JP2001343907A - Laser repair device and production method for display cell - Google Patents
Laser repair device and production method for display cellInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示装置や
PDP装置等のガラス基板の内側の冗長回路を動作させ
ることで、表示画素欠陥が生じた画素を正常化するレー
ザリペア装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser repair device for normalizing a pixel having a display pixel defect by operating a redundant circuit inside a glass substrate such as a liquid crystal display device or a PDP device.
【0002】[0002]
【従来の技術】レーザリペア装置は、レーザ加工によリ
回路パターンの切断や接合を行い、液晶表示装置、PD
P装置等のガラス基板の内側の冗長回路を動作させるこ
とで、表示欠陥が生じた表示パネルを救済することがで
きる。2. Description of the Related Art A laser repair device cuts and joins a re-circuit pattern by laser processing, and uses a liquid crystal display device, a PD.
By operating a redundant circuit inside a glass substrate such as a P device, a display panel having a display defect can be relieved.
【0003】液晶表示装置は、高画質、薄型軽量、なら
びに低消費電力という大きな利点を持ち、ノート型コン
ピュータ、携帯用機器等への市場展開が進んでおり、性
能の向上や製造技術の向上が望まれている。[0003] Liquid crystal display devices have significant advantages of high image quality, thinness and light weight, and low power consumption, and are being marketed in notebook computers, portable devices, and the like, and are being improved in performance and manufacturing technology. Is desired.
【0004】液晶表示装置では、補助容量電極間に、製
造プロセス中に異物が混入する等により、容量絶縁膜の
絶縁性が不十分となると、補助容量給電線の電圧が画素
電極に書き込まれるため、表示画素欠陥が生じ、製造歩
留まりが低下する問題が発生する。In the liquid crystal display device, if the insulating property of the capacitor insulating film becomes insufficient due to foreign matter entering the auxiliary capacitor electrode during the manufacturing process, the voltage of the auxiliary capacitor power supply line is written to the pixel electrode. In addition, a display pixel defect occurs, and a problem that manufacturing yield is reduced occurs.
【0005】このような補助容量電極の絶縁不良問題を
救済するために、YAGレーザ等のレーザビームを、補
助容量電極と画素電極の間の配線に照射して配線の抵抗
値を高めることで、補助容量給電線の電圧の書き込みを
防止し、表示画素欠陥を正常化するというレーザリペア
法が知られている。[0005] In order to remedy the problem of insulation failure of the auxiliary capacitance electrode, a laser beam such as a YAG laser is applied to the wiring between the auxiliary capacitance electrode and the pixel electrode to increase the resistance of the wiring. There is known a laser repair method of preventing writing of a voltage of an auxiliary capacitance power supply line and normalizing a display pixel defect.
【0006】こうした不良は、通常、アレイテスタ検査
時とセル工程検査時に判定が可能になるが、アレイテス
タで表示画素欠陥が判明した場合、通常座標情報を取得
することが可能で、リペア装置側がそうした電子情報に
対応できれば、容易に対象の画素に移動することができ
る。[0006] Such a defect can usually be determined at the time of an array tester inspection and a cell process inspection. However, when a display pixel defect is found by the array tester, it is usually possible to obtain coordinate information, and the repair device side can use such an electronic device. If the information can be handled, it is possible to easily move to the target pixel.
【0007】しかし、セル工程の検査時で不良が判明し
た場合には、リペア装置が表示画素欠陥の座標を取得で
きないことから、対象パネルにレーザリペアすべき表示
画素欠陥が多数存在する場合に、レーザリペアを行う対
象画素の位置の検出に時間がかかり、異常画像を判定し
にくい問題がある。なお、セル工程の検査工程で、表示
画素欠陥の座標をレーザリペア装置が取得できない場合
とは、一般に、ローコストのレーザリペア装置を用いる
場合や製品出荷開始または生産ラインの立ち上げ時、あ
るいは工程でトラブルが生じた場合である。However, if a defect is found during the inspection in the cell process, the repair device cannot obtain the coordinates of the display pixel defect. There is a problem that it takes time to detect the position of the target pixel for laser repair, and it is difficult to determine an abnormal image. In the inspection process of the cell process, the case where the laser repair device cannot acquire the coordinates of the display pixel defect generally means that a low-cost laser repair device is used, when product shipment is started or when a production line is started up, or when the process is started. This is when trouble occurs.
【0008】例えば、XGA表示を行う表示装置に対し
て検査を行う場合、通常、位置座標を表示できるカーソ
ルを移動させ、異常画像と重ねて位置座標の取得を行う
が、横方向の画素数は3072本あり、1本分の移動が
0.1秒であったとしても、全部で307秒かかり、検
査工程のタクトが著しく低下されることになる。For example, when an inspection is performed on a display device that performs XGA display, usually, a cursor capable of displaying position coordinates is moved to obtain position coordinates by superimposing the cursor on an abnormal image. There are 3072 lines, and even if one line moves for 0.1 second, it takes 307 seconds in total, and the tact time of the inspection process is significantly reduced.
