JP2001339103A - Ledアレイ、プリントヘッド及び電子写真プリンタ - Google Patents

Ledアレイ、プリントヘッド及び電子写真プリンタ

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JP2001339103A
JP2001339103A JP2000157573A JP2000157573A JP2001339103A JP 2001339103 A JP2001339103 A JP 2001339103A JP 2000157573 A JP2000157573 A JP 2000157573A JP 2000157573 A JP2000157573 A JP 2000157573A JP 2001339103 A JP2001339103 A JP 2001339103A
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shielding film
led array
opening
diffusion region
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JP2000157573A
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Tetsuo Saito
哲郎 齋藤
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 不純物拡散による拡散領域を備えるLEDア
レイにおいて、発光部の大きさのばらつきを抑制する。 【解決手段】 不純物拡散による拡散領域26を備える
LEDアレイ10において、層間絶縁膜24により形成
される開口部25の周辺での横方向の拡散の広がりによ
り不純物濃度が徐々に下がるため発光領域を明確に規定
できないが、拡散領域26を被覆する遮光膜30を設け
ることで、遮光膜30の遮光膜開口部31の大きさによ
り実際に発光光を発する発光部の大きさを精密に規定す
ることが可能となり、発光部の大きさのバラツキの少な
いLEDアレイ10を提供できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真プリン
タ、この電子写真プリンタにおける感光体の露光光源と
して用いられるプリントヘッド、及び、このプリントヘ
ッド等に用いられるLEDアレイに関する。
【0002】
【従来の技術】SOHO(スモールオフィス&ホームオ
フィス)向けの情報機器の発展により、各種紙情報の出
力のための装置であるプリンタの需要が増加している。
プリンタは、高解像度の画像や文字をモノクロ或いはカ
ラーで出力する必要がある。需要の増加とともに、これ
らの機器は、より高解像度で高速出力、コンパクト、安
価であることが要求されてきている。
【0003】これらの要求を満たすプリンタの例とし
て、LEDアレイを露光光源に用いた電子写真プリンタ
(LEDアレイプリンタ)がある。従来用いられてきた
この種のLEDアレイプリンタの構成例を概略断面模式
図により図9に示す。概略的には、LEDアレイ91か
ら発した光92は、等倍結像光学系93を経由して、等
倍結像光学系93の視野内に入射した光だけがドラム状
の感光体94に集光しその感光面を露光する。これによ
り、帯電済みの感光体94の表面に静電潜像が形成さ
れ、現像工程、転写工程を経ることにより、記録紙上に
画像が形成される。
【0004】このようなLEDアレイプリンタでは、L
EDアレイ91を光源としているため、半導体レーザを
光源に用いたラスタスキャン方式の書込み光学系を持つ
レーザラスタプリンタよりコンパクトに作りやすく、か
つ、各LEDアレイ91が並列に書き込みを行うため、
高速出力化も比較的容易である。また、LEDアレイ9
1を用いたLEDアレイプリンタは、レーザラスタプリ
ンタに比較して、振動や熱による光学系の変形に強いメ
リットもある。
【0005】ところが、一般に、LEDアレイプリンタ
の画像はレーザラスタプリンタに比べて画質が劣ると言
われているが、その一因は、画像線幅のむらなどの結像
形状の変形に起因している。線幅のむらを生じる原因と
しては、LEDアレイが感光体の被照射面上に形成する
点像(ドット)のバラツキがある。このような点像のバ
ラツキを生じさせる原因として、LEDアレイにおける
各LEDの発光ドットの大きさのバラツキがある。
【0006】この点に関し、LEDアレイの構造につい
ては特開平11-1027号公報に示されるLEDアレ
イ構造を参照して説明する。図10ないし図12は同公
