導電膜により構成する必要はない。例
えば、TAB端子38aと同一の導電膜により印37を
構成してもよいし、別個に成膜することにより印37を
形成してもよい。
Also, in the fourth embodiment, the mark 37 is
6, the mark 37 does not necessarily need to be formed of the same conductive film as the terminal 36. For example, the mark 37 may be formed of the same conductive film as the TAB terminal 38a, or the mark 37 may be formed by separately forming a film.

【0169】また、第4乃至第7実施形態では、金属膜
により印を構成したが、印は金属に限定されるものでは
なく、例えば樹脂等により構成してもよい。樹脂として
は、例えばフォトレジストを用いることができる。
In the fourth to seventh embodiments, the mark is formed by the metal film. However, the mark is not limited to metal, and may be formed of, for example, resin. As the resin, for example, a photoresist can be used.

【0170】また、第4実施形態では、三角形の印37
を形成したが、印は三角形に限定されるものではなく、
あらゆる形状の印を用いることができる。例えば、図1
2に示す第5実施形態の液晶表示装置で用いられている
矢形の印37aと同様の印を形成してもよい。
In the fourth embodiment, the triangular mark 37
But the mark is not limited to a triangle,
Any shape of marking can be used. For example, FIG.
A mark similar to the arrow mark 37a used in the liquid crystal display device of the fifth embodiment shown in FIG. 2 may be formed.

【0171】また、第4実施形態では、データバスライ
ンを修復する場合を例に説明したが、データバスライン
を修復する場合のみならず、ゲートバスラインや蓄積容
量バスライン等あらゆるバスラインを修復する場合にも
適用することができる。
In the fourth embodiment, the case where the data bus line is repaired has been described as an example. Not only the case where the data bus line is repaired, but also any bus line such as the gate bus line and the storage capacitor bus line is repaired. It can also be applied to the case.

【0172】また、第4実施形態では、データバスライ
ンが断線している場合を例に説明したが、データバスラ
インが断線している場合に限定されるものではない。例
えば、リペア配線を用いてゲートバスラインや蓄積容量
バスラインの断線を修復する場合にも適用することがで
きる。
In the fourth embodiment, the case where the data bus line is disconnected has been described as an example. However, the present invention is not limited to the case where the data bus line is disconnected. For example, the present invention can also be applied to a case where a disconnection of a gate bus line or a storage capacitor bus line is repaired using a repair wiring.

【0173】また、第5実施形態では、印37aを周辺
接続ライン32cと同一の導電膜により構成したが、印
37aは必ずしも周辺接続ライン32cと同一の導電膜
により構成する必要はない。例えば、データバスライン
18a、18bと同一の導電膜により印37aを構成し
てもよいし、ゲートバスライン20a、20bと同一の
導電膜により印37aを構成してもよい。また、別個に
成膜することにより印37aを形成してもよい。
In the fifth embodiment, the mark 37a is made of the same conductive film as the peripheral connection line 32c. However, the mark 37a does not necessarily need to be made of the same conductive film as the peripheral connection line 32c. For example, the mark 37a may be formed of the same conductive film as the data bus lines 18a and 18b, or the mark 37a may be formed of the same conductive film as the gate bus lines 20a and 20b. Alternatively, the mark 37a may be formed by separately forming a film.

【0174】また、第4乃至第6実施形態では、配線の
近傍に印を付したが、配線上に印を付してもよい。
In the fourth to sixth embodiments, a mark is provided near the wiring, but a mark may be provided on the wiring.

【0175】また、第4乃至第6実施形態では、印を付
すことにより切断すべき箇所を特定したが、必ずしも印
を付すことによって特定しなくてもよい。即ち、切断す
べき箇所が視覚により特定できればよい。例えば、配線
やTAB端子等の一部をエッチングすることにより、切
断すべき箇所を特定してもよい。また、配線やTAB端
子等の一部の膜質を変化させることにより、切断すべき
箇所を特定してもよい。
Further, in the fourth to sixth embodiments, the place to be cut is specified by marking, but it is not always necessary to specify by marking. In other words, it is only necessary that the portion to be cut can be visually identified. For example, a portion to be cut may be specified by etching a part of a wiring, a TAB terminal, or the like. Alternatively, the part to be cut may be specified by changing the film quality of a part of the wiring, the TAB terminal, or the like.

【0176】また、第7実施形態では、データバスライ
ンやゲートバスライン等が形成されたガラス基板72を
面取りする場合を例に説明したが、対向するガラス基板
74を面取りする場合にも同様に適用することができ
る。この場合は、対向するガラス基板74の角に印を形
成すればよい。
In the seventh embodiment, the case where the glass substrate 72 on which the data bus lines, the gate bus lines, and the like are formed is chamfered is described as an example. Can be applied. In this case, a mark may be formed at a corner of the glass substrate 74 facing the same.