【0009】また、表示画素ピッチが狭ピッチになるに
つれ、異常画素が見にくくなり、この異常画素とカーソ
ルを重ね合わせる作業が離しくなるという問題もある。
この問題は、特に画素ピッチが狭ピッチであり画素数も
多いポリシリコンTFTを用いた液晶パネルに顕著であ
る。Further, as the display pixel pitch becomes narrower, it becomes more difficult to see abnormal pixels, and there is a problem that the work of superimposing the abnormal pixels on the cursor becomes more difficult.
This problem is particularly noticeable in a liquid crystal panel using a polysilicon TFT having a narrow pixel pitch and a large number of pixels.
【0010】図5を用いて、周知のレーザリペア装置を
説明する。A known laser repair device will be described with reference to FIG.
【0011】図示しないレーザ源を有するYAGレーザ
装置102から発振された波長532nmのレーザビー
ム103は、無限系の顕微鏡104を透過し、例えば5
0倍の拡大倍率の対物レンズ104bを透過してレーザ
リペア対象である液晶表示装置Oに照射される。A laser beam 103 having a wavelength of 532 nm oscillated from a YAG laser device 102 having a laser source (not shown) passes through a microscope 104 of an infinite system, and
The light passes through the objective lens 104b having a magnification of 0 and is irradiated on the liquid crystal display device O to be subjected to laser repair.
【0012】レーザリペア加工は、例えば液晶表示装置
Oの画素の容量電極ショート不良が生じている場合、シ
ョートした容量電極にYAGレーザ装置102からのレ
ーザビーム103を液晶表示装置Oのガラス基板を透過
させて照射し、加工することで、表示画素欠陥を、液晶
容量のみで駆動する状態を実現して輝点不良を改善する
ものである。In the laser repair processing, for example, when a short circuit occurs in the capacitance electrode of the pixel of the liquid crystal display device O, the laser beam 103 from the YAG laser device 102 is transmitted through the glass substrate of the liquid crystal display device O to the shorted capacitance electrode. By irradiating and processing the display pixel defect, a state in which the display pixel defect is driven only by the liquid crystal capacitance is realized and the bright spot defect is improved.
【0013】液晶表示装置Oには、通常、画素欠陥不良
がn個存在する場合が多く、このため、液晶表示装置O
は、制御コンピュータ121によりX−Yの2軸方向に
移動されるステージ111に固定されて、個々の画素欠
陥不良に対し、逐次、移動される。なお、制御コンピュ
ータ121は、図示しない制御パネルに設けられた図示
しないJOYスティックにより、X軸方向およびY軸方
向のそれぞれの任意の位置(座標)に、ステージ111
を移動させることができる。In general, the liquid crystal display O often has n defective pixel defects.
Is fixed to the stage 111 which is moved in the two X-Y directions by the control computer 121, and is sequentially moved for each pixel defect defect. The control computer 121 moves the stage 111 to arbitrary positions (coordinates) in the X-axis direction and the Y-axis direction by using a JOY stick (not shown) provided on a control panel (not shown).
Can be moved.
【0014】ステージ111は、図示しないステンレス
の筐体に覆われており、筐体には、液晶表示装置等のサ
ンプルOを出し入れするためのカバー113が設けられ
ている。The stage 111 is covered with a stainless steel casing (not shown), and the casing is provided with a cover 113 for taking in and out a sample O such as a liquid crystal display device.
【0015】顕微鏡104には、レーザビーム103を
透過し、可視光を所定の方向に反射する図示しないダイ
クロイックミラーが配置されており、CCD105に、
例えば液晶表示装置O上の容量ショート不良画素Aを投
影する。The microscope 104 is provided with a dichroic mirror (not shown) that transmits the laser beam 103 and reflects visible light in a predetermined direction.
For example, the short-circuit defective pixel A on the liquid crystal display device O is projected.
【0016】CCD105に取り込まれた画像は、図示
しない映像ケーブルを経由してモニタ106に、映像1
07として表示される。The image captured by the CCD 105 is transmitted to a monitor 106 via a video cable (not shown).
07 is displayed.
【0017】図6(a)は、液晶セルの検査工程を説明
するもので、ステージ上にセットされたサンプルOの状
態を、CCD105により取り込んで、モニタ106に
表示した状態を示している。FIG. 6 (a) explains the inspection process of the liquid crystal cell, and shows a state where the state of the sample O set on the stage is captured by the CCD 105 and displayed on the monitor 106.
【0018】図6(a)に示すように、液晶表示装置O
を任意の色で全面点灯し、異常画素151に1本ずつ移
動する横方向のカーソル152と縦方向のカーソル15
3を合わせて、その位置座標154を求める。求められ
た位置座標154は、通常、液晶表示装置O上に表示さ
れる。As shown in FIG. 6A, the liquid crystal display O
Is turned on entirely in an arbitrary color, and the horizontal cursor 152 and the vertical cursor 15 move one by one to the abnormal pixel 151.
