JP2001326335A - Field effect transistor - Google Patents

Field effect transistor

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JP2001326335A
JP2001326335A JP2000146260A JP2000146260A JP2001326335A JP 2001326335 A JP2001326335 A JP 2001326335A JP 2000146260 A JP2000146260 A JP 2000146260A JP 2000146260 A JP2000146260 A JP 2000146260A JP 2001326335 A JP2001326335 A JP 2001326335A
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electrode
electric field
resistor
field control
gate electrode
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Hidetada Takahashi
英匡 高橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a FET which is equipped with an electrode for electric field control of high output and operating with high efficiency and whose distortion property is improved. SOLUTION: In a FET which has a gate electrode 5, a source electrode 7, and a drain electrode 8, an RC circuit consisting of a resistor 11 and a MIM capacitor 10 is provided in series between a gate bus bar 4 for collecting gate electrode fingers and an electrode bus bar 12 for electric field control for collecting electrodes 9 for electric field control, and the gate electrode bus bar 4 and the electrode bus bar 12 for electric field control are connected with each other. A resistor 11 attenuates the amplitude of the voltage of the electrode 9 for electric field control less than the amplitude of the voltage of the gate electrode 5, and the capacitor blocks the DC voltage between the electrode 9 for electric field control and the gate electrode 5, and bias can be applied independent of the gate electrode 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電界効果トランジ
スタ(FET)に関し、特に、電界制御用電極を有する
FETに関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a field effect transistor (FET), and more particularly to an FET having an electric field control electrode.

【0002】[0002]

【従来の技術】電界効果トランジスタ(FET)におい
ては、高出力化および高効率化に加え、低歪み化するこ
とが重要である。高出力化のための方法の1つは、耐圧
特性を向上させることである。電界制御用電極を設けて
高い耐圧特性を得たFET構造が、特願2000―39
19号公報に記載されている。図5に、特願2000―
3919号公報に記載されている従来のFET構造の平
面図を示す。この構造は、ゲートパッド3と、ゲート電
極バスバー4と、ゲート電極5と、電界制御用電極9
と、ソース電極7と、ドレイン電極8とを備えている。
電界制御用電極9は、ゲート電極5とドレイン電極8と
の間の絶縁膜6上に配置されている。この電界制御用電
極9により、ゲート電極端に集中する電界が分散または
緩和され、高い耐圧特性を得ることができる。高出力F
ETの用途には、電界制御用電極をゲート電極と接続し
て、同電位に保つことが望ましい。すなわち、電界制御
用電極は、ゲート電圧をピンチオフ側に印加した場合に
は、電界緩和効果により効果的に耐圧特性を向上させ、
逆に、ゲート電圧をフォワード側に印加し、空乏層を縮
めてチャネルを開く場合には、チャネルを低抵抗化し、
高効率動作を実現する。
2. Description of the Related Art In a field effect transistor (FET), it is important to reduce distortion in addition to increasing output and efficiency. One method for increasing the output is to improve the breakdown voltage characteristics. An FET structure in which an electric field control electrode is provided to achieve high withstand voltage characteristics is disclosed in Japanese Patent Application No. 2000-39.
No. 19 publication. FIG.
FIG. 1 shows a plan view of a conventional FET structure described in Japanese Patent No. 3919. This structure includes a gate pad 3, a gate electrode bus bar 4, a gate electrode 5, and an electric field control electrode 9.
And a source electrode 7 and a drain electrode 8.
The electric field controlling electrode 9 is disposed on the insulating film 6 between the gate electrode 5 and the drain electrode 8. The electric field controlling electrode 9 disperses or alleviates the electric field concentrated on the end of the gate electrode, so that high withstand voltage characteristics can be obtained. High output F
For ET applications, it is desirable to connect the electric field control electrode to the gate electrode and keep it at the same potential. That is, when the gate voltage is applied to the pinch-off side, the electric field control electrode effectively improves the withstand voltage characteristic by the electric field relaxation effect,
Conversely, when a gate voltage is applied to the forward side to reduce the depletion layer and open the channel, lower the resistance of the channel,
Achieve high efficiency operation.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この構
造は、高い耐圧特性、およびチャネルの低抵抗化による
高効率特性を得られるが、歪み特性を改善できない。こ
のことを図を用いて説明する。図4に、AM−AM(振
幅−振幅)特性の比較を示す図である。通常のMESF
ETのようなデバイスに電界制御用電極を設けて、電界
制御電極をゲート電極と同電位とし、B級からAB級動
作のバイアス設定で動作させた場合、しばしば利得がエ
クスパンジョンする特性を示す。これは、伝達特性(g
m)の非線形性による利得の増大、または低Vds領域に
おけるCgsの減少による利得の増大によって生じる。一
方、電界制御用電極がない通常のMESFETにおい
て、特に、高耐圧化を施したデバイスのAM−AM特性
は、ゲート電極とドレイン電極との間のチャネルがRF
信号に追従できないために、チャネル狭窄が生じ、RF
特性が劣化し、利得のコンプレッションが生じる。
However, this structure can provide high withstand voltage characteristics and high efficiency characteristics by lowering the resistance of the channel, but cannot improve the distortion characteristics. This will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a diagram showing a comparison of AM-AM (amplitude-amplitude) characteristics. Normal MESF
When an electric field control electrode is provided in a device such as an ET, and the electric field control electrode is set to the same potential as the gate electrode and operated with a bias setting of class B to class AB operation, the characteristic often shows that the gain expands. . This is due to the transfer characteristic (g
This is caused by an increase in gain due to the non-linearity of m) or an increase in gain due to a decrease in C gs in the low V ds region. On the other hand, in a normal MESFET having no electrode for electric field control, particularly, the AM-AM characteristic of a device with a high withstand voltage is such that the channel between the gate electrode and the drain electrode is RF.
Inability to track signals causes channel constriction,
The characteristics are degraded and gain compression occurs.