【0177】また、第7実施形態では、ガラス基板72
にのみ印を形成したが、ガラス基板72とガラス基板7
4の両方に印を形成してもよい。
Also, in the seventh embodiment, the glass substrate 72
Are formed only on the glass substrate 72 and the glass substrate 7.
4 may be formed with marks.

【0178】また、第7実施形態で形成した印の形状は
例示であり、あらゆる形状の印を用いることができる。
例えば、円形の印を形成してもよいし、メジャーのよう
な印を形成してもよい。
The shapes of the marks formed in the seventh embodiment are merely examples, and any shape of marks can be used.
For example, a circular mark may be formed, or a mark like a measure may be formed.

【0179】また、第7実施形態では、液晶表示装置に
用いられる基板を例に説明したが、面取りを行う必要が
ある基板であれば、他の装置に用いられる基板について
も同様に適用することができる。
In the seventh embodiment, the substrate used in the liquid crystal display device has been described as an example. However, if the substrate needs to be chamfered, the same applies to the substrate used in other devices. Can be.

【0180】また、第7実施形態では、金属膜により印
を構成したが、印は金属に限定されるものではなく、例
えば樹脂等により構成してもよい。樹脂としては、例え
ばフォトレジストを用いることができる。
In the seventh embodiment, the mark is formed by a metal film. However, the mark is not limited to metal, and may be formed of, for example, a resin. As the resin, for example, a photoresist can be used.

【0181】[0181]

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、ゲートバ
スラインと同一の導電膜より成る測定パターンがゲート
バスラインの延在方向と交差する方向に延在するように
形成されているので、測定パターンとデータバスライン
との位置関係を測定することにより、ゲートバスライン
に平行な方向におけるパターンの重ね合わせのずれをも
検査することができる。即ち、本発明によれば、ゲート
バスラインに垂直な方向におけるパターンの重ね合わせ
のずれのみならず、ゲートバスラインに平行な方向にお
けるパターンの重ね合わせのずれをも容易に検査するこ
とができる。そして、パターンの重ね合わせのずれに応
じてステップ式投影露光装置等を随時調整するようにす
れば、パターンの重ね合わせのずれを小さく保つことが
でき、ひいては表示品位が良好な液晶表示装置を高い歩
留りで製造することができる。
As described above, according to the present invention, the measurement pattern made of the same conductive film as the gate bus line is formed so as to extend in the direction intersecting the direction in which the gate bus line extends. By measuring the positional relationship between the measurement pattern and the data bus line, it is also possible to inspect the misalignment of the pattern in the direction parallel to the gate bus line. That is, according to the present invention, it is possible to easily inspect not only the displacement of the pattern overlapping in the direction perpendicular to the gate bus line but also the displacement of the pattern overlapping in the direction parallel to the gate bus line. If the step-type projection exposure apparatus or the like is adjusted as needed in accordance with the shift of the pattern superposition, the shift of the pattern superposition can be kept small, and as a result, the liquid crystal display device with good display quality can be improved. It can be manufactured with yield.

【0182】また、本発明によれば、印を形成すること
により、切断すべき配線を特定しやすくしているので、
検査の迅速化を図ることができ、ひいては液晶表示装置
の製造コストを低減することができる。また、本発明に
よれば、、誤って他の配線を切断してしまうことを防止
することができるので、液晶表示装置の製造歩留りの向
上をも実現することができる。
According to the present invention, the formation of the mark facilitates the specification of the wiring to be cut.
The inspection can be speeded up, and the manufacturing cost of the liquid crystal display device can be reduced. Further, according to the present invention, it is possible to prevent other wirings from being cut by mistake, so that it is also possible to improve the production yield of the liquid crystal display device.

