JP2001351962A

JP2001351962A - 搬送装置及び露光装置

Info

Publication number: JP2001351962A
Application number: JP2000173969A
Authority: JP
Inventors: Yasuhito Kubota; 泰仁窪田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 2000-06-09
Filing date: 2000-06-09
Publication date: 2001-12-21

Abstract

(57)【要約】【課題】バキュームエラーによる搬送動作の一時停止
をなくするとともに、タクト向上を図る。【解決手段】摩擦パッド４１ａ〜４１ｊ上に基板を載
置して搬送する。基板Ｐの搬送時に基板に作用する力よ
りも基板と載置面との間の最大静止摩擦力が大きくなる
ように、摩擦パッドの材質と面積とを設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスや
液晶パネルの製造に用いられる露光装置及び露光装置等
において基板の搬送に用いられる搬送装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイパネル、プラズマディ
スプレイパネル等を製造するためのリソグラフィ工程で
は、ガラス基板等の基板にパターンを転写するための露
光装置が用いられる。露光装置は他の基板処理装置、例
えば基板にレジスト等の感光剤を塗布する塗布装置（コ
ータ）や感光剤が塗布された基板に現像処理を行う現像
装置（デベロッパ）とインラインで接続されることが多
くなっている。

【０００３】この種のリソグラフィシステムでは、例え
ば、露光装置のチャンバ内に露光装置本体、基板搬送装
置、受け渡しポートを設け、感光剤塗布機能、現像機能
の両方を備えたコータ・デベロッパのチャンバ内にコー
タ・デベロッパ本体、基板搬送装置を設けた構成になっ
ている。そして、コータ・デベロッパで所定の処理が施
された基板（例えば、ガラス基板）は、コータ・デベロ
ッパ側の基板搬送装置によって、両チャンバに設けられ
た開口部を介して露光装置内の受け渡しポートへ搬入さ
れる。受け渡しポートにセットされた基板は、露光装置
側の基板搬送装置によって露光装置本体へ搬送され、露
光処理が施される。露光処理後に再度コータ・デベロッ
パに搬送される基板は、上記と逆の順序で搬送される。

【０００４】図８は、従来の基板搬送装置に用いられて
いる搬送アームの上面図である。この搬送アーム６０
は、基板載置部に吸着パッド６１ａ〜６１ｄを有し、ガ
ラス基板Ｐの下面を吸着パッド６１ａ〜６１ｄに接触さ
せ真空吸着保持して搬送するようになっている。

【０００５】図９、図１０のフローチャート及び図１１
の概念図を用いて、従来の基板搬送装置によって基板を
基板ステージに搬送する搬送処理の流れを説明する。最
初に、図９と図１１を用いて基板ロード時の処理につい
て説明する。まず、不図示のキャリアアームが基板搬送
装置の搬送アーム（ロードアーム）６０の頭上位置Ｘ
（図１１参照）に進入する。搬送アーム６０はアップ動
作を行い、不図示のキャリアアームより基板Ｐを受け取
る（Ｓ３１）。キャリアアームより基板を受け取った搬
送アーム６０は吸着パッド６１ａ〜６１ｄにて基板Ｐを
真空吸着する（Ｓ３２）。真空吸着が規定のバキューム
圧力に達したことをバキュームセンサにて確認後（Ｓ３
３）、搬送アーム６０はダウン操作を行い、最初の位置
に戻る（Ｓ３４）。次に、搬送アーム６０は、基板ステ
ージ６３上のローディングポジションＹに進入する（Ｓ
３５）。次に、吸着パッド６１ａ〜６１ｄによる基板Ｐ
の真空吸着を解除する（Ｓ３６）。基板ステージ側では
基板支持部６５がアップし、搬送アーム６０は基板支持
部６５に基板Ｐを受け渡す（Ｓ３７）。その後、搬送ア
ーム６０は、待機位置に移動する（Ｓ３８）。

