JP2001316604A - Resin composition for forming low-reflection hard coat film - Google Patents

Resin composition for forming low-reflection hard coat film

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JP2001316604A
JP2001316604A JP2000131732A JP2000131732A JP2001316604A JP 2001316604 A JP2001316604 A JP 2001316604A JP 2000131732 A JP2000131732 A JP 2000131732A JP 2000131732 A JP2000131732 A JP 2000131732A JP 2001316604 A JP2001316604 A JP 2001316604A
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low
reflection
coat film
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition that can form a hard coat film having low-reflection function suited for optical parts and having scratch resistance, mar resistance, chemical resistance or the like sufficient to protect a base material in a simple and convenient process with enhanced productivity, enhanced yield of product or the like. SOLUTION: The resin composition for forming a low-reflection hard coat film is produced by blending (A) a mixture of a hydrolyzate of a perfluoroalkyl group-containing silane and an acryl or methacryl functional silane with metal oxide fine particles and (B) a multifunctional acrylate or methacrylate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種ディスプレ
イ、レンズ、ミラー、ゴーグル、窓ガラスなどの光学部
品を保護するために、その表面に形成されるハードコー
ト膜を形成する低反射ハードコート樹脂組成物に関し、
特に光部品に適した低反射機能と、耐引っ掻き性、耐擦
り傷性、耐薬品性などのハードコート膜としての優れた
特性を備えたハードコート膜を形成できる低反射ハード
コート樹脂組成物に関する。具体的には液晶表示装置、
CRT表示装置、プラズマ表示装置、エレクトロクロミ
ック表示装置、発光ダイオード表示装置、EL表示装置
など、各種表示装置の画面保護に適したハードコート膜
を形成できる低反射ハードコート樹脂組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low-reflection hard coat resin composition for forming a hard coat film formed on a surface thereof for protecting optical components such as various displays, lenses, mirrors, goggles and window glasses. About things
In particular, the present invention relates to a low-reflection hard coat resin composition capable of forming a hard coat film having a low reflection function suitable for an optical component and excellent properties as a hard coat film such as scratch resistance, scratch resistance, and chemical resistance. Specifically, a liquid crystal display device,
The present invention relates to a low reflection hard coat resin composition capable of forming a hard coat film suitable for protecting a screen of various display devices such as a CRT display device, a plasma display device, an electrochromic display device, a light emitting diode display device, and an EL display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、光学部品などに用いられるガラス
やプラスチックなどの基材の表面に、照射(UV/E
B)硬化型アクリル・メタクリル系樹脂、熱硬化型シリ
コーン系樹脂などからなるハードコート層を設けた後、
酸化チタンや酸化ケイ素などの無機酸化物などを用いて
蒸着法あるいはスパッタ法などのドライコーティングに
よって光学薄膜層を形成することにより、反射防止膜な
どの光干渉による光学多層膜を得る方法が知られてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, the surface of a base material such as glass or plastic used for optical parts is irradiated (UV / E
B) After providing a hard coat layer made of a curable acrylic / methacrylic resin, a thermosetting silicone resin, or the like,
A method of forming an optical thin film layer by dry coating such as evaporation or sputtering using an inorganic oxide such as titanium oxide or silicon oxide to obtain an optical multilayer film by light interference such as an anti-reflection film is known. ing.

【0003】また、基材に照射(UV/EB)硬化型ア
クリル・メタクリル系樹脂、熱硬化型シリコーン系樹脂
などからなるハードコート層を設けた後、金属アルコキ
シドなどを出発組成としてウェットコーティングを行
い、光学薄膜層を形成し、反射防止膜を得る方法が知ら
れている。この方法においては、低屈折材料としてS
i、高屈折材料としてはTiやZrなどのアルコキシド
を用いる方法などが提案されている。
Further, after a hard coat layer made of an irradiation (UV / EB) curable acrylic / methacrylic resin, a thermosetting silicone resin or the like is provided on a substrate, wet coating is performed using a metal alkoxide or the like as a starting composition. There is known a method of forming an optical thin film layer to obtain an antireflection film. In this method, S is used as the low refractive material.
i, a method using an alkoxide such as Ti or Zr as a high refractive material has been proposed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のドライ
コーティングによる方法においては、装置が高価で、成
膜速度が遅く、生産性が低いなどの問題があった。ま
た、上述のウェットコーティングによる方法において
は、金属アルコキシドの乾燥重合が高温、長時間の条件
で行われるため、生産性に問題があった。また、表面に
凹凸を形成することによって防眩性を付与した基材上
に、この方法によって反射防止膜を形成すると、ハード
コート膜の厚さが基材の凹部においては厚く、凸部にお
いては薄くなってしまうため、設計値より反射率が増加
してしまうという問題があった。また、これらのいずれ
の方法においても、基材上にハードコート層を設けた後
に光学薄膜層を積層する工程を経るため、工程数の多さ
に起因する歩留まりの低下、製品の高価格化を招くとい
う問題があった。
However, the above-mentioned method using dry coating has problems such as expensive equipment, low film forming speed, and low productivity. Further, in the above-mentioned method by wet coating, there is a problem in productivity because the dry polymerization of the metal alkoxide is carried out at a high temperature for a long time. Further, when an antireflection film is formed by this method on a substrate having antiglare properties formed by forming irregularities on the surface, the thickness of the hard coat film is large in the concave portions of the substrate and in the convex portions. There is a problem that the reflectance becomes higher than the design value because the thickness becomes thinner. In addition, in any of these methods, since a process of laminating an optical thin film layer after providing a hard coat layer on a base material is performed, a reduction in yield due to a large number of processes and an increase in the price of a product are achieved. There was a problem of inviting.

【0005】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、光学部品に適した低反射機能と、基材を十分に保護
し得る耐引っ掻き性、耐擦り傷性、耐薬品性などを備え
たハードコート膜を形成するにおいて、簡便な工程で生
産性、製品歩留まりなどを向上させることができる技術
を提供することを課題とする。さらには、基材の表面の
形状に関わらず、均一な厚さの皮膜を形成することがで
きる技術を提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a low reflection function suitable for an optical component and a scratch resistance, abrasion resistance, chemical resistance and the like capable of sufficiently protecting a substrate. It is an object of the present invention to provide a technique capable of improving productivity, product yield, and the like in a simple process when forming a coat film. Still another object is to provide a technique capable of forming a film having a uniform thickness regardless of the shape of the surface of the base material.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の低反射ハードコート樹脂組成物は、(A)
パーフロロアルキル基含有シランおよびアクリル又はメ
タクリル官能性シランの加水分解物と、金属酸化物微粒
子との混合物と、(B)多官能アクリレート又はメタク
リレートとを含むことを特徴とする。この低反射ハード
コート樹脂組成物には、(C)光重合開始剤を配合する
ことができる。また、前記パーフロロアルキル基含有シ
ランが、下記一般式(1)
In order to solve the above-mentioned problems, the low-reflection hard coat resin composition of the present invention comprises (A)
It is characterized by comprising a mixture of a hydrolyzate of a perfluoroalkyl group-containing silane and an acrylic or methacryl-functional silane, metal oxide fine particles, and (B) a polyfunctional acrylate or methacrylate. The low-reflection hard coat resin composition may contain (C) a photopolymerization initiator. Further, the perfluoroalkyl group-containing silane is represented by the following general formula (1)

【0007】[0007]

【化3】 Embedded image

【0008】(式中、R1は1〜5個の炭素原子を有す
るアルキル基を表し、nは1〜12の整数である。)で
表される化合物であると好ましい。また、前記アクリル
又はメタクリル官能性シランが、下記一般式(2)
(Wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 12). Further, the acrylic or methacryl functional silane is represented by the following general formula (2)

【0009】[0009]

