JP2001329007A - オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 - Google Patents
オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法Info
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- JP2001329007A JP2001329007A JP2000154778A JP2000154778A JP2001329007A JP 2001329007 A JP2001329007 A JP 2001329007A JP 2000154778 A JP2000154778 A JP 2000154778A JP 2000154778 A JP2000154778 A JP 2000154778A JP 2001329007 A JP2001329007 A JP 2001329007A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 担体付きオレフィン重合用触媒の提供。
【解決手段】 ケイ素の酸化物および／または複酸化物
と、２価のアルコールで例示される化合物とを接触させ
て得られる担体成分（III)と、メタロセン系遷移金属化
合物からなる成分（I)と、変性有機アルミニウム化合物
で例示される成分（III）とを相互に接触させる。
と、２価のアルコールで例示される化合物とを接触させ
て得られる担体成分（III)と、メタロセン系遷移金属化
合物からなる成分（I)と、変性有機アルミニウム化合物
で例示される成分（III）とを相互に接触させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、担体つきのオレフ
ィン類重合用触媒と、その触媒を用いたポリオレフィン
の製造方法に関する。さらに詳しく言えば、本発明は、
分子量分布が狭く、組成分布が狭く、粒子性状が良好で
重合反応器系でのファウリングが無く、特に超高分子量
成分が生成せず、それによりゲルの生成のないポリオレ
フィンを製造することができる固体触媒と、この固体触
媒を用いたポリオレフィンの製造方法に関する。
ィン類重合用触媒と、その触媒を用いたポリオレフィン
の製造方法に関する。さらに詳しく言えば、本発明は、
分子量分布が狭く、組成分布が狭く、粒子性状が良好で
重合反応器系でのファウリングが無く、特に超高分子量
成分が生成せず、それによりゲルの生成のないポリオレ
フィンを製造することができる固体触媒と、この固体触
媒を用いたポリオレフィンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ポリ
オレフィン、特にエチレン重合体またはエチレン・α―
オレフィン共重合体を製造するに際して、ジルコニウム
化合物（典型的にはメタロセン化合物）とアルミノキサ
ンとからなる触媒を使用することは、特開昭５８−１９
３０９号公報において知られている。この技術はエチレ
ン系共重合体を高収率で製造できる利点があるものの、
スラリー重合、気相重合に使用すると、生成重合体のか
さ密度が極めて小さく、粒体性状に劣るという問題点が
あり、重合工程における生産性の面あるいはポリマーハ
ンドリングの面から改良が強く望まれていた。また、上
記の技術で生成されるポリマーは、成形加工する際にも
粉塵の発生、作業能率の低下等の問題を伴うため、微粒
子状粉末部分の減少が強く望まれていた。一方、前記し
たジルコニウム化合物などの遷移金属化合物を、シリ
カ、アルミナ、シリカアルミナなどの多孔性無機酸化物
担体に担持させた固体触媒成分と、アルミノキサンから
なる触媒を使用する方法も、特開昭６０−３５００６号
公報、特開昭６０−３５００７号公報、特開昭６０−３
５００８号公報などで提案されており、さらに特開昭６
１−３１４０４号公報、特開昭６１−１０８６１０号公
報および特開昭６０−１０６８０８号公報などにも、類
似の多孔性無機酸化物担体に担持させた固体触媒成分を
使用する方法が提案されている。しかし、これらの先行
技術文献に記載された方法は、担持した固体触媒成分を
採用している関係で、重合活性が大きく低下したり、得
られた重合体中に微粉や粗大粒子が多く見られ、またか
さ密度も低いなど粉体性状に満足な結果を得ることがで
きないものが多い。これらの問題を解決するため、前記
ジルコニウム化合物をはじめとした遷移金属化合物を、
特定の物性を持つシリカ、アルミナ、シリカーアルミナ
等の粒状担体に担持させた触媒成分も提案されている
（特開昭６３−６１００８号公報、特開平６−３０６１
１４号公報、特開平６−３０６１１６号公報など参
照）。このような金属酸化物担体に担持させた触媒成分
を使用した場合には、かさ密度が高く、平均粒径の大き
いポリマーを得ることができる。しかし、金属酸化物担
体に担持する遷移金属化合物の量比を高めると、重合反
応器系でのファウリングが生じ、長期間の連続運転が不
可能になる。また、金属酸化物担体の吸着水あるいは金
属酸化物担体中の過剰な−ＯＨ基（水酸基）の存在によ
り、一部超高分子量重合体を生成する不都合があった。
ちなみに、超高分子量重合体が夾雑している生成重合体
は、これを製品に成形加工すると、超高分子量重合体を
核とするフィッシュアイ（MIゲル）が形成する場合があ
り、これが形成された場合には、製品の外観を損ね、強
度を低下させる結果を招くことが珍しくない。特にフィ
ルムに成形加工する場合には、このフィッシュアイ低減
が強く望まれた。本発明はこれらの欠点を改良し、分子
量分布が狭く、組成分布が狭く、粒子性状が良好で重合
反応器系でのファウリングの無く、特に超高分子量成分
が生成せず、それによりゲルの生成のないポリオレフィ
ンを製造することを目的として鋭意研究の結果、本発明
に到達したものである。
オレフィン、特にエチレン重合体またはエチレン・α―
オレフィン共重合体を製造するに際して、ジルコニウム
化合物（典型的にはメタロセン化合物）とアルミノキサ
ンとからなる触媒を使用することは、特開昭５８−１９
３０９号公報において知られている。この技術はエチレ
ン系共重合体を高収率で製造できる利点があるものの、
スラリー重合、気相重合に使用すると、生成重合体のか
さ密度が極めて小さく、粒体性状に劣るという問題点が
あり、重合工程における生産性の面あるいはポリマーハ
ンドリングの面から改良が強く望まれていた。また、上
記の技術で生成されるポリマーは、成形加工する際にも
粉塵の発生、作業能率の低下等の問題を伴うため、微粒
子状粉末部分の減少が強く望まれていた。一方、前記し
たジルコニウム化合物などの遷移金属化合物を、シリ
カ、アルミナ、シリカアルミナなどの多孔性無機酸化物
担体に担持させた固体触媒成分と、アルミノキサンから
なる触媒を使用する方法も、特開昭６０−３５００６号
公報、特開昭６０−３５００７号公報、特開昭６０−３
５００８号公報などで提案されており、さらに特開昭６
１−３１４０４号公報、特開昭６１−１０８６１０号公
報および特開昭６０−１０６８０８号公報などにも、類
似の多孔性無機酸化物担体に担持させた固体触媒成分を
使用する方法が提案されている。しかし、これらの先行
技術文献に記載された方法は、担持した固体触媒成分を
採用している関係で、重合活性が大きく低下したり、得
られた重合体中に微粉や粗大粒子が多く見られ、またか
さ密度も低いなど粉体性状に満足な結果を得ることがで
きないものが多い。これらの問題を解決するため、前記
ジルコニウム化合物をはじめとした遷移金属化合物を、
特定の物性を持つシリカ、アルミナ、シリカーアルミナ
等の粒状担体に担持させた触媒成分も提案されている
（特開昭６３−６１００８号公報、特開平６−３０６１
１４号公報、特開平６−３０６１１６号公報など参
照）。このような金属酸化物担体に担持させた触媒成分
を使用した場合には、かさ密度が高く、平均粒径の大き
いポリマーを得ることができる。しかし、金属酸化物担
体に担持する遷移金属化合物の量比を高めると、重合反
応器系でのファウリングが生じ、長期間の連続運転が不
可能になる。また、金属酸化物担体の吸着水あるいは金
属酸化物担体中の過剰な−ＯＨ基（水酸基）の存在によ
り、一部超高分子量重合体を生成する不都合があった。
ちなみに、超高分子量重合体が夾雑している生成重合体
は、これを製品に成形加工すると、超高分子量重合体を
核とするフィッシュアイ（MIゲル）が形成する場合があ
り、これが形成された場合には、製品の外観を損ね、強
度を低下させる結果を招くことが珍しくない。特にフィ
ルムに成形加工する場合には、このフィッシュアイ低減
が強く望まれた。本発明はこれらの欠点を改良し、分子
量分布が狭く、組成分布が狭く、粒子性状が良好で重合
反応器系でのファウリングの無く、特に超高分子量成分
が生成せず、それによりゲルの生成のないポリオレフィ
ンを製造することを目的として鋭意研究の結果、本発明
に到達したものである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明に係るオレフィン
重合用触媒は、下記の（I），（II），（III）を相互に
接触させることによって得ることを特徴とする。 （I）メタロセン系遷移金属化合物 （II）Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
化合物、ボランおよびボレートからなる群から選ばれる
化合物 （III）下記（III−ａ）と（III−ｂ）で表される化合
物を相互に接触することで得られる反応物 （III−ａ）ケイ素の酸化物および／または複酸化物 （III−ｂ）一般式：Ｚ(ＹＨk)jで表される化合物 [ここでＺは炭素数１〜２０の炭化水素残基、Ｙは窒素
原子、燐原子、酸素原子または硫黄原子から選ばれる原
子、Ｈは水素原子を示し、ｋは１または２、ｊは２以上
の整数である] そして、本発明に係るポリオレフィンの製造法は、上記
した（I），（II）及び（III）を相互に接触させて得ら
れる触媒の存在下に、オレフィンを重合させることを特
徴とする。本発明のオレフィン重合用触媒は、従来の担
体付きオレフィン重合用触媒に比較して、長期間の連続
重合反応に供しても、重合反応器系でのファウリングが
無い。また、本発明の触媒を用いて得られるポリオレフ
ィンは、成形加工時にフィッシュアイ（ＭＩゲル）が生
成されることもない。このような好結果が得られる理由
は、現時点では明らかではないが、特定の化合物で処理
されたケイ素の酸化物および／または複酸化物を担体に
使用すると、担体中の−ＯＨ基と遷移金属化合物との反
応が阻止され、超高分子量重合体を生成する誘発する変
性活性種の生成が防止されるためと考えられる。
重合用触媒は、下記の（I），（II），（III）を相互に
接触させることによって得ることを特徴とする。 （I）メタロセン系遷移金属化合物 （II）Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
化合物、ボランおよびボレートからなる群から選ばれる
化合物 （III）下記（III−ａ）と（III−ｂ）で表される化合
物を相互に接触することで得られる反応物 （III−ａ）ケイ素の酸化物および／または複酸化物 （III−ｂ）一般式：Ｚ(ＹＨk)jで表される化合物 [ここでＺは炭素数１〜２０の炭化水素残基、Ｙは窒素
原子、燐原子、酸素原子または硫黄原子から選ばれる原
子、Ｈは水素原子を示し、ｋは１または２、ｊは２以上
の整数である] そして、本発明に係るポリオレフィンの製造法は、上記
した（I），（II）及び（III）を相互に接触させて得ら
れる触媒の存在下に、オレフィンを重合させることを特
徴とする。本発明のオレフィン重合用触媒は、従来の担
体付きオレフィン重合用触媒に比較して、長期間の連続
重合反応に供しても、重合反応器系でのファウリングが
無い。また、本発明の触媒を用いて得られるポリオレフ
ィンは、成形加工時にフィッシュアイ（ＭＩゲル）が生
成されることもない。このような好結果が得られる理由
は、現時点では明らかではないが、特定の化合物で処理
されたケイ素の酸化物および／または複酸化物を担体に
使用すると、担体中の−ＯＨ基と遷移金属化合物との反
応が阻止され、超高分子量重合体を生成する誘発する変
性活性種の生成が防止されるためと考えられる。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下に本発明のオレフィン重合用
触媒についてさらに具体的に説明する。本発明のオレフ
ィン重合用触媒における成分（I）は、メタロセン系遷
移金属化合物であって、その遷移金属はＺｒ、Ｔｉまた
はＨｆであり、特にＺｒが好ましい。成分（I）として
使用可能なメタロセン系遷移金属化合物のひとつは、下
記の一般式（I‐ａ）で表すことができる。 Ｒ1Ｒ2Ｍ1Ｘ1Ｘ2 （I-ａ） 前記一般式（I‐ａ）において、Ｍ1はＺｒ，Ｔｉ，また
はＨｆを示し、特にＺｒが好ましい。Ｒ1，Ｒ2は個別
に、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニ
ル基、インデニル基、置換インデニル基を示す。置換シ
クロペンタジエニル基および置換インデニル基における
置換基は、炭素数１〜１８の炭化水素基、好ましくは１
〜１２の炭化水素基であって、これには、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基などのアリ
ール基；ベンジル基、フェネチル基、スチリル基、ネオ
フィル基などのアラルキル基が含まれる。Ｒ1，Ｒ2は、
炭素数２〜１８の炭化水素基及び／又はシリレン基を介
し結合していてもよく、この場合の炭化水素基として
は、メチレン、エチレン、イソプロピレンなどのアルキ
レン基；ジフェニルメチレン、メチルフェニルメチレ
ン、ジトリルメチレンなどのアリール置換基の付いたア
ルキレン基；ジビニルメチレン、ジアリルメチレンなど
のアルケニル置換基の付いたアルキレン基；ベンジル
基、フェネチル基、スチリル基、ネオフィル基などのア
ラルキル置換基の付いたアルキレン基などがあげられ
る。また、シリレン基としては、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレンなどアルキル基のついたシリレン基；ジ
フェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジトリル
シリレンなどのアリール置換基のついたシリレン基；ジ
ビニルシリレン、ジアリルシリレンなどのアルケニル置
換基のついたシリレン基；ベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、ネオフィル基などのアラルキル置換基のつ
いたシリレン基などがあげられる。Ｘ1、Ｘ2は個別に、
水素、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、炭素数１
〜２４、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８
のアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアルコ
キシ基等の炭化水素残基を表わす。アルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基などを例示することができ、アリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基などを例
示することができ、アラルキル基としては、例えば、ベ
ンジル基，ネオフィル基などを例示することができ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、２−エチルヘキシルオ
キシ基などを例示することができる。
触媒についてさらに具体的に説明する。本発明のオレフ
ィン重合用触媒における成分（I）は、メタロセン系遷
移金属化合物であって、その遷移金属はＺｒ、Ｔｉまた
はＨｆであり、特にＺｒが好ましい。成分（I）として
使用可能なメタロセン系遷移金属化合物のひとつは、下
記の一般式（I‐ａ）で表すことができる。 Ｒ1Ｒ2Ｍ1Ｘ1Ｘ2 （I-ａ） 前記一般式（I‐ａ）において、Ｍ1はＺｒ，Ｔｉ，また
はＨｆを示し、特にＺｒが好ましい。Ｒ1，Ｒ2は個別
に、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニ
ル基、インデニル基、置換インデニル基を示す。置換シ
クロペンタジエニル基および置換インデニル基における
置換基は、炭素数１〜１８の炭化水素基、好ましくは１
〜１２の炭化水素基であって、これには、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケ
ニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基などのアリ
ール基；ベンジル基、フェネチル基、スチリル基、ネオ
フィル基などのアラルキル基が含まれる。Ｒ1，Ｒ2は、
炭素数２〜１８の炭化水素基及び／又はシリレン基を介
し結合していてもよく、この場合の炭化水素基として
は、メチレン、エチレン、イソプロピレンなどのアルキ
レン基；ジフェニルメチレン、メチルフェニルメチレ
ン、ジトリルメチレンなどのアリール置換基の付いたア
ルキレン基；ジビニルメチレン、ジアリルメチレンなど
のアルケニル置換基の付いたアルキレン基；ベンジル
基、フェネチル基、スチリル基、ネオフィル基などのア
ラルキル置換基の付いたアルキレン基などがあげられ
る。また、シリレン基としては、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレンなどアルキル基のついたシリレン基；ジ
フェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジトリル
シリレンなどのアリール置換基のついたシリレン基；ジ
ビニルシリレン、ジアリルシリレンなどのアルケニル置
換基のついたシリレン基；ベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、ネオフィル基などのアラルキル置換基のつ
いたシリレン基などがあげられる。Ｘ1、Ｘ2は個別に、
水素、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ等のハロゲン原子、炭素数１
〜２４、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８
のアルキル基、アリール基、アラルキル基またはアルコ
キシ基等の炭化水素残基を表わす。アルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ブチル基などを例示することができ、アリー
ル基としては、例えば、フェニル基、トリル基などを例
示することができ、アラルキル基としては、例えば、ベ
ンジル基，ネオフィル基などを例示することができ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、２−エチルヘキシルオ
キシ基などを例示することができる。
【０００５】一般式（I‐a）で表されるメタロセン系遷
移金属化合物の具体例としては、次の化合物を例示する
ことができる。 ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリ
ドモノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノメチル
モノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノベンジ
ルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル ビス（インデニル）ジルコニウムジベンジル ビス（インデニル）ジルコニウムモノクロリドモノハイ
ドライド ビス（インデニル）ジルコニウムモノメチルモノハイド
ライド ビス（インデニル）ジルコニウムモノベンジルモノハイ
ドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジメチル ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジベンジル ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノベンジルモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジメチル ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジベンジル ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノベンジルモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジメチル ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジベンジル ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノベンジルモノハイドライド エチレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド プロピレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジメチル ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジベンジル ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノクロリド
モノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノメチルモ
ノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノベンジル
モノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジメチ
ル ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジベン
ジル ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノク
ロリドモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノメ
チルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノベ
ンジルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（インデニル）チタニウムジクロリド ビス（インデニル）チタニウムジメチル ビス（インデニル）チタニウムジベンジル ビス（インデニル）チタニウムモノクロリドモノハイド
ライド ビス（インデニル）チタニウムモノメチルモノハイドラ
イド ビス（インデニル）チタニウムモノベンジルモノハイド
ライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジメ
チル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジベ
ンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）チタニウム
ジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）チタニウム
ジクロリド エチレンビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド エチレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジ
クロリド プロピレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）チタニ
ウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロリド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（インデニル）ハフニウムジクロリド ビス（インデニル）ハフニウムジメチル ビス（インデニル）ハフニウムジベンジル ビス（インデニル）ハフニウムモノクロリドモノハイド
ライド ビス（インデニル）ハフニウムモノメチルモノハイドラ
イド ビス（インデニル）ハフニウムモノベンジルモノハイド
ライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジメ
チル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジベ
ンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ハフニウム
ジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ハフニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ハフニウム
ジクロリド エチレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド エチレンビス（インデニル）ハフニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジ
