JP2001347451A - Grinding device - Google Patents

Grinding device

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JP2001347451A
JP2001347451A JP2000170909A JP2000170909A JP2001347451A JP 2001347451 A JP2001347451 A JP 2001347451A JP 2000170909 A JP2000170909 A JP 2000170909A JP 2000170909 A JP2000170909 A JP 2000170909A JP 2001347451 A JP2001347451 A JP 2001347451A
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JP
Japan
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polishing
plate
polished
plate member
pressure plate
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000170909A
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Japanese (ja)
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Shinzo Nishikawa
川 真 三 西
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SpeedFam Co Ltd
Original Assignee
SpeedFam Co Ltd
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To surely press an overall work to be ground by uniform force by allowing a pressure plate pressing the work to be ground to a surface plate, to be deformable corresponding to the surface shape of the work to be ground or the surface shape of a grinding pad, and to simplify a structure of the grinder to reduce the cost. SOLUTION: The pressure plate 14 is composed of an upper plate member 26 made of a rigid material, a lower plate member 27 made of a rigid material and abutting on a work 11 to be ground to press the same, and a deformable soft member 28 located between flat joint faces 26a and 27a of both plate members 26 and 27.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、光
学機器等に使用する単結晶基板、光学部品や硝子部品な
どの、実質的にプレート状をした各種被研磨物を平面研
磨するための研磨装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to polishing for planarly polishing various plate-like objects to be polished, such as semiconductor wafers, single crystal substrates used for optical equipment, optical parts and glass parts. It concerns the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハのようなプレート状をした
被研磨物の片面を平面研磨する研磨装置は、図5及び図
6に示すように、作業面に研磨パッド2を貼着した研磨
定盤1と、被研磨物3を保持するプレッシャープレート
4とを有していて、このプレッシャープレート4に保持
させた被研磨物3を回転する研磨定盤1の研磨パッド2
に押し付けて研磨するように構成されている。
2. Description of the Related Art As shown in FIGS. 5 and 6, a polishing apparatus for polishing one side of a plate-like object to be polished such as a semiconductor wafer on a flat surface has a polishing pad 2 adhered to a work surface. 1 and a pressure plate 4 for holding an object 3 to be polished, and a polishing pad 2 of a polishing platen 1 for rotating the object 3 held on the pressure plate 4
It is configured to be pressed against and polished.

【0003】前記プレッシャープレート4は、一般に、
アルミニウムやステンレス等の剛質素材により形成さ
れ、それで直接被研磨物3を加圧するようにしていた。
ところが、図7及び図8に示すように、被研磨物3の表
面が凸型又は凹型の曲面形状をしていたり、傾斜してい
るような場合には、剛質体であるプレッシャープレート
4が被研磨物3の全面に密着できないため、その全面に
わたって均等な力を加えることができず、研磨むらが生
じて均質な研磨を行うことが困難であった。前記図7及
び図8においては、分かり易くするため、被研磨物の表
面の凸型形状又は凹型形状を誇張して表示しているが、
実際の凹凸はもっと微小である。
[0003] The pressure plate 4 generally comprises
It is made of a rigid material such as aluminum or stainless steel, and directly presses the polished object 3 therewith.
However, as shown in FIGS. 7 and 8, when the surface of the object to be polished 3 has a convex or concave curved surface shape or is inclined, the pressure plate 4 which is a rigid body is Since it was not possible to adhere to the entire surface of the object 3 to be polished, a uniform force could not be applied over the entire surface, and uneven polishing occurred, making it difficult to perform uniform polishing. In FIGS. 7 and 8, the convex shape or the concave shape of the surface of the object to be polished is exaggerated for easy understanding.
The actual irregularities are much smaller.

【0004】一方、大径の被研磨物を研磨する場合には
大径のプレッシャープレートが使用されるが、大径のプ
レッシャープレートはそれだけ重量も大きいため、剛質
素材で形成されてはいても自重による僅かな撓みが生
じ、この撓みによって均質な研磨が阻害されるケースが
多かった。特にプレッシャープレートの外周側が下方に
変形し、被研磨物の外周側に圧力がかかり過ぎるという
問題があった。
On the other hand, a large-diameter pressure plate is used to grind a large-diameter work piece. However, the large-diameter pressure plate has a large weight, so that it may be formed of a rigid material. Slight bending due to its own weight occurs, and this bending often hinders uniform polishing. In particular, there has been a problem that the outer peripheral side of the pressure plate is deformed downward, and too much pressure is applied to the outer peripheral side of the workpiece.