報に示されるLEDアレイ構造を示すもので、図10は
そのLEDアレイの平面図、図11は図10におけるL
ED100部分を拡大して示す平面図、図12は図11
におけるC−C’間の断面図である。
【0007】図10〜図12において、LEDアレイ1
01は、p側個別電極102を有する多数のLED10
0をn型基板103上に直線的に配列させて構成されて
いる。LED100は、層間絶縁膜104を開口させて
形成した開口部105を有する。ここで、p型不純物の
亜鉛(Zn)を層間絶縁膜104の開口部105に対応
するn型基板103の領域に拡散させることにより、p
型拡散領域106が形成されている。このp型拡散領域
106とn型基板103とにより、発光現象を生じるp
n接合部107が形成されている。p側個別電極102
は、開口部105においてp型拡散領域106と接続さ
れている。ここで、p側個別電極102は、p型拡散領
域106との接続部105aを含めて発光光を放射する
拡散領域表面部108の一部を被覆するように形成され
ている。n側共通電極109は、n型基板103の裏面
全面に形成されている。p側個別電極102とn側共通
電極109との間に電流を流すことにより、pn接合部
107で発光現象を起こさせ、p側個別電極102に被
覆されていない部分から発光光が外部に放射される。
【0008】ここで、p型不純物の亜鉛(Zn)を層間
絶縁膜104の開口部105に対応するn型基板103
の領域に拡散させる工程を詳しく説明する。Znを拡散
させる場合、開口部105においてはZnがn型基板1
03中に拡散するが、拡散マスクが形成されている領域
においては、Znは拡散しないので、n型基板103の
開口部105に対応する部分に選択的にp型拡散領域1
06が形成される。このp型拡散領域106の基板表面
の領域を拡散領域表面部108と称する。Znは深さ方
向だけでなく横方向にも拡散するので、拡散領域表面部
108の面積は開口部105の面積よりも大きくなるこ
とが知られている。この横方向への拡散は、一般に、縦
方向の拡散より深く進行する。原因としては、n型基板
103と層間絶縁膜104との界面の状態に敏感であ
り、プロセスのわずかな変動で横方向の拡散の広がりが
変動することが知られている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】LEDアレイプリンタ
におけるプリントヘッドのLEDアレイにおいて発光領
域の大きさがばらつくことは、印刷出力の主走査方向の
印字ムラ(縦筋)を引き起こし、印字品質を劣化させる
ことは明らかである。そして、上述のように、不純物拡
散で発光領域を形成するLEDアレイにおいては、上述
のような横方向拡散の異常な進行により発光部が大きく
なることにより、LEDの発光領域の大きさのムラが起
きやすいことは明らかである。
【0010】このように不純物拡散で発光領域を形成す
るLEDアレイを用いたプリントヘッドでは画像品質の
低下を引き起こしやすい。かといって、Zn固相拡散法
を用いることにより、拡散深さが浅く、かつ、表面のシ
ート抵抗が低い(表面Zn濃度が高い)p型拡散領域を
形成でき、発光効率の高いLEDを製造できるので、L
EDアレイを製造する上で不純物拡散を用いることは避
け難い。
【0011】そこで、本発明は、不純物拡散による拡散
領域を備えるLEDアレイにおいて、発光部の大きさの
ばらつきを抑制することを目的とする。
【0012】また、本発明は、発光部の大きさのばらつ
きが抑制されたLEDアレイを用いることにより、ドッ
トの均一性が高く、濃度むらが軽減されて高画質の画像
を形成することができるプリントヘッド及び電子写真プ
リンタを提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
第1導電型の半導体基板上に形成された層間絶縁膜と、
この層間絶縁膜に形成された開口部と、前記半導体基板
の前記開口部に対応した領域に形成された第2導電型の
拡散領域と、この拡散領域に接続された個別電極とによ
り構成される多数のLEDを、前記半導体基板上に所定
のピッチ寸法で直線的に配列させたLEDアレイにおい
て、前記拡散領域上にこの拡散領域を被覆するように形
成された遮光膜と、前記遮光膜の前記開口部に対応した
領域に前記拡散領域の範囲内に収まる所定の大きさで形
成された遮光膜開口部と、を備える。
【0014】従って、不純物拡散による拡散領域を備え
るLEDアレイにおいて、遮光膜の遮光膜開口部の大き
さにより実際に発光光を発する発光部の大きさを精密に
規定することが可能となり、発光部の大きさのバラツキ