【０００６】図１０は、基板ステージから基板をアンロ
ードする時の搬送装置の処理手順を説明するフローチャ
ートである。露光作業が終了したら、露光装置の基板ス
テージ６０はローディングポジションＹに戻ってくる。
そして、基板ステージ６３の基板支持部６５がアップす
る。次に、基板搬送装置の搬送アーム（アンロードアー
ム）６０が基板ステージ上のローディングポジションＹ
に進入する（Ｓ４１）。次に、基板ステージ６３の基板
支持部６５がダウンして、搬送アーム６０は基板支持部
６５から基板Ｐを吸着パッド６１ａ〜６１ｄ上に受け取
る（Ｓ４２）。次に、搬送アーム６０は吸着パッド６１
ａ〜６１ｄにより基板の真空吸着を開始し（Ｓ４３）、
バキュームセンサにより、ある規定のバキューム圧力に
達したことを確認（Ｓ４４）した後、搬送アーム６０は
最初の位置に戻り（Ｓ２５）、一連の基板の搬送は終了
する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従来の基板搬送装置に
おいては、基板のソリやプロセスによる基板の変形など
のため、搬送アームの基板載置部に設けられた４個の吸
着パッドのうち一ヶ所でもバキュームエラーを起こすと
装置の動作が止まってしまい、その問題のある基板を回
収しなければ、再び装置を稼動することができない。ま
た、搬送アーム（ロードアームあるいはアンロードアー
ム）に基板を載せた時、あるバキューム圧力に到達する
まで、搬送アームは動き出すことができず、その待ち時
間分、タクトが遅くなるという問題があった。本発明
は、このような従来技術の問題点に鑑み、バキュームエ
ラーによる搬送動作の一時停止をなくするとともに、タ
クト向上を図ることを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
発明では、搬送アーム上に静止摩擦係数の大きな材料か
らなるパッドを設置し、そのパッドと基板との間の摩擦
力により、搬送アーム上の基板の位置ズレを最小限に抑
制する。また、摩擦力による基板の保持に加え、基板の
まわり（アーム上）に基板ズレ防止ストッパを設置し
た。ただし、ストッパ位置は、基板が基板ホルダ上に載
置された時、基板の端部位置をポテンションピンにて計
測できるような位置にしておく。

【０００９】すなわち、本発明による搬送装置は、基板
を載置する載置面（４１ａ〜４１ｊ、５１ａ，５１ｂ）
を有し、載置面に基板を載置して搬送する搬送装置にお
いて、基板（Ｐ）の搬送時に基板に作用する力よりも基
板と載置面との間の最大静止摩擦力が大きくなるよう
に、載置面の材質と面積とを設定したことを特徴とす
る。

【００１０】載置面の外側に基板（Ｐ）の移動を防止す
るストッパ部材（４２ａ〜４２ｈ）を設けるのが好まし
い。また、載置面の材質はゴムと樹脂との少なくとも一
方を含んだ材質とすることができる。本発明による露光
装置は、搬送装置により搬送された基板にパターンを露
光する露光装置において、搬送装置として前述の搬送装
置を用いることを特徴とする。

【００１１】本発明の搬送装置は、真空吸着によって基
板を保持する方式ではないため、バキュームエラーによ
る装置の一時停止がなくなる。また、同様に、真空吸着
を行っていないため、規定のバキューム圧力に達するま
での待ち時間がなくなり、タクトの向上を図ることがで
きる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。ここでは、基板処理装置を基板に
感光剤を塗布するコータと、感光剤を塗布された基板に
対して露光処理を行う露光装置とし、基板を液晶ディス
プレイパネル製造に用いられる角形のガラス基板とし、
これらコータと露光装置をインライン接続した装置例を
用いて説明する。

【００１３】図１はリソグラフィシステム（基板処理シ
ステム）１の平面図、図２はその断面正面図である。リ
ソグラフィシステム１は、チャンバ５を有するコータ２
及びチャンバ４を有する露光装置３を隣接配置した構成
になっている。チャンバ４の側壁４ａには開口部Ｋが形
成され、側壁４ａに対向するチャンバ５の側壁５ａには
開口部Ｋに連通する開口部８が形成されている。そし
て、コータ２と露光装置３とは、開口部８，Ｋを介して
インライン接続されている。