【0005】そのため従来は、プレッシャープレートの
被研磨物に当接する部分を弾性変形可能な軟質部材で形
成したり、プレッシャープレートの内部に弾性変形可能
な機構を設けたりすることによって被研磨物の表面形状
への追従性を良くし、それによって研磨精度の向上を図
ったり、擦り減った研磨布の貼り換えやならし作業等を
減らして効率よく研磨を行えるようにしていた。
Conventionally, the surface of the object to be polished is formed by forming a portion of the pressure plate in contact with the object to be polished by an elastically deformable soft member or by providing an elastically deformable mechanism inside the pressure plate. The followability to the shape is improved, whereby the polishing accuracy is improved, and the polishing and polishing of the worn-out polishing cloth and the leveling operation are reduced so that the polishing can be performed efficiently.

【0006】例えば特開昭54−100591には、バ
ックアップ材としてエアバックを使用し、研磨具の研磨
面がエアバックにより容易に変形できるようにして、回
転研磨中に研磨すべき硝子部品の形状に追従できるよう
にした研磨装置に関して開示されている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 54-1000059 discloses that an air bag is used as a backup material so that the polished surface of a polishing tool can be easily deformed by the air bag, and the shape of a glass part to be polished during rotary polishing is reduced. Is disclosed with respect to a polishing apparatus capable of following the above.

【0007】また、特開平7−205019には、ワー
クを保持するベースプレートに軟質プレートを粘着し、
この軟質プレートにワークを貼着してポリッシングプレ
ートに押し付けるようにすると共に、ワークの外周辺を
取り囲むコントロールリングを周設することによって、
ワークである半導体ウエハに残留する複雑な形状の面粗
さをベースプレートへ粘着した軟質プレートに吸収させ
て研磨することを特徴とした加圧プレートに関して開示
されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-205017 discloses that a soft plate is adhered to a base plate for holding a work.
By sticking the work to this soft plate and pressing it against the polishing plate, by arranging a control ring surrounding the outer periphery of the work,
There is disclosed a pressure plate characterized by absorbing and polishing a surface roughness of a complicated shape remaining on a semiconductor wafer which is a work by a soft plate adhered to a base plate.

【0008】更に、特開平7−314301には、ワー
クを研磨盤に押し付けるための加圧体に可撓膜体を取り
付けると共に、この加撓膜体の裏面側に流体を供給する
流体供給手段を設け、この可撓膜体に当接するワークを
該可撓膜体に作用する流体圧の作用力で研磨盤に押し付
けるようにしたものが開示されている。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-314301 discloses a fluid supply means for attaching a flexible film to a pressurizing body for pressing a work against a polishing plate and supplying a fluid to the back side of the stiffened film. There is disclosed an apparatus in which a work in contact with the flexible film body is pressed against a polishing plate by the action of fluid pressure acting on the flexible film body.

【0009】また、特開平10−128656には、被
研磨物を定盤に押し付けるための加工ヘッドを、主軸に
連結された支持プレートと、被研磨物を保持するための
保持プレートとに分け、これらの支持プレートと保持プ
レートとを、主軸回転の円周方向に対しては剛質が大き
く、定盤の研磨面に垂直な方向には弾性変形する複数の
弾性連結部材で同心的且つ平行に連結しものが開示され
ている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-128656 discloses that a processing head for pressing an object to be polished against a surface plate is divided into a support plate connected to a main shaft and a holding plate for holding an object to be polished. The support plate and the holding plate are concentrically and in parallel to each other by a plurality of elastic connecting members that are highly rigid in the circumferential direction of the spindle rotation and elastically deform in a direction perpendicular to the polishing surface of the surface plate. A consolidation is disclosed.

【0010】更に、特開平11−333696には、ガ
ラス基板を研磨定盤に押し付けるためのプレッシャープ
レートが、研磨布の研磨面の摩耗状態に応じて変形可能
な軟質部材により形成された研磨装置に関して開示され
ている。このプレッシャープレートの上面には複数の補
強リブが放射状に取り付けられており、このリブは中心
線から外側にかけて天面が湾曲しながら徐々に薄肉に形
成されている。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-333696 discloses a polishing apparatus in which a pressure plate for pressing a glass substrate against a polishing platen is formed of a soft member that can be deformed in accordance with the abrasion state of a polishing surface of a polishing cloth. It has been disclosed. A plurality of reinforcing ribs are radially attached to the upper surface of the pressure plate, and the ribs are gradually thinner while the top surface is curved from the center line to the outer side.