3, the position coordinates 154 are obtained. The obtained position coordinates 154 are usually displayed on the liquid crystal display device O.
【0019】図6(b)は、異常画素151のリペア工
程を説明するもので、検査工程で求められた位置座標1
54により、欠陥位置出しが行われる。FIG. 6B illustrates the repair process of the abnormal pixel 151. The position coordinates 1 obtained in the inspection process are shown in FIG.
With 54, a defect location is performed.
【0020】次に、通常の検査工程およびレーザリペア
工程の主要フローを説明する。Next, the main flow of the normal inspection process and the laser repair process will be described.
【0021】*** 検査工程 *** A1)セルを検査機にセット R A2)セル位置あわせ S A3)セル点灯 T A4)表示パターンを変えて検査 U A5)欠陥位置座標を求める W A6)セルの取り出し X +++ レーザリペア工程 +++ 1)対象セルをステージに配置 A 2)対象セル点灯 B 3)欠陥位置座標入力 C 4)オートアライメント D 5)オートフォーカス E 6)5倍対物レンズ視野での自動調整 F 7)5倍対物レンズ視野での検索 G 8)位置出し H 9)オートフォーカス I 10)50倍対物レンズ視野での自動調整 J 11)50倍対物レンズ視野での検索 K 12)位置出し L 13)レーザ加工 M 14)対物レンズ交換 N 15)4)に戻る O 16)対象セルをステージから取り出す P 17)終了 である。*** Inspection process *** A1) Set cell in inspection machine R A2) Cell alignment S A3) Cell lighting T A4) Change display pattern U A5) Find defect position coordinates W A6) Cell removal X ++ Laser repair process +++ 1) Place target cell on stage A 2) Turn on target cell B 3) Input defect position coordinates C 4) Auto alignment D 5) Auto focus E 6) 5 × objective lens field of view Automatic adjustment F 7) Search in 5x objective lens field of view G 8) Positioning H 9) Autofocus I 10) Automatic adjustment in 50x objective lens field of view J 11) Search in 50x objective lens field of view K 12) Position Take out L 13) Laser processing M 14) Replace objective lens N 15) Return to 4) O 16) Take out target cell from stage P 17) End
【0022】なお、上述したフローにおける文字列は作
業を示し、数値を代入するとタクトタイムを表すもので
ある。The character string in the above-mentioned flow indicates the work, and when a numerical value is substituted, the tact time is represented.
【0023】[0023]
【発明が解決しようとする課題】この従来の検査工程と
レーザリペア工程において、詳細な欠陥座標を取得する
場合、前述した理由でタクトが低下したり、狭ピッチに
なった場合に異常画素が見にくいという問題点がある。In the conventional inspection process and laser repair process, when obtaining detailed defect coordinates, the tact is reduced for the above-described reason, and when the pitch becomes narrow, an abnormal pixel is difficult to see. There is a problem.
【0024】この発明は、上述した課題に対処してなさ
れたものであり、欠陥位置をいくつかの画素を基本単位
とする画素ブロックで指定し、レーザリペア装置がブロ
ックで指定された位置とブロックで指定する範囲の欠陥
検出機能を持つレーザリペア装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and a defect position is designated by a pixel block having a number of pixels as a basic unit. To provide a laser repair device having a defect detection function in a range specified by (1).
【0025】[0025]
【課題を解決するための手段】この発明は、上記問題点
に基づきなされたもので、レーザビームを発振するレー
ザ装置と、前記レーザビームと垂直に配置され、面方向
に移動可能なステージと、前記ステージ上に配置された
対象物を前記レーザビームにより加工する収束光学系
と、前記収束光学系による前記レーザ加工作業を観察で
きる観察系と、前記対象物がマトリクス状の画素を有
し、前記画素から異常表示を示す画素を画像処理により
検出し、所定の位置と範囲を特定できる検出する検出機
能とを備えたレーザリペア装置において、前記検出機能
における検出の位置の指定が画素を少なくとも2個以上
含む画素ブロック単位で指定可能で、検出対象範囲が画
素を少なくとも2個以上含む画素ブロック単位で行うこ
とを特徴とするレーザリペア装置である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above problems, and comprises a laser device for oscillating a laser beam, a stage arranged perpendicular to the laser beam and movable in a plane direction, A converging optical system that processes an object placed on the stage with the laser beam, an observation system that can observe the laser processing operation by the converging optical system, the object has pixels in a matrix, In a laser repair device having a detection function of detecting a pixel indicating an abnormal display from the pixel by image processing and specifying a predetermined position and a range, at least two pixels are specified in the detection position in the detection function. A laser which can be specified in units of pixel blocks including the above and is performed in units of pixel blocks whose detection target range includes at least two pixels. A pair devices.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0027】図1は、この発明の実施の形態が適用され
るレーザリペア装置を説明する概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a laser repair apparatus to which an embodiment of the present invention is applied.