の少ないLEDアレイを提供できる。
【0015】請求項2記載の発明は、第1導電型の半導
体基板上に形成された層間絶縁膜と、この層間絶縁膜に
形成された開口部と、前記半導体基板の前記開口部に対
応した領域に形成された第2導電型の拡散領域と、この
拡散領域に接続された個別電極とにより構成される多数
のLEDを、前記半導体基板上に所定のピッチ寸法で直
線的に配列させたLEDアレイにおいて、前記拡散領域
上にこの拡散領域を被覆するように形成された遮光膜
と、前記遮光膜の前記開口部に対応した領域に前記開口
部の範囲内に収まる所定の大きさで形成された遮光膜開
口部と、を備える。
【0016】従って、不純物拡散による拡散領域を備え
るLEDアレイにおいて、遮光膜の遮光膜開口部の大き
さにより実際に発光光を発する発光部の大きさを精密に
規定することが可能となり、発光部の大きさのバラツキ
の少ないLEDアレイを提供できる。
【0017】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載のLEDアレイにおいて、前記遮光膜は、導電性材料
により形成され、前記個別電極を兼用する。
【0018】従って、請求項1又は2記載のLEDアレ
イを実現する上で、遮光膜と個別電極との兼用により、
作製工程を簡略させることができる。
【0019】請求項4記載の発明は、請求項1又は2記
載のLEDアレイにおいて、前記遮光膜は、導電性材料
により形成され、前記層間絶縁膜と前記遮光膜との間に
前記開口部を被覆するように形成された第2の層間絶縁
膜を備える。
【0020】従って、請求項1又は2記載のLEDアレ
イを実現する上で、第2の層間絶縁膜を介在させること
により、遮光膜として遮光性能の高い金属膜が使えるの
で遮光膜を薄くすることができる。
【0021】請求項5記載の発明は、請求項1又は2記
載のLEDアレイにおいて、前記遮光膜は、絶縁性材料
により前記層間絶縁膜と前記個別電極との間に形成され
ている。
【0022】従って、請求項1又は2記載のLEDアレ
イを実現する上で、遮光膜が絶縁性材料により形成され
ているので、発光部全体を覆うようにLEDアレイ内に
帯状に遮光膜を形成することができ、光の漏れなどを極
力減らすことを簡単に実現できる。
【0023】請求項6記載の発明は、請求項1又は2記
載のLEDアレイにおいて、前記遮光膜は、絶縁性材料
により前記個別電極上に形成されている。
【0024】従って、請求項1又は2記載のLEDアレ
イを実現する上で、遮光膜が絶縁性材料により個別電極
上に形成されているので、発光部全体を覆うようにLE
Dアレイ内に帯状に遮光膜を形成することができ、光の
漏れなどを極力減らすことを簡単に実現できる。
【0025】請求項7記載の発明は、請求項1又は2記
載のLEDアレイにおいて、前記個別電極上にこの個別
電極を被覆するように形成された第2の層間絶縁膜を備
え、前記遮光膜は、導電性材料により前記第2の層間絶
縁膜上に形成されている。
【0026】従って、請求項1又は2記載のLEDアレ
イを実現する上で、第2の層間絶縁膜を介在させること
により、遮光膜として遮光性能の高い金属膜が使えるの
で遮光膜を薄くすることができる上に、発光部全体を覆
うようにLEDアレイ内に帯状に遮光膜を形成すること
ができ、光の漏れなどを極力減らすことを簡単に実現で
きる。
【0027】請求項8記載の発明のプリントヘッドは、
配線基板と、この配線基板上に直線的に配列された請求
項1ないし7の何れか一に記載のLEDアレイと、前記
配線基板上に搭載されて前記LEDアレイの各LEDの
発光動作を制御する駆動ICと、前記LEDアレイの各
LEDから出射される光を被照射面上に集光させるレン
ズと、を備える。
【0028】従って、請求項1ないし7の何れか一に記
載の発光部の大きさのばらつきが抑制されたLEDアレ
イを用いることにより、ドットの均一性が高く、濃度む
らが軽減されて高画質の画像を形成できるプリントヘッ
ドを提供できる。
【0029】請求項9記載の発明の電子写真プリンタ
は、請求項8記載のプリントヘッドと、このプリントヘ
ッドにより集光照射される光により被照射面に位置する
表面に静電潜像が形成される感光体と、この感光体上に
形成された静電潜像を現像して可視像化する現像装置
と、この現像装置により現像された可視像を記録媒体上
に転写する転写装置と、を備える。
【0030】従って、発光部の大きさのばらつきが抑制
されたLEDアレイを用いることにより、ドットの均一
性が高く、濃度むらが軽減されて高画質の画像を形成で
きる電子写真プリンタを提供できる。