【化4】 Embedded image

【0010】(式中、R1は水素原子又はメチル基、R2
は炭素数3〜6の2価の有機基、R3、R4はそれぞれ置
換又は非置換の一価炭化水素基、aは0〜2の整数であ
る。)で表される化合物であると好ましい。また、前記
金属酸化物微粒子の平均粒子径が5〜100nmである
と好ましい。さらに、本発明の低反射ハードコート樹脂
組成物においては、平均粒子径0.1〜100μmの無
機もしくは有機微粒子を配合すると、防眩性の観点から
好ましい。そして、これらの低反射ハードコート樹脂組
成物を用いてハードコート膜を形成する。本発明の低反
射ハードコート樹脂組成物は、塗布して硬化させること
によってハードコート膜を形成することができる。そし
て、ハードコート膜が以下の関係式 nd=λ/4 (式中、nは(A)成分の屈折率、dは(A)成分から
なる層の膜厚、λはハードコート膜の反射光の検出中心
感度波長を示す。)を満足すると、低反射機能の観点か
ら好ましい。本発明のハードコート膜は、プラスチック
成形品、特に光学部品の表面に設けると好ましい。ハー
ドコート膜を備えたプラスチック成形品は、プラスチッ
ク成形品本体に、低反射ハードコート樹脂組成物を塗布
し、硬化させることによって製造することができる。
Wherein R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2
Is a divalent organic group having 3 to 6 carbon atoms, R 3 and R 4 are each a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and a is an integer of 0 to 2. The compound represented by the formula (1) is preferable. The average particle diameter of the metal oxide fine particles is preferably 5 to 100 nm. Furthermore, in the low-reflection hard coat resin composition of the present invention, it is preferable from the viewpoint of antiglare properties to mix inorganic or organic fine particles having an average particle diameter of 0.1 to 100 μm. Then, a hard coat film is formed using these low reflection hard coat resin compositions. The low reflection hard coat resin composition of the present invention can form a hard coat film by being applied and cured. Then, the hard coat film has the following relational expression nd = λ / 4 (where n is the refractive index of the component (A), d is the film thickness of the layer composed of the component (A), and λ is the reflected light of the hard coat film. Is preferable from the viewpoint of a low reflection function. The hard coat film of the present invention is preferably provided on the surface of a plastic molded product, particularly an optical component. A plastic molded article having a hard coat film can be produced by applying a low-reflection hard coat resin composition to a plastic molded article body and curing the resin composition.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。まず、本発明の低反射ハードコート樹脂組成物に
配合する(A)〜(C)の各成分について詳細に説明す
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. First, the components (A) to (C) to be blended in the low reflection hard coat resin composition of the present invention will be described in detail.

【0012】(A)パーフロロアルキル基含有シランお
よびアクリル又はメタクリル官能性シランの加水分解物
と、金属酸化物微粒子との混合物 (A)成分のうち、パーフロロアルキル基含有シラン
は、ハードコート膜表面の防汚性能、低屈折率化などに
寄与するものである。パーフロロアルキル基含有シラン
としては、前記一般式(1)で示されるものが好まし
い。なお、式(1)中、R1は1〜5個、好ましくは1
〜3の炭素原子を有するアルキル基を表し、nは1〜1
2、好ましくは5〜12の整数である。具体例として
は、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフ
ルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ
オクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチ
ルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリ
メトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキ
シシランなどがあげられる。これらは単独、あるいは2
種以上組み合わせて使用することができる。
(A) Mixture of Perfluoroalkyl Group-Containing Silane and Hydrolyzate of Acrylic or Methacryl Functional Silane and Fine Particles of Metal Oxide Among components (A), silane containing perfluoroalkyl group is a hard coat film. It contributes to antifouling performance of the surface and lowering of the refractive index. As the perfluoroalkyl group-containing silane, those represented by the general formula (1) are preferable. In the formula (1), R 1 is 1 to 5, preferably 1
Represents an alkyl group having from 1 to 3 carbon atoms, wherein n is from 1 to 1
2, preferably an integer of 5 to 12. Specific examples include trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, and heptadecafluorodecyltriethoxysilane. And so on. These can be used alone or 2
It can be used in combination of more than one species.

【0013】アクリル又はメタクリル官能性シランは、
ハードコート膜としての架橋硬化に寄与する成分であ
り、前記一般式式(2)で表される化合物が好ましい。
なお、式(2)中、R1は水素原子又はメチル基、R2
炭素数3〜6、好ましくは3〜5の2価の有機基、
3、R4はそれぞれ置換又は非置換の一価炭化水素基、
aは0〜2の整数である。具体例としては、3−アクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピ
ルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルト
リエトキシシランなどがあげられる。
The acrylic or methacryl functional silane is
It is a component that contributes to crosslinking and curing as a hard coat film, and is preferably a compound represented by the general formula (2).
In the formula (2), R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, R 2 is a divalent organic group having 3 to 6, preferably 3 to 5 carbon atoms,
R 3 and R 4 are each a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group,
a is an integer of 0 to 2. Specific examples include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane and the like.

【0014】パーフロロアルキル基含有シランとアクリ
ル又はメタクリル官能性シランは、例えば1:99〜8
0:20、好ましくは10:90〜70:30の重量比
となるように混合して用いられる。これらの配合比を満
足しない場合は、双方の効果を十分に発揮させることが
できない。
The perfluoroalkyl group-containing silane and the acryl or methacryl functional silane are, for example, from 1:99 to 8
0:20, preferably 10:90 to 70:30. When these mixing ratios are not satisfied, both effects cannot be sufficiently exerted.

【0015】そして、パーフロロアルキル基含有シラン
およびアクリル又はメタクリル官能性シランの加水分解
物は、以下のようにして得ることができる。すなわち、
これらの化合物に純水を添加し、混合する。あるいは塩
酸、硝酸、硫酸、酢酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸等
の酸を触媒として添加した酸性水、若しくはアンモニ
ア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン
などの塩基を触媒として添加した塩基性水を添加し、撹
拌する。このとき、水の添加量を制御することにより、
加水分解の進行度合を調節することができる。なお、一
般には、水の添加量は、加水分解の対象となる化合物の
加水分解性基と等モル以上、具体的には、例えば1.0
〜2.0倍モルであることが望ましい。また、加水分解
の反応系を均一化させる目的で、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロピルアルコールなどのアル
コール類などの溶媒を、水に対して10〜80重量%程
度添加することもできる。
The hydrolyzate of a perfluoroalkyl group-containing silane and an acrylic or methacryl-functional silane can be obtained as follows. That is,
Pure water is added to these compounds and mixed. Alternatively, acidic water to which an acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid, oxalic acid, citric acid or tartaric acid is added as a catalyst, or a base such as ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine or triethanolamine Is added as a catalyst and stirred. At this time, by controlling the amount of water added,
The degree of progress of the hydrolysis can be adjusted. In general, the amount of water to be added is at least equimolar to the hydrolyzable group of the compound to be hydrolyzed, specifically, for example, 1.0 mol.
Desirably, it is about 2.0 times mol. For the purpose of homogenizing the hydrolysis reaction system, a solvent such as alcohols such as methanol, ethanol, propanol and isopropyl alcohol can be added in an amount of about 10 to 80% by weight based on water.

【0016】金属酸化物微粒子は、粒子表面に水酸基を
有し、上述の加水分解物と脱水縮合反応が可能なもので
ある。この金属酸化物微粒子を配合することにより、ハ
ードコート膜の屈折率を低下させて低反射機能を付与
し、さらにハードコート膜に表面硬度、耐摩耗性を付与
することができる。金属酸化物微粒子としては、一般に
金属酸化物が水又は有機溶媒中に分散したコロイド状金
属酸化物が用いられる。金属酸化物微粒子の平均粒子径
は1〜100nm、好ましくは5〜100nm、さらに
好ましくは5〜70nmとされる。1nm未満である
と、ハードコート膜の表面硬度を向上させることができ
ない場合がある。また、100nmをこえると透明性が
低下するため不都合である。
The metal oxide fine particles have a hydroxyl group on the particle surface and can undergo a dehydration condensation reaction with the above-mentioned hydrolyzate. By blending the metal oxide fine particles, the refractive index of the hard coat film can be lowered to give a low reflection function, and further, the hard coat film can be given surface hardness and wear resistance. As the metal oxide fine particles, generally, a colloidal metal oxide in which a metal oxide is dispersed in water or an organic solvent is used. The average particle diameter of the metal oxide fine particles is 1 to 100 nm, preferably 5 to 100 nm, and more preferably 5 to 70 nm. If it is less than 1 nm, the surface hardness of the hard coat film may not be improved in some cases. On the other hand, if the thickness exceeds 100 nm, the transparency is disadvantageously reduced.

