JP2001348308A - 菌代謝阻害剤 - Google Patents

菌代謝阻害剤

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JP2001348308A
JP2001348308A JP2001116093A JP2001116093A JP2001348308A JP 2001348308 A JP2001348308 A JP 2001348308A JP 2001116093 A JP2001116093 A JP 2001116093A JP 2001116093 A JP2001116093 A JP 2001116093A JP 2001348308 A JP2001348308 A JP 2001348308A
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cis
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phenyl
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Fumihiko Tokida
文彦 常田
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Lion Corp
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Abstract

(57)【要約】 【解決の手段】 87種の特定香料及び化学物質から選
ばれる1種又は2種以上を含有する菌代謝阻害剤。 【効果】 本発明の菌代謝抑制剤は、菌の生育に強い影
響を与えることなく、その菌に起因するトラブルを効果
的に抑制することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、強い抗菌剤の代わ
りに、菌に起因するトラブルを効果的に除去できる菌代
謝阻害剤およびそれを含有する組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】菌が原
因となって発生するトラブルには化粧品・外用分野では
腋臭、体臭、足ムレ臭、毛髪臭、アトピー性皮膚炎な
ど、口腔分野では口臭、歯垢形成、歯牙脱灰原因となる
酸産生など、その他生ゴミ臭などがある。
【0003】従来、これらのトラブルを解決する手段と
して抗菌剤を用いて原因菌を除去することが行われてい
るが、その安全性の点が懸念される。特に、原因菌が生
体の常在菌である場合、強い抗菌剤でそれを除去するこ
とにより菌叢が乱れ、外からの有害菌の侵入に対する抵
抗力が低下するなど、別の問題が生じる。
【0004】そこでマイルドな天然系の抗菌剤(特開平
7−69853号公報等)、あるいは病原菌に特異的に
働く抗菌剤(特開平8−109117号公報等)の探索
がなされている。また菌に起因するトラブルに着目し、
それだけを除去しようという試みは、ストレプトコック
ス・ムタンスの菌体外酵素グルコシルトランスフェラー
ゼの活性を抑えて、う蝕の原因となる歯垢形成を抑制し
ようというものがいくつか出願されている(特開昭57
−38709号公報等)。しかし菌の代謝を阻害してト
ラブルを抑えようという提案はなされていない。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、抗菌活性が弱く、あるいは認められず、優れた菌代
謝阻害活性を有する、菌代謝阻害剤およびそれを含有す
る外用、口腔用、消臭用組成物を提供することを目的と
する。
【0006】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、p−サイメン、α−ピネン、β−ピネン、Δ−3−
カレン、ピナン、ジペンテン、ジヒドロミルセノール、
イソリナロール、p−メンタン−4−オール、β−テル
ピネオール、2−p−メンテン−1−オール、サビネン
ハイドレート、ネロリドール、α−ビサボロール、エレ
モール、ベチベロール、ジヒドロカルベオール、1,4
−シネオール、d−リモネンオキサイド、l−リモネン
オキサイド、ジヒドロローズオキサイド、テトラヒドロ
シトラール、ヒドロキシシトロネラール、3−フォルミ
ルピナン、イソメントン、ツヨン、ピペリトンオキサイ
ド、9−オキソセドラン、α−イオノン、α−イソメチ
ルイオノン、α−イロン、ジメチル−α−イオノン、1
−ペンテン−3−オール、シス−3−ヘプテン−1−オ
ール、シス−4−ヘプテン−1−オール、シス−3−ノ
ネン−1−オール、シス−6−ノネン−1−オール、
3,6−ジメチル−3−オクタノール、エチルシクロヘ
キサノール、2−メチル−4−(2,2,3−トリメチ
