JP2001330379A - 還元ペレット連続冷却装置 - Google Patents
還元ペレット連続冷却装置Info
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- JP2001330379A JP2001330379A JP2000150423A JP2000150423A JP2001330379A JP 2001330379 A JP2001330379 A JP 2001330379A JP 2000150423 A JP2000150423 A JP 2000150423A JP 2000150423 A JP2000150423 A JP 2000150423A JP 2001330379 A JP2001330379 A JP 2001330379A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 還元ペレットを無酸化状態にて連続的に効率
よく冷却し得る装置を大型化することなく低コストで提
供できるようにする。 【解決手段】 内周面に螺旋状に送り羽根５が設けられ
た回転ドラム６を略水平に保持し、該回転ドラム内を無
酸化性雰囲気ガスに保持するとともに、熱処理炉１から
排出された高温度の還元ペレットｐを該回転ドラム内に
装入して該回転ドラムを回転させることにより該還元ペ
レットを該回転ドラム中に通過させ、該回転ドラムの外
周面を水冷することにより該還元ペレットを連続的に冷
却する還元ペレット連続冷却装置であって、回転ドラム
の内周面の送り羽根の間隔に高さｈ２が還元ペレットの
堆積高さｈｐよりも低い伝熱フィン４１を植設した。
よく冷却し得る装置を大型化することなく低コストで提
供できるようにする。 【解決手段】 内周面に螺旋状に送り羽根５が設けられ
た回転ドラム６を略水平に保持し、該回転ドラム内を無
酸化性雰囲気ガスに保持するとともに、熱処理炉１から
排出された高温度の還元ペレットｐを該回転ドラム内に
装入して該回転ドラムを回転させることにより該還元ペ
レットを該回転ドラム中に通過させ、該回転ドラムの外
周面を水冷することにより該還元ペレットを連続的に冷
却する還元ペレット連続冷却装置であって、回転ドラム
の内周面の送り羽根の間隔に高さｈ２が還元ペレットの
堆積高さｈｐよりも低い伝熱フィン４１を植設した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理炉から排出
された還元ペレットを再酸化を防止しつつ連続的に冷却
する冷却装置に関するものである。
された還元ペレットを再酸化を防止しつつ連続的に冷却
する冷却装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来からインメテコ法と称されている金
属還元処理方法は、ダスト状の金属酸化物（酸化鉄，酸
化ニッケル等）と還元剤（石炭，コークス等）を結合材
とともに混合し造粒することにより直径６〜３０ｍｍの
ペレットを形成し、該ペレット（以下、還元ペレットと
いう。）を熱処理炉内に装入して１２００℃程度の高温
度に加熱することにより、金属を還元し回収するもので
ある。
属還元処理方法は、ダスト状の金属酸化物（酸化鉄，酸
化ニッケル等）と還元剤（石炭，コークス等）を結合材
とともに混合し造粒することにより直径６〜３０ｍｍの
ペレットを形成し、該ペレット（以下、還元ペレットと
いう。）を熱処理炉内に装入して１２００℃程度の高温
度に加熱することにより、金属を還元し回収するもので
ある。
【０００３】ところで、熱処理炉から抽出した還元ペレ
ットは、空気中での再酸化を防ぐためにＮ２等の無酸化
性雰囲気ガス中にて冷却する必要があり、従来からその
ための冷却装置として、例えば還元雰囲気充填槽を通過
させる方式があるが、この方式は冷却速度が遅いため設
備が大型化し不経済であった。また、回転ドラム中に還
元ペレットを装入し、該回転ドラムの内外に水スプレー
をする方法も考えられたが、この方式では還元ペレット
が高温域で急冷されることとなるので、還元ペレットの
圧潰強度が損なわれ次の精錬工程におけるペレットの損
壊、および再酸化が懸念される状況であった。
ットは、空気中での再酸化を防ぐためにＮ２等の無酸化