【0031】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図1
ないし図5に基づいて説明する。本実施の形態は、電子
写真プリンタであるLEDアレイプリンタへの適用例を
示す。図1はこのLEDアレイプリンタの画像形成部の
概略構成例を示す。この画像形成部は、ドラム状の感光
体1、帯電装置2、プリントヘッドとしてのLEDアレ
イヘッド3、現像装置4、転写装置5、クリーニング装
置6、除電装置7等を備え、通常の電子写真プロセスで
ある帯電、露光、現像、転写、クリーニング、除電のプ
ロセスを行い、矢印方向に搬送される記録媒体である記
録紙8上に画像を形成する。
【0032】LEDアレイヘッド3については、PC板
(配線基板)9上に複数個(又は、1個)のLEDアレ
イ10のチップを主走査方向に直線的に配列させ、か
つ、PC板9上にLEDアレイ10における各LEDの
発光動作を画像情報等に基づき制御する複数個の駆動I
C11を搭載するとともに、LEDアレイ10と感光体
1の表面である被照射面との間に位置させて等倍結像光
学系を構成するロッド状レンズによるレンズ12を一体
化させることにより構成されている。
【0033】これにより、各LEDアレイ10における
各LED(後述する)を画像情報等に応じて適宜発光さ
せると、その光がレンズ12により感光体1の被照射面
に位置する表面上に集光照射される。この時、感光体1
は帯電装置2により一様帯電隅でるので、LEDアレイ
ヘッド3による光書込みに従い、感光体1の表面に静電
潜像が形成される。この静電潜像は現像装置4において
トナーにより現像されてトナー像として可視像化され、
転写装置5により記録紙8上に転写され、印刷画像が得
られる。
【0034】このようなLEDアレイプリンタないしは
LEDアレイヘッド3に用いられるLEDアレイ10の
構成を図2ないし図4を参照して詳細に説明する。図2
はLEDアレイ10の概略平面図、図3はその一部を拡
大して各部の大きさ・位置関係を示す平面図、図4はそ
の一部の断面構造図である。
【0035】本実施の形態のLEDアレイ10は、概略
的には、図2に示すように、p側の個別電極21を有す
る多数のLED22をn型(=第1の導電型)の半導体
基板23上に所定のピッチ寸法で直線的に配列させるこ
とにより構成されている。
【0036】ここに、各LED22の構造について、図
4を参照して説明する。各LED22は、基本的には、
n型の半導体基板23上に形成された層間絶縁膜24を
開口させて形成した矩形状の開口部25を有する。ここ
で、p型不純物の亜鉛(Zn)を層間絶縁膜24の開口
部25に対応するn型の半導体基板23の領域に拡散さ
せることにより、p型(=第2導電型)の拡散領域26
が形成されている。このp型の拡散領域26とn型の半
導体基板23とにより、発光現象を生じるpn接合部2
7が形成されている。p側の個別電極21は、開口部2
5においてp型の拡散領域26と接続されている。ここ
で、p側の個別電極21は、p型の拡散領域26との接
続部26aを含めて発光光を放射する拡散領域表面部2
8の一部を被覆するように形成されている。n側の共通
電極29は、n型の半導体基板23の裏面全面に形成さ
れている。
【0037】さらに、本実施の形態にあっては、このよ
うなLEDアレイ10に関して、p型の拡散領域26を
全面的に被覆するようにアレイ方向に沿わせた帯状の遮
光膜30が個別電極21上に設けられている。絶縁性材
料によるこの遮光膜30には、各開口部25に対応する
領域に所定の大きさの矩形状の遮光膜開口部31が形成
されている。図3では、これらの遮光膜30及び遮光膜
開口部31を仮想線で示している。
【0038】このようなLEDアレイ22の製造工程に
ついて説明する。本実施の形態では、Zn固相拡散法に
よりLEDアレイ22のLED10におけるp型の拡散
領域26を形成するものとする。
【0039】第1工程 まず、n型のGaAsΡエピタキシャル層が形成された
GaAs基板(n型の半導体基板23)の表面に絶縁膜
としてアルミ窒化膜(AlN膜)をスパッタリング法に
より膜厚約2000[Å]に成膜し、この絶縁膜をパタ
ーニングして開口部25および選択拡散用マスクを形成
する。このAlN膜は開口部25の形成が済んだn型の
半導体基板23の表面に、スパッタリング法によりZn
O−SiO2混合膜をZn拡散源膜として成膜し、さら
にその上にCVD法によりシリコン窒化膜(SiN膜)
をアニーリングキャップ膜として成膜する。ここで、Z
nO−SiO2混合膜の膜厚は約1000[Å]であ
り、SiN膜の膜厚は約1000[Å]である。
【0040】第2工程 アニーリングキャップ膜の形成が済んだn型の半導体基