クロリド プロピレンビス（インデニル）ハフニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）ハフニウ
ムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）ハフニ
ウムジクロリド
移金属化合物の具体例としては、次の化合物を例示する
ことができる。 ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジベンジル ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノクロリ
ドモノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノメチル
モノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムモノベンジ
ルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジメ
チル ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジベ
ンジル ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル ビス（インデニル）ジルコニウムジベンジル ビス（インデニル）ジルコニウムモノクロリドモノハイ
ドライド ビス（インデニル）ジルコニウムモノメチルモノハイド
ライド ビス（インデニル）ジルコニウムモノベンジルモノハイ
ドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
メチル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
ベンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノクロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノメチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムモ
ノベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジメチル ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジベンジル ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノベンジルモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジメチル ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジベンジル ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムモノベンジルモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジメチル ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジベンジル ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノクロリドモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノメチルモノハイドライド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムモノベンジルモノハイドライド エチレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジ
クロリド エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロリド プロピレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジメチル ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジベンジル ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノクロリド
モノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノメチルモ
ノハイドライド ビス（シクロペンタジエニル）チタニウムモノベンジル
モノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジメチ
ル ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムジベン
ジル ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノク
ロリドモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノメ
チルモノハイドライド ビス（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノベ
ンジルモノハイドライド ビス（エチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）チタニウムジクロ
リド ビス（インデニル）チタニウムジクロリド ビス（インデニル）チタニウムジメチル ビス（インデニル）チタニウムジベンジル ビス（インデニル）チタニウムモノクロリドモノハイド
ライド ビス（インデニル）チタニウムモノメチルモノハイドラ
イド ビス（インデニル）チタニウムモノベンジルモノハイド
ライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジメ
チル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムジベ
ンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）チタニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）チタニウム
ジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）チタニウム
ジクロリド エチレンビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジク
ロリド エチレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）チタニウムジ
クロリド プロピレンビス（インデニル）チタニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）チタニウ
ムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）チタニ
ウムジクロリド ビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジクロリド ビス（メチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（エチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（プロピルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（ヘキシルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（オクチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（デシルシクロペンタジエニル）ハフニウムジクロ
リド ビス（インデニル）ハフニウムジクロリド ビス（インデニル）ハフニウムジメチル ビス（インデニル）ハフニウムジベンジル ビス（インデニル）ハフニウムモノクロリドモノハイド
ライド ビス（インデニル）ハフニウムモノメチルモノハイドラ
イド ビス（インデニル）ハフニウムモノベンジルモノハイド
ライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジメ
チル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムジベ
ンジル ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
クロリドモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
メチルモノハイドライド ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ハフニウムモノ
ベンジルモノハイドライド ビス（メチルエチルシクロペンタジエニル）ハフニウム
ジクロリド ビス（メチルプロピルシクロペンタジエニル）ハフニウ
ムジクロリド ビス（メチルブチルシクロペンタジエニル）ハフニウム
ジクロリド エチレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジク
ロリド エチレンビス（インデニル）ハフニウムジクロリド プロピレンビス（シクロペンタジエニル）ハフニウムジ
クロリド プロピレンビス（インデニル）ハフニウムジクロリド エチレン（インデニルシクロペンタジエニル）ハフニウ
ムジクロリド プロピレン（インデニルシクロペンタジエニル）ハフニ
ウムジクロリド
【０００６】上記した化合物のなかでも、特に、ビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，ビ
ス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド，ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド，ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド，ビス（メチルプロピルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，ビス（メチ
ルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド，ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，エチ
レンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド 等が好ましい。もちろん、本発明の成分（I）として、
上記した各化合物の２種以上を組み合わせて使用するこ
ともできる。
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，ビ
ス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド，ビス（ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド，ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド，ビス（メチルプロピルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，ビス（メチ
ルブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリ
ド，ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，エチ
レンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド エチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド 等が好ましい。もちろん、本発明の成分（I）として、
上記した各化合物の２種以上を組み合わせて使用するこ
ともできる。
【０００７】本発明の成分（I）として使用可能なメタ
ロセン系遷移金属化合物の他のひとつは、下記の一般式
（I‐b）で表すことができる。
ロセン系遷移金属化合物の他のひとつは、下記の一般式
（I‐b）で表すことができる。
【化２】 一般式（I‐b）において、Ｍ1はＺｒ，Ｔｉ，またはＨ
ｆを示し、特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを
示し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2は個別に、シクロ
ペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、イン
デニル基、置換インデニル基を示す。置換シクロペンタ
ジエニル基および置換インデニル基における置換基は、
炭素数１〜１８の炭化水素基、好ましくは１〜１２の炭
化水素基であって、これには、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのア
ルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基などの
アリール基；ベンジル基、フェネチル基、スチリル基、
ネオフィル基などのアラルキル基が含まれる。Ｒ1，Ｒ2
は炭素数１〜１８の炭化水素基および／またはシリレン
基を介し結合していてもよく、この場合の炭化水素基と
しては、メチレン、エチレン、イソプロピレンなどのア
ルキレン基；ジフェニルメチレン、メチルフェニルメチ
レン、ジトリルメチレンなどのアリール置換基の付いた
アルキレン基；ジビニルメチレン、ジアリルメチレンな
どのアルケニル置換基の付いたアルキレン基；ベンジル
基、フェネチル基、スチリル基、ネオフィル基などのア
ラルキル置換基の付いたアルキレン基などがあげられ
る。また、シリレン基としては、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレンなどアルキル基のついたシリレン基；ジ
フェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジトリル
シリレンなどのアリール置換基の付いたシリレン基；ジ
ビニルシリレン、ジアリルシリレンなどのアルケニル置
換基の付いたシリレン基；ベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、ネオフィル基などのアラルキル置換基の付
いたシリレン基などがあげられる。Ｒ3，Ｒ4は個別に水
素原子、炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２、さらに
好ましくは１〜８の炭化水素基、炭素数１〜１８、好ま
しくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８のハロゲン化
炭化水素基を示す。Ｍ2がＡｌの場合、Ｒ3，Ｒ4は水素
原子または炭化水素基であることが好ましく、Ｍ2がＢ
の場合、Ｒ3，Ｒ4は水素原子またはハロゲン化炭化水素
基であることが好ましい。Ｒ3および／またはＲ4がとり
得る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、
イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、
ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアル
キル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニ
ル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリ
チル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル
基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィ
ル基などのアラルキル基などが包含される。Ｒ3および
／またはＲ4がとり得るハロゲン炭化水素基の具体例と
しては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、
トリフルオロメチル基、モノフルオロエチル基、ジフル
オロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロ
エチル基、ペンタフルオロエチル基（パーフルオロエチ
ル基）、モノフルオロプロピル基、ジフルオロプロピル
基、トリフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル
基、ペンタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピ
ル基、ヘプタフルオロプロピル基（パーフルオロプロピ
ル基）、モノフルオロブチル基、ジフルオロブチル基、
トリフルオロブチル基、テトラフルオロブチル基、ペン
タフルオロブチル基、ヘキサフルオロブチル基、ヘプタ
フルオロブチル基、オクタフルオロブチル基、ノナフル
オロブチル基（パーフルオロブチル基）、モノフルオロ
イソブチル基、ジフルオロイソブチル基、トリフルオロ
イソブチル基、テトラフルオロイソブチル基、ペンタフ
ルオロイソブチル基、ヘキサフルオロイソブチル基、ヘ
プタフルオロイソブチル基、オクタフルオロイソブチル
基、ノナフルオロイソブチル基（パーフルオロイソブチ
ル基）、モノフルオロペンチル基、ジフルオロペンチル
基、トリフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル
基、モノフルオロヘキシル基、ジフルオロヘキシル基、
トリフルオロヘキシル基、パーフルオロヘキシル基、モ
ノフルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフ
ルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、パーフ
ルオロフェニル基、モノフルオロベンジル基、ジフルオ
ロベンジル基、トリフルオロベンジル基、テトラフルオ
ロベンジル基、パーフルオロベンジル基、モノフルオロ
トリル基、ジフルオロトリル基、トリフルオロトリル
基、テトラフルオロトリル基、パーフルオロトリル基 モノフルオロナフチル基、ジフルオロナフチル基、トリ
フルオロナフチル基、テトラフルオロナフチル基、ペン
タフルオロナフチル基、ヘキサフルオロナフチル基、パ
ーフルオロナフチル基 モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメ
チル基、モノクロロエチル基、ジクロロエチル基、トリ
クロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロ
エチル基（パークロロエチル基）、モノクロロプロピル
基、ジクロロプロピル基、トリクロロプロピル基、テト
ラクロロプロピル基、ペンタクロロプロピル基、ヘキサ
クロロプロピル基、ヘプタクロロプロピル基（パークロ
ロプロピル基）、モノクロロブチル基、ジクロロブチル
基、トリクロロブチル基、テトラクロロブチル基、ペン
タクロロブチル基、ヘキサクロロブチル基、ヘプタクロ
ロブチル基、オクタクロロブチル基、ノナクロロブチル
基（パークロロブチル基）、モノクロロイソブチル基、
ジクロロイソブチル基、トリクロロイソブチル基、テト
ラクロロイソブチル基、ペンタクロロイソブチル基、ヘ
キサクロロイソブチル基、ヘプタクロロイソブチル基、
オクタクロロイソブチル基、ノナクロロイソブチル基
（パークロロイソブチル基）、モノクロロペンチル基、
ジクロロペンチル基、トリクロロペンチル基、パークロ
ロペンチル基、モノクロロヘキシル基、ジクロロヘキシ
ル基、トリクロロヘキシル基、パークロロヘキシル基、
モノクロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロ
ロフェニル基、テトラクロロフェニル基、パークロロフ
ェニル基、モノクロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、トリクロロベンジル基、テトラクロロベンジル基、
パークロロベンジル基、モノクロロトリル基、ジクロロ
トリル基、トリクロロトリル基、テトラクロロトリル
基、パークロロトリル基、モノクロロナフチル基、ジク
ロロナフチル基、トリクロロナフチル基、テトラクロロ
ナフチル基、ペンタクロロナフチル基、ヘキサクロロナ
フチル基、パークロロナフチル基、モノブロモメチル
基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、モノブロ
モエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、
テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基（パーブ
ロモエチル基）、モノブロモプロピル基、ジブロモプロ
ピル基、トリブロモプロピル基、テトラブロモプロピル
基、ペンタブロモプロピル基、ヘキサブロモプロピル
基、ヘプタブロモプロピル基（パーブロモプロピル
基）、モノブロモブチル基、ジブロモブチル基、トリブ
ロモブチル基、テトラブロモブチル基、ペンタブロモブ
チル基、ヘキサブロモブチル基、ヘプタブロモブチル
基、オクタブロモブチル基、ノナブロモブチル基（パー
ブロモブチル基）、モノブロモイソブチル基、ジブロモ
イソブチル基、トリブロモイソブチル基、テトラブロモ
イソブチル基、ペンタブロモイソブチル基、ヘキサブロ
モイソブチル基、ヘプタブロモイソブチル基、オクタブ
ロモイソブチル基、ノナブロモイソブチル基（パーブロ
モイソブチル基）、モノブロモペンチル基、ジブロモペ
ンチル基、トリブロモペンチル基、パーブロモペンチル
基、モノブロモヘキシル基、ジブロモヘキシル基、トリ
ブロモヘキシル基、パーブロモヘキシル基、モノブロモ
フェニル基、ジブロモフェニル基、トリブロモフェニル
基、テトラブロモフェニル基、パーブロモフェニル基、
モノブロモベンジル基、ジブロモベンジル基、トリブロ
モベンジル基、テトラブロモベンジル基、パーブロモベ
ンジル基、モノブロモトリル基、ジブロモトリル基、ト
リブロモトリル基、テトラブロモトリル基、パーブロモ
トリル基、モノブロモナフチル基、ジブロモナフチル
基、トリブロモナフチル基、テトラブロモナフチル基、
ペンタブロモナフチル基、ヘキサブロモナフチル基、パ
ーブロモナフチル基、モノヨードメチル基、ジヨードメ
チル基、トリヨードメチル基、モノヨードエチル基、ジ
ヨードエチル基、トリヨードエチル基、テトラヨードエ
チル基、ペンタヨードエチル基（パーヨードエチル
基）、モノヨードプロピル基、ジヨードプロピル基、ト
リヨードプロピル基、テトラヨードプロピル基、ペンタ
ヨードプロピル基、ヘキサヨードプロピル基、ヘプタヨ
ードプロピル基（パーヨードプロピル基）、モノヨード
ブチル基、ジヨードブチル基、トリヨードブチル基、テ
トラヨードブチル基、ペンタヨードブチル基、ヘキサヨ
ードブチル基、ヘプタヨードブチル基、オクタヨードブ
チル基、ノナヨードブチル基（パーヨードブチル基）、
モノヨードイソブチル基、ジヨードイソブチル基、トリ
ヨードイソブチル基、テトラヨードイソブチル基、ペン
タヨードイソブチル基、ヘキサヨードイソブチル基、ヘ
プタヨードイソブチル基、オクタヨードイソブチル基、
ノナヨードイソブチル基（パーヨードイソブチル基）、
モノヨードペンチル基、ジヨードペンチル基、トリヨー
ドペンチル基、パーヨードペンチル基、モノヨードヘキ
シル基、ジヨードヘキシル基、トリヨードヘキシル基、
パーヨードヘキシル基、モノヨードフェニル基、ジヨー
ドフェニル基、トリヨードフェニル基、テトラヨードフ
ェニル基、パーヨードフェニル基、モノヨードベンジル
基、ジヨードベンジル基、トリヨードベンジル基、テト
ラヨードベンジル基、パーヨードベンジル基、モノヨー
ドトリル基、ジヨードトリル基、トリヨードトリル基、
テトラヨードトリル基、パーヨードトリル基、モノヨー
ドナフチル基、ジヨードナフチル基、トリヨードナフチ
ル基、テトラヨードナフチル基、ペンタヨードナフチル
基、ヘキサヨードナフチル基、パーヨードナフチル基な
どが包含される。また、Ｒ3，Ｒ4は、互いに結合して１
個以上の環状炭化水素基を形成してもよく、その具体例
を炭素骨格で示せば、次のとおりである。
ｆを示し、特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを
示し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2は個別に、シクロ
ペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、イン
デニル基、置換インデニル基を示す。置換シクロペンタ
ジエニル基および置換インデニル基における置換基は、
炭素数１〜１８の炭化水素基、好ましくは１〜１２の炭
化水素基であって、これには、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基などのアルキル基；ビニル基、アリル基などのア