【0011】しかしながら、前述した公知例は何れも、
構造が複雑でコストが高く、被研磨物のセッティングに
手数と時間がかかるなどの欠点があった。また、ワーク
を軟質部材で直接加圧する方式のものにおいては、大径
の被研磨物を研磨する時に被研磨物を抑えつける力が小
さく、被研磨物がずれるおそれがあった。
However, any of the above-mentioned known examples is
There are drawbacks in that the structure is complicated, the cost is high, and it takes time and effort to set the object to be polished. Further, in a system in which a workpiece is directly pressed by a soft member, when polishing a large-diameter object to be polished, a force for suppressing the object to be polished is small, and the object to be polished may be shifted.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、被研
磨物を研磨するための研磨定盤と、この研磨定盤に被研
磨物を押し付けるためのプレッシャープレートとを備え
た研磨装置において、前記プレッシャープレートを、被
研磨物の表面形状もしくは研磨パッドの表面形状に応じ
て変形可能とすることによって、該被研磨物全体を均等
な力で確実に加圧できるようにすると共に、その構造を
単純化してコストを下げることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polishing apparatus having a polishing platen for polishing an object to be polished and a pressure plate for pressing the object to be polished against the polishing platen. By making the pressure plate deformable according to the surface shape of the object to be polished or the surface shape of the polishing pad, the entire object to be polished can be reliably pressed with a uniform force, and its structure is reduced. The goal is to simplify and reduce costs.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
本発明によれば、表面に研磨パッドを貼着した研磨定盤
と、この研磨定盤を回転させるための駆動手段と、被研
磨物を前記研磨定盤に押し付けるための円盤形をしたプ
レッシャープレートと、該プレッシャープレートに加圧
力を加えるための加圧機構とを備え、前記プレッシャー
プレートが、上面中央部に連結されたシャフトで機体に
支持されていて、前記シャフトが連結された剛質素材か
らなる上部プレート部材と、被研磨物に当接する剛質素
材からなる下部プレート部材とに分かれると共に、これ
らの両プレート部材の平坦な接合面間に変形可能な軟質
部材が介設されていることを特徴とする研磨装置が提供
される。
According to the present invention, there is provided a polishing plate having a polishing pad adhered to a surface thereof, a driving means for rotating the polishing plate, and an object to be polished. A pressure plate having a disc shape for pressing the polishing plate against the polishing platen, and a pressure mechanism for applying a pressing force to the pressure plate, wherein the pressure plate is attached to the body by a shaft connected to a central portion of the upper surface. An upper plate member made of a rigid material, which is supported and connected to the shaft, is divided into a lower plate member made of a rigid material that comes into contact with the object to be polished, and a flat joint surface between these two plate members is provided. A polishing apparatus is provided, in which a deformable soft member is interposed therebetween.

【0014】本発明において、前記プレッシャープレー
トは、剛質素材からなる上下のプレート部材間に軟質部
材を介在させただけであるため、その構造が非常に簡単
かつ単純で、低価格で製造することができる。
In the present invention, since the pressure plate has only a soft member interposed between upper and lower plate members made of a rigid material, its structure is very simple and simple, and it can be manufactured at low cost. Can be.

【0015】また、被研磨物を剛質素材からなる下部プ
レート部材に当接、保持させ、この下部プレート部材を
軟質部材を介して上部プレート部材で加圧するようにし
ているため、スポンジ等の軟質部材を直接被研磨物に当
接させて加圧する従来例に比べ、被研磨物のセッティン
グが容易でそれを短時間に行うことができるばかりでな
く、被研磨物の保持が確実で研磨中にこの被研磨物がず
れることもない。
Further, since the object to be polished is brought into contact with and held by a lower plate member made of a rigid material, and the lower plate member is pressed by the upper plate member via the soft member, a soft material such as a sponge is used. Compared with the conventional example in which the member is brought into direct contact with the object to be polished and pressed, the setting of the object to be polished is not only easy and can be performed in a short time, The object to be polished does not shift.

【0016】更に、被研磨物の表面や研磨パッドの表面
が凹面や凸面などの曲面形状になっていたり、傾斜して
いたりしても、それに追随してプレッシャープレートの
下部プレート部材が、軟質部材を変形させることによっ
て微小変形し、該下部プレート部材が被研磨物の表面に
密接してその全面に均一に圧力をかけることになる。こ
のため、被研磨物を全面にわたり均一に研磨することが
できて研磨精度が向上する。
Further, even if the surface of the object to be polished or the surface of the polishing pad has a curved surface such as a concave surface or a convex surface or is inclined, the lower plate member of the pressure plate follows the soft member. The lower plate member is brought into close contact with the surface of the object to be polished and uniformly applies pressure to the entire surface thereof. Therefore, the object to be polished can be uniformly polished over the entire surface, and the polishing accuracy is improved.

【0017】本発明の具体的な実施形態によれば、前記
プレッシャープレートにおける上部プレート部材が、中
央部に位置して上面側に盛り上がった肉厚部分と、該肉
厚部分の回りを取り囲む外周側の肉薄部分と、該肉薄部
分の上面に放射状に形成された複数の補強用リブとを有
し、また下部プレート部材が、全体として均一厚さの円
板形をなしていて、これらの上部プレート部材と下部プ
レート部材とが、上部プレート部材における肉厚部分の
外周端寄りの位置に取り付けたボルトにより前記軟質部
材を介して相互に結合されている。
According to a specific embodiment of the present invention, the upper plate member of the pressure plate has a thick portion which is located at the center and rises to the upper surface side, and an outer peripheral side which surrounds the thick portion. And a plurality of reinforcing ribs radially formed on the upper surface of the thin portion, and the lower plate member has a disk shape with a uniform thickness as a whole. The member and the lower plate member are connected to each other via the soft member by a bolt attached to a position near the outer peripheral end of the thick portion of the upper plate member.