【００１４】コータ２は、チャンバ５内に収納された塗
布装置であるコータ本体９とロードアーム（搬送装置）
１０とシャッタ３１とシャッタ開閉装置３２を備えてい
る。コータ本体９は、ガラス基板（基板）Ｐに対してレ
ジスト等の感光剤を塗布する処理を行うものである。ロ
ードアーム１０は、ガラス基板Ｐを載置した状態でＸＹ
平面に沿って移動するとともにＺ方向に沿って昇降する
ことで、コータ本体９との間でガラス基板Ｐを搬送する
とともに、開口部８，Ｋを介して露光装置３との間でガ
ラス基板Ｐを搬送する構成になっている。シャッタ３１
は、開口部８を遮蔽するものであって、シャッタ開閉装
置３２によって駆動される。シャッタ３１の開閉状態は
シャッタ開閉センサ３４によって検知される。

【００１５】露光装置３は、図２に示す液晶表示素子等
のパターンが形成されたマスクＭとガラス基板Ｐとを投
影光学系２２に対して相対走査することによって、マス
クＭに形成されたパターンをガラス基板Ｐ上に一括転写
する処理を行うものであって、チャンバ５内に収納され
た基板搬送装置１１、露光装置本体１２及び受け渡しポ
ート１４を備えている。

【００１６】また、シャッタ３１とシャッタ開閉装置３
２と基板搬送装置１１とロードアーム１０及び開口部
８，Ｋとによって、コータ２と露光装置３との間でガラ
ス基板Ｐを搬送するための基板搬送システムが構築され
ている。なお、投影光学系２２の光軸方向をＺ軸方向と
し、Ｚ軸に直交する面内でマスクＭとガラス基板Ｐとを
投影光学系２２に対して相対走査する方向をＹ軸方向、
このＹ軸方向に直交する非走査方向をＸ軸方向として説
明する。

【００１７】受け渡しポート１４は、コータ本体９で感
光剤を塗布されたガラス基板Ｐ及び露光装置本体１２で
露光処理が施されたガラス基板Ｐの受け渡しが行われる
ものであって、ガラス基板Ｐを下方から吸着支持する矩
形配置された４本の支持軸１３を備えている。基板搬送
装置１１は、ガラス基板１１を保持した状態でＸＹ平面
に沿って移動するとともにＺ軸方向に沿って昇降するこ
とで、受け渡しポート１４との間でガラス基板Ｐを搬送
するとともに、露光装置本体１２との間でガラス基板Ｐ
を搬送する。

【００１８】露光装置本体１２は、照明光学系２０、マ
スクステージ２１、投影光学系２２及び基板ステージ２
３を主体として構成されている。照明光学系２０は、光
源ユニット、シャッタ、２次光源形成光学系、ビームス
プリッタ、集光レンズ系、視野絞り、及び結像レンズ系
等から構成され、露光用照明光によってマスクＭ上の矩
形（あるいは円弧状）の照明領域を均一な照度で照明す
る。マスクステージ２１は、リニアモータ等からなるマ
スク駆動機構２４によってＹ軸方向（図２における紙面
直交方向）に駆動される。また、マスクステージ２１
は、不図示のモータ等の駆動装置によってＸＹ面内で微
少駆動可能に構成されている。このマスクステージ２１
には、マスクＭが真空吸着等によって固定されている。
マスクステージ２１のＸＹ面内の位置は、位置検出装置
であるマスク用レーザ干渉計システム２５によって所定
の分解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測さ
れる。