板23に高温アニールを施し、Zn拡散源膜からn型の
半導体基板23中にZnを拡散させる。開口部25にお
いてはZnがn型の半導体基板23中に拡散するが、拡
散マスクが形成されている領域においては、Znは拡散
しないので、n型の半導体基板23の開口部25に対応
する部分に選択的にp型の拡散領域26が形成される。
【0041】この場合の高温アニールの条件は、例え
ば、アニール温度700[℃]、アニール時間=2時間
とした。このようなアニール条件により拡散深さが1
[μm]、表面Zn濃度が1020[cm-3]のp型の拡
散領域26が形成される。
【0042】このようにZn固相拡散法を用いることに
より、拡散深さが浅く、かつ、表面のシート抵抗が低い
(表面Zn濃度が高い)p型の拡散領域26を形成でき
るので、発光効率の高いLED22を製造できる。な
お、アニーリングキャップ膜は、Znがアニール雰囲気
中に拡散してしまうのを防止する。
【0043】もっとも、Znは深さ方向だけでなく横方
向にも拡散するので、拡散領域表面部28の面積は開口
部25の面積よりも大きくなる。
【0044】第3工程 p型の拡散領域26の形成が済んだn型の半導体基板2
3において、その表面に形成されている拡散源膜及びア
ニールキャップ膜を、例えば、ウエットエッチング法に
より全面的に除去し、選択拡散用マスクのみを残す。エ
ッチング液としては、選択拡散用マスクがエッチングさ
れないもの、例えば、バッファードフッ酸を用いる。な
お、残された選択拡散用マスクは、そのまま層間絶縁膜
24として用いられる。また、残された選択拡散用マス
ク上にさらに絶縁膜を積層し、この積層膜を層間絶縁膜
24として用いてもよい。
【0045】第4工程 拡散源膜及びアニールキャップ膜の除去が済んだn型の
半導体基板23の表面に、p側の個別電極21となる導
電性膜を成膜し、この導電性膜をパターニングしてp側
の個別電極21を形成する。p側の個別電極21は、そ
の一部が開口部25および拡散領域表面部28にオーバ
ーラップするように形成される。開口部25において、
p側の個別電極21はp型の拡散領域26にオーミック
接続することになる。従って、この場合の導電性膜とし
ては、p型の拡散領域26にオーミック接続できるも
の、例えば、Al膜が用いられる。
【0046】ここで、開口部25において、p側の個別
電極21とp型の拡散領域26との接続領域を接続部2
6aと称し、拡散領域表面部28において、p側の個別
電極21に被覆された部分を被覆部28aと称し、p側
の個別電極21に被覆されない部分を発光部28bと称
する。
【0047】LED22が動作したときには、p型の拡
散領域26とn型の半導体基板23との界面(pn接合
部27)において発光現象が起こる。発光部28bにお
いてはこの発光光は外部に放出されるが、被覆部28a
においてはこの発光光はp側の個別電極21に遮断さ
れ、外部に放射されない。なお、層間絶縁膜24はこの
発光光を透過させる。
【0048】発光部28b及びp側の個別電極21が形
成されたn型の半導体基板23の表面に、p側の個別電
極21のボンディングパッド部を除き、かつ、p型の拡
散領域26を覆うように帯状にポリイミドの絶縁性有色
不透明膜を遮光膜30として塗布する。膜厚は約500
0[Å]である。このポリイミド膜(遮光膜30)のう
ち、p側の拡散領域26用の層間絶縁膜24の開口部2
5に対応する領域部分を除去することにより、遮光膜開
口部31を矩形状に形成する。即ち、この遮光膜開口部
31は、p側の拡散領域26との関係では、この拡散領
域26の範囲内に収まる所定の大きさ(図示例では、小
さめであるが同一形状となる同等の大きさであってもよ
い)とされ、開口部25との関係では、この開口部25
の範囲内に収まる所定の大きさ(図示例では、小さめで
あるが同一形状となる同等の大きさであってもよい)と
されている。
【0049】第5工程 n型の半導体基板23の裏面を研磨し、この研磨された
半導体基板23の裏面全面に、n側の共通電極29とな
る導電性膜を成膜する。この導電性膜としては、例えば
スパッタリング法により成膜されるAu合金膜が用いら
れる。
【0050】以上の第1ないし第5工程により、本実施
の形態のLEDアレイ10が製造される。
【0051】このようにして作製された本実施の形態に
よるLEDアレイ10の特性について説明する。まず、
本実施の形態による遮光膜30及び遮光膜開口部31を
持たない、従来型のLEDアレイのLEDに電流を流
し、発光させた場合の発光部の様子を図5(a)の写真
に示す。図5(a)に見られるように従来型の不純物拡