【0018】これにより、上部プレート部材の肉厚部分
を利用して、軟質部材と下部プレート部材とを確実にし
かもボルトの締め付けによる変形等を生じることなく精
度良く結合することができる。
Thus, by utilizing the thick portion of the upper plate member, the soft member and the lower plate member can be connected accurately and accurately without deformation due to bolt tightening.

【0019】本発明において前記軟質部材は、ネオセル
スポンジ、シリコンラバー、天然ゴムの何れか一種によ
り形成することができる。
In the present invention, the soft member can be formed of any one of neocell sponge, silicone rubber, and natural rubber.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】本発明に係る研磨装置の好ましい
一実施形態の全体図を図1に示す。この研磨装置は、機
体10と、表面に貼着した研磨パッド12aで実質的に
プレート状をした被研磨物11を研磨するための回転自
在の定盤12と、この定盤12を駆動回転させるための
定盤駆動部13と、前記定盤12の研磨パッド12aに
被研磨物11を所定の加圧力で押し付けるためのプレッ
シャープレート14と、前記加圧力を発生させる加圧機
構15と、前記被研磨物11を均一に研磨するためその
研磨中に前記プレッシャープレート14を左右に一定の
周期で移動させる揺動機構16と、被研磨物11の搬入
及び搬出時に前記プレッシャープレート14を上下方向
に反転させるためのヘッド反転機構17とを具備してい
る。
FIG. 1 is an overall view of a preferred embodiment of a polishing apparatus according to the present invention. The polishing apparatus includes a body 10, a rotatable platen 12 for polishing a substantially plate-shaped object 11 to be polished with a polishing pad 12 a stuck on the surface, and a driving rotation of the platen 12. A pressure plate 14 for pressing the workpiece 11 against the polishing pad 12a of the surface plate 12 with a predetermined pressing force, a pressing mechanism 15 for generating the pressing force, A swinging mechanism 16 for moving the pressure plate 14 to the left and right at a constant period during the polishing in order to polish the polished object 11 uniformly, and inverting the pressure plate 14 vertically when the polished object 11 is carried in and out. And a head reversing mechanism 17 for performing the rotation.

【0021】まず、前記定盤駆動部13について説明す
る。この定盤駆動部13は、前記定盤12の中央部下面
に結合されて機体10に回転自在に支持された主軸20
と、機体10上に設置された減速機構付きのモーター2
1と、このモーター21の駆動軸21aと前記主軸20
とにそれぞれ取付けられたVプーリー22a,22b
と、これらの両プーリー22a,22bを連結するVベ
ルト(図示せず)とで構成されている。そして、前記モ
ーター21からの回転トルクは、減速機へ伝えられて一
定の回転速度に減速され、駆動軸21aに取り付けられ
たVプーリー22aからVベルト及びVプーリー22b
を介して定盤12の主軸20へ伝達され、定盤12が駆
動、回転される。なお、前記定盤12と主軸20にはそ
れぞれカップリングが取り付けられ、水平が保たれるよ
うになっている。
First, the platen driving unit 13 will be described. The platen drive unit 13 is connected to a lower surface of a central portion of the platen 12 and is supported by a main body 20 so as to be rotatable by the body 10.
And a motor 2 with a speed reduction mechanism installed on the airframe 10
1, the drive shaft 21a of the motor 21 and the main shaft 20
V pulleys 22a and 22b respectively attached to
And a V-belt (not shown) connecting these pulleys 22a and 22b. The rotation torque from the motor 21 is transmitted to a speed reducer to reduce the rotation speed to a constant speed, and the V belt and the V pulley 22b are attached to the drive shaft 21a from the V pulley 22a.
Is transmitted to the main shaft 20 of the surface plate 12 through which the surface plate 12 is driven and rotated. Note that couplings are attached to the base 12 and the main shaft 20, respectively, so that they are kept horizontal.