ル−3−シクロペンテニル)−1−ブタノール、3−メ
チル−2−シクロヘキセン−1−オール、2−ヒドロキ
シ−2,5,5−トリメチルオクタリン、2−エチル−
4−(2,2,3−トリメチル−3−シクロペンテン−
1−イル)−2−ブテン−1−オール、3−フェニル−
1−プロパノール、3−メチル−1−フェニル−3−ペ
ンタノール、α−アミルシンナミックアルコール、2−
メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)プ
ロパノール、3,3,5−トリメチルシクロヘキシルエ
チルエーテル、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ
−4,6,6,7,8,8−ヘキサメチルシクロペンタ
−γ−2−ベンゾピラン、フェニルエチルメチルエーテ
ル、フェニルエチルイソアミルエーテル、2,5−ジエ
チルテトラヒドロフラン、ジヒドロエドゥラン、3−オ
キサビシクロ−[10.3.0]−6−ペンタデセン、
ビシクロジヒドロホモファルネシルオキサイド、2−メ
チルフラン、1,2−エポキシシクロドデカノン、2,
5−ジメチルテトラヒドロフラン、4−(4−ヒドロキ
シ−4−メチルペント−1−イル)−3−シクロヘキセ
ン−1−カルバルデヒド、3−プロピルビシクロ−
[2.2.1]−ヘプト−5−エン−2−カルバルデヒ
ド、ジュニパール、シクラメンアルデヒド、2−メチル
−3−(4−t−ブチルフェニル)プロパナール、4−
メチル−2−フェニル−2−ペンテナール、2,4−ジ
メチル−3−ペンタノン、3−オクテン−2−オン、6
−メチル−3,5−ヘプタジエン−2−オン、3−ノネ
ン−2−オン、2−デカノン、3−デセン−2−オン、
10−ウンデセン−2−オン、6,8−ジメチル−5−
ノネン−2−オン、2−トリデカノン、2,3−ペンタ
ンジオン、3−ヘプテン−2−オン、3−ブテン−2−
オン、2−メチル−3−ペンタノン、4−メチルシクロ
ヘキサノン、2−ブチルシクロヘキサノン、2−sec
−ブチルシクロヘキサノン、2−tert−ブチルシク
ロヘキサノン、3,3−ジメチルシクロヘキシルメチル
ケトン、2−ペンチルシクロペンタノン、2−ヘキシル
−2−シクロペンテノン、3−メチル−2−(シス−2
−ペンテン−1−イル)−2−シクロペンテノン、2−
ヘプチルシクロペンタノン、4−シクロヘキシル−4−
メチル−2−ペンタノンから選ばれる特定香料及び化学
物質が抗菌活性が弱く、あるいは認められず、優れた菌
代謝阻害活性を有することを知見した。即ち、口臭原因
菌であるフゾバクテリウム・ヌクレアツムに対する代謝
阻害活性と抗菌活性を評価した結果、上記成分にこのよ
うな特徴のある、優れた代謝阻害活性を有することを見
出し、本発明をなすに至った。
【0007】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の菌代謝阻害剤は、p−サイメン、α−ピネン、
β−ピネン、Δ−3−カレン、ピナン、ジペンテン、ジ
ヒドロミルセノール、イソリナロール、p−メンタン−
4−オール、β−テルピネオール、2−p−メンテン−
1−オール、サビネンハイドレート、ネロリドール、α
−ビサボロール、エレモール、ベチベロール、ジヒドロ
カルベオール、1,4−シネオール、d−リモネンオキ
サイド、l−リモネンオキサイド、ジヒドロローズオキ
サイド、テトラヒドロシトラール、ヒドロキシシトロネ
ラール、3−フォルミルピナン、イソメントン、ツヨ
ン、ピペリトンオキサイド、9−オキソセドラン、α−
イオノン、α−イソメチルイオノン、α−イロン、ジメ
チル−α−イオノン、1−ペンテン−3−オール、シス
−3−ヘプテン−1−オール、シス−4−ヘプテン−1
−オール、シス−3−ノネン−1−オール、シス−6−
ノネン−1−オール、3,6−ジメチル−3−オクタノ
ール、エチルシクロヘキサノール、2−メチル−4−
(2,2,3−トリメチル−3−シクロペンテニル)−
1−ブタノール、3−メチル−2−シクロヘキセン−1
−オール、2−ヒドロキシ−2,5,5−トリメチルオ
クタリン、2−エチル−4−(2,2,3−トリメチル
−3−シクロペンテン−1−イル)−2−ブテン−1−
オール、3−フェニル−1−プロパノール、3−メチル
−1−フェニル−3−ペンタノール、α−アミルシンナ
ミックアルコール、2−メチル−3−(3,4−メチレ
ンジオキシフェニル)プロパノール、3,3,5−トリ
メチルシクロヘキシルエチルエーテル、1,3,4,
6,7,8−ヘキサヒドロ−4,6,6,7,8,8−
ヘキサメチルシクロペンタ−γ−2−ベンゾピラン、フ
ェニルエチルメチルエーテル、フェニルエチルイソアミ
ルエーテル、2,5−ジエチルテトラヒドロフラン、ジ
ヒドロエドゥラン、3−オキサビシクロ−[10.3.