ルケニル基；フェニル基、トリル基、キシリル基などの
アリール基；ベンジル基、フェネチル基、スチリル基、
ネオフィル基などのアラルキル基が含まれる。Ｒ1，Ｒ2
は炭素数１〜１８の炭化水素基および／またはシリレン
基を介し結合していてもよく、この場合の炭化水素基と
しては、メチレン、エチレン、イソプロピレンなどのア
ルキレン基；ジフェニルメチレン、メチルフェニルメチ
レン、ジトリルメチレンなどのアリール置換基の付いた
アルキレン基；ジビニルメチレン、ジアリルメチレンな
どのアルケニル置換基の付いたアルキレン基；ベンジル
基、フェネチル基、スチリル基、ネオフィル基などのア
ラルキル置換基の付いたアルキレン基などがあげられ
る。また、シリレン基としては、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレンなどアルキル基のついたシリレン基；ジ
フェニルシリレン、メチルフェニルシリレン、ジトリル
シリレンなどのアリール置換基の付いたシリレン基；ジ
ビニルシリレン、ジアリルシリレンなどのアルケニル置
換基の付いたシリレン基；ベンジル基、フェネチル基、
スチリル基、ネオフィル基などのアラルキル置換基の付
いたシリレン基などがあげられる。Ｒ3，Ｒ4は個別に水
素原子、炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２、さらに
好ましくは１〜８の炭化水素基、炭素数１〜１８、好ま
しくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８のハロゲン化
炭化水素基を示す。Ｍ2がＡｌの場合、Ｒ3，Ｒ4は水素
原子または炭化水素基であることが好ましく、Ｍ2がＢ
の場合、Ｒ3，Ｒ4は水素原子またはハロゲン化炭化水素
基であることが好ましい。Ｒ3および／またはＲ4がとり
得る炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、
イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、
ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプ
チル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアル
キル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェ
ニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、インデニ
ル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリ
チル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル
基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィ
ル基などのアラルキル基などが包含される。Ｒ3および
／またはＲ4がとり得るハロゲン炭化水素基の具体例と
しては、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、
トリフルオロメチル基、モノフルオロエチル基、ジフル
オロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロ
エチル基、ペンタフルオロエチル基（パーフルオロエチ
ル基）、モノフルオロプロピル基、ジフルオロプロピル
基、トリフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル
基、ペンタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピ
ル基、ヘプタフルオロプロピル基（パーフルオロプロピ
ル基）、モノフルオロブチル基、ジフルオロブチル基、
トリフルオロブチル基、テトラフルオロブチル基、ペン
タフルオロブチル基、ヘキサフルオロブチル基、ヘプタ
フルオロブチル基、オクタフルオロブチル基、ノナフル
オロブチル基（パーフルオロブチル基）、モノフルオロ
イソブチル基、ジフルオロイソブチル基、トリフルオロ
イソブチル基、テトラフルオロイソブチル基、ペンタフ
ルオロイソブチル基、ヘキサフルオロイソブチル基、ヘ
プタフルオロイソブチル基、オクタフルオロイソブチル
基、ノナフルオロイソブチル基（パーフルオロイソブチ
ル基）、モノフルオロペンチル基、ジフルオロペンチル
基、トリフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル
基、モノフルオロヘキシル基、ジフルオロヘキシル基、
トリフルオロヘキシル基、パーフルオロヘキシル基、モ
ノフルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフ
ルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、パーフ
ルオロフェニル基、モノフルオロベンジル基、ジフルオ
ロベンジル基、トリフルオロベンジル基、テトラフルオ
ロベンジル基、パーフルオロベンジル基、モノフルオロ
トリル基、ジフルオロトリル基、トリフルオロトリル
基、テトラフルオロトリル基、パーフルオロトリル基 モノフルオロナフチル基、ジフルオロナフチル基、トリ
フルオロナフチル基、テトラフルオロナフチル基、ペン
タフルオロナフチル基、ヘキサフルオロナフチル基、パ
ーフルオロナフチル基 モノクロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメ
チル基、モノクロロエチル基、ジクロロエチル基、トリ
クロロエチル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロ
エチル基（パークロロエチル基）、モノクロロプロピル
基、ジクロロプロピル基、トリクロロプロピル基、テト
ラクロロプロピル基、ペンタクロロプロピル基、ヘキサ
クロロプロピル基、ヘプタクロロプロピル基（パークロ
ロプロピル基）、モノクロロブチル基、ジクロロブチル
基、トリクロロブチル基、テトラクロロブチル基、ペン
タクロロブチル基、ヘキサクロロブチル基、ヘプタクロ
ロブチル基、オクタクロロブチル基、ノナクロロブチル
基（パークロロブチル基）、モノクロロイソブチル基、
ジクロロイソブチル基、トリクロロイソブチル基、テト
ラクロロイソブチル基、ペンタクロロイソブチル基、ヘ
キサクロロイソブチル基、ヘプタクロロイソブチル基、
オクタクロロイソブチル基、ノナクロロイソブチル基
（パークロロイソブチル基）、モノクロロペンチル基、
ジクロロペンチル基、トリクロロペンチル基、パークロ
ロペンチル基、モノクロロヘキシル基、ジクロロヘキシ
ル基、トリクロロヘキシル基、パークロロヘキシル基、
モノクロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロ
ロフェニル基、テトラクロロフェニル基、パークロロフ
ェニル基、モノクロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、トリクロロベンジル基、テトラクロロベンジル基、
パークロロベンジル基、モノクロロトリル基、ジクロロ
トリル基、トリクロロトリル基、テトラクロロトリル
基、パークロロトリル基、モノクロロナフチル基、ジク
ロロナフチル基、トリクロロナフチル基、テトラクロロ
ナフチル基、ペンタクロロナフチル基、ヘキサクロロナ
フチル基、パークロロナフチル基、モノブロモメチル
基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、モノブロ
モエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエチル基、
テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル基（パーブ
ロモエチル基）、モノブロモプロピル基、ジブロモプロ
ピル基、トリブロモプロピル基、テトラブロモプロピル
基、ペンタブロモプロピル基、ヘキサブロモプロピル
基、ヘプタブロモプロピル基（パーブロモプロピル
基）、モノブロモブチル基、ジブロモブチル基、トリブ
ロモブチル基、テトラブロモブチル基、ペンタブロモブ
チル基、ヘキサブロモブチル基、ヘプタブロモブチル
基、オクタブロモブチル基、ノナブロモブチル基（パー
ブロモブチル基）、モノブロモイソブチル基、ジブロモ
イソブチル基、トリブロモイソブチル基、テトラブロモ
イソブチル基、ペンタブロモイソブチル基、ヘキサブロ
モイソブチル基、ヘプタブロモイソブチル基、オクタブ
ロモイソブチル基、ノナブロモイソブチル基（パーブロ
モイソブチル基）、モノブロモペンチル基、ジブロモペ
ンチル基、トリブロモペンチル基、パーブロモペンチル
基、モノブロモヘキシル基、ジブロモヘキシル基、トリ
ブロモヘキシル基、パーブロモヘキシル基、モノブロモ
フェニル基、ジブロモフェニル基、トリブロモフェニル
基、テトラブロモフェニル基、パーブロモフェニル基、
モノブロモベンジル基、ジブロモベンジル基、トリブロ
モベンジル基、テトラブロモベンジル基、パーブロモベ
ンジル基、モノブロモトリル基、ジブロモトリル基、ト
リブロモトリル基、テトラブロモトリル基、パーブロモ
トリル基、モノブロモナフチル基、ジブロモナフチル
基、トリブロモナフチル基、テトラブロモナフチル基、
ペンタブロモナフチル基、ヘキサブロモナフチル基、パ
ーブロモナフチル基、モノヨードメチル基、ジヨードメ
チル基、トリヨードメチル基、モノヨードエチル基、ジ
ヨードエチル基、トリヨードエチル基、テトラヨードエ
チル基、ペンタヨードエチル基（パーヨードエチル
基）、モノヨードプロピル基、ジヨードプロピル基、ト
リヨードプロピル基、テトラヨードプロピル基、ペンタ
ヨードプロピル基、ヘキサヨードプロピル基、ヘプタヨ
ードプロピル基（パーヨードプロピル基）、モノヨード
ブチル基、ジヨードブチル基、トリヨードブチル基、テ
トラヨードブチル基、ペンタヨードブチル基、ヘキサヨ
ードブチル基、ヘプタヨードブチル基、オクタヨードブ
チル基、ノナヨードブチル基（パーヨードブチル基）、
モノヨードイソブチル基、ジヨードイソブチル基、トリ
ヨードイソブチル基、テトラヨードイソブチル基、ペン
タヨードイソブチル基、ヘキサヨードイソブチル基、ヘ
プタヨードイソブチル基、オクタヨードイソブチル基、
ノナヨードイソブチル基（パーヨードイソブチル基）、
モノヨードペンチル基、ジヨードペンチル基、トリヨー
ドペンチル基、パーヨードペンチル基、モノヨードヘキ
シル基、ジヨードヘキシル基、トリヨードヘキシル基、
パーヨードヘキシル基、モノヨードフェニル基、ジヨー
ドフェニル基、トリヨードフェニル基、テトラヨードフ
ェニル基、パーヨードフェニル基、モノヨードベンジル
基、ジヨードベンジル基、トリヨードベンジル基、テト
ラヨードベンジル基、パーヨードベンジル基、モノヨー
ドトリル基、ジヨードトリル基、トリヨードトリル基、
テトラヨードトリル基、パーヨードトリル基、モノヨー
ドナフチル基、ジヨードナフチル基、トリヨードナフチ
ル基、テトラヨードナフチル基、ペンタヨードナフチル
基、ヘキサヨードナフチル基、パーヨードナフチル基な
どが包含される。また、Ｒ3，Ｒ4は、互いに結合して１
個以上の環状炭化水素基を形成してもよく、その具体例
を炭素骨格で示せば、次のとおりである。
【化３】
【０００８】一般式（I-b）におけるＲ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ
8は個別に、水素原子または炭素数１〜１８、好ましく
は１〜１２、さらに好ましくは１〜８の炭化水素基を示
す。この炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル
基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、
ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル
基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基な
どのアラルキル基などが包含される。また、Ｒ5，Ｒ6，
Ｒ7，Ｒ8は、炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２、さ
らに好ましくは１〜８の炭化水素基を介して結合してい
てもよい。この炭化水素基にはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル
基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、
ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル
基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基な
どのアラルキル基などが包含される。一般式（I−b）で
表されるメタロセン系遷移金属化合物の具体例として
は、次の化合物を例示することができる。
8は個別に、水素原子または炭素数１〜１８、好ましく
は１〜１２、さらに好ましくは１〜８の炭化水素基を示
す。この炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル
基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、
ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル
基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基な
どのアラルキル基などが包含される。また、Ｒ5，Ｒ6，
Ｒ7，Ｒ8は、炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２、さ
らに好ましくは１〜８の炭化水素基を介して結合してい
てもよい。この炭化水素基にはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペ
ンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル
基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、
ナフチル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル
基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基な
どのアラルキル基などが包含される。一般式（I−b）で
表されるメタロセン系遷移金属化合物の具体例として
は、次の化合物を例示することができる。
【０００９】
【化４】
【００１０】
【化５】
【００１１】
【化６】
【００１２】
【化７】
【００１３】
【化８】
【００１４】
【化９】
【００１５】
【化１０】
【００１６】
【化１１】
【００１７】
【化１２】
【００１８】
【化１３】
【００１９】
【化１４】
【００２０】
【化１５】
【００２１】
【化１６】
【００２２】
【化１７】
【００２３】
【化１８】
【００２４】
【化１９】
【００２５】
【化２０】
【００２６】
【化２１】
【００２７】
【化２２】
【００２８】
【化２３】
【００２９】
【化２４】
【００３０】
【化２５】
【００３１】
【化２６】
【００３２】
【化２７】
【００３３】
【化２８】
【００３４】
【化２９】
【００３５】
【化３０】
【００３６】
【化３１】
【００３７】
【化３２】
【００３８】
【化３３】
【００３９】
【化３４】
【００４０】
【化３５】
【００４１】
【化３６】
【００４２】
【化３７】
【００４３】
【化３８】
【００４４】
【化３９】
【００４５】
【化４０】
【００４６】
【化４１】
【００４７】
【化４２】
【００４８】
【化４３】
【００４９】
【化４４】
【００５０】
【化４５】
【００５１】
【化４６】
【００５２】
【化４７】
【００５３】
【化４８】
【００５４】一般式（I‐b）で表されるメタロセン系遷
移金属化合物のなかにあって、より好ましい化合物は、
下記の一般式（I−c）で表される。
移金属化合物のなかにあって、より好ましい化合物は、
下記の一般式（I−c）で表される。
【化４９】 前記一般式において、Ｍ1はＺｒ，Ｔｉ，またはＨｆを
示し，特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを示
し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は、前記
一般式（I−ｂ）で定義したのと同様の基である。Ｒ5，
Ｒ6，Ｒ9，Ｒ10，Ｒ11，Ｒ12は互いに同一でも異なって
いてもよく、水素原子または炭素数１〜１８、好ましく
は１〜１２、さらに好ましくは１〜８の炭化水素基を示
す。この炭化水素基には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチ
ル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル
基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル基；
ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、ナフ
チル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、フ
ェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニル
ブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基などのア
ラルキル基などが包含される。また、Ｒ9，Ｒ10，
Ｒ11，Ｒ12のいずれか２つ以上が炭化水素基であって、
隣接している場合、それらの炭化水素基は互いに結合し
て一個以上の環状化合物を形成してもよい。一般式（I-
c）に包含されるメタロセン系遷移金属化合物の具体例
としては、次の化合物を例示することができる。
示し，特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを示
し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は、前記
一般式（I−ｂ）で定義したのと同様の基である。Ｒ5，
Ｒ6，Ｒ9，Ｒ10，Ｒ11，Ｒ12は互いに同一でも異なって
いてもよく、水素原子または炭素数１〜１８、好ましく
は１〜１２、さらに好ましくは１〜８の炭化水素基を示
す。この炭化水素基には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチ
ル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル
基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、デシル基、ドデシル基などのアルキル基；
ビニル基、アリル基などのアルケニル基、フェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、ナフ
チル基などのアリール基；ベンジル基、トリチル基、フ
ェネチル基、スチリル基、ベンズヒドリル基、フェニル
ブチル基、フェニルプロピル基、ネオフィル基などのア
ラルキル基などが包含される。また、Ｒ9，Ｒ10，
Ｒ11，Ｒ12のいずれか２つ以上が炭化水素基であって、
隣接している場合、それらの炭化水素基は互いに結合し
て一個以上の環状化合物を形成してもよい。一般式（I-
c）に包含されるメタロセン系遷移金属化合物の具体例
としては、次の化合物を例示することができる。
【００５５】
【化５０】
【００５６】
【化５１】
【００５７】
【化５２】
【００５８】
【化５３】
【００５９】
【化５４】
【００６０】
【化５５】
【００６１】
【化５６】
【００６２】
【化５７】
【００６３】
【化５８】
【００６４】
【化５９】
【００６５】
【化６０】
【００６６】
【化６１】
【００６７】
【化６２】
【００６８】
【化６３】
【００６９】
【化６４】
【００７０】
【化６５】
【００７１】
【化６６】
【００７２】
【化６７】
【００７３】
【化６８】
【００７４】
【化６９】
【００７５】
【化７０】
【００７６】
【化７１】
【００７７】
【化７２】
【００７８】
【化７３】
【００７９】
【化７４】
【００８０】
【化７５】
【００８１】
【化７６】
【００８２】
【化７７】
【００８３】
【化７８】
【００８４】
【化７９】
【００８５】
【化８０】
【００８６】
【化８１】
【００８７】
【化８２】
【００８８】
【化８３】
【００８９】
【化８４】
【００９０】
【化８５】
【００９１】
【化８６】
【００９２】
【化８７】
【００９３】
【化８８】
【００９４】一般式（I‐b）で表されるメタロセン系遷
移金属化合物のなかにあって、最も好ましい化合物は、
下記の一般式（I−c）で表される。
移金属化合物のなかにあって、最も好ましい化合物は、
下記の一般式（I−c）で表される。
【化８９】 前記一般式において、Ｍ1はＺｒ，Ｔｉ，またはＨｆを
示し、特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを示
し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は前記一
般式（I−ｂ）で定義したのと同様の基である。Ｒ5，Ｒ
6，Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16は、互いにに
同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１
〜１８、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８
の炭化水素基を示す。この炭化水素基には、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチ
ル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチ
ル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基な
どのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、
ナフチル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル
基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒ
ドリル基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネ
オフィル基などのアラルキル基などが包含される。ま
た、Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16のいずれか２つ以上が炭化
水素基であって、隣接している場合、それらの炭化水素
基は互いに結合して一個以上の環状化合物を形成しても
よい。一般式（I-c）に包含されるメタロセン系遷移金
属化合物の具体例としては、次の化合物を例示すること
ができる。
示し、特にＺｒが好ましい。Ｍ2はＡｌまたはＢを示
し、特にＡｌが好ましい。Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4は前記一
般式（I−ｂ）で定義したのと同様の基である。Ｒ5，Ｒ
6，Ｒ11，Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16は、互いにに
同一でも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１
〜１８、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８
の炭化水素基を示す。この炭化水素基には、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチ
ル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチ
ル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基な
どのアルキル基；ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、
ナフチル基、ナフチル基などのアリール基；ベンジル
基、トリチル基、フェネチル基、スチリル基、ベンズヒ
ドリル基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基、ネ
オフィル基などのアラルキル基などが包含される。ま
た、Ｒ13，Ｒ14，Ｒ15，Ｒ16のいずれか２つ以上が炭化
水素基であって、隣接している場合、それらの炭化水素
基は互いに結合して一個以上の環状化合物を形成しても
よい。一般式（I-c）に包含されるメタロセン系遷移金
属化合物の具体例としては、次の化合物を例示すること
ができる。
【００９５】
【化９０】
【００９６】