【0022】一方、前記プレッシャープレート14は、
前記揺動機構16で機体10に回動自在に支持されたア
ーム24の先端に、シャフト25により吊支されてい
る。このプレッシャープレート14は、全体として円盤
形をなすもので、図2からも分かるように、アルミニウ
ムやステンレス等の剛質素材からなる上部プレート部材
26と、同様の剛質素材からなる下部プレート部材27
とに分かれていて、これらの両プレート部材26,27
の相対する平坦な接合面26a,27a間に、ネオセル
スポンジやシリコンラバーあるいは天然ゴム等の弾性変
形可能な軟質部材28が介設されている。
On the other hand, the pressure plate 14
An end of an arm 24 rotatably supported by the body 10 by the swing mechanism 16 is suspended by a shaft 25. The pressure plate 14 has a disk shape as a whole, and as can be seen from FIG. 2, an upper plate member 26 made of a rigid material such as aluminum or stainless steel and a lower plate member 27 made of a similar rigid material.
These two plate members 26, 27
An elastically deformable soft member 28 such as neocell sponge, silicon rubber or natural rubber is interposed between the opposed flat joining surfaces 26a and 27a.

【0023】前記上部プレート部材26は、中央部に位
置して上面側に円形に盛り上がった肉厚部分26bと、
該肉厚部分26bの回りを取り囲む円環状をした外周側
の肉薄部分26cとを備えることにより、中央部の剛質
を大きして変形しにくくすると共に、外周側を軽量化し
て自重による変形を生じにくくしている。また、前記肉
薄部分26cの上面には放射状に延びる複数の補強用リ
ブ29が形成され、これらのリブ29は、内側の高さが
前記肉薄部分26cの上面と同じで、外側にいくほど次
第に高さが低くなっている。一方、前記下部プレート部
材27は、全体として均一厚さの円板形をなしていて、
その厚さは前記上部プレート部材26の肉薄部分26c
よりやや厚く形成され、研磨時に被研磨物11の表面形
状や研磨パッド12aの表面形状等に追随して僅かに弾
性変形できるようになっている。そしてこれらの上部プ
レート部材26と下部プレート部材27とが、上部プレ
ート部材26における肉厚部分26bの外周端寄りの位
置に等角度間隔で放射状に配設された複数のボルト30
により、前記軟質部材28を介して相互に結合されてい
る。また、前記軟質部材28は全体として均一厚さを有
しているが、その厚さは10〜30mm程度であること
が望ましい。軟質部材28をこのような厚さに形成する
ことにより、研磨加工時に上部プレート部材26の自重
による変形が生じてもそれを吸収させることができると
共に、被研磨物11の表面形状に応じた下部プレート部
材27の撓みを可能にすることができる。
The upper plate member 26 has a thickened portion 26b which is located at the center and is bulged circularly on the upper surface side,
By providing an annular outer peripheral thin portion 26c surrounding the thick portion 26b, rigidity at the central portion is increased to make it harder to deform, and the outer peripheral side is lightened to reduce deformation due to its own weight. Less likely to occur. Further, a plurality of reinforcing ribs 29 extending radially are formed on the upper surface of the thin portion 26c. These ribs 29 have the same inner height as the upper surface of the thin portion 26c, and gradually become higher outward. Is low. On the other hand, the lower plate member 27 has a disk shape with a uniform thickness as a whole,
The thickness is the thin portion 26c of the upper plate member 26.
It is formed to be slightly thicker so that it can be slightly elastically deformed following the surface shape of the object to be polished 11 or the surface shape of the polishing pad 12a during polishing. The upper plate member 26 and the lower plate member 27 are provided with a plurality of bolts 30 radially disposed at equal angular intervals at a position near the outer peripheral end of the thick portion 26b of the upper plate member 26.
Are connected to each other via the soft member 28. Further, the soft member 28 has a uniform thickness as a whole, but the thickness is desirably about 10 to 30 mm. By forming the soft member 28 to such a thickness, even if the upper plate member 26 is deformed by its own weight during the polishing process, it can be absorbed, and the lower portion corresponding to the surface shape of the workpiece 11 can be absorbed. The bending of the plate member 27 can be enabled.

【0024】さらに、前記のように上部プレート部材2
6の剛質の大きい肉厚部分26bを利用して両プレート
部材26,27と軟質部材28とをボルト締めすること
により、これらの軟質部材28と下部プレート部材27
とを確実にしかもボルト30の締め付けによる変形等を
生じることなく、精度良く結合することができる。
Further, as described above, the upper plate member 2
6 by bolting the two plate members 26 and 27 and the soft member 28 using the rigid thick wall portion 26b.
And can be connected with high accuracy without deformation or the like caused by tightening of the bolt 30.

【0025】前記上部プレート部材26の肉厚部分26
bの上面中央部には、軸受用のハウジング33がキャッ
プボルト34により固定され、このハウジング33内に
設けた自動調芯ベアリング35を介して前記シャフト2
5が、この上部プレート部材26の上面中央部に回転自
在に連結されている。図中36は、前記ベアリングへ潤
滑油を注入するためのグリースニップルである。
The thick portion 26 of the upper plate member 26
A housing 33 for a bearing is fixed to a central portion of the upper surface of the shaft 2 by a cap bolt 34, and the shaft 2 is inserted through a self-aligning bearing 35 provided in the housing 33.
5 is rotatably connected to the center of the upper surface of the upper plate member 26. Reference numeral 36 in the figure denotes a grease nipple for injecting lubricating oil into the bearing.