【0183】また、本発明によれば、ガラス基板の角に
印が形成されているので、面取り量を容易に確認しなが
ら面取り作業を行うことができ、面取りの精度を向上す
ることができる。また、本発明によれば、ガラス基板の
角に印が形成されているため、面取りが完了した後に、
面取り量が規格に適合するか否かを容易に検査すること
ができる。また、本発明によれば、面取り量が規格に適
合していないガラス基板を、面取りの工程内で排除する
ことができるので、不良のガラス基板が次の工程に流出
するのを容易に防止することができ、ひいては高い歩留
りで液晶表示装置を製造することができる。
Further, according to the present invention, since the marks are formed at the corners of the glass substrate, the chamfering operation can be performed while easily checking the amount of chamfering, and the accuracy of the chamfering can be improved. According to the present invention, since the mark is formed at the corner of the glass substrate, after the chamfering is completed,
Whether or not the chamfer amount conforms to the standard can be easily inspected. Further, according to the present invention, a glass substrate whose chamfer amount does not conform to the standard can be eliminated in the chamfering process, so that a defective glass substrate can be easily prevented from flowing out to the next process. Accordingly, a liquid crystal display device can be manufactured with a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施形態による液晶表示装置を示
す平面図(その1)である。
FIG. 1 is a plan view (part 1) illustrating a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1実施形態による液晶表示装置を示
す平面図(その2)である。
FIG. 2 is a plan view (part 2) showing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1実施形態の変形例による液晶表示
装置を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a liquid crystal display according to a modification of the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2実施形態による液晶表示装置を示
す平面図である。
FIG. 4 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2実施形態の変形例による液晶表示
装置を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a liquid crystal display according to a modification of the second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3実施形態による液晶表示装置を示
す平面図である。
FIG. 6 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第3実施形態の変形例による液晶表示
装置を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a liquid crystal display according to a modification of the third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第4実施形態による液晶表示装置を示
す概念図である。
FIG. 8 is a conceptual diagram illustrating a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第4実施形態による液晶表示装置のT
AB端子の近傍を示す平面図である。
FIG. 9 illustrates the T of the liquid crystal display according to the fourth embodiment of the present invention.
It is a top view showing the vicinity of AB terminal.

【図10】本発明の第4実施形態による液晶表示装置の
データバスラインの断線の修復状態を示す概念図であ
る。
FIG. 10 is a conceptual diagram showing a repair state of a disconnection of a data bus line of a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第4実施形態による液晶表示装置の
リペア配線を周辺接続ラインから切断した状態を示す平
面図である。
FIG. 11 is a plan view showing a state where a repair wiring of a liquid crystal display device according to a fourth embodiment of the present invention is cut off from a peripheral connection line.

【図12】本発明の第5実施形態による液晶表示装置を
示す概念図である。
FIG. 12 is a conceptual diagram illustrating a liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第5実施形態による液晶表示装置の
周辺接続ラインを切断した状態を示す概念図である。
FIG. 13 is a conceptual diagram showing a state in which peripheral connection lines of a liquid crystal display according to a fifth embodiment of the present invention are cut off.

【図14】本発明の第6実施形態による液晶表示装置を
示す概念図である。
FIG. 14 is a conceptual diagram illustrating a liquid crystal display according to a sixth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第6実施形態による液晶表示装置の
配線を切断した状態を示す概念図である。
FIG. 15 is a conceptual diagram showing a state in which wiring of a liquid crystal display according to a sixth embodiment of the present invention has been cut.

【図16】本発明の第7実施形態による液晶表示装置を
示す平面図である。
FIG. 16 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to a seventh embodiment of the present invention.

【図17】本発明の第7実施形態による液晶表示装置を
示す斜視図である。
FIG. 17 is a perspective view illustrating a liquid crystal display device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第7実施形態の変形例(その1)に
よる液晶表示装置を示す斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view showing a liquid crystal display device according to a modification (Part 1) of the seventh embodiment of the present invention.

【図19】本発明の第7実施形態の変形例(その2)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a modification (Part 2) of the seventh embodiment of the present invention.

【図20】本発明の第7実施形態の変形例(その3)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 20 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a modification (Part 3) of the seventh embodiment of the present invention.

【図21】本発明の第7実施形態の変形例(その4)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 21 is a plan view illustrating a liquid crystal display device according to a modification (Part 4) of the seventh embodiment of the present invention.

【図22】本発明の第7実施形態の変形例(その5)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 22 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a modification (part 5) of the seventh embodiment of the present invention.

【図23】本発明の第7実施形態の変形例(その6)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 23 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a modification (6) of the seventh embodiment of the present invention.

【図24】本発明の第7実施形態の変形例(その7)に
よる液晶表示装置を示す平面図である。
FIG. 24 is a plan view showing a liquid crystal display device according to a modification (7) of the seventh embodiment of the present invention.

【図25】従来の液晶表示装置(その1)を示す平面図
である。
FIG. 25 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device (part 1).

【図26】従来の液晶表示装置を拡大して示した平面図
である。
FIG. 26 is an enlarged plan view showing a conventional liquid crystal display device.

【図27】従来の液晶表示装置(その2)を示す概念図
である。
FIG. 27 is a conceptual diagram showing a conventional liquid crystal display device (part 2).