【化９１】
【００９７】
【化９２】
【００９８】
【化９３】
【００９９】
【化９４】
【０１００】
【化９５】
【０１０１】
【化９６】
【０１０２】
【化９７】
【０１０３】
【化９８】
【０１０４】
【化９９】
【０１０５】
【化１００】
【０１０６】
【化１０１】
【０１０７】
【化１０２】
【０１０８】本発明のオレフィン重合用触媒における成
分（II）は、Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミ
ニウム化合物、ボランおよびボレートからなる群から選
ぶことができるが、特に変性有機アルミニウム化合物で
あることが好ましい。本発明で使用する変性有機アルミ
ニウム化合物は、分子中にＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含み、
その結合数は、通常１〜１００、好ましくは１〜５０個
の範囲にある。このような変性有機アルミニウム化合物
は、通常、有機アルミニウム化合物と水との反応するこ
とにより得られる生成物である。有機アルミニウムと水
との反応は、通常、不活性炭化水素中で行われる。不活
性炭化水素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素及
び芳香族炭化水素が使用できるが、脂肪族炭化水素又は
芳香族炭化水素を使用することが好ましい。変性有機ア
ルミニウム化合物の調製に用いる有機アルミニウム化合
物は、次の一般式（II−ａ）で表すことができる。 Ｒ17 cＡｌＸ3 3-c （II−ａ） 〔式中、Ｒ17は炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２の
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基
等の炭化水素基を、Ｘ3は水素原子又はハロゲン原子を
示し、ｃは１≦ｃ≦３の整数を示す〕 一般式（II−ａ）で表される有機アルミニウム化合物と
しては、トリアルキルアルミニウムが好ましい。トリア
ルキルアルミニウムのアルキル基は、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基等のいずれでも差し支えないが、メチル
基であることが特に好ましい。水と有機アルミニウム化
合物との反応比（水／Ａｌモル比）は、０．２５／１〜
１．２／１、特に、０．５／１〜１／１であることが好
ましく、反応温度は通常−７０〜１００℃、好ましくは
−２０〜２０℃の範囲にある。反応時間は通常５〜２４
時間、好ましくは１０〜５時間の範囲で選ばれる。反応
に要する水として、単なる水のみならず、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物等に含まれる結晶水や反応
系中に水が生成しうる成分も利用することもできる。な
お、上記した変性有機アルミニウム化合物のうち、アル
キルアルミニウムと水とを反応させて得られるものは、
通常アルミノキサンと呼ばれ、特にメチルアルミノキサ
ン（もしくはメチルアルミノキサンから実質的になるも
の）は、本発明の成分（II）として好適である。もちろ
ん、本発明の成分（II）として、上記した各変性有機ア
ルミニウム化合物の２種以上を組み合わせて使用するこ
ともでき、また、前記変性有機アルミニウム化合物を前
述の不活性炭化水素溶媒に溶液または分散させた溶液と
したものを用いても良い。
分（II）は、Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミ
ニウム化合物、ボランおよびボレートからなる群から選
ぶことができるが、特に変性有機アルミニウム化合物で
あることが好ましい。本発明で使用する変性有機アルミ
ニウム化合物は、分子中にＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含み、
その結合数は、通常１〜１００、好ましくは１〜５０個
の範囲にある。このような変性有機アルミニウム化合物
は、通常、有機アルミニウム化合物と水との反応するこ
とにより得られる生成物である。有機アルミニウムと水
との反応は、通常、不活性炭化水素中で行われる。不活
性炭化水素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シ
クロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素及
び芳香族炭化水素が使用できるが、脂肪族炭化水素又は
芳香族炭化水素を使用することが好ましい。変性有機ア
ルミニウム化合物の調製に用いる有機アルミニウム化合
物は、次の一般式（II−ａ）で表すことができる。 Ｒ17 cＡｌＸ3 3-c （II−ａ） 〔式中、Ｒ17は炭素数１〜１８、好ましくは１〜１２の
アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基
等の炭化水素基を、Ｘ3は水素原子又はハロゲン原子を
示し、ｃは１≦ｃ≦３の整数を示す〕 一般式（II−ａ）で表される有機アルミニウム化合物と
しては、トリアルキルアルミニウムが好ましい。トリア
ルキルアルミニウムのアルキル基は、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基等のいずれでも差し支えないが、メチル
基であることが特に好ましい。水と有機アルミニウム化
合物との反応比（水／Ａｌモル比）は、０．２５／１〜
１．２／１、特に、０．５／１〜１／１であることが好
ましく、反応温度は通常−７０〜１００℃、好ましくは
−２０〜２０℃の範囲にある。反応時間は通常５〜２４
時間、好ましくは１０〜５時間の範囲で選ばれる。反応
に要する水として、単なる水のみならず、硫酸銅水和
物、硫酸アルミニウム水和物等に含まれる結晶水や反応
系中に水が生成しうる成分も利用することもできる。な
お、上記した変性有機アルミニウム化合物のうち、アル
キルアルミニウムと水とを反応させて得られるものは、
通常アルミノキサンと呼ばれ、特にメチルアルミノキサ
ン（もしくはメチルアルミノキサンから実質的になるも
の）は、本発明の成分（II）として好適である。もちろ
ん、本発明の成分（II）として、上記した各変性有機ア
ルミニウム化合物の２種以上を組み合わせて使用するこ
ともでき、また、前記変性有機アルミニウム化合物を前
述の不活性炭化水素溶媒に溶液または分散させた溶液と
したものを用いても良い。
【０１０９】成分（II）としては、ボレートまたはボラ
ンも使用可能である。本発明で使用できるボレートの第
１の例は、一般式（II−ｂ−１）で示される。 ［Ｌ1 −Ｈ］＋ ［ＢＲ18 Ｒ19 Ｘ4 Ｘ5 ］− （II−ｂ−１） 式中、Ｌ1は中性ルイス塩基を、Ｈは水素原子を示し、
［Ｌ1 −Ｈ］はアンモニウム、アニリニウム、ホスフォ
ニウム等のブレンステッド酸である。アンモニウムとし
ては、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウ
ム、トリプロピルアンモニウム、トリブチルアンモニウ
ム、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムなどのトリアルキ
ル置換アンモニウム、ジ（ｎ−プロピル）アンモニウ
ム、ジシクロヘキシルアンモニウムなどのジアルキルア
ンモニウムが例示できる。アニリウムとしては、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウ
ム、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムな
どのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムが例示できる。ま
た、ホスフォニウムとしてはトリフェニルホスフォニウ
ム、トリブチルホスホニウム、トリ（メチルフェニル）
ホスフォニウム、トリ（ジメチルフェニル）ホスフォニ
ウムなどのトリアリールホスフォニウム、トリアルキル
ホスフォニウムが挙げられる。Ｒ18およびＲ19は個別
に、炭素数６〜２０、好ましくは６〜１６の芳香族炭化
水素基又は置換芳香族炭化水素基を示し、両者は架橋基
によって互いに連結されていてもよい。置換芳香族炭化
水素基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基等に代表されるアルキル基やフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが好ましい。Ｘ4
及びＸ5はハイドライド基、ハライド基、炭素数１〜２
０のヒドロカルビル基、１個以上の水素原子がハロゲン
原子によって置換された炭素数１〜２０の置換ヒドロカ
ルビル基を示す。一般式（II−ｂ−１）で示されるボレ
ートの具体例としては、トリブチルアンモニウムテトラ
（ｐ−トリル）ボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラ（ｍ−トリル）ボレート、トリブチルアンモニウムテ
トラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、トリブチルア
ンモニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、
トリブチルアンモニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニ
ル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（３，５
−ジフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｍ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、ジメチル
アニリニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチルアニリニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（３，５−
ジフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、トリフ
ェニルホスホニウムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、ト
リフェニルホスホニウムテトラ（ｍ−トリル）ボレー
ト、トリフェニルホスホニウムテトラ（ｏ−フルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホス
ホニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、ト
リフェニルホスホニウムテトラ（３，５−ジフルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ボレートを例示することが
できる。さらにトリエチルアンモニウムテトラ（ｏ−フ
ルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテ
トラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリエチル
アンモニウムテトラ（フェニル）ボレート、トリプロピ
ルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｎ−ブ
チル）アンモニウムテトラフェニルボレート、トリメチ
ルアンモニウムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、トリメ
チルアンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、トリ
プロピルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ−ジメチルフェニ
ル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（ｐ−ト
リフルオロメチルフェニル）ボレート、トリブチルアン
モニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｏ−トリル）
ボレートなどのトリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラ（フェニル）
ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニ
ウムテトラ（フェニル）ボレートなどのＮ，Ｎ−ジアル
キルアニリニウム塩、ジ（１−プロピル）アンモニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロ
ヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどのジ
アルキルアンモニウム塩を例示することができる。これ
らの中でも、トリブチルアンモニウムテトラ（ｏ−フル
オロフェニル）ボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリブチルアン
モニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、ト
リブチルアンモニウムテトラ（３，５−ジフルオロフェ
ニル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウム
テトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、ジメチルア
ニリニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、
ジメチルアニリニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）
ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（３，５−ジフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウムテト
ラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましく、ト
リブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートが特に好ましい。
ンも使用可能である。本発明で使用できるボレートの第
１の例は、一般式（II−ｂ−１）で示される。 ［Ｌ1 −Ｈ］＋ ［ＢＲ18 Ｒ19 Ｘ4 Ｘ5 ］− （II−ｂ−１） 式中、Ｌ1は中性ルイス塩基を、Ｈは水素原子を示し、
［Ｌ1 −Ｈ］はアンモニウム、アニリニウム、ホスフォ
ニウム等のブレンステッド酸である。アンモニウムとし
ては、トリメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウ
ム、トリプロピルアンモニウム、トリブチルアンモニウ
ム、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムなどのトリアルキ
ル置換アンモニウム、ジ（ｎ−プロピル）アンモニウ
ム、ジシクロヘキシルアンモニウムなどのジアルキルア
ンモニウムが例示できる。アニリウムとしては、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウム、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウ
ム、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムな
どのＮ，Ｎ−ジアルキルアニリニウムが例示できる。ま
た、ホスフォニウムとしてはトリフェニルホスフォニウ
ム、トリブチルホスホニウム、トリ（メチルフェニル）
ホスフォニウム、トリ（ジメチルフェニル）ホスフォニ
ウムなどのトリアリールホスフォニウム、トリアルキル
ホスフォニウムが挙げられる。Ｒ18およびＲ19は個別
に、炭素数６〜２０、好ましくは６〜１６の芳香族炭化
水素基又は置換芳香族炭化水素基を示し、両者は架橋基
によって互いに連結されていてもよい。置換芳香族炭化
水素基の置換基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基等に代表されるアルキル基やフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲンが好ましい。Ｘ4
及びＸ5はハイドライド基、ハライド基、炭素数１〜２
０のヒドロカルビル基、１個以上の水素原子がハロゲン
原子によって置換された炭素数１〜２０の置換ヒドロカ
ルビル基を示す。一般式（II−ｂ−１）で示されるボレ
ートの具体例としては、トリブチルアンモニウムテトラ
（ｐ−トリル）ボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラ（ｍ−トリル）ボレート、トリブチルアンモニウムテ
トラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、トリブチルア
ンモニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、
トリブチルアンモニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニ
ル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（３，５
−ジフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｍ−トリル）ボレート、ジメチルアニリニウ
ムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、ジメチル
アニリニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレー
ト、ジメチルアニリニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（３，５−
ジフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェ
ニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、トリフ
ェニルホスホニウムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、ト
リフェニルホスホニウムテトラ（ｍ−トリル）ボレー
ト、トリフェニルホスホニウムテトラ（ｏ−フルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホス
ホニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、ト
リフェニルホスホニウムテトラ（３，５−ジフルオロフ
ェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラ
（ペンタフルオロフェニル）ボレートを例示することが
できる。さらにトリエチルアンモニウムテトラ（ｏ−フ
ルオロフェニル）ボレート、トリエチルアンモニウムテ
トラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリエチル
アンモニウムテトラ（フェニル）ボレート、トリプロピ
ルアンモニウムテトラフェニルボレート、トリ（ｎ−ブ
チル）アンモニウムテトラフェニルボレート、トリメチ
ルアンモニウムテトラ（ｐ−トリル）ボレート、トリメ
チルアンモニウムテトラ（ｏ−トリル）ボレート、トリ
プロピルアンモニウムテトラ（ｏ，ｐ−ジメチルフェニ
ル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（ｐ−ト
リフルオロメチルフェニル）ボレート、トリブチルアン
モニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ（ｏ−トリル）
ボレートなどのトリアルキル置換アンモニウム塩、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラ（フェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラ（フェニル）
ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニ
ウムテトラ（フェニル）ボレートなどのＮ，Ｎ−ジアル
キルアニリニウム塩、ジ（１−プロピル）アンモニウム
テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロ
ヘキシルアンモニウムテトラフェニルボレートなどのジ
アルキルアンモニウム塩を例示することができる。これ
らの中でも、トリブチルアンモニウムテトラ（ｏ−フル
オロフェニル）ボレート、トリブチルアンモニウムテト
ラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリブチルアン
モニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、ト
リブチルアンモニウムテトラ（３，５−ジフルオロフェ
ニル）ボレート、トリブチルアンモニウムテトラ（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウム
テトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、ジメチルア
ニリニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、
ジメチルアニリニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）
ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（３，５−ジフ
ルオロフェニル）ボレート、ジメチルアニリニウムテト
ラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートが好ましく、ト
リブチルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、ジメチルアニリニウムテトラ（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレートが特に好ましい。
【０１１０】成分（II）として使用可能なボレートの第
２の例は、一般式（II−ｂ−２）で示される。 [Ｌ2]＋[ＢＲ18Ｒ19 Ｘ4 Ｘ5 ]− （II−ｂ−２） 式中、Ｌ2はカルボカチオン、メチルカチオン、エチル
カチオン、プロピルカチオン、イソプロピルカチオン、
ブチルカチオン、イソブチルカチオン、ｔｅｒｔ-ブチ
ルカチオン、ペンチルカチオン、トロピニウムカチオ
ン、ベンジルカチオン、トリチルカチオン等を示し、Ｒ
18およびＲ19 、Ｘ4及び Ｘ5は、一般式（II−ｂ−１）
で定義したところと同一である。一般式（II−ｂ−２）
に包含されるボレートの具体例としては、トリチルテト
ラフェニルボレート、トリチルテトラ（ｏ−トリル）ボ
レート、トリチルテトラ（ｐ−トリル）ボレート、トリ
チルテトラ（ｍ−トリル）ボレート、トリチルテトラ
（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（３，５−ジフルオロフェニル）ボレート、トリチルテ
トラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トロピニウ
ムテトラフェニルボレート、トロピニウムテトラ（ｏ−
トリル）ボレート、トロピニウムテトラ（ｐ−トリル）
ボレート、トロピニウムテトラ（ｍ−トリル）ボレー
ト、トロピニウムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレ
ート、トロピニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボ
レート、トロピニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）
ボレート、トロピニウムテトラ（３，５−ジフルオロフ
ェニル）ボレート、トロピニウムテトラ（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートを例示することができる。これら
の中でもトリチルテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレ
ート、トリチルテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレー
ト、トリチルテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレー
ト、トリチルテトラ（３，５−ジフルオロフェニル）ボ
レート、トリチルテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、トロピニウムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）
ボレート、トロピニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート、トロピニウムテトラ（ｍ−フルオロフェ