【００１９】投影光学系２２としては、等倍の正立正像
を投影する複数（図２では五つ）の投影光学系ユニット
ＰＬ１〜ＰＬ５をいわゆる千鳥状に配置したものが用い
られている。なお、このような複数組の等倍正立の投影
光学系ユニットを用いた投影光学系の詳細は公知である
ので、ここでは詳細な説明を省略する。照明光学系２０
からの露光用照明光によってマスクＭ上の照明領域が照
明されると、マスクＭの照明領域部分の回路パターンの
等倍像がガラス基板Ｐ上の、前記照明領域に共役な露光
領域に投影される。

【００２０】基板ステージ２３は、投影光学系２２の下
方に配置され、ステージベース２６上をリニアモータ等
を含む基板駆動機構２７によってＹ軸方向（あるいはＸ
Ｙ二次元方向）に駆動される。この基板ステージ２３の
上面には、基板ホルダ２８を介してガラス基板Ｐが吸着
保持されるようになっている。この基板ステージ２３の
ＸＹ面内の位置は、移動鏡２９を介して位置検出装置で
ある基板用レーザ干渉計システム３０によって所定の分
解能、例えば０．５〜１ｎｍ程度の分解能で計測される
構成になっている。上記の構成の収納装置および基板処
理装置の作用について以下に説明する。まず、リソグラ
フィシステム１によるガラス基板Ｐに対する一連の処理
動作について説明する。

【００２１】コータ２のコータ本体９で表面に感光剤が
塗布されたガラス基板Ｐは、ロードアーム１０に載置さ
れて、図１に示すように開口部８に対向する位置へ搬送
される。この動作に同期して、シャッタ開閉装置３２の
駆動によりシャッタ３１が下降して開口部８、Ｋを開放
する。ここで、シャッタ３１が開いたことをシャッタ開
閉センサ３４が検知すると、ロードアーム１０はガラス
基板Ｐを保持した状態で、開口部８、Ｋを介してチャン
バ４内へ進入する。このとき、ガラス基板Ｐは、開口部
８において基板用開口８ａを通過し、ロードアーム１０
はアーム用開口８ｂ、８ｂを通過する。

【００２２】ロードアーム１０は、ガラス基板Ｐが受け
渡しポート１４の上方へ到達すると下降してガラス基板
Ｐを支持軸１３上に当接させ、さらに下降する。こうし
て、支持軸１３上にガラス基板Ｐが受け渡される。ロー
ドアーム１０は、所定量下降した後に−Ｙ方向へ移動し
て、チャンバ４内からチャンバ５内に戻る。ガラス基板
Ｐが受け渡しポート１４にセットされると、露光装置内
の基板搬送装置１１は、後述するようにして受け渡しポ
ート１４からガラス基板Ｐを受け取り、基板ステージ２
３に搬送する。ガラス基板Ｐが基板ステージ２３にセッ
トされると、干渉計システム２５、３０の計測値をモニ
タしつつ、マスク駆動機構２４、基板駆動機構２７を介
してマスクステージ２１と基板ステージ２３とを同期移
動して、Ｙ軸方向に沿って同一速度で同方向に投影光学
系２２に対して相対走査する。これにより、マスクＭ上
のパターン領域全域の回路パターンが、表面に感光剤が
塗布されたガラス基板Ｐ上に転写される６なお、露光処
理が終了したガラス基板Ｐは、上記と逆の手順で搬出さ
れる。

【００２３】図３は、本発明の基板搬送装置に用いられ
る搬送アームの一例を示す上面図である。ここでは、露
光装置３内に設置された基板搬送装置１１を例に説明す
るが、コータ２に設置されたロードアーム１０も同様の
構造を有する。搬送アーム４０は、基板載置部に複数の
摩擦パッド４１ａ〜４１ｊを有し、摩擦パッド４１ａ〜
４１ｊに接触させて載置したガラス基板Ｐを摩擦パッド
４１ａ〜４１ｊとガラス基板Ｐとの間の静止摩擦力によ
って保持して搬送する。摩擦パッドは、搬送アーム４０
が加速度運動をするとき摩擦パッド４１ａ〜４１ｊ上に
載置されているガラス基板Ｐが慣性力によって摩擦パッ
ド４１ａ〜４１ｊに対して滑って移動することがないよ
うに、静止摩擦係数の大きな材料、例えばネオプレン
（登録商標）ゴムやエラストマーによって作られてい
る。また、搬送中のガラス基板Ｐに作用する慣性力が摩
擦パッド４１ａ〜４１ｊとガラス基板Ｐの間の最大静止
摩擦力を超えることがないように、摩擦パッド４１ａ〜
４１ｊとガラス基板Ｐとの間の総接触面積も大きく設定
する。