【0004】次に、図3に、RF動作時のチャネル狭窄
の影響によるI−V特性の変化を示す。電界制御用電極
のない通常のMESFETは、チャネルの狭窄によりド
レイン電流が減少し、出力および効率が低下し、図4に
示したような利得の著しいコンプレッションが生じて、
歪み特性も著しく劣化する。一方、電界制御用電極を設
け、これをゲート電極と同電位で動作させたFETで
は、チャネル狭窄が緩和され、低Vds領域における利得
が増大するが、図4に示したような利得のエクスパンジ
ョンを示す。したがって、電界制御用電極をゲート電極
と同電位で動作させることは、高出力化、高効率化にと
って非常に効果的であるが、低歪み化については適して
いない。
FIG. 3 shows a change in IV characteristics due to the effect of channel constriction during RF operation. In a normal MESFET without an electric field control electrode, the drain current decreases due to the narrowing of the channel, the output and the efficiency decrease, and a remarkable compression of the gain occurs as shown in FIG.
The distortion characteristics also deteriorate significantly. On the other hand, in an FET in which an electric field control electrode is provided and operated at the same potential as the gate electrode, channel constriction is alleviated and the gain in the low Vds region is increased. Indicates pansion. Therefore, operating the electric field control electrode at the same potential as the gate electrode is very effective for high output and high efficiency, but is not suitable for low distortion.

【0005】そこで、上述の問題点を解決するために、
本発明の目的は、高出力、高効率動作する電界制御用電
極を備え、同時に歪み特性を改善するFETを提供する
ことにある。
Therefore, in order to solve the above problems,
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an FET that includes an electric field control electrode that operates with high output and high efficiency and simultaneously improves distortion characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、本発明の第1の態様においては、ゲート電極とドレ
イン電極との間に配置された電界制御用電極を有する電
界効果トランジスタは、前記ゲート電極と前記電界制御
用電極とは、RC直列回路を介して接続される。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a field effect transistor having an electric field control electrode disposed between a gate electrode and a drain electrode. The gate electrode and the electric field control electrode are connected via an RC series circuit.