【0026】このように前記プレッシャープレート14
は、剛質素材からなる上下のプレート部材26,27間
に軟質部材28を介在させただけであるため、その構造
が非常に簡単かつ単純で、低価格で製造することができ
る。
As described above, the pressure plate 14
Since only the soft member 28 is interposed between the upper and lower plate members 26 and 27 made of a rigid material, the structure is very simple and simple, and can be manufactured at low cost.

【0027】図1に示すように、前記シャフト25の上
端部は前記アーム24の先端にピン38によって回動自
在に支持されていて、前記ヘッド反転機構17でこのシ
ャフト25をピン38を中心に回動させることにより、
前記プレッシャープレート14を機体10の前方に向け
て旋回、反転させることができるようになっている。前
記ヘッド反転機構17は、モーターと減速機とが一体と
なったギヤーモートル39と、このギヤーモートル39
で回転されることにより前後進する送りネジ40と、こ
の送りネジ40とシャフト25端部との間に連結された
ロッドエンド41及び反転シャフト42とを備えてい
る。そして、前記ギヤーモートル39により送りネジ4
0が後退させられると、ロッドエンド41が引っ張られ
て反転シャフト42と共に回動し、それにつれて前記シ
ャフト25が上方へ回転してプレッシャープレート14
が上へ持ち上げられることになる。
As shown in FIG. 1, the upper end of the shaft 25 is rotatably supported at the tip of the arm 24 by a pin 38. The shaft 25 is pivoted about the pin 38 by the head reversing mechanism 17. By rotating,
The pressure plate 14 can be turned and inverted toward the front of the body 10. The head reversing mechanism 17 includes a gear motor 39 in which a motor and a speed reducer are integrated, and a gear motor 39
And a rod end 41 and a reversing shaft 42 connected between the feed screw 40 and the end of the shaft 25. The feed screw 4 is moved by the gear motor 39.
0 is retracted, the rod end 41 is pulled and rotates together with the reversing shaft 42, and accordingly, the shaft 25 rotates upward and the pressure plate 14
Will be lifted up.

【0028】被研磨物11の研磨に当たっては、前述の
ようにプレッシャープレート14を上方へ反転させた状
態で、該プレッシャープレート14の下部プレート部材
27の下面(押圧面)に被研磨物11をワックス等によ
り貼着、保持させたあと、プレッシャープレート14を
図1の位置に復帰させ、保持した被研磨物11を回転す
る定盤12の研磨パッド12aに押し付けて研磨する。
In polishing the work 11, the work 11 is waxed on the lower surface (pressing surface) of the lower plate member 27 of the pressure plate 14 with the pressure plate 14 turned upside down as described above. Then, the pressure plate 14 is returned to the position shown in FIG. 1, and the held object 11 is pressed against the polishing pad 12a of the rotating platen 12 for polishing.

【0029】前記被研磨物11を加工する際の加圧力
は、前記加圧機構15により発生される。この加圧機構
15は、揺動機構16のハウジング44に支持された加
圧シリンダー45で構成されていて、この加圧シリンダ
ー45のロッド45aが前記アーム24の後端部に連結
されている。そして、この加圧シリンダー45のロッド
45aが伸長すると、支軸46を支点にしてアーム24
の前部が下方へ下がるため、プレッシャープレート14
が下降して保持した被研磨物11が設定された力で定盤
12に圧接される。
The pressing force at the time of processing the object to be polished 11 is generated by the pressing mechanism 15. The pressure mechanism 15 includes a pressure cylinder 45 supported by a housing 44 of the swing mechanism 16, and a rod 45 a of the pressure cylinder 45 is connected to a rear end of the arm 24. When the rod 45a of the pressurizing cylinder 45 extends, the arm 24 is pivoted on the support shaft 46 as a fulcrum.
Of the pressure plate 14
The object 11 to be polished is held down and pressed against the surface plate 12 with a set force.

【0030】かくして前記研磨装置は、被研磨物11を
剛質素材からなる下部プレート部材27に当接、保持さ
せ、この下部プレート部材27を軟質部材28を介して
上部プレート部材26で加圧するようにしているため、
スポンジ等の軟質部材28を直接被研磨物11に当接さ
せて加圧する従来例に比べ、被研磨物11のセッティン
グが容易でそれを短時間に行うことができるばかりでな
く、被研磨物11の保持が確実で研磨中にこの被研磨物
11がずれることもない。
Thus, the polishing apparatus causes the workpiece 11 to contact and hold the lower plate member 27 made of a rigid material, and press the lower plate member 27 with the upper plate member 26 via the soft member 28. Because
Compared with a conventional example in which a soft member 28 such as a sponge is directly brought into contact with the workpiece 11 and pressurized, the setting of the workpiece 11 is easy and can be performed in a short time. And the object 11 to be polished does not shift during polishing.