ニル）ボレート、トロピニウムテトラ（３，５−ジフル
オロフェニル）ボレート、トロピニウムテトラ（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートが好ましい。更に好ましく
は、トリチルテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、トロピニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートが挙げられる。
２の例は、一般式（II−ｂ−２）で示される。 [Ｌ2]＋[ＢＲ18Ｒ19 Ｘ4 Ｘ5 ]− （II−ｂ−２） 式中、Ｌ2はカルボカチオン、メチルカチオン、エチル
カチオン、プロピルカチオン、イソプロピルカチオン、
ブチルカチオン、イソブチルカチオン、ｔｅｒｔ-ブチ
ルカチオン、ペンチルカチオン、トロピニウムカチオ
ン、ベンジルカチオン、トリチルカチオン等を示し、Ｒ
18およびＲ19 、Ｘ4及び Ｘ5は、一般式（II−ｂ−１）
で定義したところと同一である。一般式（II−ｂ−２）
に包含されるボレートの具体例としては、トリチルテト
ラフェニルボレート、トリチルテトラ（ｏ−トリル）ボ
レート、トリチルテトラ（ｐ−トリル）ボレート、トリ
チルテトラ（ｍ−トリル）ボレート、トリチルテトラ
（ｏ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（ｐ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（ｍ−フルオロフェニル）ボレート、トリチルテトラ
（３，５−ジフルオロフェニル）ボレート、トリチルテ
トラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トロピニウ
ムテトラフェニルボレート、トロピニウムテトラ（ｏ−
トリル）ボレート、トロピニウムテトラ（ｐ−トリル）
ボレート、トロピニウムテトラ（ｍ−トリル）ボレー
ト、トロピニウムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレ
ート、トロピニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボ
レート、トロピニウムテトラ（ｍ−フルオロフェニル）
ボレート、トロピニウムテトラ（３，５−ジフルオロフ
ェニル）ボレート、トロピニウムテトラ（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートを例示することができる。これら
の中でもトリチルテトラ（ｏ−フルオロフェニル）ボレ
ート、トリチルテトラ（ｐ−フルオロフェニル）ボレー
ト、トリチルテトラ（ｍ−フルオロフェニル）ボレー
ト、トリチルテトラ（３，５−ジフルオロフェニル）ボ
レート、トリチルテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、トロピニウムテトラ（ｏ−フルオロフェニル）
ボレート、トロピニウムテトラ（ｐ−フルオロフェニ
ル）ボレート、トロピニウムテトラ（ｍ−フルオロフェ
ニル）ボレート、トロピニウムテトラ（３，５−ジフル
オロフェニル）ボレート、トロピニウムテトラ（ペンタ
フルオロフェニル）ボレートが好ましい。更に好ましく
は、トリチルテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、トロピニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボ
レートが挙げられる。
【０１１１】また、成分（II）として使用可能なボラン
化合物の具体例を摘記すると、トリフェニルボラン、ト
リ（ｏ−トリル）ボラン、トリ（ｐ−トリル）ボラン、
トリ（ｍ−トリル）ボラン、トリ（ｏ−フルオロフェニ
ル）ボラン、トリ（ｐ−フルオロフェニル）ボラン、ト
リ（ｍ−フルオロフェニル）ボラン、トリ（３，５−ジ
フルオロフェニル）ボラン、トリ（ペンタフルオロフェ
ニル）ボランが挙げられる。これらの中でも、トリ（ｏ
−フルオロフェニル）ボラン、トリ（ｐ−フルオロフェ
ニル）ボラン、トリ（ｍ−フルオロフェニル）ボラン、
トリ（３，５−ジフルオロフェニル）ボラン、トリ（ペ
ンタフルオロフェニル）ボランがより好ましく、特にト
リ（ペンタフルオロフェニル）ボランが好ましい。ボラ
ンおよび／またはボレートは、２種以上を成分（II）と
して併用することができ、また、上記した変性有機アル
ミニウム化合物を併用してもよい。
化合物の具体例を摘記すると、トリフェニルボラン、ト
リ（ｏ−トリル）ボラン、トリ（ｐ−トリル）ボラン、
トリ（ｍ−トリル）ボラン、トリ（ｏ−フルオロフェニ
ル）ボラン、トリ（ｐ−フルオロフェニル）ボラン、ト
リ（ｍ−フルオロフェニル）ボラン、トリ（３，５−ジ
フルオロフェニル）ボラン、トリ（ペンタフルオロフェ
ニル）ボランが挙げられる。これらの中でも、トリ（ｏ
−フルオロフェニル）ボラン、トリ（ｐ−フルオロフェ
ニル）ボラン、トリ（ｍ−フルオロフェニル）ボラン、
トリ（３，５−ジフルオロフェニル）ボラン、トリ（ペ
ンタフルオロフェニル）ボランがより好ましく、特にト
リ（ペンタフルオロフェニル）ボランが好ましい。ボラ
ンおよび／またはボレートは、２種以上を成分（II）と
して併用することができ、また、上記した変性有機アル
ミニウム化合物を併用してもよい。
【０１１２】本発明のオレフィン重合用触媒における成
分（III）は、触媒担体として機能する成分であって、
このものは成分（III‐ａ）であるケイ素の酸化物およ
び／または複酸化物と、成分（III‐b）である一般式：
Ｚ(ＹＨk)jで表される化合物とを相互に接触させること
によって調製される。成分（III‐ａ）に関して言うケ
イ素の酸化物とは、シリカを意味し、ケイ素の複酸化物
とは、ケイ素と周期律表I〜VIII族の少なくとも一種の
他の金属との複酸化物を意味する。ケイ素の複酸化物と
しては、例えば、Ａl２Ｏ３・ＳｉＯ ２、Ａl２Ｏ３・Ｍ
ｇＯ・ＳｉＯ２、ＳｉＯ２・ＭｇＯなどの天然または合
成の各種複酸化物を例示することができる。これらはい
ずれも組成式（実験式）であって、分子式ではない。従
って、上記複酸化物の構造および成分比率は、特に限定
されるものではない。成分（III‐ａ）としてはシリカ
が好ましい。成分（III‐ａ）として用いられるケイ素
の酸化物および／または複酸化物は、少量の水分を吸収
していても差し支えなく、少量の不純物を含有していて
も差し支えない。しかし、後述する成分（III‐ｂ）と
の接触に先立って、これらを通常１００〜８００℃、好
ましくは２００〜６００℃で、空気中または窒素、アル
ゴン等の不活性ガス中で焼成して、表面水酸基の量を
０．２〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは０．４
〜２．５ｍｍｏｌ／ｇに調節しておくことが好ましい。
ケイ素の酸化物および／または複酸化物の性状には特に
制限はない。しかし、一般的には、平均粒径が５〜２０
０μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、比表面積が１５
０〜１，０００ｍ2／ｇ、好ましくは２００〜６００ｍ2
／ｇ、細孔容積が０．３〜２．５ｃｍ3／ｇ、好ましく
は０．５〜２．０ｃｍ3／ｇ、見掛比重が０．２０〜
０．５０ｇ／ｃｍ3、好ましくは０．２５〜０．４５ｇ
／ｃｍ3であるケイ素の酸化物および／または複酸化物
を使用するのが望ましい。
分（III）は、触媒担体として機能する成分であって、
このものは成分（III‐ａ）であるケイ素の酸化物およ
び／または複酸化物と、成分（III‐b）である一般式：
Ｚ(ＹＨk)jで表される化合物とを相互に接触させること
によって調製される。成分（III‐ａ）に関して言うケ
イ素の酸化物とは、シリカを意味し、ケイ素の複酸化物
とは、ケイ素と周期律表I〜VIII族の少なくとも一種の
他の金属との複酸化物を意味する。ケイ素の複酸化物と
しては、例えば、Ａl２Ｏ３・ＳｉＯ ２、Ａl２Ｏ３・Ｍ
ｇＯ・ＳｉＯ２、ＳｉＯ２・ＭｇＯなどの天然または合
成の各種複酸化物を例示することができる。これらはい
ずれも組成式（実験式）であって、分子式ではない。従
って、上記複酸化物の構造および成分比率は、特に限定
されるものではない。成分（III‐ａ）としてはシリカ
が好ましい。成分（III‐ａ）として用いられるケイ素
の酸化物および／または複酸化物は、少量の水分を吸収
していても差し支えなく、少量の不純物を含有していて
も差し支えない。しかし、後述する成分（III‐ｂ）と
の接触に先立って、これらを通常１００〜８００℃、好
ましくは２００〜６００℃で、空気中または窒素、アル
ゴン等の不活性ガス中で焼成して、表面水酸基の量を
０．２〜３．０ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは０．４
〜２．５ｍｍｏｌ／ｇに調節しておくことが好ましい。
ケイ素の酸化物および／または複酸化物の性状には特に
制限はない。しかし、一般的には、平均粒径が５〜２０
０μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、比表面積が１５
０〜１，０００ｍ2／ｇ、好ましくは２００〜６００ｍ2
／ｇ、細孔容積が０．３〜２．５ｃｍ3／ｇ、好ましく
は０．５〜２．０ｃｍ3／ｇ、見掛比重が０．２０〜
０．５０ｇ／ｃｍ3、好ましくは０．２５〜０．４５ｇ
／ｃｍ3であるケイ素の酸化物および／または複酸化物
を使用するのが望ましい。
【０１１３】成分（III−ｂ）は一般式：Ｚ(ＹＨk)jで
表される。式中、Ｚは炭素数１〜２０、好ましくは１〜
１０、さらに好ましくは１〜５の炭化水素残基を示し、
これにはエチレン基、プロピレン基、イソプロピレン
基、シクロプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン
基、ｔ−ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン
基、ネオペンチレン基、シクロペンチレン基、ヘキシレ
ン基、イソヘキシレン基、シクロヘキシレン基、ヘプチ
レン基、オクチレン基、デシレン基、ドデシレン基など
のアルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、な
どが挙げられる。好ましくはアルキレン基である。Ｙは
窒素原子、燐原子、酸素原子または硫黄原子から選ばれ
る原子を示し、好ましくは窒素原子または酸素原子であ
る。Ｈは水素原子を示し、ｋは１または２である。ｊは
２以上の整数であり、好ましくは２〜４、さらに好まし
くは２である。なお、Ｚがアルキレン基の場合、その炭
素数は２〜４であることが好ましく、２〜３であること
がさらに好ましい。成分（III−ｂ）の具体例を摘記す
ると、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、２，３−ブタンジオール、イソブチレングリコー
ル、１，２−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオ
ール、１，５−ペンタンジオール、２，３−ペンタンジ
オール、２，４−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，４−ヘキサ
ンジオール、３−メチルー２，４−ペンタンジオール、
１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジ
オール、エチレンジアミン、１，２−プロパンジアミ
ン、１，３−プロパンジアミン、１，４−ブタンジアミ
ン、１，５−ペンタンジアミン、１，６−ヘキサンジア
ミン、１，７−ヘプタンジアミン、１，８−オクタンジ
アミン、１，１０−デカンジアミン、１，１２−ドデカ
ンジアミン、エチルホスフィン、１，２−プロピルホス
フィン、１，３−プロピルホスフィン、１，４−ブチル
ホスフィン、ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプ
トプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、１，４−
ジメルカプトブタン、グリセロール、１，２，４−トリ
ヒドロキシブタン、２−ヒドロキシメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−メチル−２−ヒドロキシメチル−
１，３−プロパンジオール、ペンタエリスリトールなど
が挙げられる。これらのなかではエチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオー
ル、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール
が好ましく、エチレングリコール、１，２−プロパンジ
オール、１，３−プロパンジオールがさらに好ましい。
本発明の担体成分を取得するに際して、成分（III−
ａ）と成分（III−ｂ）との反応割合は、前者１００ｇ
に対して後者を１〜５０００ミリモル、好ましくは５〜
５００ミリモル、さらに好ましくは５０〜２５０ミリモ
ルの範囲で選ばれる。成分（III−ａ）と成分（III−
ｂ）とは、通常、窒素またはアルゴンなどの不活性雰囲
気下中で、無溶媒またはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、シ
クロヘキサンなどの脂肪族あるいは脂環族炭化水素の存
在下、攪拌下または非攪拌下に接触せしめられる。この
接触は、通常０〜３００℃、好ましくは１０〜２００
℃、さらに好ましくは２０〜１５０℃の温度にて１０分
間〜５０時間、好ましくは３０分〜２４時間行うことが
望ましい。なお、こうして得られる本発明の成分（II
I）は、成分（I）および成分（II）との接触に先立ち、
残存（未反応）する成分（III−ｂ）や溶媒を除去して
おくことが望ましい。
表される。式中、Ｚは炭素数１〜２０、好ましくは１〜
１０、さらに好ましくは１〜５の炭化水素残基を示し、
これにはエチレン基、プロピレン基、イソプロピレン
基、シクロプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン
基、ｔ−ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン
基、ネオペンチレン基、シクロペンチレン基、ヘキシレ
ン基、イソヘキシレン基、シクロヘキシレン基、ヘプチ
レン基、オクチレン基、デシレン基、ドデシレン基など
のアルキレン基、フェニレン基、置換フェニレン基、な
どが挙げられる。好ましくはアルキレン基である。Ｙは
窒素原子、燐原子、酸素原子または硫黄原子から選ばれ
る原子を示し、好ましくは窒素原子または酸素原子であ
る。Ｈは水素原子を示し、ｋは１または２である。ｊは
２以上の整数であり、好ましくは２〜４、さらに好まし
くは２である。なお、Ｚがアルキレン基の場合、その炭
素数は２〜４であることが好ましく、２〜３であること
がさらに好ましい。成分（III−ｂ）の具体例を摘記す
ると、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、２，３−ブタンジオール、イソブチレングリコー
ル、１，２−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオ
ール、１，５−ペンタンジオール、２，３−ペンタンジ
オール、２，４−ペンタンジオール、１，６−ヘキサン
ジオール、２，５−ヘキサンジオール、３，４−ヘキサ
ンジオール、３−メチルー２，４−ペンタンジオール、
１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオー
ル、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジ
オール、エチレンジアミン、１，２−プロパンジアミ
ン、１，３−プロパンジアミン、１，４−ブタンジアミ
ン、１，５−ペンタンジアミン、１，６−ヘキサンジア
ミン、１，７−ヘプタンジアミン、１，８−オクタンジ
アミン、１，１０−デカンジアミン、１，１２−ドデカ
ンジアミン、エチルホスフィン、１，２−プロピルホス
フィン、１，３−プロピルホスフィン、１，４−ブチル
ホスフィン、ジメルカプトエタン、１，２−ジメルカプ
トプロパン、１，３−ジメルカプトプロパン、１，４−
ジメルカプトブタン、グリセロール、１，２，４−トリ
ヒドロキシブタン、２−ヒドロキシメチル−１，３−プ
ロパンジオール、２−メチル−２−ヒドロキシメチル−
１，３−プロパンジオール、ペンタエリスリトールなど
が挙げられる。これらのなかではエチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオー
ル、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール
が好ましく、エチレングリコール、１，２−プロパンジ
オール、１，３−プロパンジオールがさらに好ましい。
本発明の担体成分を取得するに際して、成分（III−
ａ）と成分（III−ｂ）との反応割合は、前者１００ｇ
に対して後者を１〜５０００ミリモル、好ましくは５〜
５００ミリモル、さらに好ましくは５０〜２５０ミリモ
ルの範囲で選ばれる。成分（III−ａ）と成分（III−
ｂ）とは、通常、窒素またはアルゴンなどの不活性雰囲
気下中で、無溶媒またはベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、シ
クロヘキサンなどの脂肪族あるいは脂環族炭化水素の存
在下、攪拌下または非攪拌下に接触せしめられる。この
接触は、通常０〜３００℃、好ましくは１０〜２００
℃、さらに好ましくは２０〜１５０℃の温度にて１０分
間〜５０時間、好ましくは３０分〜２４時間行うことが
望ましい。なお、こうして得られる本発明の成分（II
I）は、成分（I）および成分（II）との接触に先立ち、
残存（未反応）する成分（III−ｂ）や溶媒を除去して
おくことが望ましい。
【０１１４】本発明のオレフィン重合用触媒は、成分
（I）〜（III）を相互に接触させることによって得るこ
とができるが、各成分の接触手順は特には限定されな
い。例えば、以下の組合わせを採用することができる。 １）成分（I）、（II）と（III）を同時に加える方法。 ２）成分（I）、（II）を接触させ、次に成分（III）を
接触させる方法。 ３）成分（I）と（III）を接触させ、次に成分（II）を
接触させる方法。 ４）成分（II）と（III）を接触させ、次に成分（I）を
接触させる方法。 ５）成分（I）、（II）を接触させたものに、別に成分
（III）、（I）を接触させたものを接触させる方法。 ６）成分（I）、（II）を接触させたものに、別に成分
（III）、（II）を接触させたものを接触させる方法。 ７）成分（I）、（III）を接触させたものに、別に成分
（III）、（II）を接触させたものを接触させる方法。
これらの接触手順のなかでは、１）、２）、３）、４）
が好ましく、２）が最も好ましい。いずれの接触手順を
採用する場合でも、通常は、窒素またはアルゴンなどの
不活性雰囲気中、一般的にはベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素（通常炭素
数は６〜１２）、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、デカン、ドデカン、シクロヘキサンなどの脂肪族
あるいは脂環族炭化水素（通常炭素数５〜１２）等の液
状不活性炭化水素の存在下、攪拌下または非攪拌下に各
成分を接触させる方法が採用される。この接触は、通常
−１００℃〜２００℃、好ましくは−５０℃〜１００℃
の温度にて、１０分〜５０時間、好ましくは１時間〜２
４時間行うことが望ましい。成分（I）〜（III）の接触
に際しては、上記した通り、ある種の成分が可溶な芳香
族炭化水素溶媒と、ある種の成分が不溶ないしは難溶な
脂肪族または脂環族炭化水素溶媒とがいずれも使用可能
である。各成分同士の接触反応を段階的に行う場合にあ
っては、前段で用いた可溶性の芳香族炭化水素溶媒を何
等除去することなく、これをそのまま後段の接触反応の
溶媒に用いてもよい。また、可溶性溶媒を使用した前段
の接触反応後、ある種の成分が不溶もしくは難溶な液状
不活性炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、ドデカン、シクロヘキサンなど
の脂肪族あるいは脂環族炭化水素）を添加して、所望生
成物を固形物として回収した後に、改めて上記不活性炭
化水素溶媒の存在下に後段の接触反応を実施することが
できる。あるいはまた、前段の接触反応で使用した芳香
族炭化水素溶媒の一部または全部を、乾燥等の手段によ
り除去して所望生成物を固形物として取り出した後に、
この所望生成物の後段の接触反応を、上記した不活性炭
化水素溶媒の存在下に実施することも可能である。本発
明では各成分の接触反応を複数回行うことを妨げない。
本発明の成分（I）、成分（II）、成分（III）の使用割
合は、特に限定されないが、以下の範囲が好ましい。成
分（II）が変性アルミニウム化合物である場合、成分
（I）の遷移金属濃度（Ｍｅ）１モルに対して、成分（I
I）は、遷移金属に対するアルミニウムの原子比（Ａｌ
／Ｍｅ）が通常１〜１００，０００、好ましくは５〜１
０００、さらに好ましくは５０〜２００の範囲になる量
で使用される。成分（II）がボランおよび／またはボレ
ートである場合、成分（I）の遷移金属濃度（Ｍｅ）１
モルに対して、成分（II）は、遷移金属に対するホウ素
の原子比（Ｂ／Ｍｅ）が通常０．０１〜１００モル、好
ましくは０．１〜５０モル、さらに好ましくは０．２〜
１０モルの範囲になる量で使用される。成分（III）の
使用量は、成分（I）０．０００１〜５ミリモル当た
り、好ましくは０．００１〜０．５ミリモル当たり、さ
らに好ましくは０．０１〜０．１ミリモル当たり１ｇで
ある。本発明のオレフィン重合用触媒は、成分（I）〜
（III）を前記した接触手順１）〜７）のいずれかで相
互に接触させた後、溶媒を除去することにより固体触媒
として得ることができる。溶媒の除去は、大気下または
減圧下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１５０℃
で、１分〜５０時間、好ましくは１０分〜１０時間で行
うことが望ましい。本発明のオレフィン重合用触媒は、
次の手順で調製することも可能である。 ８）溶媒の存在下に成分（I）と成分（III）を接触さ
せ、溶媒を除去して固体触媒成分とし、重合条件下でこ
の固体触媒成分と成分（II）と接触させる。 ９）溶媒の存在下に成分（II）と成分（III）を接触さ
せ、溶媒を除去して固体触媒成分とし、重合条件下でこ
の固体触媒成分と成分（I）と接触させる。上記８）
９）の接触手順を採用する場合の成分比、接触条件およ
び溶媒除去条件は、前記したところと同様である。
（I）〜（III）を相互に接触させることによって得るこ
とができるが、各成分の接触手順は特には限定されな
い。例えば、以下の組合わせを採用することができる。 １）成分（I）、（II）と（III）を同時に加える方法。 ２）成分（I）、（II）を接触させ、次に成分（III）を
接触させる方法。 ３）成分（I）と（III）を接触させ、次に成分（II）を
接触させる方法。 ４）成分（II）と（III）を接触させ、次に成分（I）を
接触させる方法。 ５）成分（I）、（II）を接触させたものに、別に成分
（III）、（I）を接触させたものを接触させる方法。 ６）成分（I）、（II）を接触させたものに、別に成分
（III）、（II）を接触させたものを接触させる方法。 ７）成分（I）、（III）を接触させたものに、別に成分
（III）、（II）を接触させたものを接触させる方法。
これらの接触手順のなかでは、１）、２）、３）、４）
が好ましく、２）が最も好ましい。いずれの接触手順を
採用する場合でも、通常は、窒素またはアルゴンなどの
不活性雰囲気中、一般的にはベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素（通常炭素
数は６〜１２）、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン、デカン、ドデカン、シクロヘキサンなどの脂肪族
あるいは脂環族炭化水素（通常炭素数５〜１２）等の液
状不活性炭化水素の存在下、攪拌下または非攪拌下に各
成分を接触させる方法が採用される。この接触は、通常
−１００℃〜２００℃、好ましくは−５０℃〜１００℃
の温度にて、１０分〜５０時間、好ましくは１時間〜２
４時間行うことが望ましい。成分（I）〜（III）の接触
に際しては、上記した通り、ある種の成分が可溶な芳香
族炭化水素溶媒と、ある種の成分が不溶ないしは難溶な
脂肪族または脂環族炭化水素溶媒とがいずれも使用可能
である。各成分同士の接触反応を段階的に行う場合にあ
っては、前段で用いた可溶性の芳香族炭化水素溶媒を何
等除去することなく、これをそのまま後段の接触反応の
溶媒に用いてもよい。また、可溶性溶媒を使用した前段
の接触反応後、ある種の成分が不溶もしくは難溶な液状
不活性炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、ドデカン、シクロヘキサンなど
の脂肪族あるいは脂環族炭化水素）を添加して、所望生