【0007】本発明の第2の態様においては、ゲート電
極とドレイン電極との間に電界制御用電極を有する電界
効果トランジスタは、前記ゲート電極と前記電界制御用
電極とは、抵抗体を介して接続される。
According to a second aspect of the present invention, in a field effect transistor having an electric field control electrode between a gate electrode and a drain electrode, the gate electrode and the electric field control electrode are connected via a resistor. Connected.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】次に、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。図1は、本発明の第1の
実施の形態の高出力FETの平面図を示す。また、図2
は、第1の実施の形態のFET回路の概略図である。図
1に示すように、本実施の形態の電界効果トランジスタ
は、ゲートパッド3と、ゲート電極バスバー4と、ゲー
ト電極5と、ソース電極7と、ドレイン電極8と、電界
制御用電極9と、電界制御用電極バスバー12と、MI
M(Metal Insulator Metal)キ
ャパシタ10と、抵抗体11とより構成される。従来の
FET構造は、ゲート電極と電界制御用電極とを直接接
続していたが、本発明によるFET構造は、ゲート電極
5と電界制御用電極9との間に抵抗体11とMIMキャ
パシタ10を直列に設け、これらを介して接続してい
る。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a high-output FET according to a first embodiment of the present invention. FIG.
1 is a schematic diagram of an FET circuit according to a first embodiment. As shown in FIG. 1, the field-effect transistor according to the present embodiment includes a gate pad 3, a gate electrode bus bar 4, a gate electrode 5, a source electrode 7, a drain electrode 8, an electric field control electrode 9, The electric field control electrode bus bar 12 and the MI
It comprises an M (Metal Insulator Metal) capacitor 10 and a resistor 11. In the conventional FET structure, the gate electrode and the electric field control electrode are directly connected. However, in the FET structure according to the present invention, the resistor 11 and the MIM capacitor 10 are provided between the gate electrode 5 and the electric field control electrode 9. They are provided in series and connected via these.

【0009】図6は、図1のA−A’の断面図を示す。
図6に示すように、この断面構造は、GaAs基板1
と、チャネル層2と、ゲート電極5と、絶縁膜6と、ソ
ース電極7と、ドレイン電極8と、電界制御電極9とを
備える。GaAs基板1上に設けられたチャネル層2上
に、ゲート電極5と、ソース電極7と、ドレイン電極8
とが配置されている。これらのチャネル層2と、ゲート
電極5と、ソース電極7と、ドレイン電極8とを覆っ
て、絶縁膜6が形成される。ゲート電極5とドレイン電
極8との間の絶縁膜6上に、電界制御用電極9は配置さ
れている。
FIG. 6 is a sectional view taken along the line AA 'of FIG.
As shown in FIG. 6, this cross-sectional structure is
, A channel layer 2, a gate electrode 5, an insulating film 6, a source electrode 7, a drain electrode 8, and an electric field control electrode 9. On a channel layer 2 provided on a GaAs substrate 1, a gate electrode 5, a source electrode 7, and a drain electrode 8
And are arranged. An insulating film 6 is formed to cover the channel layer 2, the gate electrode 5, the source electrode 7, and the drain electrode 8. An electric field control electrode 9 is disposed on the insulating film 6 between the gate electrode 5 and the drain electrode 8.