性雰囲気ガス中にて冷却する必要があり、従来からその
ための冷却装置として、例えば還元雰囲気充填槽を通過
させる方式があるが、この方式は冷却速度が遅いため設
備が大型化し不経済であった。また、回転ドラム中に還
元ペレットを装入し、該回転ドラムの内外に水スプレー
をする方法も考えられたが、この方式では還元ペレット
が高温域で急冷されることとなるので、還元ペレットの
圧潰強度が損なわれ次の精錬工程におけるペレットの損
壊、および再酸化が懸念される状況であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
問題点に対し、還元ペレットの再酸化、圧潰強度の低下
を防止し、金属還元率を向上させるとともに、冷却効率
が向上することから比較的小型で低コストで設置でき、
熱処理炉から抽出された還元ペレットを連続的に冷却し
得る装置を提供しようとするものである。
問題点に対し、還元ペレットの再酸化、圧潰強度の低下
を防止し、金属還元率を向上させるとともに、冷却効率
が向上することから比較的小型で低コストで設置でき、
熱処理炉から抽出された還元ペレットを連続的に冷却し
得る装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そのために本発明は、内
周面に螺旋状に送り羽根が設けられた回転ドラムを略水
平に保持し、該回転ドラム内を無酸化性雰囲気ガスに保
持するとともに、熱処理炉から排出された高温度の還元
ペレットを該回転ドラム内に装入して該回転ドラムを回
転させることにより該還元ペレットを該回転ドラム中に
通過させ、該回転ドラムの外周面を水冷することにより
該還元ペレットを連続的に冷却する還元ペレット連続冷
却装置であって、回転ドラムの内周面の送り羽根の間隔
に高さが還元ペレットの堆積高さよりも低い伝熱フィン
を植設したことを特徴とするものである。また本発明は
上記還元ペレット連続冷却装置において、送り羽根の高
さは還元ペレットの堆積高さと同程度であり、伝熱フィ
ンの高さは還元ペレットの堆積高さの半分程度であるこ
とを特徴とするものである。また本発明は上記還元ペレ
ット連続冷却装置において、伝熱フィンの表面積を回転
ドラムの内周面の面積の２倍以上に設定したことを特徴
とするものである。
周面に螺旋状に送り羽根が設けられた回転ドラムを略水
平に保持し、該回転ドラム内を無酸化性雰囲気ガスに保
持するとともに、熱処理炉から排出された高温度の還元
ペレットを該回転ドラム内に装入して該回転ドラムを回
転させることにより該還元ペレットを該回転ドラム中に
通過させ、該回転ドラムの外周面を水冷することにより
該還元ペレットを連続的に冷却する還元ペレット連続冷
却装置であって、回転ドラムの内周面の送り羽根の間隔
に高さが還元ペレットの堆積高さよりも低い伝熱フィン
を植設したことを特徴とするものである。また本発明は
上記還元ペレット連続冷却装置において、送り羽根の高
さは還元ペレットの堆積高さと同程度であり、伝熱フィ
ンの高さは還元ペレットの堆積高さの半分程度であるこ
とを特徴とするものである。また本発明は上記還元ペレ
ット連続冷却装置において、伝熱フィンの表面積を回転
ドラムの内周面の面積の２倍以上に設定したことを特徴
とするものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面と
ともに説明する。図１は本発明に係る還元ペレット連続
冷却装置の全体の縦断面図で、１は装入口２から投入さ
れた還元ペレットを無酸化状態にて１２００℃程度に加
熱し還元処理をする回転炉床式の熱処理炉、３は該熱処
理炉から抽出された１０００℃程度の高温度の還元ペレ
ットを連続冷却装置４に自重で装入するために設けられ
た傾斜状の装入筒である。
ともに説明する。図１は本発明に係る還元ペレット連続
冷却装置の全体の縦断面図で、１は装入口２から投入さ
れた還元ペレットを無酸化状態にて１２００℃程度に加
熱し還元処理をする回転炉床式の熱処理炉、３は該熱処
理炉から抽出された１０００℃程度の高温度の還元ペレ
ットを連続冷却装置４に自重で装入するために設けられ
た傾斜状の装入筒である。
【０００７】連続冷却装置４は、図２〜図５に詳細を示
したように、内周面に送り羽根５が螺旋状に固設された
円筒形の回転ドラム６を台７上に回転自在に軸支された