【図28】互いに隣接するデータバスラインに同じ電圧
を印加する場合を示す概念図である。
FIG. 28 is a conceptual diagram showing a case where the same voltage is applied to adjacent data bus lines.

【図29】従来の液晶表示装置(その2)のデータバス
ラインに短絡が生じた場合を示す概念図である。
FIG. 29 is a conceptual diagram showing a case where a short circuit occurs in a data bus line of a conventional liquid crystal display device (part 2).

【図30】従来の液晶表示装置(その2)の断線修復技
術を示す概念図である。
FIG. 30 is a conceptual diagram showing a disconnection repair technique of a conventional liquid crystal display device (part 2).

【図31】従来の液晶表示装置(その3)を示す平面図
である。
FIG. 31 is a plan view showing a conventional liquid crystal display device (part 3).

【図32】従来の液晶表示装置(その3)の面取り不良
を示す概念図(その1)である。
FIG. 32 is a conceptual diagram (part 1) showing a chamfering failure of a conventional liquid crystal display device (part 3).

【図33】従来の液晶表示装置(その3)の面取り不良
を示す概念図(その2)である。
FIG. 33 is a conceptual diagram (part 2) showing a chamfering failure of a conventional liquid crystal display device (part 3).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…画素電極 12…TFT 14…ソース電極 16…ドレイン電極 18…データバスライン 18a〜18d…データバスライン 20…ゲートバスライン 22…蓄積容量バスライン 24…測定パターン 24a…測定パターン 24b…測定パターン 24c…測定パターン 24d…測定パターン 24e…測定パターン 26…測定パターン 26a…測定パターン 28…表示領域 30a、30b…リペア配線 32a、32b…周辺接続ライン 32c…周辺接続ライン 34a、34b…電圧印加端子 35…配線 36…端子 37…印 37a…印 37b…印 38a〜38d…TAB端子 39a〜39d…配線 40…配線 42…端子 43…配線 44a〜44d…電圧測定端子 46…配線 48…領域 50…領域 52…領域 54…領域 56…箇所 58a、58b…コンタクトホール 60a、60b…電圧測定端子 62a、62b…コンタクトホール 64a、64b…TAB端子 66a、66b…配線 68…箇所 70…領域 71a〜71d…箇所 72…ガラス基板 74…ガラス基板 76…印 76a…印 76b…印 76c…印 76d…印 76e…印 76f…印 76g…印 78…配線 110…画素電極 112…TFT 114…ソース電極 116…ドレイン電極 118…データバスライン 118a〜118d…データバスライン 120…ゲートバスライン 122…蓄積容量バスライン 128…表示領域 130a、130b…リペア配線 132a、132b…周辺接続ライン 134a、134b…電圧印加端子 144a〜144d…電圧測定端子 146…配線 148…領域 150…領域 152…領域 154…領域 156…箇所 172…ガラス基板 174…ガラス基板 175…欠け DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Pixel electrode 12 ... TFT 14 ... Source electrode 16 ... Drain electrode 18 ... Data bus line 18a-18d ... Data bus line 20 ... Gate bus line 22 ... Storage capacitor bus line 24 ... Measurement pattern 24a ... Measurement pattern 24b ... Measurement pattern 24c ... measurement pattern 24d ... measurement pattern 24e ... measurement pattern 26 ... measurement pattern 26a ... measurement pattern 28 ... display area 30a, 30b ... repair wiring 32a, 32b ... peripheral connection line 32c ... peripheral connection line 34a, 34b ... voltage application terminal 35 ... wiring 36 ... terminal 37 ... mark 37a ... mark 37b ... mark 38a to 38d ... TAB terminal 39a to 39d ... wiring 40 ... wiring 42 ... terminal 43 ... wiring 44a to 44d ... voltage measuring terminal 46 ... wiring 48 ... area 50 ... area 52 ... area 54 ... area 56 ... Places 58a, 58b ... Contact holes 60a, 60b ... Voltage measurement terminals 62a, 62b ... Contact holes 64a, 64b ... TAB terminals 66a, 66b ... Wiring 68 ... Places 70 ... Areas 71a to 71d ... Places 72 ... Glass substrate 74 ... Glass Substrate 76 ... mark 76a ... mark 76b ... mark 76c ... mark 76d ... mark 76e ... mark 76f ... mark 76g ... mark 78 ... wiring 110 ... pixel electrode 112 ... TFT 114 ... source electrode 116 ... drain electrode 118 ... data bus line 118a- 118d ... data bus line 120 ... gate bus line 122 ... storage capacitor bus line 128 ... display area 130a, 130b ... repair wiring 132a, 132b ... peripheral connection line 134a, 134b ... voltage application terminal 144a-144d ... voltage measurement terminal 146 ... wiring 148 ... region 150 ... region 152 ... region 154 ... region 156 ... location 172 ... glass substrate 174 ... glass substrate 175 ... chipping