【0028】図1に示すように、レーザリペア装置1
は、図示しないYAGレーザ源を有するYAGレーザ装
置2から発振されたYAGレーザビーム3を、ステージ
11上に固定されたレーザリペア対象の液晶表示装置O
の所定の位置に照射する魚眼系顕微鏡4を有している。
顕微鏡4には、図示しない落射照明系が設けられてお
り、その照明光がサンプルOに照射される位置とマーキ
ングの位置を、窓14を通じて確認可能である。なお、
顕微鏡4は、切り替えまたは交換により、例えば20倍
および50倍の2段階の拡大倍率を提供可能である。As shown in FIG. 1, a laser repair device 1
A YAG laser beam 3 oscillated from a YAG laser device 2 having a YAG laser source (not shown), and a liquid crystal display device O for laser repair fixed on a stage
And a fisheye microscope 4 for irradiating a predetermined position.
The microscope 4 is provided with an epi-illumination system (not shown), and the position where the illumination light is applied to the sample O and the position of the marking can be confirmed through the window 14. In addition,
The microscope 4 can provide two-stage magnification, for example, 20 times and 50 times by switching or exchanging.
【0029】顕微鏡4にはまた、YAGレーザビーム3
を透過し、図示しない照明装置からの光により照明され
たサンプル(液晶表示装置)Oからの反射光である可視
光を所定の方向に反射する図示しないダイクロイックミ
ラーが設けられている。The microscope 4 also has a YAG laser beam 3
And a dichroic mirror (not shown) that reflects visible light, which is reflected light from a sample (liquid crystal display device) O illuminated by light from a lighting device (not shown), in a predetermined direction.
【0030】ステージ11は、YAGレーザビーム3と
相互に直交するX軸方向とY軸方向の互いに直交する2
軸方向に、例えば0.5μmピッチで移動可能であり、
制御コンピュータ21によって、移動が制御される。な
お、制御コンピュータ21に対する移動指示すなわち移
動情報の入力には、図示しないJOYスティックが利用
される。このとき、JOYスティックは、現在のステー
ジ11の位置を、予め決められているステージ11の原
点を基準としてステージ11の位置を制御コンピュータ
に指示する。The stage 11 has two X-axis directions orthogonal to the YAG laser beam 3 and two orthogonal directions to the Y-axis direction.
It is movable in the axial direction, for example, at a pitch of 0.5 μm,
The movement is controlled by the control computer 21. A JOY stick (not shown) is used to input a movement instruction to the control computer 21, that is, movement information. At this time, the JOY stick indicates the current position of the stage 11 to the control computer with reference to a predetermined origin of the stage 11 as a reference.
【0031】制御コンピュータ21は、図示しない操作
パネルあるいは図示しないJOYスティックからの入力
に応じて、図示しないメモリ内の座標ファイル上の任意
の座標にステージ11を移動させることのできる図示し
ないテーブル制御機構を有している。なお、上述したレ
ーザリペア装置1は、制御コンピュータ21の制御によ
り、サンプル(液晶表示装置)Oに生じている表示画素
欠陥すなわち異常表示を表示する画素の位置を、複数の
画素を基本単位とする画素ブロックにより指定可能であ
り、またブロックで指定された位置と範囲の欠陥を検出
可能である。The control computer 21 can move the stage 11 to arbitrary coordinates on a coordinate file in a memory (not shown) in response to an input from an operation panel (not shown) or a JOY stick (not shown). have. In the laser repair device 1 described above, under the control of the control computer 21, the display pixel defect occurring in the sample (liquid crystal display device) O, that is, the position of the pixel displaying the abnormal display is set to a plurality of pixels as a basic unit. It can be specified by a pixel block, and a defect at the position and range specified by the block can be detected.
【0032】ステージ11は、例えばステンレス製で、
顕微鏡4とステージ11との間に位置される筐体12に
覆われている。The stage 11 is made of, for example, stainless steel.
It is covered by a housing 12 located between the microscope 4 and the stage 11.
【0033】筐体12には、ステージ11に固定される
液晶表示装置等であるサンプルOを覆うカバー13が配
置されている。A cover 13 for covering a sample O such as a liquid crystal display device fixed to the stage 11 is disposed on the housing 12.
【0034】カバー13には、ステージ11に固定され
ている液晶表示装置Oの表面を観察可能とする窓14が
設けられ、筐体内12に設けられる図示しない照明装置
により照明されるサンプルO上に予め描かれているマー
キングが確認可能である。The cover 13 is provided with a window 14 for observing the surface of the liquid crystal display device O fixed to the stage 11, and is provided on a sample O illuminated by a lighting device (not shown) provided in the housing 12. Pre-drawn markings can be checked.