【0017】金属酸化物微粒子の具体例としては、シリ
カ、アルミナ、チタニア、アンチモン、酸化スズ、酸化
タングステンなどからなるものを例示することができ、
これらは1種あるいは2種以上混合して使用することが
できる。特に本発明においては、屈折率が比較的低く、
透明性が良好なコロイダルシリカが好適である。
Specific examples of the metal oxide fine particles include those composed of silica, alumina, titania, antimony, tin oxide, tungsten oxide and the like.
These can be used alone or in combination of two or more. In particular, in the present invention, the refractive index is relatively low,
Colloidal silica having good transparency is preferred.

【0018】上述の加水分解物と金属酸化物微粒子との
混合物は、加水分解物を製造した後に金属酸化物微粒子
を混合して製造してもよいし、予めパーフロロアルキル
基含有シランおよびアクリル又はメタクリル官能性シラ
ンに金属酸化物微粒子を配合したものを加水分解して得
ることもできる。
The above-mentioned mixture of the hydrolyzate and the metal oxide fine particles may be produced by mixing the metal oxide fine particles after producing the hydrolyzate, or may be prepared in advance by using a perfluoroalkyl group-containing silane and acrylic or It can also be obtained by hydrolyzing a mixture of methacryl-functional silane and fine metal oxide particles.

【0019】なお、(A)成分において、前記加水分解
の配合量は、パーフロロアルキル基含有シランとアクリ
ル又はメタクリル官能性シランが、金属酸化物微粒子の
表面に単分子層を形成できる量以上の量とされているこ
とが好ましい。具体的には、パーフロロアルキル基含有
シランとアクリル又はメタクリル官能性シランが、金属
酸化物微粒子の固形分100重量部に対し、0.5〜4
0重量部、好ましくは1.0〜20重量部となるように
配合される。
In the component (A), the amount of the hydrolysis is such that the perfluoroalkyl group-containing silane and the acrylic or methacryl-functional silane can form a monomolecular layer on the surface of the metal oxide fine particles. Preferably, it is an amount. Specifically, the perfluoroalkyl group-containing silane and the acryl or methacryl functional silane are used in an amount of 0.5 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the metal oxide fine particles.
0 parts by weight, preferably 1.0 to 20 parts by weight.

【0020】(B)多官能アクリレート又はメタクリレ
ート 多官能アクリレート又はメタクリレートは、ハードコー
トとしての表面硬度、耐擦傷性を満たす観点から(メ
タ)アクリロイル基を3個以上、実質的には3〜6個有
する化合物が好ましい。
(B) Polyfunctional acrylate or methacrylate The polyfunctional acrylate or methacrylate has at least three, substantially three to six, (meth) acryloyl groups from the viewpoint of satisfying surface hardness and scratch resistance as a hard coat. Is preferred.

【0021】具体的には、(メタ)アクリロイル基を3
個有する化合物としては、例えばトリメチロールプロパ
ントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変成
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プ
ロピレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリス[(メタ)アクリロキシ
エチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変成トリス
[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、ペ
ンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、アルキ
ル変成ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
トなどがあげられる。(メタ)アクリロイル基を4個有
する化合物としては、例えばトリメチロールプロパンテ
トラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、アルキル変成ジペンタエリス
リトールテトラ(メタ)アクリレートなどがあげられ
る。
Specifically, a (meth) acryloyl group is
Examples of the compound having trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanate Nurate, caprolactone-modified tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like. Examples of the compound having four (meth) acryloyl groups include trimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and alkyl-modified dipentaerythritol tetra (meth) acrylate.

【0022】(メタ)アクリロイル基を5個有する化合
物としては、例えばジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、アルキル変成ジペンタエリスリトー
ルペンタ(メタ)アクリレートなどがあげられる。(メ
タ)アクリロイル基を6個有する化合物としては、例え
ばジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、カプロラクトン変成ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート等があげられる。
Examples of the compound having five (meth) acryloyl groups include dipentaerythritol penta (meth) acrylate and alkyl-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate. Examples of the compound having six (meth) acryloyl groups include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like.

【0023】これらの化合物は、1種、あるいは2種以
上混合して用いることができる。また、これら例示した
化合物の中では、ジペンタエリスリトールペンタ(メ
タ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メ
タ)アクリレート、あるいはこれらを含む混合物が、耐
擦傷性の観点から特に好ましい。
These compounds can be used alone or in combination of two or more. Further, among these exemplified compounds, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, or a mixture containing these is particularly preferable from the viewpoint of scratch resistance.

【0024】また、(B)成分には、粘度調節用の反応
性希釈剤を配合することができる。例えば、比較的低粘
度の1、6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘ
キサンジオール(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレートなどの2官能以上のモノマー
及びオリゴマー並びに単官能モノマーなどである。
Further, a reactive diluent for adjusting viscosity can be blended with the component (B). For example, relatively low-viscosity 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Bifunctional or higher functional monomers and oligomers such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate, and monofunctional monomers.

【0025】具体的には、例えばN−ビニルピロリド
ン、エチルアクリレート、プロピルアクリレート等のア
クリル酸エステル類、エチルメタクリレート、プロピル
メタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチル
メタクリレート、ヘキシルメタクリレート、イソオクチ
ルメタクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ノニルフェニルメ
タクリレートなどのメタクリル酸エステル類;テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、およびそのカプロラク
トン変成物などの誘導体;スチレン、α-メチルスチレ
ン、アクリル酸などを配合することができ、これらは1
種あるいは2種以上混合して用いることができる。反応
性希釈剤の配合量は多官能アクリレート又はメタクリレ
ートに対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重
量%とされる。
Specifically, acrylates such as N-vinylpyrrolidone, ethyl acrylate, propyl acrylate, etc., ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, isooctyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate Methacrylates such as cyclohexyl methacrylate and nonylphenyl methacrylate; derivatives such as tetrahydrofurfuryl methacrylate and its modified caprolactone; styrene, α-methylstyrene, acrylic acid and the like.
They can be used alone or in combination of two or more. The amount of the reactive diluent is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight, based on the polyfunctional acrylate or methacrylate.

【0026】なお、これら(A)成分と(B)成分は、
低反射ハードコート樹脂組成物からなるハードコート膜
において、以下のように作用する。まず、(A)成分に
おいては、金属酸化物微粒子の表面の水酸基と加水分解
物のシラノール基が脱水縮合反応する結果、防汚性と低
屈折率化に寄与するパーフロロアルキル基と、ハードコ
ート膜の架橋硬化に寄与するアクリロイル又はメタクリ
ロイル基が、金属酸化微粒子表面に化学的に固定化され
ている。
The components (A) and (B) are
The hard coat film made of the low reflection hard coat resin composition acts as follows. First, in the component (A), a hydroxyl group on the surface of the metal oxide fine particles and a silanol group of the hydrolyzate undergo a dehydration condensation reaction, and as a result, a perfluoroalkyl group contributing to antifouling property and a low refractive index, An acryloyl or methacryloyl group contributing to crosslinking and curing of the film is chemically fixed on the surface of the metal oxide fine particles.