散型LEDアレイでは発光部の周囲の境界が不明瞭であ
る。これは、層間絶縁膜により形成される開口部(拡散
窓)の周辺での横方向の拡散の広がりにより不純物濃度
が徐々に下がるため明確な発光領域が規定できないから
である。また、このように横方向の拡散の進行により発
光部の大きさが規定されるために、従来の技術の欄で述
べたように、横方向の異常拡散などにより拡散が異常に
進行した場合は発光部の大きさが大きくなる。実際に従
来型の不純物拡散型LEDアレイでは2μm程度の横方
向の拡散の広がりの幅が確認されたものである。両側へ
の広がりを考慮すると、4μmの発光部の大きさの誤差
が生ずることになる。
【0052】一方、本実施の形態による遮光膜30及び
遮光膜開口部31を備えたLEDアレイ10のLED2
2に電流を流し、発光させた場合の発光部28bの様子
を図5(b)の写真に示す。層間絶縁膜24により形成
される開口部(拡散窓)25の大きさは上記の従来例の
場合と同じとした。本実施の形態のLEDアレイ10に
よれば、発光部28bの大きさが、遮光膜30に形成し
た遮光膜開口部31の大きさで規定され、横方向の拡散
の広がりの影響を受けない。つまり、発光部28bは遮
光膜開口部31の作製寸法誤差で決まることとなり、そ
の寸法誤差は1μm以下に抑えることができる。また、
写真からも分かるように、発光部28bの境界が従来の
LEDアレイの場合に比べて明瞭になっている。このよ
うに、本実施の形態のLEDアレイ10によれば、各L
ED22(各ドット)の大きさが揃っており、ドットの
バラツキが少なくなる。
【0053】このようなLEDアレイ10を搭載したL
EDアレイヘッド3を用いてLEDアレイプリンタによ
り画像の出力を行ったところ、従来見られていた主走査
方向の濃度のムラ(縦筋)が大幅に軽減され、画質が向
上したものである。
【0054】なお、本実施の形態では、p側の個別電極
21上に遮光膜30を形成するようにしたが、層間絶縁
膜24とp側の個別電極21との間に遮光膜30を形成
するようにしてもよい。この場合、p側の個別電極21
は遮光膜30の遮光膜開口部31及び開口部25を通じ
てp側の拡散領域26に接続される。
【0055】本発明の第二の実施の形態を図6及び図7
に基づいて説明する。第一の実施の形態で示した部分と
同一部分は同一符号を用いて示し、説明も省略する(以
降の実施の形態でも同様とする)。
【0056】本実施の形態では、p側の個別電極32に
遮光機能を持たせるとともに、p型の拡散領域26(拡
散領域表面部28を含む)を全面的に被覆するように形
成することで、遮光膜の機能を兼用させ、かつ、拡散領
域26に対応する領域を所定の大きさで開口させた遮光
膜開口部33が矩形状に形成されている。即ち、この遮
光膜開口部33は、p側の拡散領域26との関係では、
この拡散領域26の範囲内に収まる所定の大きさとさ
れ、開口部25との関係では、この開口部25の範囲内
に収まる所定の大きさとされている。
【0057】このような構成によっても、第一の実施の
形態の場合と同様の効果が得られる。特に、p側の個別
電極32が遮光膜を兼用するため、遮光膜を別個独自に
形成する必要がなく、製造工程を簡略化させることがで
きる。
【0058】本発明の第三の実施の形態を図8に基づい
て説明する。本実施の形態では、層間絶縁膜24の表面
をp側の個別電極21部分及びp側の拡散領域26部分
を含めて全面的に被覆するように第2の層間絶縁膜34
が形成され、この第2の層間絶縁膜34上に金属等の導
電性材料による遮光膜35が形成されている。遮光膜3
0に相当する遮光膜35にも、遮光膜開口部31に相当
する遮光膜開口部36が形成されている。第2の層間絶
縁膜34は発光光が透過する特性を有する。
【0059】作製工程としては、従来型の不純物拡散型
のLEDアレイを形成した後、その表面に第2の層間絶
縁膜34を形成し、その後、金属による遮光35膜を成
膜した後、遮光膜開口部36を形成することにより作製
される。
【0060】本実施の形態においては、第2の層間絶縁
膜34を介在させることにより、遮光膜35として遮光
性能の高い金属膜が使えるので遮光膜35を薄くするこ
とができる上に、p側の個別電極21とは絶縁されてい
るので図3に示した場合と同様に発光部全体を覆うよう
にLEDアレイ10内に帯状に遮光膜35を形成するこ
とができるので光の漏れなどを極力減らすことを簡単に
実現できる。
【0061】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、不純物拡
散による拡散領域を備えるLEDアレイにおいて、遮光