複数のローラ８により略水平に支持するとともに、該回
転ドラムの外周面に形成された歯車９とモータ１０のピ
ニオン１１とを噛合させ、該モータの駆動により該回転
ドラムを低速回転（１ｒｐｍ程度）させることで、該回
転ドラム内に装入された還元ペレットｐが上記送り羽根
５のリードにより矢印の方向にゆっくり移送されるよう
構成している。なお、送り羽根５の高さｈ１は還元ペレ
ットｐの堆積高さｈｐと同程度となるように設定されて
いる。
したように、内周面に送り羽根５が螺旋状に固設された
円筒形の回転ドラム６を台７上に回転自在に軸支された
複数のローラ８により略水平に支持するとともに、該回
転ドラムの外周面に形成された歯車９とモータ１０のピ
ニオン１１とを噛合させ、該モータの駆動により該回転
ドラムを低速回転（１ｒｐｍ程度）させることで、該回
転ドラム内に装入された還元ペレットｐが上記送り羽根
５のリードにより矢印の方向にゆっくり移送されるよう
構成している。なお、送り羽根５の高さｈ１は還元ペレ
ットｐの堆積高さｈｐと同程度となるように設定されて
いる。
【０００８】回転ドラム６の装入端部１２は少し細径に
形成され、フレーム１３上に固設された円形の蓋体１４
を該装入端部１２の開口端に外嵌し、その隙間を塞ぐべ
く該蓋体１４の開口端に弾性シール部材１５を設けてい
る。そして、該蓋体１４に前記装入筒３を貫通状に設け
ている。また、回転ドラム６の抽出端部１６はテーパ状
に細径に形成され、フレーム１７上に固設された円形の
蓋体１８を該抽出端部１６の開口端に外嵌し、その隙間
を塞ぐべく該蓋体１８の開口端に弾性シール部材１９を
設けている。そして該蓋体１８の下辺に抽出筒２０を垂
下状に形成している。
形成され、フレーム１３上に固設された円形の蓋体１４
を該装入端部１２の開口端に外嵌し、その隙間を塞ぐべ
く該蓋体１４の開口端に弾性シール部材１５を設けてい
る。そして、該蓋体１４に前記装入筒３を貫通状に設け
ている。また、回転ドラム６の抽出端部１６はテーパ状
に細径に形成され、フレーム１７上に固設された円形の
蓋体１８を該抽出端部１６の開口端に外嵌し、その隙間
を塞ぐべく該蓋体１８の開口端に弾性シール部材１９を
設けている。そして該蓋体１８の下辺に抽出筒２０を垂
下状に形成している。
【０００９】２１，２２は回転ドラム６内にＮ２等の無
酸化性雰囲気ガスを充満させるために蓋体１４，１８に
夫々接続された雰囲気ガス供給口、２３，２４は弾性シ
ール部材１５，１９の付近に外気の侵入を防ぐために設
けられた雰囲気ガス供給口である。２５は同じく抽出筒
２０に外気の侵入を防ぐために設けられた雰囲気ガス供
給口で、該雰囲気ガス供給口２５は図７に拡大して示し
たように抽出筒２０に形成された漏斗状部２０ａの外周
を囲むようにノズル２５ａが設けられ、該ノズル２５ａ
から吹き出す雰囲気ガスによりガスカーテンが形成され
るようにしている。これによって回転ドラム６内は無酸
化性雰囲気ガスに保持される。また、２６は回転ドラム
６内の装入側温度を測定するため蓋体１４に設けられた
熱電対、２７は回転ドラム６内の抽出側温度を測定する
ため蓋体１８に設けられた熱電対である。
酸化性雰囲気ガスを充満させるために蓋体１４，１８に
夫々接続された雰囲気ガス供給口、２３，２４は弾性シ
ール部材１５，１９の付近に外気の侵入を防ぐために設
けられた雰囲気ガス供給口である。２５は同じく抽出筒
２０に外気の侵入を防ぐために設けられた雰囲気ガス供
給口で、該雰囲気ガス供給口２５は図７に拡大して示し
たように抽出筒２０に形成された漏斗状部２０ａの外周
を囲むようにノズル２５ａが設けられ、該ノズル２５ａ
から吹き出す雰囲気ガスによりガスカーテンが形成され
るようにしている。これによって回転ドラム６内は無酸
化性雰囲気ガスに保持される。また、２６は回転ドラム
６内の装入側温度を測定するため蓋体１４に設けられた
熱電対、２７は回転ドラム６内の抽出側温度を測定する
ため蓋体１８に設けられた熱電対である。
【００１０】また、２８a，２８ｂ，２８ｃは回転ドラ
ム６の下部に設けられた水受槽、２９は被熱物装入側に
近い高温域ａにて回転ドラム６の外周を囲むように水受
槽２８a上に形成されたチャンバ、３０は該チャンバ内
で回転ドラム６の外周面に相対するように複数個設けら