【0027】そして、例えば後述するように、(A)成
分と、適当な溶剤に分散、溶解した(B)成分を混合し
て低反射ハードコート樹脂組成物とし、これを基材に塗
布し、この塗膜を硬化させてハードコート膜を形成する
と、この形成工程の間に相対的に低表面エネルギーの
(A)成分が空気との界面、すなわち塗布膜の最表面に
移動する。その結果、表面側の(A)成分からなる上層
と、その下の(B)成分からなる下層を備えた相分離膜
構造が形成される。このとき、これら上層と下層との間
には(A)成分に配合された金属酸化微粒子によって明
確な界面が形成され、この界面の金属酸化微粒子が光学
干渉膜として機能する。
For example, as described later, the component (A) and the component (B) dispersed and dissolved in an appropriate solvent are mixed to form a low-reflection hard coat resin composition, which is applied to a substrate, When this coating film is cured to form a hard coat film, the component (A) having a relatively low surface energy moves to the interface with air, that is, to the outermost surface of the coating film during the formation process. As a result, a phase separation film structure including an upper layer composed of the component (A) on the surface side and a lower layer composed of the component (B) below the upper layer is formed. At this time, a clear interface is formed between the upper layer and the lower layer by the metal oxide fine particles blended in the component (A), and the metal oxide fine particles at this interface function as an optical interference film.

【0028】そして、好ましくは上層の光学膜厚が、ハ
ードコート膜の反射光の検出中心感度波長(検出された
波長スペクトルのピークの中心波長)λの1/4になる
ように設定することにより、低反射機能を実現すること
ができる。前記光学膜厚とは、(A)成分の屈折率nと
(A)成分からなる上層の膜厚dの積をいう。すなわ
ち、この関係は以下のような関係式 nd=λ/4 で表すことができる。また、膜厚dは(A)成分と
(B)成分の配合比により、調整することができる。な
お、λは、通常、可視光域(360〜830nm)であ
る。
Preferably, the optical thickness of the upper layer is set so as to be 1 / of the detection center sensitivity wavelength (center wavelength of the peak of the detected wavelength spectrum) λ of the reflected light of the hard coat film. , A low reflection function can be realized. The optical thickness refers to the product of the refractive index n of the component (A) and the thickness d of the upper layer composed of the component (A). That is, this relation can be expressed by the following relational expression nd = λ / 4. Further, the film thickness d can be adjusted by the mixing ratio of the component (A) and the component (B). Note that λ is usually in the visible light range (360 to 830 nm).

【0029】(C)光重合開始剤 (C)光重合開始剤としては、ラジカル発生型のベンゾ
イン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメ
チルケタールなどのベンゾインとそのアルキルエーテル
類;アセトフェノン、2、2、-ジメトキシ-2-フェニ
ルアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェ
ニルケトン、などのアセトフェノン類;メチルアントラ
キノン、2-エチルアントラキノン、2-アミルアントラ
キノンなどのアントラキノン類;チオキサントン、2、
4-ジエチルチオキサントン、2、4-ジイソプロピルチ
オキサントンなどのチオキサントン類;アセトフェノン
ジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケ
タール類;ベンゾフェノン、4、4-ビスメチルアミノ
ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類及びアゾ化合物
などを例示することができる。これらは単独又は2種以
上の混合物として使用できる。
(C) Photopolymerization initiator (C) Examples of the photopolymerization initiator include benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzyl methyl ketal, and alkyl ethers thereof. Acetophenones, such as acetophenone, 2,2, -dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; anthraquinones, such as methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, and 2-amylanthraquinone; thioxanthon, 2,
Thioxanthones such as 4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone and 4,4-bismethylaminobenzophenone; and azo compounds. Can be. These can be used alone or as a mixture of two or more.

【0030】また、(C)光重合開始剤は、トリエタノ
ールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第3級ア
ミン;2-ジメチルアミノエチル安息香酸、4-ジメチル
アミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体などの光開
始助剤などと組み合わせて使用することができる。
(C) Photopolymerization initiators include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine; and photobenzoic acid derivatives such as benzoic acid derivatives such as 2-dimethylaminoethylbenzoic acid and ethyl 4-dimethylaminobenzoate. It can be used in combination with a starting aid or the like.

【0031】(C)光重合開始剤の使用量は、重合性樹
脂成分100重量部に対して0.5〜20重量部、好ま
しくは1〜15重量部である。0.5重量%未満である
と重合の開始が困難で、20重量%をこえると効果が飽
和する。なお、重合性樹脂成分とは、(B)成分の多官
能アクリレート又はメタクリレートのことである。な
お、(C)光重合開始剤は必ずしも必須ではなく、後述
するように電子線を用いて低反射ハードコート樹脂組成
物を硬化させる場合は配合する必要はない。
The amount of the photopolymerization initiator (C) used is 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerizable resin component. If it is less than 0.5% by weight, it is difficult to initiate polymerization, and if it exceeds 20% by weight, the effect is saturated. In addition, the polymerizable resin component is a polyfunctional acrylate or methacrylate of the component (B). The photopolymerization initiator (C) is not necessarily essential, and need not be blended when the low-reflection hard coat resin composition is cured using an electron beam as described later.

【0032】さらに、本発明の低反射ハードコート樹脂
組成物には、必要に応じて有機もしくは無機微粒子など
を配合することができる。これら有機又は無微粒子を配
合することにより、防眩性を付与することができる。有
機もしくは無機微粒子の平均粒子径は0.1〜100μ
m、好ましくは0.5〜5.0μmとされる。0.1μ
m未満であると添加効果が得られず、100μmをこえ
るとハードコート膜の透過画像の解像度を低下させる場
合がある。
Further, the low-reflection hard coat resin composition of the present invention may optionally contain organic or inorganic fine particles. By blending these organic or non-fine particles, antiglare properties can be imparted. The average particle size of the organic or inorganic fine particles is 0.1 to 100 μm.
m, preferably 0.5 to 5.0 μm. 0.1μ
If it is less than m, the effect of addition cannot be obtained, and if it exceeds 100 μm, the resolution of the transmitted image of the hard coat film may be reduced.

【0033】有機微粒子として例えば、粒子内部に適度
な架橋構造を有しており、紫外線硬化樹脂やモノマー、
溶剤などによる膨潤が少ない硬質な微粒子などが好適で
ある。 例えば、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹
脂、スチレン-アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹
脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタ
ン樹脂、メラミン樹脂、スチレン-イソプレン系樹脂、
ベンゾグアナミン樹脂、あるいはこれらの樹脂などを主
成分とするミクロゲルなどを使用することができる。無
機微粒子としては、ハードコート膜の透明性の観点か
ら、シリカなどが好適である。
As the organic fine particles, for example, they have an appropriate cross-linking structure inside the particles, and may be made of an ultraviolet curable resin, a monomer,
Hard fine particles which hardly swell due to a solvent or the like are suitable. For example, styrene resin of particle internal cross-linking type, styrene-acrylic copolymer resin, acrylic resin, divinylbenzene resin, silicone resin, urethane resin, melamine resin, styrene-isoprene resin,
Benzoguanamine resins or microgels containing these resins as main components can be used. As the inorganic fine particles, silica and the like are preferable from the viewpoint of the transparency of the hard coat film.

【0034】有機又は無機微粒子の配合量は、低反射ハ
ードコート樹脂組成物に対して1〜30重量%、好まし
くは3〜15重量%とされる。1重量%未満であると添
加効果が得られず、30重量%をこえると効果が飽和す
る。
The compounding amount of the organic or inorganic fine particles is 1 to 30% by weight, preferably 3 to 15% by weight, based on the low reflection hard coat resin composition. If it is less than 1% by weight, the effect of addition cannot be obtained, and if it exceeds 30% by weight, the effect is saturated.