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 352 G09F 9/30 330Z 5F033 9/30 330 338 5G435 338 H01L 21/02 A H01L 21/02 G02F 1/136 500 21/3205 H01L 21/88 Z (72)発明者 金城 毅 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 橘木 誠 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 広瀬 陽一 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 2G014 AA02 AA03 AB21 AC09 2H088 FA13 HA01 HA02 HA08 MA20 2H090 JA11 JB02 JC18 2H092 JA24 JA37 JA41 JB22 JB31 JB61 JB77 NA29 PA01 5C094 AA42 AA43 AA48 BA03 BA43 CA19 DA13 DB01 DB02 DB04 DB08 EA03 EA04 EA10 EB02 FA01 FB12 GB10 5F033 HH08 HH20 HH32 VV12 VV15 XX31 XX34 XX36 XX37 5G435 AA17 BB12 CC09 KK03 KK05──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/00 352 G09F 9/30 330Z 5F033 9/30 330 338 5G435 338 H01L 21/02 A H01L 21/02 G02F 1/136 500 21/3205 H01L 21/88 Z (72) Inventor Takeshi Kaneshiro 4-1-1, Kamidadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Makoto Tachibana Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Fujitsu Limited (72) Ueodanaka 4-chome, Nakahara-ku (72) Inventor Yoichi Hirose 4-1-1, Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in Fujitsu Limited (reference) 2G014 AA02 AA03 AB21 AC09 2H088 FA13 HA01 HA02 HA08 MA20 2H090 JA11 JB02 JC18 2H092 JA24 JA37 JA41 JB22 JB31 JB61 JB77 NA29 PA01 5C094 AA42 AA43 AA48 BA03 BA43 CA19 DA13 DB01 DB02 DB04 DB08 EA03 EA04 EA10 EB02 FA01 FB12 GB10 5F033 HH08 HH20 HH32 VV12 VV15 XX31 XX34 XX36 XX37 5G435 AA17 BB12 CC09 KK03 KK05

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成されたデータバスライン
と、 前記データバスラインに交差するゲートバスラインと、 前記ゲートバスラインと同一の導電膜より成り、前記ゲ
ートバスラインと交差する方向に延在する測定パターン
とを有することを特徴とする液晶表示装置。
1. A data bus line formed on a substrate, a gate bus line intersecting the data bus line, and a same conductive film as the gate bus line, and extending in a direction intersecting the gate bus line. A liquid crystal display device comprising: an existing measurement pattern.
【請求項2】 基板上に形成されたデータバスライン
と、 前記データバスラインに交差するゲートバスラインと、 前記ゲートバスラインと同一の導電膜より成り、前記ゲ
ートバスラインに沿って延在する蓄積容量バスライン
と、 前記蓄積容量バスラインと一体に形成され、前記ゲート
バスラインと交差する方向に延在する測定パターンとを
有することを特徴とする液晶表示装置。
2. A data bus line formed on a substrate, a gate bus line intersecting the data bus line, and a conductive film identical to the gate bus line, and extending along the gate bus line. A liquid crystal display device comprising: a storage capacitor bus line; and a measurement pattern formed integrally with the storage capacitor bus line and extending in a direction crossing the gate bus line.
【請求項3】 表示領域の外側で配線を切断することに
より、検査を行うことが可能となる液晶表示装置におい
て、 前記配線を切断すべき箇所を特定する印が形成されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。
3. A liquid crystal display device capable of performing an inspection by cutting a wiring outside a display area, wherein a mark for specifying a portion where the wiring is to be cut is formed. Liquid crystal display device.
【請求項4】 第1の基板と、前記第1の基板に対向す
る第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板との
間に封入された液晶材料とを有する液晶表示装置におい
て、 前記第1の基板及び/又は前記第2の基板の角の近傍
に、面取り量を測定しうる印が形成されていることを特
徴とする液晶表示装置。
4. A liquid crystal display comprising a first substrate, a second substrate facing the first substrate, and a liquid crystal material sealed between the first substrate and the second substrate. In the device, a mark capable of measuring a chamfer amount is formed near a corner of the first substrate and / or the second substrate.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7598525B2 (en) 2006-09-15 2009-10-06 Info Vision Optoelectronics Holdings Limited Thin film transistor array substrate with multiple chamfers and liquid crystal display device
JP2013221959A (en) * 2012-04-13 2013-10-28 Japan Display Inc Liquid crystal display device

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