成物を固形物として回収した後に、改めて上記不活性炭
化水素溶媒の存在下に後段の接触反応を実施することが
できる。あるいはまた、前段の接触反応で使用した芳香
族炭化水素溶媒の一部または全部を、乾燥等の手段によ
り除去して所望生成物を固形物として取り出した後に、
この所望生成物の後段の接触反応を、上記した不活性炭
化水素溶媒の存在下に実施することも可能である。本発
明では各成分の接触反応を複数回行うことを妨げない。
本発明の成分（I）、成分（II）、成分（III）の使用割
合は、特に限定されないが、以下の範囲が好ましい。成
分（II）が変性アルミニウム化合物である場合、成分
（I）の遷移金属濃度（Ｍｅ）１モルに対して、成分（I
I）は、遷移金属に対するアルミニウムの原子比（Ａｌ
／Ｍｅ）が通常１〜１００，０００、好ましくは５〜１
０００、さらに好ましくは５０〜２００の範囲になる量
で使用される。成分（II）がボランおよび／またはボレ
ートである場合、成分（I）の遷移金属濃度（Ｍｅ）１
モルに対して、成分（II）は、遷移金属に対するホウ素
の原子比（Ｂ／Ｍｅ）が通常０．０１〜１００モル、好
ましくは０．１〜５０モル、さらに好ましくは０．２〜
１０モルの範囲になる量で使用される。成分（III）の
使用量は、成分（I）０．０００１〜５ミリモル当た
り、好ましくは０．００１〜０．５ミリモル当たり、さ
らに好ましくは０．０１〜０．１ミリモル当たり１ｇで
ある。本発明のオレフィン重合用触媒は、成分（I）〜
（III）を前記した接触手順１）〜７）のいずれかで相
互に接触させた後、溶媒を除去することにより固体触媒
として得ることができる。溶媒の除去は、大気下または
減圧下、温度０〜２００℃、好ましくは２０〜１５０℃
で、１分〜５０時間、好ましくは１０分〜１０時間で行
うことが望ましい。本発明のオレフィン重合用触媒は、
次の手順で調製することも可能である。 ８）溶媒の存在下に成分（I）と成分（III）を接触さ
せ、溶媒を除去して固体触媒成分とし、重合条件下でこ
の固体触媒成分と成分（II）と接触させる。 ９）溶媒の存在下に成分（II）と成分（III）を接触さ
せ、溶媒を除去して固体触媒成分とし、重合条件下でこ
の固体触媒成分と成分（I）と接触させる。上記８）
９）の接触手順を採用する場合の成分比、接触条件およ
び溶媒除去条件は、前記したところと同様である。
【０１１５】本発明のポリオレフィン製造法によれば、
上記した触媒の存在下に、オレフィン類が単独重合又は
共重合せしめられる。本発明でいうオレフィン類には、
α−オレフィン類、環状オレフィン類、ジエン類、トリ
エン類及びスチレン類似体が包含される。α−オレフィ
ン類には、炭素数２〜１２、好ましくは２〜８のものが
包含され、その具体例には、エチレン、プロピレン、ブ
テン−１、ヘキセン−１，４−メチルペンテン−１等が
例示される。α−オレフィン類は、本発明の触媒成分を
使用して単独重合させることができる他、２種類以上の
α−オレフィンを共重合させることも可能であり、その
共重合は交互共重合、ランダム共重合、ブロック共重合
のいずれであっても差し支えない。α−オレフィン類の
共重合には、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン
−１、エチレンとヘキセン−１、エチレンと４−メチル
ペンテン−１のように、エチレンと炭素数３〜１２、好
ましくは３〜８のα−オレフィンとを共重合する場合、
プロピレンとブテン−１、プロピレンと４−メチルペン
テン−１、プロピレンと４−メチルブテン−１、プロピ
レンとヘキセン−１、プロピレンとオクテン−１のよう
に、プロピレンと炭素数３〜１２、好ましくは３〜８の
α−オレフィンとを共重合する場合が含まれる。エチレ
ン又はプロピレンと他のα−オレフィンとを共重合させ
る場合、当該他α−オレフィンの量は全モノマーの９０
モル％以下の範囲で任意に選ぶことができるが、一般的
には、エチレン共重合体にあっては、４０モル％以下、
好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは２０モル
％以下であり、プロピレン共重合体にあっては、１〜９
０モル％、好ましくは５〜９０モル％、さらに好ましく
は１０〜７０モル％の範囲で選ばれる。環状オレフィン
としては、炭素数３〜２４、好ましくは３〜１８のもの
が本発明で使用可能であり、これには例えば、シクロペ
ンテン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセ
ン、３−メチルシクロヘキセン、シクロオクテン、シク
ロデセン、シクロドデセン、テトラシクロデセン、オク
タシクロデセン、ジシクロペンタジエン、ノルボルネ
ン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−
ノルボルネン、５−イソブチル−２−ノルボルネン、
５，６−ジメチル−２−ノルボルネン、５，５，６−ト
リメチル−２−ノルボルネン、エチリデンノルボルネン
などが包含される。環状オレフィンは前記のα−オレフ
ィンと共重合せしめるのが通例であるが、その場合、環
状オレフィンの量は共重合体の５０モル％以下、通常は
１〜５０モル％、好ましくは２〜５０モル％の範囲にあ
る。本発明で使用可能なジエン類及びトリエン類は、次
の一般式で表すことができる鎖式ポリエンである。 ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ）n（ＣＨＣＨ2）m ここで、ｍは１又は２、ｎは０〜２０、好ましくは２〜
２０の数を示す。具体的には、ブタジエン、１，４−ヘ
キサジエン、１，５−ヘキサジエン、１，９−デカジエ
ン、１，１３−テトラデカジエン、２，６−ジメチル−
１，５−ヘプタジエン、２−メチル−２，７−オクタジ
エン、２，７−ジメチル−２，６−オクタジエン、１，
５，９−デカトリエンなどが例示される。本発明で鎖式
ジエン又はトリエンを使用する場合、通常は上記したα
−オレフィンと共重合させるのが通例であるが、その共
重合体中の鎖式ジエン及び／又はトリエンの含有量は、
一般に、０．１〜５０モル％、好ましくは０．２〜１０
モル％の範囲にある。本発明で使用可能なスチレン類似
体は、スチレン及びスチレン誘導体であって、その誘導
体としては、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、１，１−
ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノエ
チルスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノエチルス
チレンなどを例示することができる。重合反応は前記し
た触媒の存在下、スラリー重合、溶液重合、又は気相重
合にて行うことができる。特にスラリー重合又は気相重
合が好ましく、実質的に酸素、水等を断った状態で、イ
ソブタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の
脂環族炭化水素等から選ばれる不活性炭化水素溶媒の存
在下または不存在下で、オレフィンを重合させる。この
時の重合条件には、温度２０〜２００℃、好ましくは５
０〜１００℃、圧力０．１ＭＰａ（常圧）〜７ＭＰａ・
Ｇ（７０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ）、好ましくは０．１ＭＰａ
（常圧）〜２ＭＰａ・Ｇ（２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ）の範囲
にあり、重合時間としては５分〜１０時間、好ましくは
５分〜５時間が採用されるのが普通である。生成重合体
の分子量は、重合温度、触媒のモル比等の重合条件を変
えることによってもある程度調節可能であるが、重合反
応系に水素を添加することでより効果的に分子量調節を
行うことができる。また、重合系中に、水分除去を目的
とした成分、いわゆる、スカベンジャーを加えても何ら
支障なく重合反応を実施することができる。なお、かか
るスカベンジャーとしては、トリメチルアルミニウム、
トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム
などの有機アルミニウム、前記変性有機アルミニウム化
合物、分岐アルキルを含有する変性有機アルミニウムな
どである。水素濃度、モノマー量、重合圧力、重合温度
等の重合条件が互いに異なる２段階以上の多段階重合方
式も、本発明のポリオレフィン製造法に支障なく適用す
ることができる。
上記した触媒の存在下に、オレフィン類が単独重合又は
共重合せしめられる。本発明でいうオレフィン類には、
α−オレフィン類、環状オレフィン類、ジエン類、トリ
エン類及びスチレン類似体が包含される。α−オレフィ
ン類には、炭素数２〜１２、好ましくは２〜８のものが
包含され、その具体例には、エチレン、プロピレン、ブ
テン−１、ヘキセン−１，４−メチルペンテン−１等が
例示される。α−オレフィン類は、本発明の触媒成分を
使用して単独重合させることができる他、２種類以上の
α−オレフィンを共重合させることも可能であり、その
共重合は交互共重合、ランダム共重合、ブロック共重合
のいずれであっても差し支えない。α−オレフィン類の
共重合には、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン
−１、エチレンとヘキセン−１、エチレンと４−メチル
ペンテン−１のように、エチレンと炭素数３〜１２、好
ましくは３〜８のα−オレフィンとを共重合する場合、
プロピレンとブテン−１、プロピレンと４−メチルペン
テン−１、プロピレンと４−メチルブテン−１、プロピ
レンとヘキセン−１、プロピレンとオクテン−１のよう
に、プロピレンと炭素数３〜１２、好ましくは３〜８の
α−オレフィンとを共重合する場合が含まれる。エチレ
ン又はプロピレンと他のα−オレフィンとを共重合させ
る場合、当該他α−オレフィンの量は全モノマーの９０
モル％以下の範囲で任意に選ぶことができるが、一般的
には、エチレン共重合体にあっては、４０モル％以下、
好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは２０モル
％以下であり、プロピレン共重合体にあっては、１〜９
０モル％、好ましくは５〜９０モル％、さらに好ましく
は１０〜７０モル％の範囲で選ばれる。環状オレフィン
としては、炭素数３〜２４、好ましくは３〜１８のもの
が本発明で使用可能であり、これには例えば、シクロペ
ンテン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセ
ン、３−メチルシクロヘキセン、シクロオクテン、シク
ロデセン、シクロドデセン、テトラシクロデセン、オク
タシクロデセン、ジシクロペンタジエン、ノルボルネ
ン、５−メチル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−
ノルボルネン、５−イソブチル−２−ノルボルネン、
５，６−ジメチル−２−ノルボルネン、５，５，６−ト
リメチル−２−ノルボルネン、エチリデンノルボルネン
などが包含される。環状オレフィンは前記のα−オレフ
ィンと共重合せしめるのが通例であるが、その場合、環
状オレフィンの量は共重合体の５０モル％以下、通常は
１〜５０モル％、好ましくは２〜５０モル％の範囲にあ
る。本発明で使用可能なジエン類及びトリエン類は、次
の一般式で表すことができる鎖式ポリエンである。 ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ）n（ＣＨＣＨ2）m ここで、ｍは１又は２、ｎは０〜２０、好ましくは２〜
２０の数を示す。具体的には、ブタジエン、１，４−ヘ
キサジエン、１，５−ヘキサジエン、１，９−デカジエ
ン、１，１３−テトラデカジエン、２，６−ジメチル−
１，５−ヘプタジエン、２−メチル−２，７−オクタジ
エン、２，７−ジメチル−２，６−オクタジエン、１，
５，９−デカトリエンなどが例示される。本発明で鎖式
ジエン又はトリエンを使用する場合、通常は上記したα
−オレフィンと共重合させるのが通例であるが、その共
重合体中の鎖式ジエン及び／又はトリエンの含有量は、
一般に、０．１〜５０モル％、好ましくは０．２〜１０
モル％の範囲にある。本発明で使用可能なスチレン類似
体は、スチレン及びスチレン誘導体であって、その誘導
体としては、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、１，１−
ジフェニルエチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−アミノエ
チルスチレン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノエチルス
チレンなどを例示することができる。重合反応は前記し
た触媒の存在下、スラリー重合、溶液重合、又は気相重
合にて行うことができる。特にスラリー重合又は気相重
合が好ましく、実質的に酸素、水等を断った状態で、イ
ソブタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪
族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の
脂環族炭化水素等から選ばれる不活性炭化水素溶媒の存
在下または不存在下で、オレフィンを重合させる。この
時の重合条件には、温度２０〜２００℃、好ましくは５
０〜１００℃、圧力０．１ＭＰａ（常圧）〜７ＭＰａ・
Ｇ（７０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ）、好ましくは０．１ＭＰａ
（常圧）〜２ＭＰａ・Ｇ（２０ｋｇ／ｃｍ2Ｇ）の範囲
にあり、重合時間としては５分〜１０時間、好ましくは
５分〜５時間が採用されるのが普通である。生成重合体
の分子量は、重合温度、触媒のモル比等の重合条件を変
えることによってもある程度調節可能であるが、重合反
応系に水素を添加することでより効果的に分子量調節を
行うことができる。また、重合系中に、水分除去を目的
とした成分、いわゆる、スカベンジャーを加えても何ら
支障なく重合反応を実施することができる。なお、かか
るスカベンジャーとしては、トリメチルアルミニウム、
トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム
などの有機アルミニウム、前記変性有機アルミニウム化
合物、分岐アルキルを含有する変性有機アルミニウムな
どである。水素濃度、モノマー量、重合圧力、重合温度
等の重合条件が互いに異なる２段階以上の多段階重合方
式も、本発明のポリオレフィン製造法に支障なく適用す
ることができる。
【０１１６】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるもので
はない。 ［変性有機アルミニウム化合物の調製］硫酸銅５水塩１
３ｇを容量３００ｍｌの電磁誘導撹拌機付き三ツ口フラ
スコに入れ、トルエン５０ｍｌで懸濁させた。次いで濃
度１ｍｍｏｌ／ｍｌのトリメチルアルミニウムの溶液１
５０ｍｌを０℃の温度条件下に前記懸濁液に２時間かけ
て滴下し、滴下終了後２５℃に昇温しその温度で２４時
間反応させた。しかる後反応物を濾過し反応生成物を含
有する液中のトルエンを除去して、白色結晶状メチルア
ルモキサン４ｇを得た。 実施例１ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ、細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ、見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール３．４ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
および１２０℃で２時間攪拌した。その後、２００℃で
４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理した
ＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）５００ｍｌのフラスコに精製し
たトルエン１５０ｍｌ、次に１，３−プロパンジオール
処理したＳｉＯ2３０ｇを加え、さらにメチルアルモキ
サンのトルエン溶液（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍ
ｏｌ／ｍｌ）を６０ｍｌ加えて、室温で２時間攪拌後、
窒素ブローにて乾燥し流動性のある粉体とした。３００
ｍｌのフラスコに精製したトルエン５０ｍｌを加え、窒
素下で上記で得られた担体成分１０ｇを入れ、ついでビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドの
トルエン溶液（０．０５ｍｍｏｌ／ｍｌ）１０ｍｌを加
え、室温で２時間攪拌した。その後窒素ブローおよび減
圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分を得た。 （気相重合）内径１０ｃｍ、高さ１００ｃｍのたて型流
動床反応器にガス循環ブロアー、熱交換器を備えたガス
循環系を有する連続気相重合装置を用いた。十分に乾燥
したたて型流動床反応器に、種ポリマーを約１．８ｋｇ
を入れ、気相中の１−ヘキセン／エチレンモル比を０．
０３、水素／エチレンモル比を０．０００２、窒素を３
０モル％になるように調節しながら各々のガスを供給
し、全圧を０．８ＭＰａＧに保ちながらブロワーにより
系内のガスを循環させた。ガス温度を７５℃に調節し、
スカベンジャーとしてトリエチルアルミニウム（ＴＥ
Ａ）を０．０４ｇ／ｈ、触媒を０．２５ｇ／ｈフィード
し、生成ポリマーを間欠的に抜き出しながら４日間の連
続重合を行った。触媒効率は２１０，０００ｇ重合体／
ｇＺｒときわめて高活性であった。生成したエチレン共
重合体は、メルトフローレイト（ＭＦＲ）３．０ｇ／１
０ｍｉｎ，（ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８−６５Ｔ準拠、条件
１９０℃、荷重２．１６ｋｇ）、密度０．９１７５ｇ／
ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／ｃｍ3、平均粒径６
７８μｍの形状の丸い粒状物であった。また、４日間の
連続重合後、流動層内壁とガス循環ライン内壁へのポリ
マーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体を１８０℃で６５ｍｍφ
押し出し機を用いてＴダイにてフィルム成型を行い、厚
さ９０μｍのフィルムを得た。このフィルムの１０ｃｍ
×１０ｃｍ中の５０μｍ以上のゲルの個数を肉眼で計測
したところゲルは１０個であった。固体触媒成分の内容
および重合結果は表１に示した。 比較例１ 実施例１において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例１と同様に行
った。触媒効率は２２０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲが３．２ｇ／１０ｍ
ｉｎ、密度が０．９１７２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度
０．４８ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８０μｍの形状の丸い
粒状物であった。４日間の連続重合後流動層内壁とガス
循環ライン内壁へのポリマーの付着が少量あり、フィル
ム成型品中のゲルの数は７５個と多くなった。固体触媒
成分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例２ 実施例１において２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2の
代わりに６００℃で５時間焼成したシリカを用いること
を除いては実施例１と同様に行った。触媒効率は２５
０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成したエチレン共重合
体は、ＭＦＲが３．９ｇ／１０ｍｉｎ、密度が０．９１
７０ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４８ｇ／ｃｍ3、平
均粒径６８３μｍの形状の丸い粒状物であった。流動層
内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無かっ
た。またゲルの数は２３個と少なかった。固体触媒成分
の内容および重合結果は表１に示した。 比較例２ 実施例２において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例１と同様に行
った。触媒効率は２５５，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲが３．８ｇ／１０ｍ
ｉｎ、密度が０．９１８２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度
０．４７ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８５μｍの形状の丸い
粒状物であった。４日間の連続重合後、流動層内壁とガ
ス循環ライン内壁へのポリマーの付着は多量にあり、ま
たゲルの数は４０個であった。固体触媒成分の内容およ
び重合結果は表１に示した。
るが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるもので
はない。 ［変性有機アルミニウム化合物の調製］硫酸銅５水塩１
３ｇを容量３００ｍｌの電磁誘導撹拌機付き三ツ口フラ
スコに入れ、トルエン５０ｍｌで懸濁させた。次いで濃
度１ｍｍｏｌ／ｍｌのトリメチルアルミニウムの溶液１
５０ｍｌを０℃の温度条件下に前記懸濁液に２時間かけ
て滴下し、滴下終了後２５℃に昇温しその温度で２４時
間反応させた。しかる後反応物を濾過し反応生成物を含
有する液中のトルエンを除去して、白色結晶状メチルア
ルモキサン４ｇを得た。 実施例１ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ、細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ、見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール３．４ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
および１２０℃で２時間攪拌した。その後、２００℃で
４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理した
ＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）５００ｍｌのフラスコに精製し
たトルエン１５０ｍｌ、次に１，３−プロパンジオール
処理したＳｉＯ2３０ｇを加え、さらにメチルアルモキ
サンのトルエン溶液（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍ
ｏｌ／ｍｌ）を６０ｍｌ加えて、室温で２時間攪拌後、
窒素ブローにて乾燥し流動性のある粉体とした。３００
ｍｌのフラスコに精製したトルエン５０ｍｌを加え、窒
素下で上記で得られた担体成分１０ｇを入れ、ついでビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドの
トルエン溶液（０．０５ｍｍｏｌ／ｍｌ）１０ｍｌを加
え、室温で２時間攪拌した。その後窒素ブローおよび減
圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分を得た。 （気相重合）内径１０ｃｍ、高さ１００ｃｍのたて型流
動床反応器にガス循環ブロアー、熱交換器を備えたガス
循環系を有する連続気相重合装置を用いた。十分に乾燥
したたて型流動床反応器に、種ポリマーを約１．８ｋｇ
を入れ、気相中の１−ヘキセン／エチレンモル比を０．
０３、水素／エチレンモル比を０．０００２、窒素を３
０モル％になるように調節しながら各々のガスを供給
し、全圧を０．８ＭＰａＧに保ちながらブロワーにより
系内のガスを循環させた。ガス温度を７５℃に調節し、
スカベンジャーとしてトリエチルアルミニウム（ＴＥ
Ａ）を０．０４ｇ／ｈ、触媒を０．２５ｇ／ｈフィード
し、生成ポリマーを間欠的に抜き出しながら４日間の連
続重合を行った。触媒効率は２１０，０００ｇ重合体／
ｇＺｒときわめて高活性であった。生成したエチレン共
重合体は、メルトフローレイト（ＭＦＲ）３．０ｇ／１
０ｍｉｎ，（ＡＳＴＭ−Ｄ１２３８−６５Ｔ準拠、条件
１９０℃、荷重２．１６ｋｇ）、密度０．９１７５ｇ／
ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／ｃｍ3、平均粒径６
７８μｍの形状の丸い粒状物であった。また、４日間の
連続重合後、流動層内壁とガス循環ライン内壁へのポリ
マーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体を１８０℃で６５ｍｍφ
押し出し機を用いてＴダイにてフィルム成型を行い、厚
さ９０μｍのフィルムを得た。このフィルムの１０ｃｍ
×１０ｃｍ中の５０μｍ以上のゲルの個数を肉眼で計測