【0035】また、本発明の低反射ハードコート樹脂組
成物には、目的とする機能に影響を与えない範囲で、公
知の一般的な塗料添加剤を少量配合することもできる。
例えばレベリング、表面スリップ性などを付与するシリ
コーン系、フッソ系の添加剤は、ハードコート膜の表面
の傷つき防止に効果がある。さらに、これらの添加剤
は、後述するように樹脂組成物を硬化させる際に、活性
エネルギー線として紫外線を利用する場合は、これらの
添加剤が空気界面にブリードすることにより、酸素によ
る樹脂の硬化阻害を低下させることができる。したがっ
て、照射強度が比較的低い条件下においても低反射ハー
ドコート樹脂組成物を硬化させて被覆を形成することが
できる。シリコーン系、フッソ系の添加剤の添加量は、
低反射ハードコート樹脂組成物100重量部に対して
0.01〜0.5重量部が適当である。
The low-reflection hard coat resin composition of the present invention may contain a small amount of a known general paint additive within a range that does not affect the intended function.
For example, a silicone-based or fluorine-based additive that imparts leveling and surface slip properties is effective in preventing the surface of the hard coat film from being damaged. Furthermore, when ultraviolet rays are used as active energy rays when curing the resin composition as described below, these additives bleed to the air interface, thereby curing the resin with oxygen. Inhibition can be reduced. Therefore, the coating can be formed by curing the low-reflection hard coat resin composition even under the condition that the irradiation intensity is relatively low. The addition amount of silicone-based and fluorine-based additives
0.01 to 0.5 part by weight is appropriate for 100 parts by weight of the low reflection hard coat resin composition.

【0036】本発明においては、例えば、(A)成分
と、(B)成分を適当な溶剤に分散、あるいは溶解させ
たものと、(C)光重合開始剤などの他の成分を混合し
た低反射ハードコート樹脂組成物を、プラスチックなど
からなる基材の表面に塗布し、(C)光重合開始剤の活
性ネルギー線として紫外線などを照射することによっ
て、低反射機能と、耐引っ掻き性、耐擦り傷性、耐薬品
性などを備えた優れたハードコート膜を形成することが
できる。(B)成分を分散あるいは溶解させる溶剤とし
ては、特に限定しないが、2−ブタノン、イソプロピル
アルコール、トルエンなどを例示することができる。ま
た、溶剤の使用量は特に限定しないが、(B)成分に対
して10〜90重量%程度用いられる。
In the present invention, for example, a mixture of the component (A) and the component (B) dispersed or dissolved in an appropriate solvent and the component (C) mixed with another component such as a photopolymerization initiator is used. The reflective hard coat resin composition is applied to the surface of a substrate made of plastic or the like, and is irradiated with ultraviolet light or the like as an active energy ray of the photopolymerization initiator (C), thereby having a low reflection function, scratch resistance, and resistance to scratches. An excellent hard coat film having abrasion resistance, chemical resistance and the like can be formed. The solvent for dispersing or dissolving the component (B) is not particularly limited, and examples thereof include 2-butanone, isopropyl alcohol, and toluene. Although the amount of the solvent used is not particularly limited, it is used in an amount of about 10 to 90% by weight based on the component (B).

【0037】基材としては、このハードコート膜の低反
射機能を生かすために、上述のような光部品が好適であ
る。その材料は特に限定しないが、このハードコート膜
はプラスチックの保護に適した十分な硬度を有している
ため、プラスチック成形品が好適である。基材(プラス
チック成型品本体)を構成するプラスチックとしては用
途に応じて種々のものが選択されるが、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリメタクリル酸メチ
ル(PMMA)、ポリカーボネート(PC)、シアヌル
酸トリアリルエステル(TAC)、ポリエーテルスルホ
ン(PES)などを例示することができる。
As the substrate, the above-mentioned optical components are preferable in order to make use of the low reflection function of the hard coat film. The material is not particularly limited, but a plastic molded product is suitable because the hard coat film has a sufficient hardness suitable for protecting plastic. Various plastics are selected as the plastic constituting the base material (plastic molded product main body) depending on the application. Examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), and cyanuric acid triacrylate. Examples include allyl ester (TAC) and polyether sulfone (PES).

【0038】また、本発明の低反射ハードコート樹脂組
成物を用いると、基材の表面形状にそって(追従し
て)、均一な厚さの低反射機能層((A)成分からなる
上層)が形成される。したがって、上述のように防眩性
付与のために凹凸を形成した光部品などにおいても、設
計通りの性能を発揮させることができる。また、平滑な
表面にも基材の表面の形状通りの平滑な低反射機能層
を、特別な処理を行わずに形成することができる。な
お、ハードコート膜の膜厚は用途によって適宜設定され
るもので、特に限定しないが、例えば2〜20μm程度
とされる。
When the low-reflection hard coat resin composition of the present invention is used, an upper layer composed of the low-reflection functional layer (component (A)) having a uniform thickness along (following) the surface shape of the substrate. ) Is formed. Therefore, the performance as designed can be exhibited even in an optical component or the like in which irregularities are formed for imparting antiglare properties as described above. In addition, a smooth low-reflection functional layer having the same shape as the surface of the substrate can be formed on a smooth surface without performing any special treatment. The thickness of the hard coat film is appropriately set depending on the application, and is not particularly limited, but is, for example, about 2 to 20 μm.

【0039】なお、(C)光重合開始剤を配合し、その
活性エネルギー線として紫外線を用いる場合は、例えば
高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ドランプ、カーボンアーク、キセノンアークなどの光源
を利用することができる。一般に、フィラーを含まない
透明なハードコート膜に対しては高圧水銀灯が使用され
る。また、フィラーを含む場合や厚いハードコート膜を
硬化させるにはメタルハライドランプが一般的に使用さ
れる。
In the case where (C) a photopolymerization initiator is blended and ultraviolet rays are used as the active energy rays, a light source such as a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, a xenon arc, etc. Can be used. Generally, a high-pressure mercury lamp is used for a transparent hard coat film containing no filler. A metal halide lamp is generally used when a filler is contained or a thick hard coat film is cured.

【0040】電子線を利用して硬化させる場合は、
(C)光重合開始剤を含まない組成の光硬化性低反射ハ
ードコート樹脂組成物を用い、以下のような電子線を作
用させる。例えばコックロフトワルト型、バンデクラフ
型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミ
トロン型、高周波型などの各種電子線加速器から放出さ
れる50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeV
のエネルギーを有する電子線を利用することが好まし
い。
When curing using an electron beam,
(C) Using a photocurable low-reflection hard coat resin composition having a composition not containing a photopolymerization initiator, the following electron beam is applied. For example, 50 to 1000 KeV, preferably 100 to 300 KeV emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Wald type, Bande-Crafts type, Resonant transformer type, Insulated core transformer type, Linear type, Dynamitron type and High frequency type
It is preferable to use an electron beam having an energy of

【0041】[0041]

【実施例】以下、本発明を実施例を示して詳しく説明す
るが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
なお、「部」および「%」は特に断りがない限り、重量
基準である。 <実施例1>まず、以下のようにして(A)成分を製造
した。すなわち、トリデカフルオロオクチルトリメトキ
シシラン70g、3−アクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン30gに対し、イソプロピルアルコールを37
g加え、撹拌した後、0.05N希塩酸29gを約10
℃で30分かけて滴下し、さらに室温で6時間熟成させ
ることによって、トリデカフルオロオクチルトリメトキ
シシランと3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ンの加水分解物を製造した。ついで、トリデカフルオロ
オクチルトリメトキシシランと3−アクリロキシプロピ
ルトリメトキシシランの加水分解溶液50gとコロイダ
ルシリカのIPA分散液(IPA−ST:シリカ固形分
30wt%、日産化学社製)200gを混合し、室温で
4時間熟成させた。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
Note that “parts” and “%” are based on weight unless otherwise specified. <Example 1> First, the component (A) was produced as follows. That is, isopropyl alcohol was added to 37 g of tridecafluorooctyltrimethoxysilane and 30 g of 3-acryloxypropyltrimethoxysilane for 37 g.
g and stirred, then add 29 g of 0.05N diluted hydrochloric acid to about 10
The mixture was added dropwise at 30 ° C. over 30 minutes and then aged at room temperature for 6 hours to produce a hydrolyzate of tridecafluorooctyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Then, 50 g of a hydrolysis solution of tridecafluorooctyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane and 200 g of an IPA dispersion of colloidal silica (IPA-ST: silica solid content 30 wt%, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) were mixed. And aged at room temperature for 4 hours.