【００２４】搬送アーム上４０に載置されるガラス基板
Ｐの外側には、ガラス基板Ｐの端面との間に適当なクリ
アランス（例えば１ｍｍ〜１．５ｍｍ程度）を有してス
トッパ部材４２ａ〜４２ｈが設けられている。ストッパ
部材４２ａ〜４２ｈは、搬送アーム４０による基板搬送
時に万一ガラス基板Ｐが摩擦パッド４１ａ〜４１ｊ上を
滑ったとしても、ガラス基板Ｐの端面がストッパ部材４
２ａ〜４２ｈに当たって止まることで大きな位置ずれを
起こさないようにするためのものである。

【００２５】次に、図４に示す搬送アーム４０と基板ス
テージ２３の概略図と、図５及び図６のフローチャート
を用いて、図３に示す搬送アームを備える基板搬送装置
によってガラス基板Ｐを露光装置３の基板ステージ２３
に搬送する搬送処理及びガラス基板Ｐを基板ステージ２
３から搬出する搬送処理の流れを説明する。なお、図５
及び図６のフローチャートは、露光装置３全体を制御す
る不図示の制御装置によるものである。

【００２６】最初に、図４と図５を用いて受け渡しポー
ト１４から受け取ったガラス基板Ｐを基板ステージ２３
にロードする時の基板搬送装置の処理について説明す
る。ガラス基板Ｐが受け渡しポート１４にセットされる
と、基板搬送装置１１の搬送アーム（ロードアーム）４
０は、ガラス基板Ｐに接触しない位置まで下降した後
に、受け渡しポート１４へ向けて移動する。搬送アーム
４０がガラス基板Ｐを保持すべき位置まで到達すると、
上昇してガラス基板Ｐを下面側から支持し、支持軸１３
からガラス基板Ｐを受け取る（Ｓ１１）。基板搬送装置
１１の搬送アーム４０は、ガラス基板Ｐと支持軸１３と
が所定量離間するまで上昇すると、ガラス基板Ｐを保持
して＋Ｘ方向へ移動し、そこでダウン動作して最初のＺ
位置に戻る（Ｓ１２）。次に、Ｚ軸周りに回転してガラ
ス基板Ｐを露光装置本体１２に対向させた後に＋Ｙ方向
へ移動し、ローディングポジションに進入する（Ｓ１
２）。ガラス基板Ｐが基板ステージ２３のほぼ真上（ロ
ーディングポジション）に到達すると、基板ステージ２
３から基板支持部４５がアップし、搬送アーム４０は基
板ステージ２３の基板支持部４５にガラス基板Ｐを受け
渡す（Ｓ１４）。その後、搬送アーム４０は一Ｙ方向へ
移動して基板ステージ２３から退避し、最初の位置に戻
る。

【００２７】基板ステージ側では、基板支持部４５がダ
ウンして、基板ホルダ２８上にガラス基板Ｐが受け渡さ
れる。ガラス基板Ｐは基板ステージ２３の基板ホルダ２
８上に真空吸着される。基板ホルダ２８の基板載置領域
周辺に設置された３つのポテンションピンにてガラス基
板Ｐの直交する２つのエッジの３点を叩くことにより、
ガラス基板Ｐが基板ホルダ２８上のどの位置にあるかを
正確に把握し、その情報を元に回転補正を行い露光作業
が開始される。なお、基板支持部４５は、ガラス基板Ｐ
を真空吸着してもよいし、しなくてもよい。