0]−6−ペンタデセン、ビシクロジヒドロホモファル
ネシルオキサイド、2−メチルフラン、1,2−エポキ
シシクロドデカノン、2,5−ジメチルテトラヒドロフ
ラン、4−(4−ヒドロキシ−4−メチルペント−1−
イル)−3−シクロヘキセン−1−カルバルデヒド、3
−プロピルビシクロ−[2.2.1]−ヘプト−5−エ
ン−2−カルバルデヒド、ジュニパール、シクラメンア
ルデヒド、2−メチル−3−(4−t−ブチルフェニ
ル)プロパナール、4−メチル−2−フェニル−2−ペ
ンテナール、2,4−ジメチル−3−ペンタノン、3−
オクテン−2−オン、6−メチル−3,5−ヘプタジエ
ン−2−オン、3−ノネン−2−オン、2−デカノン、
3−デセン−2−オン、10−ウンデセン−2−オン、
6,8−ジメチル−5−ノネン−2−オン、2−トリデ
カノン、2,3−ペンタンジオン、3−ヘプテン−2−
オン、3−ブテン−2−オン、2−メチル−3−ペンタ
ノン、4−メチルシクロヘキサノン、2−ブチルシクロ
ヘキサノン、2−sec−ブチルシクロヘキサノン、2
−tert−ブチルシクロヘキサノン、3,3−ジメチ
ルシクロヘキシルメチルケトン、2−ペンチルシクロペ
ンタノン、2−ヘキシル−2−シクロペンテノン、3−
メチル−2−(シス−2−ペンテン−1−イル)−2−
シクロペンテノン、2−ヘプチルシクロペンタノン、4
−シクロヘキシル−4−メチル−2−ペンタノンから選
ばれる87種の特定香料及び化学物質を1種又は2種以
上含有するものである。
【0008】本発明の菌代謝阻害剤を外用、口腔用、消
臭用組成物に使用する場合には、その配合量は、組成物
全体の0.01〜20%(重量%、以下同様)、特に
0.05〜3%とすることが好ましい。0.01%に満
たないと満足な効果が発揮されない場合があり、20%
を超えると組成物の安定性を損ない、特に口腔用組成物
に使用する場合は香味を損なうことがある。
【0009】本発明の外用組成物は、化粧料(クリー
ム、整髪料、育毛剤、制汗剤など)、身体洗浄剤(石け
ん、シャンプー、リンスなど)、口腔用組成物(歯磨
類、洗口剤、歯肉マッサージクリーム、口腔用軟膏、う
がい用錠剤、トローチ、キャンディ、チューインガムな
ど)、消臭用組成物(生ゴミ用消臭剤など)、洗浄剤
(洗濯剤、台所用洗剤など)、浴用剤などとして調製で
き、その種類、剤型に応じ、上記必須成分に加えて任意
成分としてその他の公知の添加剤を配合することができ
る。
【0010】歯磨類の場合は、例えば研磨剤、粘稠剤、
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、着色剤、各種有
効成分などを配合し得、これら成分を水と混合して製造
することができる。
【0011】
【発明の効果】本発明の菌代謝抑制剤は、菌の生育に強
い影響を与えることなく、その菌に起因するトラブルを
効果的に抑制することができる。
【0012】
【実施例】以下、実験例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。
【0013】〔実験例1〕菌代謝阻害試験 1)実験材料 被検液 サンプルの1g/100mL溶液をエタノールで調製し
た。 菌液 L−システイン塩酸塩を0.05%含む3%トッド・ヘ
ウィット・ブロス培地でFusobacterium
nucleatum 1436を嫌気的に1日前培養し
た。550nmにおける吸光度が0.8以上あることを
確認後、5000rpmで4分間遠沈し上清を捨てた。
菌体を生理的食塩水に縣濁させ、再び同様の操作を行な
い、得られた菌体をもとの菌液の2倍量の生理的食塩水
に縣濁させ、氷冷しながら試験に供した。 L−メチオニン溶液 L−メチオニンの0.5%溶液を水で調製した。 2)方法 ・内容量23mLの試験管にpH6.5の0.1mol
/Lリン酸緩衝液2.47mL、の被検液(コントロ
ールの場合はエタノール)を0.03mL入れる。 ・ヘッドスペースを混合ガス(窒素:水素:炭酸ガス=
8:1:1)で置換、シリコン栓をし、撹拌後37℃の
水浴に保温する。 ・5分後の菌液0.2mLをツベルクリン注射器を用
いて注入、攪拌し、保温する。 ・5分後のL−メチオニン溶液0.3mLを同様に注
射器を用いて注入、攪拌し、保温する。 ・10分後ガスタイトシリンジで空気を5mL注入、攪
拌し、ヘッドスペース5mLを抜き取りガスクロマトグ
ラフ分析でメチルメルカプタン量を測定する。同一被検