【0010】次に、また、図1を参照すると、ゲート電
極5はゲート電極バスバー4でまとめられている。一
方、電界制御用電極9はこのゲート電極バスバー4を跨
ぎ、電界制御用電極バスバー12でまとめられる。図示
しないが、ソース電極7は、バイアホールを介して裏面
のグランドに接続されている。ゲート電極バスバー4
は、通常のFETと同様にゲートパッド3に引き出さ
れ、ボンディングワイヤー等で接続され、ゲートバイア
スが供給されるとともに、RF信号が入力される。ま
た、図示していないが、ドレイン電極8は、ドレイン電
極パッドでまとめられ、ボンディングワイヤー等で接続
されドレインバイアスが供給されるとともに、RF信号
を出力する。
Next, referring to FIG. 1, the gate electrode 5 is combined with the gate electrode bus bar 4. On the other hand, the electric field control electrode 9 straddles the gate electrode bus bar 4 and is integrated by the electric field control electrode bus bar 12. Although not shown, the source electrode 7 is connected to the ground on the back surface via a via hole. Gate electrode bus bar 4
Are pulled out to the gate pad 3 like a normal FET, connected by a bonding wire or the like, a gate bias is supplied, and an RF signal is input. Although not shown, the drain electrode 8 is combined by a drain electrode pad, connected by a bonding wire or the like, supplied with a drain bias, and outputs an RF signal.

【0011】そして、本発明に従って、電界制御用電極
バスバー12は、例えば、エピ抵抗,WSiN,窒化タ
ングステン,窒化チタン,またはWSi等の抵抗体11
へ接続される。抵抗体11は、電界制御用電極に入力す
る電圧の振幅を制御するように、例えば、数オームから
数100オームの範囲内で決定される。抵抗体11とゲ
ートパッド3との間には、MIMキャパシタ10が直列
に接続される。このMIMキャパシタ10は、ゲート電
極4と電界制御用電極9との間のDC電圧をブロック
し、RF信号は透過する。このような構造を用いること
により、電界制御用電極9の電位を、ゲート電極5から
独立して制御できる。また、MIMキャパシタ10の上
部電極は、ボンディングワイヤーおよびRFカット等を
介して、ゲートから独立したDC電源に接続することが
でき、また場合によっては、DC電圧を決めずフローテ
ィングとすることもできる。
According to the present invention, the electric field control electrode bus bar 12 is made of, for example, a resistor 11 such as an epi-resistor, WSiN, tungsten nitride, titanium nitride, or WSi.
Connected to The resistance of the resistor 11 is determined, for example, within a range from several ohms to several hundred ohms so as to control the amplitude of the voltage input to the electric field control electrode. An MIM capacitor 10 is connected in series between the resistor 11 and the gate pad 3. The MIM capacitor 10 blocks a DC voltage between the gate electrode 4 and the electric field control electrode 9 and transmits an RF signal. By using such a structure, the potential of the electric field control electrode 9 can be controlled independently of the gate electrode 5. In addition, the upper electrode of the MIM capacitor 10 can be connected to a DC power supply independent of the gate via a bonding wire, an RF cut, or the like, and in some cases, can be made floating without determining the DC voltage.

【0012】また、ゲート電極5と電界制御用電極9と
間のDC電圧を同一に選べる場合には、MIMキャパシ
タ10は不必要であるため、抵抗体11を介して電界制
御用電極バー12とゲートパッド3とを接続すればよ
い。
When the DC voltage between the gate electrode 5 and the electric field control electrode 9 can be selected to be the same, the MIM capacitor 10 is not necessary. What is necessary is just to connect with the gate pad 3.