【0031】また、下部プレート部材27が僅かに弾性
変形できる程度の厚さを有すると共に、この下部プレー
ト部材27と上部プレート部材26との間に該下部プレ
ート部材27よりは大きく弾性変形する軟質部材28が
介設されているため、図3及び図4に示すように、被研
磨物11の表面や研磨パッド12aの表面が凸面や凹面
などの曲面形状をしていたり、傾斜していたりしても、
それに追随して前記下部プレート部材27が軟質部材2
8を変形させることによって確実に変形し、被研磨物1
1の表面全体に密接してその全面に均一に圧力をかける
ことになる。このため、被研磨物11を全面にわたり均
一に研磨することができて研磨精度が向上する。この場
合に上部プレート部材26は、前記軟質部材28がクッ
ションの役目を果たし、下部プレート部材27の変形を
吸収してその変形力をこの上部プレート部材26に伝達
しないため、下部プレート部材27に追随して変形する
ことがない。また、特に凸型の被研磨物11を研磨する
場合に、必要な撓みが得られない従来のプレッシャープ
レートで被研磨物を押し付ける場合のような、中央部に
圧力がかかり過ぎて削り過ぎるといった問題がなくな
る。
A soft member which has a thickness such that the lower plate member 27 can be slightly elastically deformed and has a larger elastic deformation than the lower plate member 27 between the lower plate member 27 and the upper plate member 26. 3 and 4, the surface of the object to be polished 11 and the surface of the polishing pad 12a have a curved surface such as a convex surface or a concave surface, or are inclined, as shown in FIGS. Also,
Following this, the lower plate member 27 is
8 is surely deformed by deforming the object 1 to be polished.
In this manner, pressure is applied to the entire surface of the substrate 1 closely and uniformly. Therefore, the object to be polished 11 can be uniformly polished over the entire surface, and polishing accuracy is improved. In this case, the upper plate member 26 follows the lower plate member 27 because the soft member 28 serves as a cushion and absorbs the deformation of the lower plate member 27 and does not transmit the deformation force to the upper plate member 26. No deformation. In addition, in the case where the object to be polished 11 is particularly polished, there is a problem that too much pressure is applied to the central portion and the material is excessively shaved, as in the case where the object to be polished is pressed with a conventional pressure plate that does not provide necessary bending. Disappears.

【0032】前記研磨加工時にプレッシャープレート1
4を移動させる揺動機構16は、機体10に取付けられ
た前記ハウジング44と、このハウジング44に水平方
向に揺動自在なるように支持された揺動軸47と、機体
10に取付けられた揺動モーター48と、この揺動モー
ター48に入力軸用カップリング49を介して連結され
た揺動用減速機50と、この揺動用減速機50の出力軸
50aと前記揺動軸47とを連結する出力軸用カップリ
ング51とを有している。また、前記揺動軸47の上端
には、前記アーム24が支軸46により回動自在に連結
されている。そして、前記揺動モーター48の回転トル
クが入力軸用カップリング49を介して減速機50へ伝
えられると、ここで揺動に必要な速度に減速されたあ
と、出力軸用カップリング51を介して揺動軸47へ伝
達され、この揺動軸47と共にアーム24全体が揺動す
る。これによって研磨中にプレッシャープレート14が
左右に揺動し、均一な研磨が行われることになる。
During the above-mentioned polishing, the pressure plate 1
The swing mechanism 16 for moving the body 4 includes the housing 44 attached to the body 10, a swing shaft 47 supported by the housing 44 so as to be swingable in a horizontal direction, and a swing shaft attached to the body 10. A oscillating motor 48, an oscillating speed reducer 50 connected to the oscillating motor 48 via an input shaft coupling 49, and an output shaft 50a of the oscillating speed reducer 50 and the oscillating shaft 47 are connected. And an output shaft coupling 51. The arm 24 is rotatably connected to the upper end of the swing shaft 47 by a support shaft 46. Then, when the rotational torque of the oscillating motor 48 is transmitted to the speed reducer 50 via the input shaft coupling 49, the speed is reduced to the speed required for oscillating here, and then via the output shaft coupling 51. To the swing shaft 47, and the entire arm 24 swings together with the swing shaft 47. As a result, the pressure plate 14 swings left and right during polishing, and uniform polishing is performed.