【0035】窓14は、例えば5mm厚の塩化ビニル板
であり、YAGレーザ装置2から発振されるYAGレー
ザビーム3の波長である532nmの光の光強度を、1
/20以下の強度に減衰することのできる図示しないフ
ィルム(フィルタ)が一体に設けられている。これによ
り、筐体12内の液晶表示装置Oに照射されたYAGレ
ーザビーム3が液晶表示装置Oで反射された場合に、筐
体12および窓14を通じて外部へ漏れることが防止さ
れている。従って、YAGレーザビーム3が筐体内のサ
ンプルOに照射されている動作状態においても、作業者
(観測者)をクラス1レベルで保護できる。The window 14 is, for example, a 5 mm-thick vinyl chloride plate. The window 14 has a light intensity of 532 nm, which is the wavelength of the YAG laser beam 3 oscillated from the YAG laser device 2.
An unillustrated film (filter) capable of attenuating to an intensity of / 20 or less is provided integrally. Thus, when the YAG laser beam 3 applied to the liquid crystal display device O in the housing 12 is reflected by the liquid crystal display device O, it is prevented from leaking outside through the housing 12 and the window 14. Therefore, even in the operating state in which the sample O in the housing is irradiated with the YAG laser beam 3, the worker (observer) can be protected at the class 1 level.
【0036】ダイックロイックミラーで反射された可視
光が到達する位置には、筐体12内のステージ11に載
置されているサンプルOからの反射光を受光して、サン
プルOに対応する画像を出力するCCDセンサ5が設け
られている。従って、例えば液晶表示装置O上に、容量
ショート不良画素Aが存在する場合には、その画像A
が、顕微鏡4を介して所定の倍率で拡大されてCCDセ
ンサ5に案内され、画像信号に変換される。At the position where the visible light reflected by the dichroic mirror reaches, the reflected light from the sample O mounted on the stage 11 in the housing 12 is received, and the image corresponding to the sample O is received. Is provided. Therefore, for example, when a short-circuit defective pixel A exists on the liquid crystal display device O, the image A
Is enlarged at a predetermined magnification through the microscope 4 and guided to the CCD sensor 5 to be converted into an image signal.
【0037】この画像信号は、図示しない映像ケーブル
によりモニタ6に供給され、映像7として表示される。
なお、モニタ6の表示部には、顕微鏡4がサンプルOの
任意の位置の画像を取り込む際の画像エリアの概ね中心
を示すマーカー6aが設けられている。なお、ステージ
精度は、0.5μmであり、画素ピッチ200μm×2
00μmの画素を、640×400ドットピッチのモニ
タに表示することで、1μmの詳細な精度で、マーカー
6aとサンプルOのマーキング位置の位置あわせを実現
できる。This image signal is supplied to the monitor 6 via a video cable (not shown), and is displayed as a video 7.
Note that the display section of the monitor 6 is provided with a marker 6a that substantially indicates the center of the image area when the microscope 4 captures an image of an arbitrary position of the sample O. The stage precision is 0.5 μm, and the pixel pitch is 200 μm × 2.
By displaying the 00 μm pixels on a monitor with a 640 × 400 dot pitch, it is possible to realize the alignment of the marker 6a and the marking position of the sample O with a detailed accuracy of 1 μm.
【0038】このとき、CCD5に取り込まれた画像
は、例えば液晶表示装置Oが任意の色で全面点灯される
ことで、例えば図2(a)に示すように表示され、異常
画素51に、nコマ分の画素を含む横方向の画素ブロッ
クカーソル52とmコマ分の画素を含む縦方向の画素ブ
ロックカーソル53を合わせることで、その画素ブロッ
クの座標を求めることができる。なお、求められた画素
ブロックの座標54は、通常、液晶表示装置O上に表示
される。At this time, the image captured by the CCD 5 is displayed, for example, as shown in FIG. 2A by turning on the entire surface of the liquid crystal display device O in an arbitrary color. By aligning the horizontal pixel block cursor 52 including the pixels for the frame with the vertical pixel block cursor 53 including the pixels for the m frames, the coordinates of the pixel block can be obtained. The obtained coordinates 54 of the pixel block are usually displayed on the liquid crystal display device O.
【0039】次に、図1に示したレーザリペア装置を用
いた液晶表示装置の表示画素欠陥のレーザリペアについ
て説明する。なお、図1に示したレーザリペア装置は、
欠陥画像の検出の後の、その検出した画像のリペアの工
程に用いられる。Next, a description will be given of a laser repair for a display pixel defect of a liquid crystal display device using the laser repair device shown in FIG. The laser repair device shown in FIG.
It is used in a process of repairing the detected image after the detection of the defect image.