【0042】一方、(B)成分(ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート20g、ペンタエリスリトールト
リアクリレート60g、トリメチロールプロパントリア
クリレート20g、イソプロピルアルコール40g)
と、(C)成分(光重合開始剤)(Darocure
1173、日本チバガイギー社製)4g)を混合した。
On the other hand, the component (B) (20 g of dipentaerythritol hexaacrylate, 60 g of pentaerythritol triacrylate, 20 g of trimethylolpropane triacrylate, 40 g of isopropyl alcohol)
And (C) component (photopolymerization initiator) (Darocure)
1173, manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) 4 g).

【0043】そして、この(B)成分および(C)成分
に、(A)成分を1.6g配合することによって低反射
ハードコート樹脂組成物を作製した。
Then, a low-reflection hard coat resin composition was prepared by mixing 1.6 g of the component (A) with the components (B) and (C).

【0044】ついで、この低反射ハードコート樹脂組成
物を、厚さ150μmの両面易接着処理ポリエステルフ
ィルムの片面に、ワイヤーバーコーティングによって乾
燥膜厚が約5μmとなるように形成した後、塗膜側から
高圧水銀UVランプ(120W/cm)の紫外線を、積
算光量400mJ/m2の条件で照射し、硬化処理する
ことによってハードコート膜を作製した。得られたハー
ドコート膜を以下の方法で評価した。なお、このハード
コート膜においては、nd=λ/4の関係式を満足する
ように設計し、nは1.47、dは93.5nm、λは
550nmとした。
Then, the low-reflection hard coat resin composition was formed on one side of a 150 μm-thick double-sided easily-adhesive treated polyester film by wire bar coating so as to have a dry film thickness of about 5 μm. Irradiate ultraviolet rays from a high-pressure mercury UV lamp (120 W / cm) under the conditions of an integrated light quantity of 400 mJ / m 2 , and cured to form a hard coat film. The obtained hard coat film was evaluated by the following method. The hard coat film was designed to satisfy the relational expression of nd = λ / 4, where n was 1.47, d was 93.5 nm, and λ was 550 nm.

【0045】(1)光学特性 分光光度計により入射角5゜で550nmにおける反射
率を測定した。 (2)鉛筆硬度 異なる硬度の鉛筆を用い、1Kg荷重下で、JIS K
5400で示される試験法での傷の有無を判定した。 (3)耐擦傷性 #0000のスチールウールにより、ハードコート膜の
表面を400gの荷重をかけながら10回摩擦し、傷の
発生の有無および傷の程度を目視により観察し、以下の
判定基準にしたがって評価した。 A:傷の発生が全く認められない。 B:数本の細い傷が認められる。 C:無数の傷が認められる。
(1) Optical Characteristics The reflectance at 550 nm at an incident angle of 5 ° was measured by a spectrophotometer. (2) Pencil hardness JIS K using pencils of different hardness under 1 kg load
The presence or absence of scratches was determined by the test method indicated by 5400. (3) Scratch resistance The surface of the hard coat film was rubbed 10 times with a # 0000 steel wool while applying a load of 400 g, and the presence or absence of scratches and the degree of scratches were visually observed. Therefore, it was evaluated. A: No scratch is observed. B: Several fine scratches are observed. C: Countless scratches are observed.

【0046】ハードコート膜の反射率は1.9%であ
り、良好な低反射機能が得られた。また、鉛筆硬度は3
H、耐擦傷性はAであり、ハードコート膜としての機械
強度も良好であった。なお、(A)成分を配合せず、
(B)成分および(C)成分のみからなる組成物からハ
ードコート膜を形成したところ、その反射率は4.6%
であった。
The reflectivity of the hard coat film was 1.9%, and a good low reflection function was obtained. The pencil hardness is 3
H, Abrasion resistance was A, and mechanical strength as a hard coat film was also good. In addition, without blending the component (A),
When a hard coat film was formed from a composition comprising only the components (B) and (C), the reflectance was 4.6%.
Met.

【0047】<実施例2>実施例1の低反射ハードコー
ト樹脂組成物に架橋アクリル微粒子(MR−2G,平均
粒子径:0.9μm,総研化学社製)を加え、塗布乾燥
膜厚が5μmのときHaze値が10%となるように配
合量を調整した防眩性を付与した低反射ハードコート樹
脂組成物を作製し、ハードコート膜を形成した。なお、
Haze値は防眩性を評価する値であって、ASTM
D 1003−61にしたがって測定することができ
る。また、このハードコート膜においては、nd=λ/
4の関係式を満足するように設計し、nは1.47、d
は93.5nm、λは550nmとした。
Example 2 Crosslinked acrylic fine particles (MR-2G, average particle size: 0.9 μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) were added to the low reflection hard coat resin composition of Example 1, and the coating dry film thickness was 5 μm. At this time, a low-reflection hard coat resin composition having antiglare properties was prepared by adjusting the blending amount so that the Haze value became 10%, and a hard coat film was formed. In addition,
The Haze value is a value for evaluating the antiglare property, and is an ASTM value.
D 1003-61. Further, in this hard coat film, nd = λ /
4 is satisfied, n is 1.47, d
Was 93.5 nm and λ was 550 nm.

【0048】得られたハードコート膜の反射率は1.2
%であり、良好な低反射機能が得られた。また、鉛筆硬
度は2Hから3H、耐擦傷性はAであり、ハードコート
膜としての機械強度は良好であった。
The reflectance of the obtained hard coat film was 1.2.
%, And a good low reflection function was obtained. The pencil hardness was 2H to 3H, the scratch resistance was A, and the mechanical strength as a hard coat film was good.

【0049】<比較例>実施例2の低反射ハードコート
樹脂組成物において、(A)成分を配合しない樹脂組成
物を製造し、実施例1と同様の条件で硬化させ、乾燥膜
厚約5μmの下層膜を作製した。ついで、実施例1の
(A)成分に光重合開始剤(Darocure 117
3、日本チバガイギー社製)を5wt%配合した組成物
を、前記下層膜上に、上層膜の光学膜厚がnd=550
/4nmになるように濃度調整して塗布し、同様の条件
で硬化させ、下層膜の上に上層膜を形成し、ハードコー
ト膜とした。なお、nは1.47、dは93.5nmで
あった。
<Comparative Example> A resin composition without the component (A) was prepared from the low reflection hard coat resin composition of Example 2 and cured under the same conditions as in Example 1 to obtain a dry film thickness of about 5 μm. Was formed. Next, a photopolymerization initiator (Darocure 117) was added to the component (A) in Example 1.
3, a composition containing 5 wt% of Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) was coated on the lower film with an optical film thickness of nd = 550 of the upper film.
Coating was performed with the concentration adjusted to / 4 nm, and the coating was cured under the same conditions to form an upper film on the lower film to form a hard coat film. Note that n was 1.47 and d was 93.5 nm.

【0050】このハードコート膜の反射率は2.1%で
あり、(A)成分からなる層と(B)成分からなる層を
同時に形成してハードコート膜を得た実施例2の結果
(1.2%)より劣った。
The reflectivity of this hard coat film was 2.1%, and the result of Example 2 in which a layer composed of the component (A) and a layer composed of the component (B) were simultaneously formed to obtain a hard coat film ( 1.2%).