【００２８】次に、図６を用いて基板アンロード時の搬
送装置の処理について説明する。露光装置３において露
光作業が終了したら、基板ステージ２３はローディング
ポジションに戻ってくる。そして、基板ステージ２３の
基板支持部４５がアップし、ガラス基板Ｐを基板ホルダ
２８から持ち上げる。すると、基板搬送装置１１の搬送
アーム（アンロードアーム）がローディングポジション
に進入する（Ｓ２１）。次に、基板ステージ２３の基板
支持部４５がダウンし、基板搬送装置の搬送アームは基
板支持部４５からガラス基板Ｐを受け取る（Ｓ２２）。
次に、ガラス基板Ｐを受け取って保持した搬送アームは
最初の位置に戻り（Ｓ２３）、一連のガラス基板Ｐの流
れは終了する。

【００２９】図５及び図６のフローチャートからも分か
るように、本発明の基板搬送装置による基板搬送処理に
はガラス基板Ｐを真空吸着する工程、バキュームセンサ
による真空吸着状態の確認工程、真空吸着を解除する工
程がない。搬送アーム上にガラス基板Ｐを保持する際に
真空吸着を行っていないため、本発明の搬送装置による
と、次のような利点がある。

【００３０】バキュームエラーによる装置の一時停止
がなくなり、信頼性の向上を図ることができる。ロードアーム、アンロードアーム上に基板をのせた
時、規定のバキューム圧に達するまでの待ち時間がなく
なり、タクトが向上する。真空吸着のための配管引き回しのスペースが不用とな
る。その分、搬送系をコンパクトにできる。

【００３１】図７は、本発明による基板搬送装置に用い
られる搬送アームの他の例を示す上面図である。図３に
示した搬送アーム４０には円形の摩擦パッド４１ａ〜４
１ｊが複数個配置されその上にガラス基板Ｐを保持する
ものであったが、図７に示す搬送アーム５０は細長い帯
状の摩擦パッド５１ａ，５１ｂを用いている。このよう
な帯状の摩擦パッドを用いると、摩擦パッドとガラス基
板Ｐとの間の接触面積を大きく取ることが可能になる。

【００３２】ここで、摩擦パッドとガラス基板との間の
静止摩擦力によってガラス基板を保持する搬送アームを
用いる基板搬送装置によっても、従来の真空吸着によっ
てガラス基板を保持する搬送アームを用いる基板搬送装
置と同様に、搬送アーム上で位置ズレを起こすことなく
ガラス基板を搬送することが可能であることを説明す
る。ここでは例として、寸法６００ｍｍ×７２０ｍｍ、
板厚１．１ｍｍのガラス基板（比重：２．７６ｇ／ｃｍ
^３、重量：１．３１ｋｇ）を搬送する場合を考える。

【００３３】まず、従来の真空吸着保持型の搬送アーム
を備える搬送装置において、吸着パッドとガラス基板の
間に作用する最大静止摩擦力を評価する。搬送アーム
は、直径８ｍｍの４個の吸着パッドで、−４５０ｍｍＨ
ｇの真空圧力にてガラス基板を真空吸着保持しているも
のとする。４個のパッドの吸着面積は合計２０１．１ｍ
ｍ^２であるから、４個のパッドによる真空吸着力は１．
２３ｋｇｆである。ガラス基板の重量は１．３１ｋｇで
あるから、ガラス基板から搬送アームに作用する鉛直方
向の力は真空吸着力と重量の和、すなわち２．４５ｋｇ
ｆである。ガラス基板と吸着パッドとの摩擦係数を０．
２５とすると、吸着パッドとガラス基板との間の最大静
止摩擦力は０．６３５ｋｇｆである。