れた散水ノズル、３１は該水受槽２８aに水を補給する
給水管、３２は水受槽２８aの水を汲み上げて散水ノズ
ル３０より回転ドラム６の外周にスプレーする給水ポン
プ、３３はチャンバ２９の上部に開設された水蒸気排出
口である。なお、水受槽２８ｂと水受槽２８ｃとは配管
３４で連通状にある。
ム６の下部に設けられた水受槽、２９は被熱物装入側に
近い高温域ａにて回転ドラム６の外周を囲むように水受
槽２８a上に形成されたチャンバ、３０は該チャンバ内
で回転ドラム６の外周面に相対するように複数個設けら
れた散水ノズル、３１は該水受槽２８aに水を補給する
給水管、３２は水受槽２８aの水を汲み上げて散水ノズ
ル３０より回転ドラム６の外周にスプレーする給水ポン
プ、３３はチャンバ２９の上部に開設された水蒸気排出
口である。なお、水受槽２８ｂと水受槽２８ｃとは配管
３４で連通状にある。
【００１１】また、被熱物抽出側に近い該回転ドラム６
の低温域ｂでは、フレーム４０によって複数個の散水ノ
ズル３５を該回転ドラム６の外周面に相対するように設
けている。３６は水受槽２８ｂ，２８ｃの水をクーラ
（クーリングタワー）３７に循環させて冷水とし給水管
３９を通して散水ノズル３５に圧送する給水ポンプであ
る。
の低温域ｂでは、フレーム４０によって複数個の散水ノ
ズル３５を該回転ドラム６の外周面に相対するように設
けている。３６は水受槽２８ｂ，２８ｃの水をクーラ
（クーリングタワー）３７に循環させて冷水とし給水管
３９を通して散水ノズル３５に圧送する給水ポンプであ
る。
【００１２】また、図８，図９に示したように、低温域
ｂにおける回転ドラム６の送り羽根５の間隔に高さｈ２
が還元ペレットｐの堆積高さｈｐの半分程度の伝熱フィ
ン４１を複数枚植設し、該伝熱フィン４１の表面積を回
転ドラム６の内周面の面積の２倍以上となるように設定
している。なお、４２は伝熱および撹拌のために回転ド
ラム６の内周面に突設した掻上板である。
ｂにおける回転ドラム６の送り羽根５の間隔に高さｈ２
が還元ペレットｐの堆積高さｈｐの半分程度の伝熱フィ
ン４１を複数枚植設し、該伝熱フィン４１の表面積を回
転ドラム６の内周面の面積の２倍以上となるように設定
している。なお、４２は伝熱および撹拌のために回転ド
ラム６の内周面に突設した掻上板である。
【００１３】このように構成した冷却設備４では、熱処
理炉１から抽出された１０００℃程度の高温度の還元ペ
レットｐが回転ドラム６内に装入されることで、該装入
側に近い回転ドラム６の外周面は高温度になる。このた
め、高温域ａでは散水ノズル３０からスプレーされた水
の大部分はすぐに１００℃以上に温度上昇して蒸発し大
量の気化熱を奪い水受槽２８aには温水が滴下する。そ
してその温水は給水ポンプ３２により再び汲み上げられ
て散水ノズル３０からスプレーされる。このように高温
域ａでは回転ドラム６の外周面を水の気化熱により冷却
することにより、熱貫流率を４０ｋｃａｌ／ｍ２ｈ℃以
上に設定することが可能となり、この高温域ａを通過す
ることにより還元ペレットｐは４００℃程度に冷却され
る。なお、チャンバ２９は水蒸気の拡散を防ぐために設
けられている。
理炉１から抽出された１０００℃程度の高温度の還元ペ
レットｐが回転ドラム６内に装入されることで、該装入
側に近い回転ドラム６の外周面は高温度になる。このた
め、高温域ａでは散水ノズル３０からスプレーされた水
の大部分はすぐに１００℃以上に温度上昇して蒸発し大
量の気化熱を奪い水受槽２８aには温水が滴下する。そ
してその温水は給水ポンプ３２により再び汲み上げられ
て散水ノズル３０からスプレーされる。このように高温
域ａでは回転ドラム６の外周面を水の気化熱により冷却
することにより、熱貫流率を４０ｋｃａｌ／ｍ２ｈ℃以
上に設定することが可能となり、この高温域ａを通過す
ることにより還元ペレットｐは４００℃程度に冷却され
る。なお、チャンバ２９は水蒸気の拡散を防ぐために設
けられている。
【００１４】そして、該還元ペレットｐは回転ドラム６
内を被熱物抽出側に近い低温域ｂに進行すると、散水ノ
ズル３５からクーラ３７によって３５℃以下に冷却され
た水が該回転ドラム６の外周面にスプレーされることに
よりさらに８０℃以下に冷却される。なお、３５℃以下
に冷却された水をスプレーすることによりこの低温域ｂ