【0013】このような構造においては、RF動作時に
電界制御用電極の電圧の振幅を調整でき、チャネル狭窄
量を制御できる。すなわち抵抗体11の抵抗値を低く設
定すると、電界制御用電極9の電圧の振幅が大きく、チ
ャネルの低抵抗化の作用も大きく、その結果、図4に示
すように、AM−AM特性において利得のエクスパンジ
ョンを示す。一方、抵抗値を高く設定すると、電界制御
用電極の電圧の振幅が抑制され、利得のエクスパンジョ
ンを抑制する。一方、電界制御用電極9のDCバイアス
をゲートより深く設定すると、トランスコンダクタンス
(gd)が抑制され、チャネルの低抵抗化も抑制され
る。逆に、ゲートバイアスより浅く設定すると、チャネ
ル低抵抗化の作用が大きくなる。したがって、バイアス
の設定によって、AM−AMにおけるエクスパンジョン
あるいはコンプレッションを制御できる。
In such a structure, the amplitude of the voltage of the electric field control electrode can be adjusted during the RF operation, and the amount of channel constriction can be controlled. That is, when the resistance value of the resistor 11 is set low, the amplitude of the voltage of the electric field control electrode 9 is large, and the effect of reducing the resistance of the channel is large. As a result, as shown in FIG. Shows the expansion. On the other hand, when the resistance value is set high, the amplitude of the voltage of the electric field control electrode is suppressed, and the expansion of the gain is suppressed. On the other hand, when the DC bias of the electric field control electrode 9 is set deeper than the gate, the transconductance (gd) is suppressed, and the reduction in the channel resistance is also suppressed. Conversely, when the depth is set shallower than the gate bias, the effect of lowering the channel resistance is increased. Therefore, expansion or compression in AM-AM can be controlled by setting the bias.

【0014】図7は、本発明のFETの第2の実施の形
態を示す。第2の実施の形態の構造は、ゲート電極5
と、ソース電極7と、ドレイン電極8とを備え、ゲート
電極5をまとめるゲート電極バスバー4と、電界制御用
電極9と、抵抗体11と、ゲートパッド3とを備える。
FIG. 7 shows a second embodiment of the FET of the present invention. In the structure of the second embodiment, the gate electrode 5
, A source electrode 7, a drain electrode 8, and a gate electrode bus bar 4 for collecting the gate electrode 5, an electric field control electrode 9, a resistor 11, and a gate pad 3.

【0015】次に、図示しないが、ソース電極7は、バ
イアホールを介して裏面のグランドに接続されている。
ゲート電極バスバー4は、通常のFETと同様にゲート
パッド3に引き出され、ボンディングワイヤー等で接続
され、ゲートバイアスおよびRF信号が入力される。ま
た、図示しないが、ドレイン電極8は、ドレイン電極パ
ッドでまとめられ、ボンディングワイヤー等で接続され
ドレインバイアスが供給されるとともに、RF信号を出
力する。
Next, although not shown, the source electrode 7 is connected to the ground on the back surface via a via hole.
The gate electrode bus bar 4 is drawn out to the gate pad 3 similarly to a normal FET, is connected by a bonding wire or the like, and receives a gate bias and an RF signal. Although not shown, the drain electrode 8 is combined by a drain electrode pad, connected by a bonding wire or the like, supplied with a drain bias, and outputs an RF signal.

【0016】次に、抵抗体11を、ゲート電極バスバー
4と電界制御用電極9との間に配置する。第2の実施の
形態は、電界制御用電極9とゲート電極5のDC電位を
同一に選ぶ場合に対応しているために、第1の実施の形
態のようなMIMキャパシタを必要としない。したがっ
て、第1の実施の形態の電界制御用電極バスバーとエア
ブリッジでゲートバスバーを跨ぐ部分とを省略できる点
で異なる。抵抗体11は、例えば、エピ抵抗,WSi
N,窒化タングステン,窒化チタン,またはWSi等の
抵抗体から成り、電界制御用電極に入力する電圧の振幅
を制御するように、例えば、数オームから数100オー
ムの範囲内で決定される。
Next, the resistor 11 is disposed between the gate electrode bus bar 4 and the electric field control electrode 9. Since the second embodiment corresponds to the case where the DC potentials of the electric field control electrode 9 and the gate electrode 5 are selected to be the same, the MIM capacitor as in the first embodiment is not required. Therefore, the present embodiment is different from the first embodiment in that the electric field control electrode bus bar and the portion over the gate bus bar by the air bridge can be omitted. The resistor 11 is, for example, an epi-resistor, WSi
It is made of a resistor such as N, tungsten nitride, titanium nitride, or WSi, and is determined, for example, within a range of several ohms to several hundred ohms so as to control the amplitude of the voltage input to the electric field control electrode.