【0051】これは、比較例においては、(B)成分か
らなる下層膜と、(A)成分からなる上層膜を別々の工
程で形成したため、下層膜が基材表面の凹凸に追従せ
ず、凹部に厚く、凸部に薄く形成され、その結果、実施
例2のハードコート膜と比較して反射率が増加したもの
と考えられる。そして、このように設計通りの基材表面
の形状が得られなかったため、ハードコート膜の形成に
より、初期設計時の防眩性より低下し、Haze値が1
0%から7.4%に低下したものと考えられる。また、
鉛筆硬度は2H、耐擦傷性はBであり、ハードコートと
しての機械強度も低下した。これは、下層膜と上層膜と
の密着力が弱いことに起因するものと考えられる。
This is because, in the comparative example, the lower layer film composed of the component (B) and the upper layer film composed of the component (A) were formed in separate steps, so that the lower layer film did not follow the irregularities on the substrate surface. It is conceivable that the reflectance was increased as compared with the hard coat film of Example 2 as a result of being formed thicker in the concave portions and thinner in the convex portions. Then, since the shape of the substrate surface as designed was not obtained in this way, the formation of the hard coat film lowered the anti-glare property at the time of the initial design, and the Haze value was 1
It is considered that it decreased from 0% to 7.4%. Also,
The pencil hardness was 2H, the scratch resistance was B, and the mechanical strength as a hard coat was also reduced. This is considered to be due to weak adhesion between the lower film and the upper film.

【0052】このように本発明に係る実施例において
は、(A)成分と(B)成分との混合物からハードコー
ト被膜を形成するため、主にハードコート膜としての機
械的な特性を担う(B)成分からなる下層と、光部品に
適した低反射機能を担う(A)成分からなる上層をひと
つの工程で得ることができ、各層の特性を十分に発揮さ
せ、かつ各層の密着性が良好なハードコート膜が得られ
ることが明らかとなった。
As described above, in the embodiment according to the present invention, since the hard coat film is formed from the mixture of the component (A) and the component (B), it mainly has the mechanical properties as the hard coat film ( The lower layer composed of the component (B) and the upper layer composed of the component (A) having a low reflection function suitable for an optical component can be obtained in one step, and the properties of each layer can be sufficiently exhibited, and the adhesion of each layer can be improved. It became clear that a good hard coat film was obtained.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、相分離に基づく光学干渉膜の形成を特徴とするた
め、防眩性の付与を目的として微粒子をハードコート組
成物に配合し、塗膜表面に凹凸を形成する場合にも、こ
の表面の凹凸形状に追従した低屈折率の光学干渉膜をウ
ェットコーティングにて形成することができる。また、
一工程で低反射機能を有するハードコート膜を製造でき
るため、製品の低価格化が達成できる。
As described above, the present invention is characterized by the formation of an optical interference film based on phase separation, so that fine particles are blended in a hard coat composition for the purpose of imparting antiglare properties. Even when forming irregularities on the film surface, an optical interference film having a low refractive index that follows the irregularities on the surface can be formed by wet coating. Also,
Since a hard coat film having a low reflection function can be manufactured in one step, the cost of the product can be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 290/06 C08F 290/06 G02B 1/10 G02B 1/10 Z 1/11 A (72)発明者 大畑 浩一 東京都台東区台東1丁目5番1号 凸版印 刷株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA12 AA15 BB11 CC03 CC09 CC24 CC42 4J011 PA07 PA13 PA99 PB22 QA03 QA09 QA12 QA13 QA22 QA23 QA24 QA27 QA32 QA38 QA39 QB25 SA02 SA06 SA22 SA24 SA32 SA34 SA52 SA54 SA63 SA64 SA82 UA01 UA03 4J026 AA76 AB44 BA05 BA27 BA28 BA29 BA30 BA37 BA40 DB15 DB36 4J027 AF05 BA05 BA06 BA15 BA19 BA23 BA25 BA26 BA27 BA28 BA29 CA10 CA18 CA20 CB10 CC03 CC05 CC06 CD08 4J038 DL031 DL071 FA202 GA01 GA03 HA216 HA446 JA18 JA21 JB09 KA03 KA06 KA08 KA12 KA20 MA07 MA10 NA04 NA11 NA19 PA17 PA19 PB08 PC03 PC08 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) C08F 290/06 C08F 290/06 G02B 1/10 G02B 1/10 Z 1/11 A (72) Inventor Ohata Koichi 1-5-1, Taito, Taito-ku, Tokyo Toppan Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2K009 AA12 AA15 BB11 CC03 CC09 CC24 CC42 4J011 PA07 PA13 PA99 PB22 QA03 QA09 QA12 QA13 QA22 QA23 QA24 QA27 QA39 QA38 SA SA22 SA24 SA32. HA446 JA18 JA21 JB09 KA03 KA06 KA08 KA12 KA20 MA07 MA10 NA04 NA11 NA19 PA17 PA19 PB08 PC03 PC08

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)パーフロロアルキル基含有シラン
およびアクリル又はメタクリル官能性シランの加水分解
物と、金属酸化物微粒子との混合物と、(B)多官能ア
クリレート又はメタクリレートとを含むことを特徴とす
る低反射ハードコート樹脂組成物。
1. A composition comprising (A) a mixture of a perfluoroalkyl group-containing silane and a hydrolyzate of an acrylic or methacryl-functional silane and metal oxide fine particles, and (B) a polyfunctional acrylate or methacrylate. Low-reflection hard coat resin composition.
【請求項2】 請求項1に記載の低反射ハードコート樹
脂組成物において、(C)光重合開始剤を含むことを特
徴とする低反射ハードコート樹脂組成物。
2. The low reflection hard coat resin composition according to claim 1, further comprising (C) a photopolymerization initiator.
【請求項3】 前記パーフロロアルキル基含有シラン
が、下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1は1〜5個の炭素原子を有するアルキル基
を表し、nは1〜12の整数である。)で表される化合
物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の低反
射ハードコート樹脂組成物。
3. The perfluoroalkyl group-containing silane is represented by the following general formula (1): (Wherein R 1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 12). The low reflection hard coat resin composition according to the above.
【請求項4】 前記アクリル又はメタクリル官能性シラ
ンが、下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1は水素原子又はメチル基、R2は炭素数3〜
6の2価の有機基、R3、R4はそれぞれ置換又は非置換
の一価炭化水素基、aは0〜2の整数である。)で表さ
れる化合物であることを特徴とする請求項1〜3のいず
れか一項に記載の低反射ハードコート樹脂組成物。
4. The acrylic or methacryl-functional silane is represented by the following general formula (2): (Wherein, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 is
6, a divalent organic group, R 3 and R 4 are each a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and a is an integer of 0 to 2. The low-reflection hard coat resin composition according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the formula:
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項に記載の低
反射ハードコート樹脂組成物において、金属酸化物微粒
子の平均粒子径が5〜100nmであることを特徴とす
る低反射ハードコート樹脂組成物。
5. The low-reflection hard coat according to claim 1, wherein the metal oxide fine particles have an average particle diameter of 5 to 100 nm. Resin composition.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか一項に記載の低
反射ハードコート樹脂組成物において、平均粒子径0.
1〜100μmの無機もしくは有機微粒子を含むことを
特徴とする低反射ハードコート樹脂組成物。
6. The low-reflection hard coat resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the resin composition has an average particle size of 0.1.
A low-reflection hard coat resin composition comprising inorganic or organic fine particles of 1 to 100 μm.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の低
反射ハードコート樹脂組成物からなることを特徴とする
ハードコート膜。
7. A hard coat film comprising the low reflection hard coat resin composition according to any one of claims 1 to 6.
【請求項8】 請求項7に記載のハードコート膜におい
て、以下の関係式 nd=λ/4 (式中、nは(A)成分の屈折率、dは(A)成分から
なる層の膜厚、λはハードコート膜の反射光の検出中心
感度波長を示す。)を満足することを特徴とするハード
コート膜。
8. The hard coat film according to claim 7, wherein the following relational expression nd = λ / 4 (where n is a refractive index of the component (A) and d is a film of a layer composed of the component (A)) The thickness and λ indicate the detection center sensitivity wavelength of the reflected light of the hard coat film.).
【請求項9】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の低
反射ハードコート樹脂組成物を塗布し、硬化させること
を特徴とするハードコート膜の形成方法。
9. A method for forming a hard coat film, comprising applying and curing the low-reflection hard coat resin composition according to claim 1. Description:
【請求項10】 請求項7又は8に記載のハードコート
膜が設けられていることを特徴とするプラスチック成形
品。
10. A plastic molded article provided with the hard coat film according to claim 7. Description:
【請求項11】 請求項10に記載のプラスチック成形
品において、当該プラスチック成形品が光学部品である
ことを特徴とするプラスチック成形品。
11. The plastic molded product according to claim 10, wherein the plastic molded product is an optical component.
【請求項12】 プラスチック成形品本体に請求項1〜
6のいずれか一項に記載の低反射ハードコート樹脂組成
物を塗布し、硬化させることを特徴とするプラスチック
成形品の製造方法。
12. The plastic molded article body according to claim 1,
7. A method for producing a plastic molded product, comprising applying and curing the low-reflection hard coat resin composition according to any one of 6.
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004010425A1 (en) * 2002-07-24 2004-01-29 Tdk Corporation Actinic energy radiation hardenable composition for optical information medium and optical information medium therefrom
JP2005089536A (en) * 2003-09-12 2005-04-07 Jsr Corp Curable resin composition and antireflection coating
JP2006097003A (en) * 2004-08-31 2006-04-13 Jsr Corp Resin composition and antireflection coating
JP2007099726A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd Fluoroalkyl group-containing silyl compound, modified inorganic fine particle, curable composition containing the same and laminate
US7229686B2 (en) 2002-09-25 2007-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Antireflection film and making method
JP2007321049A (en) * 2006-05-31 2007-12-13 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating material for forming transparent coat and substrate with transparent coat
JPWO2006070707A1 (en) * 2004-12-28 2008-06-12 Jsr株式会社 Anti-reflection coating
JP2008156648A (en) * 2007-12-26 2008-07-10 Dainippon Printing Co Ltd Transparent hard coat layer, transparent hard coat material, and displaying device
JP2009533533A (en) * 2006-04-14 2009-09-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Compositions containing fluoroalkyl silicones and hydrosilicones
JP2009533535A (en) * 2006-04-14 2009-09-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Curable fluoroalkyl silicone composition
WO2011058847A1 (en) * 2009-11-12 2011-05-19 凸版印刷株式会社 Anti-reflection film and method for producing same
WO2011089787A1 (en) * 2010-01-22 2011-07-28 凸版印刷株式会社 Anti-reflective film and process for production thereof
JP2012251079A (en) * 2011-06-03 2012-12-20 Sekisui Chem Co Ltd Composition for forming gas barrier resin layer, gas barrier film using this and method for manufacturing it
JP2013134282A (en) * 2011-12-26 2013-07-08 Konica Minolta Inc Hard coat film, method for manufacturing hard coat film and polarizing plate
CN104109214A (en) * 2014-06-10 2014-10-22 蚌埠团结日用化学有限公司 A manufacturing technological process of polyacrylamide
WO2014171485A1 (en) * 2013-04-17 2014-10-23 日産化学工業株式会社 Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
WO2016063680A1 (en) * 2014-10-24 2016-04-28 日本化学工業株式会社 Polyester resin composition
CN106662672A (en) * 2014-06-30 2017-05-10 三星电子株式会社 Silica film, optical member, and polarizing member
CN111744747A (en) * 2020-07-06 2020-10-09 深圳市中暨复合材料有限公司 Manufacturing method of novel high-hardness micro-ceramic metal coating plate