したところゲルは１０個であった。固体触媒成分の内容
および重合結果は表１に示した。 比較例１ 実施例１において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例１と同様に行
った。触媒効率は２２０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲが３．２ｇ／１０ｍ
ｉｎ、密度が０．９１７２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度
０．４８ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８０μｍの形状の丸い
粒状物であった。４日間の連続重合後流動層内壁とガス
循環ライン内壁へのポリマーの付着が少量あり、フィル
ム成型品中のゲルの数は７５個と多くなった。固体触媒
成分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例２ 実施例１において２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2の
代わりに６００℃で５時間焼成したシリカを用いること
を除いては実施例１と同様に行った。触媒効率は２５
０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成したエチレン共重合
体は、ＭＦＲが３．９ｇ／１０ｍｉｎ、密度が０．９１
７０ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４８ｇ／ｃｍ3、平
均粒径６８３μｍの形状の丸い粒状物であった。流動層
内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無かっ
た。またゲルの数は２３個と少なかった。固体触媒成分
の内容および重合結果は表１に示した。 比較例２ 実施例２において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例１と同様に行
った。触媒効率は２５５，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲが３．８ｇ／１０ｍ
ｉｎ、密度が０．９１８２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度
０．４７ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８５μｍの形状の丸い
粒状物であった。４日間の連続重合後、流動層内壁とガ
ス循環ライン内壁へのポリマーの付着は多量にあり、ま
たゲルの数は４０個であった。固体触媒成分の内容およ
び重合結果は表１に示した。
【０１１７】実施例３ （固体触媒成分の調製）５００ｍｌのフラスコに精製し
たトルエン１５０ｍｌ、ビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリドのトルエン溶液（０．０５ｍｍｏｌ／ｍ
ｌ）３０ｍｌおよびメチルアルモキサンのトルエン溶液
（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍｏｌ／ｍｌ）を６０
ｍｌ加えた。添加終了後、２５℃で３時間攪拌反応させ
た。この溶液に実施例１と同様の方法で調製した１，３
−プロパンジオール処理した ＳｉＯ2３０ｇを加えて２
５℃を保ち５時間攪拌反応させた。その後窒素ブローお
よび減圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分を回収し
た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２４０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ４．０ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８０ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４８ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８３μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は１２個と極めて少なかった。固体
触媒成分の内容および重合結果は表１に示した。 比較例３ 実施例３において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例３と同様に行
った。触媒効率は２４０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高
活性であった。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ
４．１ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．９１９０ｇ／ｃｍ3で
あり、かさ密度０．４６ｇ／ｃｍ3、平均粒径６７０μ
ｍの形状の丸い粒状物であった。また、４日間の連続重
合後、流動層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの
付着が少量あり、ゲルの数は９０個と極めて多かった。
固体触媒成分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例４ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径５０μ
ｍ、表面積２３０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４２ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，４−ブタンジオール４．６ｇ（１．７ｍｍｏｌ／ｇ
ＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間攪
拌した後に１２０℃で２時間攪拌した後に２５０℃で４
時間真空乾燥して反応生成物と未反応１，４−ブタンジ
オールを除去して、１，４−ブタンジオール処理したＳ
ｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
４−ブタンジオール処理したＳｉＯ2を用いることを除
いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２３０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ４．３ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４９ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８７μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例５ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−ジアミノプロパン４．０ｇ（１．８ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時間攪
拌し、1１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４時間
真空乾燥して１，３−ジアミノプロパン処理したＳｉＯ
2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−ジアミノプロパン処理したＳｉＯ2を用いることを
除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２００，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．５ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１９５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４７ｇ／ｃｍ3、平均粒径６６０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例６ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−ジメルカプトプロパン５．８ｇ（１．８ｍｍｏ
ｌ／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時
間攪拌し、1１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４
時間真空乾燥して１，３−ジメルカプトプロパン処理し
たＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−ジメルカプトプロパン処理したＳｉＯ2を用いるこ
とを除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１９０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．３ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４６ｇ／ｃｍ3、平均粒径６４０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２８個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。
たトルエン１５０ｍｌ、ビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリドのトルエン溶液（０．０５ｍｍｏｌ／ｍ
ｌ）３０ｍｌおよびメチルアルモキサンのトルエン溶液
（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍｏｌ／ｍｌ）を６０
ｍｌ加えた。添加終了後、２５℃で３時間攪拌反応させ
た。この溶液に実施例１と同様の方法で調製した１，３
−プロパンジオール処理した ＳｉＯ2３０ｇを加えて２
５℃を保ち５時間攪拌反応させた。その後窒素ブローお
よび減圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分を回収し
た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２４０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ４．０ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８０ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４８ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８３μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は１２個と極めて少なかった。固体
触媒成分の内容および重合結果は表１に示した。 比較例３ 実施例３において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例３と同様に行
った。触媒効率は２４０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高
活性であった。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ
４．１ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．９１９０ｇ／ｃｍ3で
あり、かさ密度０．４６ｇ／ｃｍ3、平均粒径６７０μ
ｍの形状の丸い粒状物であった。また、４日間の連続重
合後、流動層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの
付着が少量あり、ゲルの数は９０個と極めて多かった。
固体触媒成分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例４ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径５０μ
ｍ、表面積２３０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４２ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，４−ブタンジオール４．６ｇ（１．７ｍｍｏｌ／ｇ
ＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間攪
拌した後に１２０℃で２時間攪拌した後に２５０℃で４
時間真空乾燥して反応生成物と未反応１，４−ブタンジ
オールを除去して、１，４−ブタンジオール処理したＳ
ｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
４−ブタンジオール処理したＳｉＯ2を用いることを除
いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２３０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ４．３ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４９ｇ／ｃｍ3、平均粒径６８７μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例５ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−ジアミノプロパン４．０ｇ（１．８ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時間攪
拌し、1１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４時間
真空乾燥して１，３−ジアミノプロパン処理したＳｉＯ
2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−ジアミノプロパン処理したＳｉＯ2を用いることを
除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２００，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．５ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１９５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４７ｇ／ｃｍ3、平均粒径６６０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例６ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−ジメルカプトプロパン５．８ｇ（１．８ｍｍｏ
ｌ／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時
間攪拌し、1１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４
時間真空乾燥して１，３−ジメルカプトプロパン処理し
たＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−ジメルカプトプロパン処理したＳｉＯ2を用いるこ
とを除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１９０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．３ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１８５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４６ｇ／ｃｍ3、平均粒径６４０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は２８個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。
【０１１８】実施例７ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−プロピルホスフィン５．６ｇ（１．８ｍｍｏｌ
／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時間
攪拌し、１１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４時
間真空乾燥して１，３−プロピルホスフィン処理したＳ
ｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−プロピルホスフィン処理したＳｉＯ2を用いること
を除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１８０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．２ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１７５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４５ｇ／ｃｍ3、平均粒径６４０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は３０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例８ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（デビソン社製＃
９５２：平均粒径９２μｍ、表面積３００ｍ3／ｇ，細
孔容積１．７０ｃｍ3／ｇ，見掛比重０．３０ｃｍ3／
ｇ）３０ｇを加え、次に１，３−プロパンジオール３．
０ｇ（１．３ｍｍｏｌ／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴
下して１１０℃で４時間攪拌した後に１２０℃で２時間
攪拌した。その後、２００℃で４時間真空乾燥して１，
３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）５００ｍｌのフラスコに精製し
たトルエン１００ｍｌ、エチレンビス（インデニル）ジ
ルコニウムジクロリドのトルエン溶液（０．０５ｍｍｏ
ｌ／ｍｌ）４５ｍｌおよびメチルアルモキサンのトルエ
ン溶液（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍｏｌ／ｍｌ）
を９０ｍｌ加えた。添加終了後、２５℃で３時間攪拌反
応させた。次にこの溶液に１，３−プロパンジオール処
理した ＳｉＯ2３０ｇを加えて２５℃を保ち２時間攪拌
を継続後、２５℃で３時間攪拌反応させた。その後窒素
ブローおよび減圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分
を回収した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１６０，０００ｇ重合体／ｇＺｒで、生成した
エチレン共重合体は、ＭＦＲ３．２ｇ／１０ｍｉｎ、密
度０．９１２４ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．３８ｇ
／ｃｍ3、平均粒径６３０μｍの形状の丸い粒状物であ
った。また、４日間の連続重合後、流動層内壁とガス循
環ライン内壁へのポリマーの付着は無かった。またゲル
の数は１５個と少なかった。固体触媒成分の内容および
重合結果は表１に示した。 比較例４ 実施例８において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例８と同様に行
った。触媒効率は１６５，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．５ｇ／１０ｍｉ
ｎ、密度０．９２００ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．
３５ｇ／ｃｍ３、平均粒径６２０μｍの形状の丸い粒状
物であった。また、４日間の連続重合後、流動層内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数
は８０個と極めて多かった。固体触媒成分の内容および
重合結果は表１に示した。
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）３０ｇを加え、次に
１，３−プロピルホスフィン５．６ｇ（１．８ｍｍｏｌ
／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して８０℃で４時間
攪拌し、１１５℃で２時間攪拌した後に１５０℃で４時
間真空乾燥して１，３−プロピルホスフィン処理したＳ
ｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）実施例３において１，３−プロ
パンジオール処理したＳｉＯ2の代わりに、上記の１，
３−プロピルホスフィン処理したＳｉＯ2を用いること
を除いては実施例３と同様に固体触媒を調製した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１８０，０００ｇ重合体／ｇＺｒと高活性であ
った。生成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．２ｇ／
１０ｍｉｎ、密度０．９１７５ｇ／ｃｍ3であり、かさ
密度０．４５ｇ／ｃｍ3、平均粒径６４０μｍの形状の
丸い粒状物であった。また、４日間の連続重合後、流動
層内壁とガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無か
った。またゲルの数は３０個と少なかった。固体触媒成
分の内容および重合結果は表１に示した。 実施例８ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（デビソン社製＃
９５２：平均粒径９２μｍ、表面積３００ｍ3／ｇ，細
孔容積１．７０ｃｍ3／ｇ，見掛比重０．３０ｃｍ3／
ｇ）３０ｇを加え、次に１，３−プロパンジオール３．
０ｇ（１．３ｍｍｏｌ／ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴
下して１１０℃で４時間攪拌した後に１２０℃で２時間
攪拌した。その後、２００℃で４時間真空乾燥して１，
３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）５００ｍｌのフラスコに精製し
たトルエン１００ｍｌ、エチレンビス（インデニル）ジ
ルコニウムジクロリドのトルエン溶液（０．０５ｍｍｏ
ｌ／ｍｌ）４５ｍｌおよびメチルアルモキサンのトルエ
ン溶液（濃度；Ａｌ原子にして２．５ｍｍｏｌ／ｍｌ）
を９０ｍｌ加えた。添加終了後、２５℃で３時間攪拌反
応させた。次にこの溶液に１，３−プロパンジオール処
理した ＳｉＯ2３０ｇを加えて２５℃を保ち２時間攪拌
を継続後、２５℃で３時間攪拌反応させた。その後窒素
ブローおよび減圧下で溶媒を除去し、固体状の触媒成分
を回収した。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は１６０，０００ｇ重合体／ｇＺｒで、生成した
エチレン共重合体は、ＭＦＲ３．２ｇ／１０ｍｉｎ、密
度０．９１２４ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．３８ｇ
／ｃｍ3、平均粒径６３０μｍの形状の丸い粒状物であ
った。また、４日間の連続重合後、流動層内壁とガス循
環ライン内壁へのポリマーの付着は無かった。またゲル
の数は１５個と少なかった。固体触媒成分の内容および
重合結果は表１に示した。 比較例４ 実施例８において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理を行なわないことを除いては実施例８と同様に行
った。触媒効率は１６５，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生
成したエチレン共重合体は、ＭＦＲ３．５ｇ／１０ｍｉ
ｎ、密度０．９２００ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．
３５ｇ／ｃｍ３、平均粒径６２０μｍの形状の丸い粒状
物であった。また、４日間の連続重合後、流動層内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数
は８０個と極めて多かった。固体触媒成分の内容および
重合結果は表１に示した。