液で2回繰り返し、その平均から代謝阻害率を次のよう
に計算した。なお、系内のサンプル濃度は100ppm
となる。 <ガスクロマトグラフィー>島津ガスクロマトグラフG
C−14A型を使用し、次の条件で測定した。カラム:
Dinonyl phthalate 20%, Ch
romosorbW AW DMCS 60−80メッ
シュ、テフロン(登録商標)チューブ6m×3.2mm
φ、カラム温度:80℃、キャリアガス:窒素55mL
/min、検出器:FPD
【0014】〔実験例2〕抗菌試験 1)実験材料 被検液 サンプルの、1g/100mL、0.1g/100m
L、0.01g/100mL溶液をエタノールで調製し
た。 菌液 L−システイン塩酸塩を0.05%含む3%トッド・ヘ
ウィット・ブロス培地でFusobacterium
nucleatum 1436を嫌気的に1日前培養
し、550nmにおける吸光度を同培地を用いて0.8
に調節した。 2)方法 上記培地3.92mLが入った試験管(直径13mm×
100mm)に、の被検液0.04mLとの菌液
0.04mLを加え撹拌し、37℃、3日間嫌気培養の
後550nmの吸光度を測定した。吸光度0.05未満
となった最低濃度を最低発育阻止濃度(MIC)とし
た。なお、それぞれのサンプル濃度では、この系内で1
00ppm、10ppm、1ppmとなる。
【0015】
【表1】
【0016】
【表2】
【0017】
【表3】
【0018】表1〜3に見られる通り、比較例(抗菌
剤)に比べ実施例はいずれも代謝阻害活性が強く、抗菌
活性(MIC)は弱かった。あるいは認められなかっ
た。
【0019】 〔実施例1〕 クリーム ベントナイト 1.00 グリセリルモノステアレート 1.50 流動パラフィン 10.00 固体パラフィン 1.50 ジメチルシリコン 3.00 パルミチン酸セチル 2.00 セトステアリルアルコール 4.00 グリセリン 12.00 1,3−ブチレングリコール 2.00 カルボキシビニールポリマー(分子量100万〜150万) 0.08 キサンタンガム 0.10 プロピルパラベン 0.10 メチルパラベン 0.40 コロイド状ムタン 3.00 ジヒドロミルセノール 0.05 1−ペンテン−3−オール 0.05 エチルシクロヘキサノール 0.05 2−トリデカノン 0.05 水酸化ナトリウム 微量 香料 微量 精製水 残部 計 100.00
【0020】 〔実施例2〕 乳液 モンモリロナイト 1.00 デカグリセリルトリイソステアレート 0.50 デカグリセリルモノステアレート 1.60 グリチルリチン酸ジカリウム 0.20 ジメチルシリコーン 0.50 植物性スクワラン 5.50 ホホバ油 3.00 アーモンド油 0.50 マカデミアナッツ油 0.50 ヒマワリ油 0.50 レシチン 0.80 ベヘニルアルコール 1.00 グリセリン 7.00 カルボキシビニルポリマー(分子量100万〜150万) 0.10 キサンタンガム 0.10 メチルパラベン 0.40 酢酸トコフェロール 0.20 アルギニン 0.10 コロイド状ムタン 1.00 エタノール 2.00 イソリナロール 0.20 シス−3−ヘプテン−1−オール 0.20 ピペリトンオキサイド 0.20 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0021】 〔実施例3〕 化粧水 ベントナイト 0.50 デカグリセリルモノラウレート 0.20 ジグリセリンモノイソステアレート 0.10 POE(25)オレイルエーテル 0.80 米発酵エキス 0.20 ローズ水 0.10 グリセリン 7.00 カルボキシビニルポリマー(分子量100万〜150万) 0.10 メチルパラベン 0.40 プロピルパラベン 0.10 トリイソプロパノールアミン 0.05 コロイド状ムタン 1.00 エタノール 10.00 p−メンタン−4−オール 0.10 シス−4−ヘプテン−1−オール 0.10 α−イソメチルイオノン 0.20 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0022】 〔実施例4〕 ヘアクリーム トリステアリン酸ヘキサグリセリル 3.0 アルキル変性カルボキシビニルポリマー 0.4 カラヤガム 0.1 メチルシロキサン・ポリオキシエチレン共重合体 0.5 メチルポリシロキサン(10万cst) 5.0 流動パラフィン 5.0 