【0033】[0033]

【発明の効果】このように本発明によれば、被研磨物を
研磨するための研磨定盤と、この研磨定盤に被研磨物を
押し付けるためのプレッシャープレートとを備えた研磨
装置において、前記プレッシャープレートを、被研磨物
の表面形状もしくは研磨パッドの表面形状に応じて変形
可能とすることによって、該被研磨物全体を均等な力で
確実に加圧することができると共に、その構造を単純化
してコストを下げることができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a polishing apparatus comprising: a polishing platen for polishing an object to be polished; and a pressure plate for pressing the object to be polished against the polishing surface plate. By making the pressure plate deformable according to the surface shape of the object to be polished or the surface shape of the polishing pad, the entire object to be polished can be reliably pressed with a uniform force, and its structure can be simplified. Cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る研磨装置の一実施例を示す断面図
である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a polishing apparatus according to the present invention.

【図2】図1の要部拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of FIG.

【図3】図1の研磨装置による研磨の一例を示す要部断
面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a main part showing an example of polishing by the polishing apparatus of FIG. 1;

【図4】図1の研磨装置による研磨の他例を示す要部断
面図である。
FIG. 4 is a sectional view of a principal part showing another example of polishing by the polishing apparatus of FIG. 1;

【図5】従来の研磨装置の側面図である。FIG. 5 is a side view of a conventional polishing apparatus.

【図6】図5の要部拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a main part of FIG. 5;

【図7】図5の研磨装置による研磨の一例を示す要部断
面図である。
FIG. 7 is a sectional view of a main part showing an example of polishing by the polishing apparatus of FIG. 5;

【図8】図5の研磨装置による研磨の他例を示す要部断
面図である。
8 is a cross-sectional view of a principal part showing another example of polishing by the polishing apparatus of FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 機体 11 被研磨物 12 定盤 12a 研磨パッド 14 プレッシャープレート 15 加圧機構 25 シャフト 26 上部プレート部材 27 下部プレート部材 26a,27a 接合面 26b 肉厚部分 26c 肉薄部分 28 軟質部材 30 ボルト Reference Signs List 10 body 11 polished object 12 surface plate 12a polishing pad 14 pressure plate 15 pressure mechanism 25 shaft 26 upper plate member 27 lower plate member 26a, 27a joining surface 26b thick portion 26c thin portion 28 soft member 30 bolt

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に研磨パッドが貼着された研磨定盤
と、この研磨定盤を回転させるための駆動手段と、被研
磨物を前記研磨定盤に押し付けるための円盤形をしたプ
レッシャープレートと、該プレッシャープレートに加圧
力を加えるための加圧機構とを備え、 前記プレッシャープレートが、上面中央部に連結された
シャフトで機体に支持されていて、前記シャフトが連結
された剛質素材製の上部プレート部材と、被研磨物に当
接して加圧する剛質素材製の下部プレート部材とに分か
れると共に、これら両プレート部材の平坦な接合面間
に、変形可能な軟質部材が介設されていることを特徴と
する研磨装置。
A polishing plate having a polishing pad adhered to a surface thereof; a driving means for rotating the polishing plate; and a disk-shaped pressure plate for pressing an object to be polished against the polishing plate. And a pressurizing mechanism for applying a pressing force to the pressure plate, wherein the pressure plate is supported by a fuselage by a shaft connected to a central portion of an upper surface, and is made of a rigid material to which the shaft is connected. The upper plate member is divided into a lower plate member made of a rigid material and pressed against the object to be polished, and a deformable soft member is interposed between the flat joining surfaces of the two plate members. Polishing apparatus, characterized in that:
【請求項2】請求項1記載の研磨装置において、前記プ
レッシャープレートにおける上部プレート部材が、中央
部に位置して上面側に盛り上がった肉厚部分と、該肉厚
部分の回りを取り囲む外周側の肉薄部分と、該肉薄部分
の上面に放射状に形成された複数の補強用リブとを有
し、また下部プレート部材が、全体として均一厚さの円
板形をなしていて、これらの上部プレート部材と下部プ
レート部材とが、上部プレート部材における肉厚部分の
外周端寄りの位置に配設されたボルトにより前記軟質部
材を介して相互に結合されていることを特徴とするも
の。
2. A polishing apparatus according to claim 1, wherein said upper plate member of said pressure plate has a thick portion which is located at a central portion and rises to an upper surface side, and an outer peripheral portion surrounding said thick portion. A thin portion, a plurality of reinforcing ribs radially formed on an upper surface of the thin portion, and a lower plate member having a disk shape having a uniform thickness as a whole; And a lower plate member is connected to each other by a bolt disposed at a position near an outer peripheral end of a thick portion of the upper plate member via the soft member.
【請求項3】請求項1又は2に記載の研磨装置におい
て、前記軟質部材が、ネオセルスポンジ、シリコンラバ
ー、天然ゴムの何れか一種からなることを特徴とするも
の。
3. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the soft member is made of one of neocell sponge, silicone rubber, and natural rubber.
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