膜の遮光膜開口部の大きさにより実際に発光光を発する
発光部の大きさを精密に規定することが可能となり、発
光部の大きさのバラツキの少ないLEDアレイを提供す
ることができる。
【0062】請求項2記載の発明によれば、不純物拡散
による拡散領域を備えるLEDアレイにおいて、遮光膜
の遮光膜開口部の大きさにより実際に発光光を発する発
光部の大きさを精密に規定することが可能となり、発光
部の大きさのバラツキの少ないLEDアレイを提供する
ことができる。
【0063】請求項3記載の発明によれば、請求項1又
は2記載のLEDアレイを実現する上で、遮光膜と個別
電極との兼用により、作製工程を簡略させることができ
る。
【0064】請求項4記載の発明によれば、請求項1又
は2記載のLEDアレイを実現する上で、第2の層間絶
縁膜を介在させることにより、遮光膜として遮光性能の
高い金属膜が使えるので遮光膜を薄くすることができ
る。
【0065】請求項5記載の発明によれば、請求項1又
は2記載のLEDアレイを実現する上で、遮光膜が絶縁
性材料により形成することにより、発光部全体を覆うよ
うにLEDアレイ内に帯状に遮光膜を形成することがで
き、光の漏れなどを極力減らすことを簡単に実現でき
る。
【0066】請求項6記載の発明によれば、請求項1又
は2記載のLEDアレイを実現する上で、遮光膜が絶縁
性材料により個別電極上に形成することにより、発光部
全体を覆うようにLEDアレイ内に帯状に遮光膜を形成
することができ、光の漏れなどを極力減らすことを簡単
に実現できる。
【0067】請求項7記載の発明によれば、請求項1又
は2記載のLEDアレイを実現する上で、第2の層間絶
縁膜を介在させることにより、遮光膜として遮光性能の
高い金属膜が使えるので遮光膜を薄くすることができる
上に、発光部全体を覆うようにLEDアレイ内に帯状に
遮光膜を形成することができ、光の漏れなどを極力減ら
すことを簡単に実現できる。
【0068】請求項8記載の発明のプリントヘッドによ
れば、請求項1ないし7の何れか一に記載の発光部の大
きさのばらつきが抑制されたLEDアレイを用いること
により、ドットの均一性が高く、濃度むらが軽減されて
高画質の画像を形成できるプリントヘッドを提供するこ
とができる。
【0069】請求項9記載の発明の電子写真プリンタに
よれば、発光部の大きさのばらつきが抑制されたLED
アレイを用いることにより、ドットの均一性が高く、濃
度むらが軽減されて高画質の画像を形成できる電子写真
プリンタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態のLEDアレイプリ
ンタの画像形成部を示す概略構成図である。
【図2】LEDアレイを示す概略平面図である。
【図3】その一部を拡大して大きさ関係を示す平面図で
ある。
【図4】その一部を示す断面構造図である。
【図5】従来例と本実施の形態の場合との発光部の発光
の様子を拡大して示す写真である。
【図6】本発明の第二の実施の形態のLEDアレイの一
部を拡大して大きさ関係を示す平面図である。
【図7】その一部を示す断面構造図である。
【図8】本発明の第三の実施の形態のLEDアレイの一
部を示す断面構造図である。
【図9】一般的なLEDアレイプリンタの構成例を示す
概略断面模式図である。
【図10】従来のLEDアレイ構造を示す平面図であ
る。
【図11】その一部を拡大して示す平面図である。
【図12】そのC−C’間の断面図である。
【符号の説明】
1 感光体 3 プリントヘッド 4 現像装置 5 転写装置 9 配線基板 10 LEDアレイ 11 駆動IC 12 レンズ 21 個別電極 22 LED 23 第1導電型の半導体基板 24 層間絶縁膜 25 開口部 26 第2導電型の拡散領域 30 遮光膜 31 遮光膜開口部 32 個別電極、遮光膜 33 遮光膜開口部 34 第2の層間絶縁膜 35 遮光膜 36 遮光膜開口部

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1導電型の半導体基板上に形成された
    層間絶縁膜と、この層間絶縁膜に形成された開口部と、
    前記半導体基板の前記開口部に対応した領域に形成され
    た第2導電型の拡散領域と、この拡散領域に接続された
    個別電極とにより構成される多数のLEDを、前記半導
    体基板上に所定のピッチ寸法で直線的に配列させたLE
    Dアレイにおいて、 前記拡散領域上にこの拡散領域を被覆するように形成さ
    れた遮光膜と、 前記遮光膜の前記開口部に対応した領域に前記拡散領域
    の範囲内に収まる所定の大きさで形成された遮光膜開口