における熱貫流率を３５ｋｃａｌ／ｍ２ｈ℃以上に設定
することが可能となる。
内を被熱物抽出側に近い低温域ｂに進行すると、散水ノ
ズル３５からクーラ３７によって３５℃以下に冷却され
た水が該回転ドラム６の外周面にスプレーされることに
よりさらに８０℃以下に冷却される。なお、３５℃以下
に冷却された水をスプレーすることによりこの低温域ｂ
における熱貫流率を３５ｋｃａｌ／ｍ２ｈ℃以上に設定
することが可能となる。
【００１５】ここで、伝熱フィン４１は、回転ドラム６
の皮殻と還元ペレットｐとの熱伝達性を向上させ、この
熱貫流率を向上させるのに寄与している。ちなみに表１
は、還元ペレットｐの堆積高さｈｐを２２１ｍｍとし、
伝熱フィンを設けない場合と、高さｈｐの半分程度の高
さｈ２の伝熱フィンの寸法および枚数を種々異ならせ、
４００℃の還元ペレットを８０℃に冷却するのに要した
ドラム長を試験した結果を示したもので、この結果から
伝熱フィンの高さは還元ペレットの堆積高さの半分程度
で、しかも、表面積比＝（伝熱フィンの表面積）／（回
転ドラムの内周面の面積）が２倍以上とした場合に、冷
却効率が顕著に向上することが確認された。なお、伝熱
フィン４１の高さｈ２は、還元ペレットの堆積高さｈｐ
の半分程度にすることで、該伝熱フィンの全表面が還元
ペレット中に埋没するようにするのがよく、かつ上記表
面籍比を２倍以上とするために該伝熱フィンの必要枚数
が適宜設定される。
の皮殻と還元ペレットｐとの熱伝達性を向上させ、この
熱貫流率を向上させるのに寄与している。ちなみに表１
は、還元ペレットｐの堆積高さｈｐを２２１ｍｍとし、
伝熱フィンを設けない場合と、高さｈｐの半分程度の高
さｈ２の伝熱フィンの寸法および枚数を種々異ならせ、
４００℃の還元ペレットを８０℃に冷却するのに要した
ドラム長を試験した結果を示したもので、この結果から
伝熱フィンの高さは還元ペレットの堆積高さの半分程度
で、しかも、表面積比＝（伝熱フィンの表面積）／（回
転ドラムの内周面の面積）が２倍以上とした場合に、冷
却効率が顕著に向上することが確認された。なお、伝熱
フィン４１の高さｈ２は、還元ペレットの堆積高さｈｐ
の半分程度にすることで、該伝熱フィンの全表面が還元
ペレット中に埋没するようにするのがよく、かつ上記表
面籍比を２倍以上とするために該伝熱フィンの必要枚数
が適宜設定される。
【００１６】
【表１】
【００１７】こうして抽出筒２０からは８０℃以下に冷
却された還元ペレットｐが外部に抽出される。４１はこ
うして抽出された還元ペレットを搬送するコンベヤを示
す。
却された還元ペレットｐが外部に抽出される。４１はこ
うして抽出された還元ペレットを搬送するコンベヤを示
す。
【００１８】このように還元ペレットｐは回転ドラム６
内にて水と接触することなく冷却されるので、急冷によ
る圧潰強度損減等のおそれがないとともに、該還元ペレ
ットｐ中に水分を残留させるおそれがないので次工程に
おける精錬上の問題を生じさせない利点がある。
内にて水と接触することなく冷却されるので、急冷によ
る圧潰強度損減等のおそれがないとともに、該還元ペレ
ットｐ中に水分を残留させるおそれがないので次工程に
おける精錬上の問題を生じさせない利点がある。
【００１９】
【発明の効果】このように本発明の還元ペレット連続冷
却装置は、内周面に螺旋状に送り羽根が設けられた回転
ドラムを略水平に保持し、該回転ドラム内を無酸化性雰
囲気ガスに保持するとともに、熱処理炉から排出された
高温度の還元ペレットを該回転ドラム内に装入して該回
転ドラムを回転させることにより該還元ペレットを該回
転ドラム中に通過させ、該回転ドラムの外周面を水冷す
ることにより該還元ペレットを連続的に冷却する還元ペ
レット連続冷却装置であって、回転ドラムの内周面の送
り羽根の間隔に高さが還元ペレットの堆積高さよりも低
い伝熱フィンを植設してなるので、還元ペレットの冷却
効率が向上し、比較的短い炉長の設備にて対処でき回転
ドラムが大型化することなく設備コストが軽減される。
そして、還元ペレットを無酸化状態にて連続的に効率よ
く冷却し得る効果がある。
却装置は、内周面に螺旋状に送り羽根が設けられた回転
ドラムを略水平に保持し、該回転ドラム内を無酸化性雰
囲気ガスに保持するとともに、熱処理炉から排出された