【0017】このような構造により、RF動作時に電界
制御用電極の電圧の振幅が調整され、チャネル狭窄量を
制御することが可能となる。すなわち抵抗体11の抵抗
値を低く設定すると、電界制御用電極9の電圧の振幅が
大きく、チャネルが低抵抗化され、その結果、図4に示
すような、AM−AM特性において利得のエクスパンジ
ョンを示す。一方、抵抗値を高く設定すると、電界制御
用電極の電圧の振幅が抑制され、利得のエクスパンジョ
ンを抑制する。また、電界制御用電極9のDCバイアス
をゲートより深く設定すると、gdが抑制され、チャネ
ルの低抵抗化も抑制される。逆に、ゲートバイアスより
浅く設定すると、チャネルが低抵抗化される。したがっ
て、バイアスの設定によって、AM−AMにおけるエク
スパンジョンあるいはコンプレッションを制御できる。
With such a structure, the amplitude of the voltage of the electric field control electrode during the RF operation is adjusted, and the amount of channel constriction can be controlled. That is, when the resistance value of the resistor 11 is set low, the amplitude of the voltage of the electrode 9 for electric field control is large, and the resistance of the channel is reduced. As a result, as shown in FIG. Show John. On the other hand, when the resistance value is set high, the amplitude of the voltage of the electric field control electrode is suppressed, and the expansion of the gain is suppressed. Further, when the DC bias of the electric field control electrode 9 is set deeper than the gate, gd is suppressed and the reduction in the resistance of the channel is also suppressed. Conversely, when the depth is set shallower than the gate bias, the resistance of the channel is reduced. Therefore, expansion or compression in AM-AM can be controlled by setting the bias.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、電界制
御用電極を有するFETの伝達特性(gm)の周波数分
散特性を制御でき、これにより、gmの非線形性に起因
する相互変調歪みのような歪み特性を改善できるという
効果が得られる。その理由は、本発明は、ゲート電極と
電界制御用電極を有するFETにおいて、ゲート電極と
電界制御用電極とを直結せずに、RC回路を介して接続
する。このRC回路における抵抗体は、電界制御用電極
の電圧の振幅をゲート電極の電圧の振幅をより減衰さ
せ、キャパシタは、電界制御用電極とゲート電極との間
のDC電圧を切断し、ゲート電極とは独立してバイアス
を印加できるようにするためである。
As described above, the present invention can control the frequency dispersion characteristic of the transfer characteristic (gm) of the FET having the electric field control electrode, thereby reducing the intermodulation distortion caused by the nonlinearity of gm. The effect that such distortion characteristics can be improved is obtained. The reason is that, in the present invention, in a FET having a gate electrode and an electric field control electrode, the gate electrode and the electric field control electrode are connected via an RC circuit without being directly connected. The resistor in this RC circuit attenuates the amplitude of the voltage of the electric field control electrode more than that of the gate electrode, and the capacitor disconnects the DC voltage between the electric field control electrode and the gate electrode, This allows the bias to be applied independently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態のFETの平面図で
ある。
FIG. 1 is a plan view of an FET according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態のFETの概略図で
ある。
FIG. 2 is a schematic diagram of an FET according to the first embodiment of the present invention.

【図3】Vdsの電圧に対するIds変化を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a change in I ds with respect to a voltage of V ds .

【図4】AM−AM特性の比較を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a comparison of AM-AM characteristics.

【図5】従来の電界制御用電極を有するFETの平面図
である。
FIG. 5 is a plan view of a conventional FET having an electric field control electrode.

【図6】本発明の第1の実施の形態のFETのA−A’
断面図である。
FIG. 6 is an AA ′ of the FET according to the first embodiment of the present invention.
It is sectional drawing.