    部と、を備えることを特徴とするLEDアレイ。
  2. 【請求項2】 第1導電型の半導体基板上に形成された
    層間絶縁膜と、この層間絶縁膜に形成された開口部と、
    前記半導体基板の前記開口部に対応した領域に形成され
    た第2導電型の拡散領域と、この拡散領域に接続された
    個別電極とにより構成される多数のLEDを、前記半導
    体基板上に所定のピッチ寸法で直線的に配列させたLE
    Dアレイにおいて、 前記拡散領域上にこの拡散領域を被覆するように形成さ
    れた遮光膜と、 前記遮光膜の前記開口部に対応した領域に前記開口部の
    範囲内に収まる所定の大きさで形成された遮光膜開口部
    と、を備えることを特徴とするLEDアレイ。
  3. 【請求項3】 前記遮光膜は、導電性材料により形成さ
    れ、前記個別電極を兼用することを特徴とする請求項1
    又は2記載のLEDアレイ。
  4. 【請求項4】 前記遮光膜は、導電性材料により形成さ
    れ、前記層間絶縁膜と前記遮光膜との間に前記開口部を
    被覆するように形成された第2の層間絶縁膜を備えるこ
    とを特徴とする請求項1又は2記載のLEDアレイ。
  5. 【請求項5】 前記遮光膜は、絶縁性材料により前記層
    間絶縁膜と前記個別電極との間に形成されていることを
    特徴とする請求項1又は2記載のLEDアレイ。
  6. 【請求項6】 前記遮光膜は、絶縁性材料により前記個
    別電極上に形成されていることを特徴とする請求項1又
    は2記載のLEDアレイ。
  7. 【請求項7】 前記個別電極上にこの個別電極を被覆す
    るように形成された第2の層間絶縁膜を備え、前記遮光
    膜は、導電性材料により前記第2の層間絶縁膜上に形成
    されていることを特徴とする請求項1又は2記載のLE
    Dアレイ。
  8. 【請求項8】 配線基板と、 この配線基板上に直線的に配列された請求項1ないし7
    の何れか一に記載のLEDアレイと、 前記配線基板上に搭載されて前記LEDアレイの各LE
    Dの発光動作を制御する駆動ICと、 前記LEDアレイの各LEDから出射される光を被照射
    面上に集光させるレンズと、を備えるプリントヘッド。
  9. 【請求項9】 請求項8記載のプリントヘッドと、 このプリントヘッドにより集光照射される光により被照
    射面に位置する表面に静電潜像が形成される感光体と、 この感光体上に形成された静電潜像を現像して可視像化
    する現像装置と、 この現像装置により現像された可視像を記録媒体上に転
    写する転写装置と、を備える電子写真プリンタ。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7187495B2 (en) 2003-09-08 2007-03-06 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing a screen member for a transmission screen, a screen member for a transmission screen, a transmission screen and a rear projection
JP2007095868A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Sanyo Electric Co Ltd 発光ダイオードアレイ
JP2008153681A (ja) * 2008-01-23 2008-07-03 Kyocera Corp Ledアレイ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7187495B2 (en) 2003-09-08 2007-03-06 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing a screen member for a transmission screen, a screen member for a transmission screen, a transmission screen and a rear projection
JP2007095868A (ja) * 2005-09-28 2007-04-12 Sanyo Electric Co Ltd 発光ダイオードアレイ
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