パラフィンワックス 3.0 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 2.0 3−メチル−1,3−ブタンジオール 10.0 ジヒドロキシベンゾフェノン 0.1 プロピルパラベン 0.1 メチルパラベン 0.3 フェノキシエタノール 0.5 ヤシ油脂肪酸ソルビタン 2.0 モノステアリン酸グリセリン 1.0 モノステアリン酸プロピレングリコール 2.0 トリエタノールアミン 0.5 β−テルピネオール 0.2 シス−3−ノネン−1−オール 0.1 α−イロン 0.1 1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−4,6,6,7,8, 8−ヘキサメチルシクロペンタ−γ−2−ベンゾピラン 0.1 香料 0.2 精製水 残部 計 100.0
【0023】 〔実施例5〕 育毛剤 コロイド状ムタン 3.0 ペンタデカン酸モノグリセライド 2.5 酢酸トコフェロール 0.2 ソルビタンモノラウレート 3.0 オレイン酸エチル 2.5 ユカフォーマー201 0.1 シクロピロクスオラミンーラポナイト複合体 0.5 2−p−メンテン−1−オール 0.1 シス−6−ノネン−1−オール 0.1 2−メチル−3−(4−t−ブチルフェニル)プロパナール 0.1 4−シクロヘキシル−4−メチル−2−ペンタノン 0.1 香料 微量 エタノール 残部 計 100.0
【0024】 〔実施例6〕 ロールオンタイプ制汗剤 コロイド状ムタン 3.0 クロルヒドロキシアルミニウム 20.0 エタノール 35.0 ハイドロキシエチルセルロース 0.6 PPG5−CETETH−20 2.0 サビネンハイドレート 0.5 ネロリドール 0.5 2−ヘプチルシクロペンタノン 0.2 香料 0.5 精製水 残部 計 100.0
【0025】 〔実施例7〕 パウダースプレータイプ制汗剤 クロルヒドロキシアルミニウム 4.0 マグネシアシリカ 3.0 無水珪酸 4.0 ミリスチン酸イソプロピル 3.0 メチルシクロポリシロキサン 1.5 デカメチルペンタシロキサン 3.0 ソルビタントリオレエート 0.5 グリチルレチン酸ステアリル 0.02 植物性スクワラン 0.1 トリクロサン−ベンクレーSL複合体 0.3 α−ビサボロール 0.1 3,6−ジメチル−3−オクタノール 0.1 2−メチルフラン 0.1 3−メチル−2−(シス−2−ペンテン−1−イル)−2−シ クロペンテノン 0.1 香料 0.2 液化石油ガス 残部 計 100.0
【0026】 〔実施例8〕 アトピー性皮膚炎用ローション グリセリン 5.0 1、3−ブチレングリコール 5.0 カルボキシビニルポリマー 0.5 水酸化カリウム 微量 酢酸トコフェロール 0.2 モノイソステアリン酸デカグリセリル 1.0 トリステアリン酸デカグリセリル 0.5 エタノール 1.0 POE(40)硬化ヒマシ油 0.5 トリメチルグリシン 3.0 ピロクトンオラミン−ベンクレーSL複合体 0.25 エレモール 0.1 4−メチル−2−フェニル−2−ペンテナール 0.1 2−メチル−4−(2,2,3−トリメチル−3−シクロペン テニル)−1−ブタノール 0.1 シクラメンアルデヒド 0.1 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0027】 〔実施例9〕 ボディソープ ラウリン酸K塩 10.0 ミリスチン酸K塩 10.0 NラウロイルNメチルβアラニンK塩 2.0 Nラウロイルグルタミン酸モノK塩 2.0 ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 3.0 ラウリルジメチルアミンオキサイド 1.0 プロピレングリコール 6.0 ヒドロキシプロピルメチルセルロース 0.5 ジステアリン酸エチレングリコール 1.0 カチオン化セルロース 0.1 ポリスチレン重合体(n=300) 0.1 エデト酸四ナトリウム四水塩 0.1 ベチベロール 0.05 ツヨン 0.05 ジヒドロカルベオール 0.1 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0028】 〔実施例10〕 ふけとりシャンプー ラウリル硫酸トリエタノールアミン 8.0 POE(EO=3)ラウリル硫酸トリエタノールアミン 8.0 ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 3.0 エチレングリコールモノステアレート 2.0 ピロクトンオラミン−クニピアF複合体 2.0 1,4−シネオール 0.2 3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オール 0.2 3−プロピルビシクロ−[2.2.1]−ヘプト−5−エン− 2−カルバルデヒド 0.1 フェニルエチルイソアミルエーテル 0.1 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0029】 〔実施例11〕 リンス ヒドロキシベンゾフェノン 0.1 ミリスチン酸イソステアリル 1.0 カチオン化セルロース 1.0 塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 1.0 ステアリルアルコール 3.0 ポリオキシエチレン(20E.O.) 硬化ヒマシ油 1.0 プロピレングリコール 5.0 d−リモネンオキサイド 0.1 2−ヒドロキシ−2,5,5−トリメチルオクタリン 0.1 3−オクテン−2−オン 0.1 香料 微量 精製水 残部 計 100.0
【0030】 〔実施例12〕 練歯磨1 沈降性シリカ 25.00% グリセリン 25.00 ソルビット 15.00 キシリトール 10.00 ラウロイルデカグリセリンエステル 1.00 ミリスチン酸ジエタノールアミド 2.00 香 料 1.00 サッカリンナトリウム 0.20 Δ−3−カレン 0.05 3−ブテン−2−オン 0.05 4−(4−ヒドロキシ−4−メチルペント−1−イル)−3− シクロヘキセン−1−カルバルデヒド 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0031】 〔実施例13〕 練歯磨2 沈降性シリカ 25.00% グリセリン 25.00 ソルビット 15.00 キシリトール 10.00 ラウロイルデカグリセリンエステル 1.00 ミリスチン酸ジエタノールアミド 2.00 香 料 1.00 サッカリンナトリウム 0.20 3,3,5−トリメチルシクロヘキシルエチルエーテル 0.02 3−デセン−2−オン 0.02 2−エチル−4−(2,2,3−トリメチル−3−シクロペン テン−1−イル)−2−ブテン−1−オール 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0032】 〔実施例14〕 液状歯磨 水酸化アルミニウム 25.00% グリセリン 40.00 ソルビット 15.00 カルボキシメチルセルロース(重合度=500) 0.20 プロピレングリコール 2.00 ラウリル硫酸ナトリウム 1.50 モノラウリン酸デカグリセリル 1.00 香 料 1.00 サッカリンナトリウム 0.10 p−サイメン 0.10 イソメントン 0.10 3−フェニル−1−プロパノール 0.05 3−ノネン−2−オン 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0033】 〔実施例15〕 口腔用軟膏 流動パラフィン 15.00% セタノール 10.00 グリセリン 20.00 ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル 5.00 香 料 0.50 サッカリンナトリウム 0.10 α−ピネン 0.03 β−ピネン 0.03 2−ペンチルシクロペンタノン 0.01 10−ウンデセン−2−オン 0.01 精製水 残部 計 100.0
【0034】 〔実施例16〕 洗口液1 エタノール 20.00% 香 料 1.00 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(EO=60) 0.30 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.10 サッカリンナトリウム 0.05 ジペンテン 0.10 3−フォルミルピナン 0.05 2,5−ジメチルテトラヒドロフラン 0.05 3,3−ジメチルシクロヘキシルメチルケトン 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0035】 〔実施例17〕 洗口液2 エタノール 20.00% 香 料 1.00 ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(EO=60) 0.30 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.10 サッカリンナトリウム 0.05 3−メチル−1−フェニル−3−ペンタノール 0.05 ジヒドロエドゥラン 0.05 2,4−ジメチル−3−ペンタノン 0.05 2−ブチルシクロヘキサノン 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0036】 〔実施例18〕 うがい用錠剤 炭酸水素ナトリウム 54.00% クエン酸 17.00 無水硫酸ナトリウム 12.80 第2リン酸ナトリウム 10.00 ポリエチレングリコール 3.00 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.10 香 料 2.00 オレイン酸 0.10 ピナン 0.30 α−アミルシンナミックアルコール 0.20 2−メチル−3−ペンタノン 0.20 計 100.0
【0037】 〔実施例19〕 トローチ キシリトール 92.00% アラビアゴム 5.00 タルク 2.00 ステアリン酸マグネシウム 0.70 1−リモネンオキサイド 0.10 2−メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)プロ パノール 0.10 6,8−ジメチル−5−ノネン−2−オン 0.10 計 100.0
【0038】 〔実施例20〕 キャンディ1 砂 糖 50.00% 水 飴 33.00 有機酸 2.00 香 料 0.20 テトラヒドロシトラール 0.10 ジヒドロローズオキサイド 0.10 フェニルエチルメチルエーテル 0.10 精製水 残部 計 100.0
【0039】 〔実施例21〕 キャンディ2 砂 糖 50.00% 水 飴 33.00 有機酸 2.00 香 料 0.20 2,5−ジエチルテトラヒドロフラン 0.05 6−メチル−3,5−ヘプタジエン−2−オン 0.05 3−ヘプテン−2−オン 0.05 2−ヘキシル−2−シクロペンテノン 0.05 精製水 残部 計 100.0
【0040】 〔実施例22〕 チューインガム1 砂 糖 53.40% ガムベース 20.00 グルコース 10.00 水 飴 16.00 香 料 0.50 ヒドロキシシトロネラール 0.04 3−オキサビシクロ−[10.3.0]−6−ペンタデセン 0.03 2,3−ペンタンジオン 0.03 計 100.0
【0041】 〔実施例23〕 チューインガム2 砂 糖 53.40% ガムベース 20.00 グルコース 10.00 水 飴 16.00 香 料 0.50 ビシクロジヒドロホモファルネシルオキサイド 0.04 2−デカノン 0.03 2−tert−ブチルシクロヘキサノン 0.03 計 100.0
【0042】 〔実施例24〕 液体消臭剤 エタノール 94.0% 香料 1.0 ジメチル−α−イオノン 2.0 α−イオノン 1.0 1,2−エポキシシクロドデカノン 1.0 4−メチルシクロヘキサノン 1.0 計 100.0
【0043】 〔実施例25〕 浴用剤 硫酸ナトリウム 44.00 炭酸ナトリウム 50.37 カルボキシメチルセルロースナトリウム 0.80 グリシン 0.30 亜硫酸ナトリウム 2.00 無水ケイ酸 0.70 チンピ抽出液 0.10 法定色素 0.23 香料 1.00 9−オキソセドラン 0.20 ジュニパール 0.20 2−sec−ブチルシクロヘキサノン 0.10 計 100.0
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C083 AA112 AA122 AB032 AB172 AB222 AB282 AB312 AB352 AB382 AB442 AC012 AC022 AC072 AC082 AC102 AC122 AC152 AC172 AC182 AC212 AC242 AC252 AC302 AC352 AC392 AC422 AC432 AC442 AC482 AC532 AC542 AC562 AC582 AC642 AC662 AC782 AC812 AC842 AC852 AC862 AD022 AD042 AD092 AD132 AD152 AD162 AD272 AD282 AD352 AD531 AD532 AD572 AD662 CC04 CC05 CC23 CC25 CC32 CC37 CC38 CC39 CC41 DD21 DD22 DD27 DD28 DD32 EE18 EE34