【0040】図2(b)は、リペア工程の欠陥画素の検
索工程を説明する概略図で、m×n個の画素からなる画
素ブロックの中から欠陥画素を検索する。この検索は、
対象画素ブロックの表示階調データを数値化してモニタ
6に画素として取り込み、正常な画素ブロックの画像デ
ータと差分する画像処理を行い、欠陥画素の特定を行う
ものであるが、これに限定されるものではない。FIG. 2B is a schematic diagram for explaining a defective pixel search step in the repair step, in which a defective pixel is searched from a pixel block composed of m × n pixels. This search is
The display gradation data of the target pixel block is digitized, captured as a pixel on the monitor 6, and subjected to image processing for difference from the image data of the normal pixel block to specify a defective pixel, but is not limited thereto. Not something.
【0041】図3は、図1に示したこの発明のレーザリ
ペア装置を用いた検査工程、およびレーザリペア工程の
主要フローを説明するフローチャートである。FIG. 3 is a flowchart for explaining the main flow of the inspection process and the laser repair process using the laser repair device of the present invention shown in FIG.
【0042】<<< 検査工程 >>> A1)セルを検査機にセット R A2)セル位置あわせ S A3)セル点灯 T A4)表示パターンを変えて検査 U A5)画素ブロック座標を求める Y A6)セル取り出し X ((( レーザリペア工程 ))) 1)対象セルをステージに配置 A 2)セル点灯 B 3)対象セルの欠陥画素の画素ブロック座標入力C 4)オートアライメント D 5)オートフォーカス E 6)5倍対物レンズ視野での自動調整 F 7)5倍対物レンズ視野での検索 Z 8)位置出し H 9)オートフォーカス I 10)50倍対物レンズ視野での自動調整 J 11)50倍対物レンズ視野での検索 K 12)位置出し L 13)レーザ加工 M 14)対物レンズ交換 N 15)6)に戻る O 16)対象基板をステージから取り出す P 17)終了 である。<<<< Inspection Step >>>> A1) Set the cell in the inspection machine R A2) Cell alignment S A3) Cell lighting T A4) Change display pattern U A5) Obtain pixel block coordinates Y A6) Cell take-out X (((laser repair process))) 1) Place target cell on stage A 2) Turn on cell B 3) Input pixel block coordinate of defective pixel of target cell C 4) Auto alignment D 5) Auto focus E 6 ) Automatic adjustment in the field of view of the 5 × objective lens F 7) Search in the field of view of the 5 × objective lens Z 8) Positioning H 9) Autofocus I 10) Automatic adjustment in the field of view of the 50 × objective lens J 11) 50 × objective lens Search in the field of view K 12) Positioning L 13) Laser processing M 14) Objective lens replacement N 15) Return to 6) O 16) Remove the target substrate from the stage P 17) is the end.
【0043】なお、図3における文字例をタクトタイム
と仮定すると、先に説明した従来の製造方法と上述した
この発明の製造方法による場合のタクトの差を形成する
と、タクトの差は、 (W−Y)+(G−Z) になる。Assuming that the character example in FIG. 3 is the tact time, if the difference in the tact between the conventional manufacturing method described above and the manufacturing method of the present invention described above is formed, the difference in the tact becomes (W −Y) + (G−Z).
【0044】このように、この発明のレーザリペア装置
においては、欠陥画素の位置を求める工程が任意個数の
画素を単位とした画素ブロック単位であることにより、
従来の工程に比較して、検査工程のタクトが短縮され
る。また、レーザリペア工程で欠陥検出を行う範囲が広
いことにより悪化するレーザリペア工程の検索タクトを
みつもればよいことになる。As described above, in the laser repair apparatus of the present invention, the step of obtaining the position of a defective pixel is performed in units of pixel blocks in units of an arbitrary number of pixels.
Compared with the conventional process, the tact time of the inspection process is reduced. Further, it is only necessary to find a search tact of the laser repair process, which is deteriorated by a wide range in which the defect is detected in the laser repair process.
【0045】なお、図4に示すように、発明者らは、画
素ブロックの大きさを変えて、セル検査工程での欠陥画
素を含む画素ブロック座標取得タクトの作業時間の計測
およびリペア工程の欠陥画素検出の画像処理時間を計算
と実測で導き、この合計タクトを導出した。すなわち、
図4は、画素ブロックの画素を束ねる数に対するセルの
検査タクト「A」と検索タクト「B」のそれぞれを合計
して合計タクト「C」を示しており、合計タクト「C」
が最少になるように、画素ブロックの大きさを求めるこ
とにより、最も作業効率を向上させる画素ブロックの大
きさを知ることができる。As shown in FIG. 4, the inventors changed the size of the pixel block and measured the working time of the pixel block coordinate acquisition tact including the defective pixel in the cell inspection process and the defect in the repair process. The image processing time of pixel detection was derived by calculation and actual measurement, and the total tact was derived. That is,
FIG. 4 shows the total tact “C” by summing each of the inspection tact “A” and the search tact “B” of the cell with respect to the number of the pixels in the pixel block, and the total tact “C”.