高温度の還元ペレットを該回転ドラム内に装入して該回
転ドラムを回転させることにより該還元ペレットを該回
転ドラム中に通過させ、該回転ドラムの外周面を水冷す
ることにより該還元ペレットを連続的に冷却する還元ペ
レット連続冷却装置であって、回転ドラムの内周面の送
り羽根の間隔に高さが還元ペレットの堆積高さよりも低
い伝熱フィンを植設してなるので、還元ペレットの冷却
効率が向上し、比較的短い炉長の設備にて対処でき回転
ドラムが大型化することなく設備コストが軽減される。
そして、還元ペレットを無酸化状態にて連続的に効率よ
く冷却し得る効果がある。
【図１】本発明に係る還元ペレット連続冷却装置の実施
形態を示す全体の概略図。
形態を示す全体の概略図。
【図２】図１の還元ペレット連続冷却装置の詳細を示し
た縦断面図。
た縦断面図。
【図３】図２のＡ−Ａ線矢視拡大図。
【図４】図２のＢ−Ｂ線断面拡大図。
【図５】図２のＣ−Ｃ線断面拡大図。
【図６】図２のＤ−Ｄ線断面拡大図。
【図７】図２の部分拡大図。
【図８】図６のＥ−Ｅ線断面拡大図。
【図９】回転ドラムの内面の斜視図。
ｐ 還元ペレット １ 熱処理炉 ４ 無酸化連続冷却装置 ５ 送り羽根 ６ 回転ドラム ８ ローラ １０ モータ ２１，２２ 雰囲気ガス供給口 ２８a，２８ｂ，２８ｃ 水受槽 ２９ チャンバ ３０ 散水ノズル ３２ 給水ポンプ ３５ 散水ノズル ３６ 給水ポンプ ３７ クーラ ４１ 伝熱フィン ４２ 掻上板 ｈ１ 送り羽根の高さ ｈ２ 伝熱フィンの高さ ｈｐ 還元ペレットの堆積高さ
Claims (3)
- 【請求項１】 内周面に螺旋状に送り羽根が設けられた
回転ドラムを略水平に保持し、該回転ドラム内を無酸化
性雰囲気ガスに保持するとともに、熱処理炉から排出さ
れた高温度の還元ペレットを該回転ドラム内に装入して
該回転ドラムを回転させることにより該還元ペレットを
該回転ドラム中に通過させ、該回転ドラムの外周面を水
冷することにより該還元ペレットを連続的に冷却する還
元ペレット連続冷却装置であって、回転ドラムの内周面
の送り羽根の間隔に高さが還元ペレットの堆積高さより
も低い伝熱フィンを植設したことを特徴とする還元ペレ
ット連続冷却装置。 - 【請求項２】 送り羽根の高さは還元ペレットの堆積高
さと同程度であり、伝熱フィンの高さは還元ペレットの
堆積高さの半分程度である請求項１に記載の還元ペレッ
ト連続冷却装置。 - 【請求項３】 伝熱フィンの表面積を回転ドラムの内周
面の面積の２倍以上に設定した請求項１または２に記載
の還元ペレット連続冷却装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000150423A JP4320917B2 (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 還元ペレット連続冷却装置の使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000150423A JP4320917B2 (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 還元ペレット連続冷却装置の使用方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001330379A true JP2001330379A (ja) | 2001-11-30 |
| JP4320917B2 JP4320917B2 (ja) | 2009-08-26 |
Family
ID=18656141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000150423A Expired - Lifetime JP4320917B2 (ja) | 2000-05-22 | 2000-05-22 | 還元ペレット連続冷却装置の使用方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4320917B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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