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004010425A1 (en) * 2002-07-24 2004-01-29 Tdk Corporation Actinic energy radiation hardenable composition for optical information medium and optical information medium therefrom
US7229686B2 (en) 2002-09-25 2007-06-12 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Antireflection film and making method
JP2005089536A (en) * 2003-09-12 2005-04-07 Jsr Corp Curable resin composition and antireflection coating
JP2006097003A (en) * 2004-08-31 2006-04-13 Jsr Corp Resin composition and antireflection coating
JPWO2006070707A1 (en) * 2004-12-28 2008-06-12 Jsr株式会社 Anti-reflection coating
JP2007099726A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd Fluoroalkyl group-containing silyl compound, modified inorganic fine particle, curable composition containing the same and laminate
JP2009533533A (en) * 2006-04-14 2009-09-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Compositions containing fluoroalkyl silicones and hydrosilicones
JP2009533535A (en) * 2006-04-14 2009-09-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Curable fluoroalkyl silicone composition
KR101416610B1 (en) 2006-05-31 2014-07-08 니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 Paint for transparent film and transparent film coated substrate
JP2007321049A (en) * 2006-05-31 2007-12-13 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Coating material for forming transparent coat and substrate with transparent coat
TWI465532B (en) * 2006-05-31 2014-12-21 Jgc Catalysts & Chemicals Ltd Coating material for forming transparent coating film and a substrate with a transparent coating film
JP2008156648A (en) * 2007-12-26 2008-07-10 Dainippon Printing Co Ltd Transparent hard coat layer, transparent hard coat material, and displaying device
US9285512B2 (en) 2009-11-12 2016-03-15 Toppan Printing Co., Ltd. Anti-reflection film
WO2011058847A1 (en) * 2009-11-12 2011-05-19 凸版印刷株式会社 Anti-reflection film and method for producing same
WO2011089787A1 (en) * 2010-01-22 2011-07-28 凸版印刷株式会社 Anti-reflective film and process for production thereof
US9310526B2 (en) 2010-01-22 2016-04-12 Toppan Printing Co., Ltd. Anti-reflection film having layers with a binder matrix
JP2012251079A (en) * 2011-06-03 2012-12-20 Sekisui Chem Co Ltd Composition for forming gas barrier resin layer, gas barrier film using this and method for manufacturing it
JP2013134282A (en) * 2011-12-26 2013-07-08 Konica Minolta Inc Hard coat film, method for manufacturing hard coat film and polarizing plate
WO2014171485A1 (en) * 2013-04-17 2014-10-23 日産化学工業株式会社 Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
TWI640568B (en) * 2013-04-17 2018-11-11 日產化學工業股份有限公司 Curable composition containing siloxane oligomer and inorganic fine particle
KR20150143573A (en) * 2013-04-17 2015-12-23 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
KR102165717B1 (en) * 2013-04-17 2020-10-14 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
US10125267B2 (en) 2013-04-17 2018-11-13 Nissan Chemical Industries, Ltd. Curable composition including siloxane oligomer and inorganic fine particles
EP2987809A4 (en) * 2013-04-17 2016-12-07 Nissan Chemical Ind Ltd Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
CN105263967A (en) * 2013-04-17 2016-01-20 日产化学工业株式会社 Curable composition comprising siloxane oligomer and inorganic microparticles
JPWO2014171485A1 (en) * 2013-04-17 2017-02-23 日産化学工業株式会社 Curable composition containing siloxane oligomer and inorganic fine particles
CN105263967B (en) * 2013-04-17 2017-08-04 日产化学工业株式会社 Solidification compound comprising siloxane oligomer and inorganic particles
CN104109214A (en) * 2014-06-10 2014-10-22 蚌埠团结日用化学有限公司 A manufacturing technological process of polyacrylamide
CN106662672A (en) * 2014-06-30 2017-05-10 三星电子株式会社 Silica film, optical member, and polarizing member
US10466390B2 (en) 2014-06-30 2019-11-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Silica film, optical member, and polarizing member
JP6067938B2 (en) * 2014-10-24 2017-01-25 日本化学工業株式会社 Polyester resin composition
WO2016063680A1 (en) * 2014-10-24 2016-04-28 日本化学工業株式会社 Polyester resin composition
CN111744747A (en) * 2020-07-06 2020-10-09 深圳市中暨复合材料有限公司 Manufacturing method of novel high-hardness micro-ceramic metal coating plate
CN111744747B (en) * 2020-07-06 2022-05-17 深圳市中暨复合材料有限公司 Manufacturing method of novel high-hardness micro-ceramic metal coating plate

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