By determining the size of the pixel block so as to minimize the size, it is possible to know the size of the pixel block that maximizes the work efficiency.
【0046】図4において、従来例は、画素ブロック中
の画素数=1のときであり、すなわちY軸の位置とな
る。図4から明らかなように、画素ブロック中の画素数
が増加するにつれて検査タクトが低下して検索タクトが
上昇することから、合計値は、画素ブロック中の画素数
が2個以上の方が良好であることを示している。In FIG. 4, the conventional example is when the number of pixels in the pixel block = 1, that is, the position on the Y axis. As is clear from FIG. 4, since the inspection tact decreases and the search tact increases as the number of pixels in the pixel block increases, the total value is better when the number of pixels in the pixel block is two or more. Is shown.
【0047】この結果から、検査工程では、欠陥位置の
位置出しを少なくとも2以上の画素からなる画素ブロッ
ク単位で行い、レーザリペア工程の欠陥検出工程でこの
範囲を検索することで、欠陥位置の座標を検査工程で出
すよりタクトに比較してタクトを低減できることが認め
られる。From these results, in the inspection step, the defect position is located in units of pixel blocks composed of at least two or more pixels, and this range is searched in the defect detection step in the laser repair step to obtain the coordinates of the defect position. It is recognized that the tact time can be reduced as compared with the tact time in the inspection process.
【0048】また、検査工程において、欠陥位置の位置
出しをブロック単位で行い、リペア工程の欠陥検出工程
で、この範囲内全ての検索をするので、検査時に見落と
していた欠陥画素を発見することも可能となる。Further, in the inspection step, the defect position is located in units of blocks, and in the defect detection step in the repair step, all the search within this range is performed, so that a defective pixel that was overlooked during the inspection may be found. It becomes possible.
【0049】また、1つの画素ブロック内に複数の欠陥
画素が合った場合、画素ブロック座標の入力は1回で済
むので、従来に比べ入力時間の短縮ができる。When a plurality of defective pixels are matched in one pixel block, the input of the pixel block coordinates only needs to be performed once, so that the input time can be reduced as compared with the conventional case.
【0050】また、詳細な位置出しを画像処理姜置が行
うことから、画素ピッチが狭ピッチになっても問題なく
検出できる改善効果も確認されている。Further, since the image processing performs detailed positioning, it has been confirmed that even if the pixel pitch becomes narrower, it can be detected without any problem.
【0051】また、上述の実施の形態では、セル検査の
欠陥画素を含む画素ブロックの検出機構がリペア装置と
は別個に設けられる場合を示したが、これに限定されず
に、リペア装置と一体的に構成してもよい。In the above-described embodiment, the case where the detection mechanism of the pixel block including the defective pixel in the cell inspection is provided separately from the repair device is described. However, the present invention is not limited to this. It may be configured in a typical manner.
【0052】[0052]
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、従来の検査工程とレーザリペア工程において、詳細
な欠陥座標を取得することにより低下するタクトおよび
異常画素が見にくいという問題点を解決したので、1枚
当たりの加工タクトタイムを縮めることが可能になり、
単位時間当たりの製造枚数を倍増することができる。As described above, according to the present invention, in the conventional inspection process and laser repair process, the problem that tact and abnormal pixels which are reduced by acquiring detailed defect coordinates are difficult to see is solved. Therefore, it is possible to shorten the processing tact time per sheet,
The number of sheets manufactured per unit time can be doubled.
【図1】この発明の実施の形態である異常表示画素検出
機構つきのレーザリペア装置の一例を説明する概略図。FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an example of a laser repair device with an abnormal display pixel detection mechanism according to an embodiment of the present invention.
【図2】この発明のセルの検査工程およびリペア工程に
おける欠陥画素の表示の一例であり、(a)は欠陥を検
出した表示の一例を示し、(b)はリペア工程における
欠陥画素の位置出し時の表示の例を示す概略図。FIGS. 2A and 2B show an example of a display of a defective pixel in a cell inspection step and a repair step of the present invention, wherein FIG. 2A shows an example of a display in which a defect is detected, and FIG. The schematic diagram which shows the example of a display of time.
【図3】この発明のセルの検査工程とリペア工程の各工
程を説明するフローチャート。FIG. 3 is a flowchart illustrating each of a cell inspection process and a repair process according to the present invention.
【図4】画素ブロックの大きさと、セル検査およびリペ
ア工程の検索の作業時間の関係を説明する概略図。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the relationship between the size of a pixel block and the operation time of searching for a cell inspection and a repair process.
【図5】周知のレーザリペア装置を説明する概略図。FIG. 5 is a schematic diagram illustrating a known laser repair device.