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】p−サイメン、α−ピネン、β−ピネン、
    Δ−3−カレン、ピナン、ジペンテン、ジヒドロミルセ
    ノール、イソリナロール、p−メンタン−4−オール、
    β−テルピネオール、2−p−メンテン−1−オール、
    サビネンハイドレート、ネロリドール、α−ビサボロー
    ル、エレモール、ベチベロール、ジヒドロカルベオー
    ル、1,4−シネオール、d−リモネンオキサイド、l
    −リモネンオキサイド、ジヒドロローズオキサイド、テ
    トラヒドロシトラール、ヒドロキシシトロネラール、3
    −フォルミルピナン、イソメントン、ツヨン、ピペリト
    ンオキサイド、9−オキソセドラン、α−イオノン、α
    −イソメチルイオノン、α−イロン、ジメチル−α−イ
    オノン、1−ペンテン−3−オール、シス−3−ヘプテ
    ン−1−オール、シス−4−ヘプテン−1−オール、シ
    ス−3−ノネン−1−オール、シス−6−ノネン−1−
    オール、3,6−ジメチル−3−オクタノール、エチル
    シクロヘキサノール、2−メチル−4−(2,2,3−
    トリメチル−3−シクロペンテニル)−1−ブタノー
    ル、3−メチル−2−シクロヘキセン−1−オール、2
    −ヒドロキシ−2,5,5−トリメチルオクタリン、2
    −エチル−4−(2,2,3−トリメチル−3−シクロ
    ペンテン−1−イル)−2−ブテン−1−オール、3−
    フェニル−1−プロパノール、3−メチル−1−フェニ
    ル−3−ペンタノール、α−アミルシンナミックアルコ
    ール、2−メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフ
    ェニル)プロパノール、3,3,5−トリメチルシクロ
    ヘキシルエチルエーテル、1,3,4,6,7,8−ヘ
    キサヒドロ−4,6,6,7,8,8−ヘキサメチルシ
    クロペンタ−γ−2−ベンゾピラン、フェニルエチルメ
    チルエーテル、フェニルエチルイソアミルエーテル、
    2,5−ジエチルテトラヒドロフラン、ジヒドロエドゥ
    ラン、3−オキサビシクロ−[10.3.0]−6−ペ
    ンタデセン、ビシクロジヒドロホモファルネシルオキサ
    イド、2−メチルフラン、1,2−エポキシシクロドデ
    カノン、2,5−ジメチルテトラヒドロフラン、4−
    (4−ヒドロキシ−4−メチルペント−1−イル)−3
    −シクロヘキセン−1−カルバルデヒド、3−プロピル
    ビシクロ−[2.2.1]−ヘプト−5−エン−2−カ
    ルバルデヒド、ジュニパール、シクラメンアルデヒド、
    2−メチル−3−(4−t−ブチルフェニル)プロパナ
    ール、4−メチル−2−フェニル−2−ペンテナール、
    2,4−ジメチル−3−ペンタノン、3−オクテン−2
    −オン、6−メチル−3,5−ヘプタジエン−2−オ
    ン、3−ノネン−2−オン、2−デカノン、3−デセン
    −2−オン、10−ウンデセン−2−オン、6,8−ジ
    メチル−5−ノネン−2−オン、2−トリデカノン、
    2,3−ペンタンジオン、3−ヘプテン−2−オン、3
    −ブテン−2−オン、2−メチル−3−ペンタノン、4
    −メチルシクロヘキサノン、2−ブチルシクロヘキサノ
    ン、2−sec−ブチルシクロヘキサノン、2−ter
    t−ブチルシクロヘキサノン、3,3−ジメチルシクロ
    ヘキシルメチルケトン、2−ペンチルシクロペンタノ
    ン、2−ヘキシル−2−シクロペンテノン、3−メチル
    −2−(シス−2−ペンテン−1−イル)−2−シクロ
    ペンテノン、2−ヘプチルシクロペンタノン、4−シク
    ロヘキシル−4−メチル−2−ペンタノンから選ばれる
    1種又は2種以上を含有する菌代謝阻害剤。
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