【０１１９】実施例９ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）１５ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール１．７ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
攪拌した後に１２０℃で２時間攪拌した。その後２００
℃で４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理
したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）特願平１０−１８４４８２の実
施例1にしたがって下記化合物（Ａ）を調製した。すな
わち、窒素雰囲気下、２００ｃｃの三つ口フラスコに精
製トルエン２０ｍｌを加え、次いで１ｍｍｏｌのＺｒ
（０Ｂｕ）4に８ｍｍｏｌのインデンを加えて９０℃に
加熱した。この溶液に８ｍｍｏｌの希釈したトリイソブ
チルアルミニウムのトルエン溶液を１００分かけて加
え、さらに９０℃で４時間撹拌した。この溶液を４０℃
に保ち、オイルポンプを用いて低沸点物を除いた。得ら
れた油状の液体をさらに高真空ラインを用いて１．３３
×１０-4Ｐａ程度の減圧度にし、減圧処理して固体物を
得た。この固体にペンタン２０ｍｌを加えよく攪拌した
後、−７８℃に冷却し、茶褐色の液体と沈殿物が得られ
た。冷やした状態ですばやく遠心分離装置にかけ、沈殿
部と溶液部を分けた。沈殿部に再度ペンタンを加え、冷
却、遠心分離操作を行い、黄色い固体物を得た。この固
体にトルエンを加え６０℃で溶解させ飽和状態とした。
−３０℃で静置することにより、０．４４ｇの黄色の結
晶を得た。
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）１５ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール１．７ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
攪拌した後に１２０℃で２時間攪拌した。その後２００
℃で４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理
したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）特願平１０−１８４４８２の実
施例1にしたがって下記化合物（Ａ）を調製した。すな
わち、窒素雰囲気下、２００ｃｃの三つ口フラスコに精
製トルエン２０ｍｌを加え、次いで１ｍｍｏｌのＺｒ
（０Ｂｕ）4に８ｍｍｏｌのインデンを加えて９０℃に
加熱した。この溶液に８ｍｍｏｌの希釈したトリイソブ
チルアルミニウムのトルエン溶液を１００分かけて加
え、さらに９０℃で４時間撹拌した。この溶液を４０℃
に保ち、オイルポンプを用いて低沸点物を除いた。得ら
れた油状の液体をさらに高真空ラインを用いて１．３３
×１０-4Ｐａ程度の減圧度にし、減圧処理して固体物を
得た。この固体にペンタン２０ｍｌを加えよく攪拌した
後、−７８℃に冷却し、茶褐色の液体と沈殿物が得られ
た。冷やした状態ですばやく遠心分離装置にかけ、沈殿
部と溶液部を分けた。沈殿部に再度ペンタンを加え、冷
却、遠心分離操作を行い、黄色い固体物を得た。この固
体にトルエンを加え６０℃で溶解させ飽和状態とした。
−３０℃で静置することにより、０．４４ｇの黄色の結
晶を得た。
【化１０３】 この化合物の1Ｈ−ＮＭＲのデータを以下に示す。1 Ｈ−ＮＭＲ、（BRUKER製600mHz）（重溶媒＝C6D6、濃
度、ケミカルシフト（TMS）室温）：7.4（ｄ、1H）、7.3（ｄ、
1H）、7.1（ｄ、1H）、7.0（ｔ、1H）、6.9（ｔ、1
H）、6.8（1H）、6.8（1H）、6.8（1H）、6.8（1H）、
6.8（1H）、6.7（ｔ、1H）、6.7（ｔ、1H）5.8（ｓ、1
H）、5.5（ｓ、1H）、5.4（ｓ、1H）、5.1（ｓ、1H）、
4.6（ｔ、1H）、4.3（ｔ、1H）、3.5（d,d、1H）、2.9
（d,d、1H）、2.4（ｍ、1H）、2.2（ｍ、1H）、1.4
（ｄ、3H）、1.4（ｄ、3H）、1.3（ｄ、3H）、1.3
（ｄ、3H）、0.8（d,d、1H）、0.6（d,d、1H）、0.6
（d,d、1H）、0.4（d,d,t、1H）、0.3（d,d、1H）、0.0
（ｄ、1H）、-2.2（ｓ、1H） Ｎ2下１００ｍｌフラスコに上記化合物（Ａ）のＺｒあ
たり０．４ｍｍｏｌを採取し、５ｍｌのトルエンを加
え、トルエン溶液とした。ついで濃度１ｍｍｏｌ／ｍｌ
（Ａｌ原子モル数）のメチルアルミノキサン溶液 ４０
ｍｌを加えて室温で１時間攪拌した。２００ｍｌフラス
コに上記１，３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2１
０ｇを加え、上記の溶液の全量を加え、窒素ブローおよ
び減圧下で溶媒を除去して流動性のある固体触媒成分を
得た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２８０，０００ｇ重合体／ｇＺｒときわめて高
活性であった。生成したエチレン共重合体は、メルトフ
ローレイト（ＭＦＲ）３．８ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．
９１８８ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／ｃ
ｍ3、平均粒径７２０μｍの形状の丸い粒状物であっ
た。また、４日間の連続重合後、オートクレーブ内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体をＴダイ成形によりフィ
ルムを得た。１０ｃｍ×１０ｃｍ×９０μｍのフィルム
中のゲルは８個であった。固体触媒成分の内容および重
合結果は表１に示した。 比較例５ 実施例９において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理のないことを除いては実施例９と同様に行った。
触媒効率は２６０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成した
エチレン共重合体は、ＭＦＲ３．９ｇ／１０ｍｉｎ、密
度０．９１９０ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４７ｇ
／ｃｍ３、平均粒径６９０μｍの形状の丸い粒状物であ
った。また、４日間の連続重合後、流動床内壁とガス循
環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数は３０
個であった。固体触媒成分の内容および重合結果は表１
に示した。 実施例１０ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）１５ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール１．７ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
攪拌した後に１２０℃で２時間攪拌した。その後２００
℃で４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理
したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）特願平１１−３６８４６７の実
施例１にしたがって下記化合物（Ｂ）を調製した。すな
わち窒素雰囲気下、１００ｍｌの２口フラスコに精製し
た脱水トルエン１０ｍｌを加え、次いで実施例７で調製
した化合物(Ａ)１ｍｍｏｌおよび１０ｍｍｏｌの９−Ｂ
ＢＮ（９−ボラビシシクロ[３．３．１]ノナン）を室温
で加え、９０℃に加熱し４時間撹拌した。この溶液をの
1Ｈ−ＮＭＲを測定することにより、上記化合物（Ｂ）
が生成していることを確認した。1 Ｈ−ＮＭＲ、（JEOL製400mHz）（重溶媒＝C6D6、ケミカルシ
フト（テトラメチルシラン=0ppm）室温）：6.8〜7.5（12H）、5.0〜
6.2（6H）、0〜4（18H）、−2.7（s、1H）
度、ケミカルシフト（TMS）室温）：7.4（ｄ、1H）、7.3（ｄ、
1H）、7.1（ｄ、1H）、7.0（ｔ、1H）、6.9（ｔ、1
H）、6.8（1H）、6.8（1H）、6.8（1H）、6.8（1H）、
6.8（1H）、6.7（ｔ、1H）、6.7（ｔ、1H）5.8（ｓ、1
H）、5.5（ｓ、1H）、5.4（ｓ、1H）、5.1（ｓ、1H）、
4.6（ｔ、1H）、4.3（ｔ、1H）、3.5（d,d、1H）、2.9
（d,d、1H）、2.4（ｍ、1H）、2.2（ｍ、1H）、1.4
（ｄ、3H）、1.4（ｄ、3H）、1.3（ｄ、3H）、1.3
（ｄ、3H）、0.8（d,d、1H）、0.6（d,d、1H）、0.6
（d,d、1H）、0.4（d,d,t、1H）、0.3（d,d、1H）、0.0
（ｄ、1H）、-2.2（ｓ、1H） Ｎ2下１００ｍｌフラスコに上記化合物（Ａ）のＺｒあ
たり０．４ｍｍｏｌを採取し、５ｍｌのトルエンを加
え、トルエン溶液とした。ついで濃度１ｍｍｏｌ／ｍｌ
（Ａｌ原子モル数）のメチルアルミノキサン溶液 ４０
ｍｌを加えて室温で１時間攪拌した。２００ｍｌフラス
コに上記１，３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2１
０ｇを加え、上記の溶液の全量を加え、窒素ブローおよ
び減圧下で溶媒を除去して流動性のある固体触媒成分を
得た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２８０，０００ｇ重合体／ｇＺｒときわめて高
活性であった。生成したエチレン共重合体は、メルトフ
ローレイト（ＭＦＲ）３．８ｇ／１０ｍｉｎ、密度０．
９１８８ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／ｃ
ｍ3、平均粒径７２０μｍの形状の丸い粒状物であっ
た。また、４日間の連続重合後、オートクレーブ内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体をＴダイ成形によりフィ
ルムを得た。１０ｃｍ×１０ｃｍ×９０μｍのフィルム
中のゲルは８個であった。固体触媒成分の内容および重
合結果は表１に示した。 比較例５ 実施例９において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオー
ル処理のないことを除いては実施例９と同様に行った。
触媒効率は２６０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成した
エチレン共重合体は、ＭＦＲ３．９ｇ／１０ｍｉｎ、密
度０．９１９０ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４７ｇ
／ｃｍ３、平均粒径６９０μｍの形状の丸い粒状物であ
った。また、４日間の連続重合後、流動床内壁とガス循
環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数は３０
個であった。固体触媒成分の内容および重合結果は表１
に示した。 実施例１０ （担体の調製）窒素雰囲気下にて３００ｍｌのフラスコ
に２００℃で５時間焼成したＳｉＯ2（平均粒径４５μ
ｍ、表面積２４０ｍ3／ｇ，細孔容積１．１０ｃｍ3／
ｇ，見掛比重０．４０ｃｍ3／ｇ）１５ｇを加え、次に
１，３−プロパンジオール１．７ｇ（１．５ｍｍｏｌ／
ｇＳｉＯ2）を３０分かけて滴下して１１０℃で４時間
攪拌した後に１２０℃で２時間攪拌した。その後２００
℃で４時間真空乾燥して１，３−プロパンジオール処理
したＳｉＯ2を得た。 （固体触媒成分の調製）特願平１１−３６８４６７の実
施例１にしたがって下記化合物（Ｂ）を調製した。すな
わち窒素雰囲気下、１００ｍｌの２口フラスコに精製し
た脱水トルエン１０ｍｌを加え、次いで実施例７で調製
した化合物(Ａ)１ｍｍｏｌおよび１０ｍｍｏｌの９−Ｂ
ＢＮ（９−ボラビシシクロ[３．３．１]ノナン）を室温
で加え、９０℃に加熱し４時間撹拌した。この溶液をの
1Ｈ−ＮＭＲを測定することにより、上記化合物（Ｂ）
が生成していることを確認した。1 Ｈ−ＮＭＲ、（JEOL製400mHz）（重溶媒＝C6D6、ケミカルシ
フト（テトラメチルシラン=0ppm）室温）：6.8〜7.5（12H）、5.0〜
6.2（6H）、0〜4（18H）、−2.7（s、1H）
【化１０４】 Ｎ2下１００ｍｌフラスコに上記化合物（Ｂ）のＺｒあ
たり０．４ｍｍｏｌを採取し、５ｍｌのトルエンを加
え、トルエン溶液とした。ついで濃度１ｍｍｏｌ／ｍｌ
（Ａｌ原子モル数）のメチルアルミノキサン溶液 ４０
ｍｌを加えて室温で１時間攪拌した。２００ｍｌフラス
コに上記１，３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2１
０ｇを加え、上記の溶液の全量を加え、窒素ブローおよ
び減圧下で溶媒を除去して流動性のある固体触媒成分を
得た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２９０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成したエ
チレン共重合体は、ＭＦＲ２．５ｇ／１０ｍｉｎ、密度
０．９１８２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／
ｃｍ３、平均粒径７４０μｍの形状の丸い粒状物であっ
た。また、４日間の連続重合後、流動層内壁へのポリマ
ーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体をＴダイ成形によりフィ
ルムを得た。１０ｃｍ×１０ｃｍ×９０μｍのフィルム
中のゲルは９個であった。固体触媒成分の内容および重
合結果は表１に示した。 比較例６ 実施例１０において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオ
ール処理のないことを除いては実施例１０と同様に行っ
た。触媒効率は２７０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成
したエチレン共重合体は、ＭＦＲ２．８ｇ／１０ｍｉ
ｎ、密度０．９１７６ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．
４４ｇ／ｃｍ3、平均粒径６７０μｍの形状の丸い粒状
物であった。また、４日間の連続重合後、流動層内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数
は３５個であった。固体触媒成分の内容および重合結果
は表１に示した。
たり０．４ｍｍｏｌを採取し、５ｍｌのトルエンを加
え、トルエン溶液とした。ついで濃度１ｍｍｏｌ／ｍｌ
（Ａｌ原子モル数）のメチルアルミノキサン溶液 ４０
ｍｌを加えて室温で１時間攪拌した。２００ｍｌフラス
コに上記１，３−プロパンジオール処理したＳｉＯ2１
０ｇを加え、上記の溶液の全量を加え、窒素ブローおよ
び減圧下で溶媒を除去して流動性のある固体触媒成分を
得た。 （気相重合）実施例１と同様の気相重合装置を用い、実
施例１と同様な条件で４日間の連続重合を行なった。触
媒効率は２９０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成したエ
チレン共重合体は、ＭＦＲ２．５ｇ／１０ｍｉｎ、密度
０．９１８２ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．４９ｇ／
ｃｍ３、平均粒径７４０μｍの形状の丸い粒状物であっ
た。また、４日間の連続重合後、流動層内壁へのポリマ
ーの付着は無かった。 （ゲルの評価）得られた重合体をＴダイ成形によりフィ
ルムを得た。１０ｃｍ×１０ｃｍ×９０μｍのフィルム
中のゲルは９個であった。固体触媒成分の内容および重
合結果は表１に示した。 比較例６ 実施例１０において、ＳｉＯ2の１，３−プロパンジオ
ール処理のないことを除いては実施例１０と同様に行っ
た。触媒効率は２７０，０００ｇ重合体／ｇＺｒ、生成
したエチレン共重合体は、ＭＦＲ２．８ｇ／１０ｍｉ
ｎ、密度０．９１７６ｇ／ｃｍ3であり、かさ密度０．
４４ｇ／ｃｍ3、平均粒径６７０μｍの形状の丸い粒状
物であった。また、４日間の連続重合後、流動層内壁と
ガス循環ライン内壁へのポリマーは少量あり、ゲルの数
は３５個であった。固体触媒成分の内容および重合結果
は表１に示した。
【０１２０】
【表１】
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J028 AA01A AB01A AC01A AC10A AC20A AC28A BA00A BA01B BC12B BC25B CA24C CA25C CA27C CA28C CB24C CB63C CB82C CB87C EB01 EB02 EB03 EB04 EB05 EB07 EB09 EB10 EB11 EB13 EB14 EB16 EB17 EB18 EB21 EC01 EC02 4J100 AA02P AA03P AA04P AA16P AA17P CA01 CA04 FA10
Claims (12)
- 【請求項１】 下記の（I），（II），（III）を相互に
接触させて得られるオレフィン重合用触媒。 （I）メタロセン系遷移金属化合物 （II）Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アルミニウム
化合物、ボランおよびボレートからなる群から選ばれる
化合物 （III）下記（III−ａ）と（III−ｂ）で表される化合
物を相互に接触することで得られる反応物 （III−ａ）ケイ素の酸化物および／または複酸化物 （III−ｂ）一般式：Ｚ(ＹＨk)jで表される化合物 [ここでＺは炭素数１〜２０の炭化水素残基、Ｙは窒素
原子、燐原子、酸素原子または硫黄原子から選ばれる原
子、Ｈは水素原子を示し、ｋは１または２、ｊは２以上
の整数である] - 【請求項２】 前記（I）が下記一般式（I−ａ）で表さ
れるメタロセン系遷移金属化合物であることを特徴とす
る請求項1記載のオレフィン重合用触媒。 Ｒ1Ｒ2Ｍ1Ｘ1Ｘ2 （I−ａ） [式中、Ｍ1はＺｒ、Ｔｉ、またはＨｆを示し、Ｒ1，Ｒ2
は個別にシクロペンタジエニル基、置換ペンタジエニル
基、インデニル基または置換インデニル基を示し、
Ｒ1，Ｒ2は炭素数１〜１８の炭化水素残基および／また
はシリレン基を介し結合していてもよく、Ｘ1，Ｘ2は水
素またはハロゲン原子または炭素数は１〜２４の炭化水
素残基を示す。] - 【請求項３】 前記（I）が下記一般式（I−ｂ）で表さ
れるメタロセン系遷移金属化合物であることを特徴とす
る請求項1記載のオレフィン重合用触媒。 【化１】 [式中、Ｍ1はＺｒ、Ｔｉ、またはＨｆを示し、Ｍ2はＡ
ｌまたはＢを示し、Ｒ1，Ｒ2は個別にシクロペンタジエ
ニル基、置換ペンタジエニル基、インデニル基または置
換インデニル基を示し、Ｒ1，Ｒ2は炭素数１〜１８の炭
化水素残基および／またはシリレン基を介し結合してい
てもよく、Ｒ3，Ｒ4は個別に水素原子、炭素数１〜１８
の炭化水素基、炭素数１〜１８のハロゲン化炭化水素基
を示し、Ｒ 3，Ｒ4は互いに結合して１個以上の環状炭化
水素基を形成してもよく、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｒ8は個別に
水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基を示し、Ｒ
7，Ｒ8は互いに結合して１個以上の環状炭化水素基を形
成してもよい。] - 【請求項４】 メタロセン系遷移金属化合物のＭ1がＺ
ｒである請求項２または３に記載のオレフィン重合用触
媒。 - 【請求項５】 メタロセン系遷移金属化合物のＭ2がＡ
ｌである請求項３に記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項６】 メタロセン系遷移金属化合物のＭ2がＢ
である請求項３に記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項７】 Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む変性有機アル
ミニウム化合物がメチルアルモキサンである請求項１に
記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項８】 上記の（III−ａ）がシリカであり、（I
II−ｂ）がエチレングリコール、１，２−プロパンジオ
ール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオ
ールおよび１，３−ブタンジオールから選ばれるジオー
ルの１種または２種以上である請求項１記載のオレフィ
ン重合用触媒。 - 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか１項記載の触媒
の存在下にオレフィンを重合させるポリオレフィンの製
造法。 - 【請求項１０】 オレフィンの重合がスカベンジャーの
存在下に行われる請求項９記載のポリオレフィンの製造
方法。 - 【請求項１１】 スカベンジャーが有機アルミニウム化
合物である請求項１０記載のポリオレフィンの製造方
法。 - 【請求項１２】 オレフィンの重合がエチレンの単独重
合またはエチレンとα−オレフィン共重合である請求項
９記載のポリオレフィンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000154778A JP2001329007A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000154778A JP2001329007A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001329007A true JP2001329007A (ja) | 2001-11-27 |
Family
ID=18659821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000154778A Pending JP2001329007A (ja) | 2000-05-25 | 2000-05-25 | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001329007A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018501323A (ja) * | 2014-12-10 | 2018-01-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 繊維製造用ポリオレフィンペレットおよびこれを含む繊維 |
| US10150825B2 (en) | 2014-04-11 | 2018-12-11 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Production method for olefin-based polymer, and olefin polymerization catalyst |
| US10246531B2 (en) | 2014-04-11 | 2019-04-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Production method for olefin-based polymer, olefin polymerization catalyst, and olefin-based polymer |
-
2000
- 2000-05-25 JP JP2000154778A patent/JP2001329007A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10150825B2 (en) | 2014-04-11 | 2018-12-11 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Production method for olefin-based polymer, and olefin polymerization catalyst |
| US10246531B2 (en) | 2014-04-11 | 2019-04-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Production method for olefin-based polymer, olefin polymerization catalyst, and olefin-based polymer |
| JP2018501323A (ja) * | 2014-12-10 | 2018-01-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 繊維製造用ポリオレフィンペレットおよびこれを含む繊維 |
| US10570532B2 (en) | 2014-12-10 | 2020-02-25 | Lg Chem, Ltd. | Polyolefin pellet for preparing fiber and fiber comprising the same |
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