【図6】周知のセルの検査工程およびリペア工程におけ
る欠陥画素の表示の一例であり、(a)は欠陥を検出し
た表示の一例を示し、(b)はリペア工程における欠陥
画素の位置出し時の表示の例を示す概略図。6A and 6B are examples of display of defective pixels in a well-known cell inspection process and a repair process, in which FIG. 6A shows an example of a display in which a defect is detected, and FIG. The schematic diagram which shows the example of a display of.
1 ・・・レーザリペア装置、 2 ・・・YAGレーザ装置、 3 ・・・YAGレーザビーム、 4 ・・・顕微鏡、 4a・・・第1の拡大レンズ(20倍)、 4b・・・第2の拡大レンズ(50倍)、 5 ・・・CCDセンサ、 6 ・・・モニタ、 6a・・・マーカー、 11 ・・・ステージ、 12 ・・・筐体、 13 ・・・カバー、 14 ・・・窓、 21 ・・・制御コンピュータ。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser repair apparatus, 2 ... YAG laser apparatus, 3 ... YAG laser beam, 4 ... Microscope, 4a ... First magnifying lens (20 times), 4b ... Second 5 ... CCD sensor, 6 ... Monitor, 6a ... Marker, 11 ... Stage, 12 ... Housing, 13 ... Cover, 14 ... Window, 21 ... control computer.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B23K 101:36 B23K 101:36 Fターム(参考) 2H088 FA12 FA15 FA16 FA17 FA30 MA16 2H092 JB71 JB77 MA47 MA52 MA57 NA25 NA27 NA29 PA06 4E068 CA09 CA17 CA18 CC02 DA09 5G435 AA17 BB06 BB12 EE33 HH12 KK05 KK10 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) // B23K 101: 36 B23K 101: 36 F term (Reference) 2H088 FA12 FA15 FA16 FA17 FA30 MA16 2H092 JB71 JB77 MA47 MA52 MA57 NA25 NA27 NA29 PA06 4E068 CA09 CA17 CA18 CC02 DA09 5G435 AA17 BB06 BB12 EE33 HH12 KK05 KK10
Claims (5)
記レーザビームと垂直に配置され、面方向に移動可能な
ステージと、前記ステージ上に配置された対象物を前記
レーザビームにより加工する収束光学系と、前記収束光
学系による前記レーザ加工作業を観察できる観察系と、
前記対象物がマトリクス状の画素を有し、前記画素から
異常表示を示す画素を画像処理により検出し、所定の位
置と範囲を特定できる検出する検出機能とを備えたレー
ザリペア装置において、 前記検出機能における検出の位置の指定が画素を少なく
とも2個以上含む画素ブロック単位で指定可能で、検出
対象範囲が画素を少なくとも2個以上含む画素ブロック
単位で行うことを特徴とするレーザリペア装置。1. A laser device for oscillating a laser beam, a stage arranged perpendicular to the laser beam and movable in a plane direction, and a focusing optics for processing an object arranged on the stage by the laser beam. System, an observation system that can observe the laser processing operation by the converging optical system,
A laser repair device having a detection function in which the object has pixels in a matrix shape, a pixel indicating an abnormal display is detected from the pixels by image processing, and a detection function capable of specifying a predetermined position and range is provided; A laser repair apparatus characterized in that the detection position in the function can be specified in pixel block units including at least two pixels, and the detection target range is specified in pixel block units including at least two pixels.
異常表示を示す画素の位置と範囲に関するデータを収受
して、前記検出機能によりブロック単位で検出された異
常表示を示す画素にレーザビームを照射可能であること
を特徴とする請求項1記載のレーザリペア装置。2. The converging optical system receives data relating to the position and range of a pixel indicating the abnormal display from the detecting function, and sends a laser beam to the pixel indicating the abnormal display detected in block units by the detecting function. The laser repair device according to claim 1, wherein the laser repair device can irradiate the laser beam.
一体に、あるいは独立に構成されることを特徴とする請
求項1記載のレーザリペア装置。3. The laser repair device according to claim 1, wherein the detection function is formed integrally with or independent of the laser repair device.
ルの製造方法において、 前記表示セルの欠陥画素を含む複数の画素からなる画素
ブロック単位の欠陥位置座標と範囲を検出する検出工程
と、 前記画素ブロックの前記位置座標および前記範囲に基づ
いて、前記画素ブロック内の欠陥画素を検索する工程
と、を含むことを特徴とする表示セルの製造方法。4. A method for manufacturing a display cell in which a light modulation layer is held between two substrates, comprising: detecting a defect position coordinate and a range in a pixel block unit including a plurality of pixels including a defective pixel of the display cell. A method for manufacturing a display cell, comprising: a step of searching for a defective pixel in the pixel block based on the position coordinates and the range of the pixel block.
えたことを特徴とする請求項4記載の表示セルの製造方
法。5. The method according to claim 4, further comprising the step of repairing said defective pixel.
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JP2000163794A JP2001343907A (en) | 2000-05-31 | 2000-05-31 | Laser repair device and production method for display cell |
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