【図7】本発明の第2の実施の形態によるFETの平面
図である。
FIG. 7 is a plan view of an FET according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体基板 2 チャネル層 3 ゲートパッド 4 ゲート電極バスバー 5 ゲート電極 6 絶縁膜 7 ソース電極 8 ドレイン電極 9 電界制御用電極 10 MIMキャパシタ 11 抵抗体 12 電界制御用電極バスバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor substrate 2 Channel layer 3 Gate pad 4 Gate electrode bus bar 5 Gate electrode 6 Insulating film 7 Source electrode 8 Drain electrode 9 Electric field control electrode 10 MIM capacitor 11 Resistor 12 Electric field control electrode bus bar

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ドレイン電極とゲート電極との間に配置さ
れた電界制御用電極を有する電界効果トランジスタにお
いて、 前記ゲート電極と前記電界効果電極とは、RC直列回路
を介して接続されることを特徴とする電界効果トランジ
スタ。
1. A field effect transistor having an electric field control electrode disposed between a drain electrode and a gate electrode, wherein the gate electrode and the field effect electrode are connected via an RC series circuit. Characteristic field effect transistor.
【請求項2】前記RC直列回路は、 抵抗体と、MIMキャパシタとより構成されることを特
徴とする請求項1記載の電界効果トランジスタ。
2. The field effect transistor according to claim 1, wherein said RC series circuit comprises a resistor and an MIM capacitor.
【請求項3】前記抵抗体は、前記電界制御用電極への電
圧の振幅を、前記ゲート電極の電圧の振幅より減衰させ
ることを特徴とする請求項2記載の電界効果トランジス
タ。
3. The field effect transistor according to claim 2, wherein the resistor attenuates the amplitude of the voltage applied to the electric field control electrode from the amplitude of the voltage applied to the gate electrode.
【請求項4】前記MIMキャパシタは、前記電界効果電
極と前記ゲート電極との間のDC電圧をブロックし、前
記ゲート電極から独立してバイアス印加できるようにす
ることを特徴とする請求項2または3記載の電界効果ト
ランジスタ。
4. The MIM capacitor according to claim 2, wherein a DC voltage between the field effect electrode and the gate electrode is blocked, and a bias can be applied independently of the gate electrode. 4. The field effect transistor according to 3.
【請求項5】前記抵抗体は、エピ抵抗体,WSiN抵抗
体,窒化タングステン抵抗体,窒化チタン抵抗体,また
はWSi抵抗体であることを特徴とする請求項2,3,
または4記載の電界効果トランジスタ。
5. The resistor according to claim 2, wherein said resistor is an epi-resistor, a WSiN resistor, a tungsten nitride resistor, a titanium nitride resistor, or a WSi resistor.
Or the field-effect transistor according to 4.
【請求項6】ドレイン電極とゲート電極との間に配置さ
れた電界制御用電極を有する電界効果トランジスタにお
いて、 前記ゲート電極と前記電界制御用電極とは、抵抗体を介
して接続されることを特徴とする電界効果トランジス
タ。
6. A field effect transistor having an electric field control electrode disposed between a drain electrode and a gate electrode, wherein the gate electrode and the electric field control electrode are connected via a resistor. Characteristic field effect transistor.
【請求項7】前記抵抗体は、前記電界制御用電極への電
圧の振幅を、前記ゲート電極の電圧の振幅より減衰させ
ることを特徴とする請求項6記載の電界効果トランジス
タ。
7. The field effect transistor according to claim 6, wherein the resistor attenuates the amplitude of the voltage to the electric field control electrode from the amplitude of the voltage of the gate electrode.
【請求項8】前記抵抗体は、エピ抵抗体,WSiN抵抗
体,窒化タングステン抵抗体,窒化チタン抵抗体,また
はWSi抵抗体であることを特徴とする請求項6または
7記載の電界効果トランジスタ。
8. The field effect transistor according to claim 6, wherein said resistor is an epi-resistor, a WSiN resistor, a tungsten nitride resistor, a titanium nitride resistor, or a WSi resistor.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2012164994A (en) * 2003-09-09 2012-08-30 Regents Of The Univ Of California Manufacture of single or multiple gate field plate

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