【００３４】次に、摩擦パッドを用いて自重のみでガラ
ス基板を保持する搬送アームを備える搬送装置におい
て、摩擦パッドとガラス基板の間に作用する最大静止摩
擦力を評価する。ガラス基板の自重は前述のように１．
３１ｋｇである。ここで、ガラス基板と摩擦パッドとの
間の静止摩擦係数を０．５とすると、最大静止摩擦力は
０．６５５ｋｇｆとなり、真空吸着保持型の搬送アーム
の場合と同等レベル以上の保持力を確保することができ
る。ただし、大きな静止摩擦係数を実現するには、摩擦
パッドにエラストマーのような摩擦係数の大きな材料を
使用し、かつガラス基板との接触面積も大幅に増やすこ
とが必要である。なお、搬送アームの最高加速度は現状
で約０．３Ｇであるため、ガラス基板に作用する慣性力
は０．３９３ｋｇｆである。従って、従来の真空吸着保
持型の搬送アームを備える搬送装置によっても、本発明
による自重のみでガラス基板を保持する搬送アームを備
える搬送装置によっても、搬送アーム上で位置ずれを起
こすことなくガラス基板を搬送することができる。

【００３５】なお、本実施の形態として、複数の投影光
学系２２を備えた走査型の露光装置を例に説明したが、
露光装置であればどのタイプの露光装置でも適用でき
る。例えば、マスクとガラス基板とを静止させた状態で
露光を行うステップ・アンド・リピート型の露光装置に
も適用できる。

【００３６】

【発明の効果】本発明によると、バキュームエラーによ
る搬送動作の一時停止がなくなり、また真空排気のため
の待ち時間がなくなりタクト向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】リソグラフィシステムの平面図。

【図２】リソグラフィシステムの断面正面図。

【図３】本発明の基板搬送装置に用いられる搬送アーム
の一例を示す上面図。

【図４】搬送アームと基板ステージの概略図。

【図５】基板ロード時の搬送装置の処理を説明するフロ
ーチャート。

【図６】基板アンロード時の搬送装置の処理を説明する
フローチャート。

【図７】本発明による基板搬送装置に用いられる搬送ア
ームの他の例を示す上面図。

【図８】従来の基板搬送装置に用いられている搬送アー
ムの上面図。

【図９】従来の基板搬送装置における基板ロード時の処
理を説明するフローチャート。

【図１０】従来の基板搬送装置における基板アンロード
時の処理を説明するフローチャート。

【図１１】搬送アームと基板ステージの概略図。

【符号の説明】

１…リソグラフィシステム、２…コータ、３…露光装
置、４，５…チャンバ、９…コータ本体、１０…ロード
アーム（搬送装置）、１１…基板搬送装置、１２…露光
装置本体、１３…支持軸、１４…受け渡しポート、２２
…投影光学系、２３…基板ステージ、２８…基板ホル
ダ、４０…搬送アーム、４１ａ〜４１ｊ…摩擦パッド、
４２ａ〜４２ｈ…ストッパ部材、４５…基板支持部、５
０…搬送アーム、５１ａ，５１ｂ…摩擦パッド、６０…
搬送アーム、６１ａ〜６１ｄ…吸着パッド、６３…基板
ステージ、６５…基板支持部、Ｐ…ガラス基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を載置する載置面を有し、前記載置
面に基板を載置して搬送する搬送装置において、前記基
板の搬送時に前記基板に作用する力よりも前記基板と前
記載置面との間の最大静止摩擦力が大きくなるように、
前記載置面の材質と面積とを設定したことを特徴とする
搬送装置。
【請求項２】請求項１記載の搬送装置において、前記
載置面の外側に前記基板の移動を防止するストッパ部材
が設けられていることを特徴とする搬送装置。
【請求項３】請求項１又は２記載の搬送装置におい
て、前記載置面の材質はゴムと樹脂との少なくとも一方
を含んでいることを特徴とする搬送装置。
【請求項４】搬送装置により搬送された基板にパター
ンを露光する露光装置において、前記搬送装置として請
求項１〜３の何れか１項記載の搬送装置を用いることを
特徴とする露光装置。