JP2001316489A - Polyolefin film - Google Patents

Polyolefin film

Info

Publication number
JP2001316489A
JP2001316489A JP2000134315A JP2000134315A JP2001316489A JP 2001316489 A JP2001316489 A JP 2001316489A JP 2000134315 A JP2000134315 A JP 2000134315A JP 2000134315 A JP2000134315 A JP 2000134315A JP 2001316489 A JP2001316489 A JP 2001316489A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
polyolefin
less
gas
gas barrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000134315A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Komatsu
松 弘 幸 小
Takeshi Harada
田 武 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2000134315A priority Critical patent/JP2001316489A/en
Publication of JP2001316489A publication Critical patent/JP2001316489A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyolefin film which has a smooth surface and is used for producing a gas-barrier film having a low gas permeability and an enhanced capability for storing food, medicines, electronic parts, mechanical parts, a metal powder, etc. SOLUTION: At least one surface of the polyolefin film is so smooth that the average surface roughness SRa measured about an area of at least 200 μm×200 μm is 20 nm or lower. Preferably, the number of projections having heights of 100 nm or higher and/or the number of pits having depths of 100 nm or deeper on the film surface is 2/0.1 mm2 or less.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、食品包装、医薬品包
装、電子部品包装や保護膜、機械部品包装、金属粉末包
装などに利用されるガスバリアーフィルムの基材として
用いられるポリオレフィン系フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyolefin-based film used as a base material of a gas barrier film used for food packaging, pharmaceutical packaging, electronic component packaging, protective film, mechanical component packaging, metal powder packaging and the like.

【0002】[0002]

【発明の技術的背景】従来、ポリオレフィン系フィルム
は、製膜性、透明性、成形性および防湿性に優れている
ことから、広く包装用途に使用されている。このなかで
も、ポリオレフィン系無延伸フィルムは、ヒートシール
性に優れることから、二軸延伸ポリプロピレンフィルム
や二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの
耐熱基材とラミネートされ、包装材料のヒートシール層
として用いられている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Hitherto, polyolefin-based films have been widely used for packaging because of their excellent film-forming properties, transparency, moldability and moisture-proof properties. Among them, polyolefin-based unstretched films are excellent in heat sealability, so they are laminated with a heat-resistant base material such as a biaxially oriented polypropylene film or a biaxially oriented polyethylene terephthalate film and used as a heat seal layer of a packaging material. I have.

【0003】このような包装材料のガスバリアー性を向
上する目的で、耐熱基材の表面に、塩化ビニリデン(P
VDC)コート層や酸化ケイ素、酸化アルミニウム、ア
ルミニウム(Al)などの蒸着層を形成することが試み
られている。より具体的には、耐熱基材の表面にPVD
C層を設けフィルム、耐熱基材の表面に蒸着層・接着層
・ポリオレフィン系フィルムを積層したフィルム、耐熱
基材の表面に印刷層・接着層・PVDCを積層したフィ
ルム、耐熱基材の片方の面にアルミニウム蒸着層を形成
し、他方の面に接着層・ポリオレフィン系フィルムを積
層したフィルムなどが知られている。
In order to improve the gas barrier properties of such packaging materials, vinylidene chloride (P) is coated on the surface of a heat-resistant substrate.
Attempts have been made to form a (VDC) coat layer or a deposited layer of silicon oxide, aluminum oxide, aluminum (Al), or the like. More specifically, PVD is applied to the surface of the heat-resistant substrate.
A film in which a layer C is provided, a film in which a vapor-deposited layer, an adhesive layer, and a polyolefin film are laminated on the surface of a heat-resistant substrate, a film in which a printed layer, an adhesive layer, and PVDC are laminated on the surface of a heat-resistant substrate, and one of the heat-resistant substrates. A film in which an aluminum vapor-deposited layer is formed on one surface and an adhesive layer / polyolefin-based film is laminated on the other surface is known.

【0004】しかしながら、PVDCは廃棄焼却時に塩
素系ガスが発生するために環境への悪影響が懸念されて
いる。また、アルミニウム蒸着層を設けた耐熱基材で
は、蒸着層の上に印刷層を設けるために、構成が複雑に
なり、コスト高になる問題があった。
[0004] However, PVDC is harmful to the environment due to the generation of chlorine-based gas during incineration of waste. Further, in the heat-resistant base material provided with the aluminum vapor-deposited layer, there is a problem that the configuration becomes complicated and the cost increases because the print layer is provided on the vapor-deposited layer.

【0005】そこで、フィルムの構成を簡略化し、かつ
コストダウンを図ることを目的として、耐熱基材を使用
せずに、ポリオレフィン系フィルムの上に、直接、酸化
ケイ素、アルミニウム、酸化アルミニウムを蒸着して蒸
着層を形成してガスバリアーフィルムを作製することが
試まれている。しかしながら、ポリオレフィン系フィル
ムはヤング率が低いので伸びやすいものが多く、また熱
寸法安定性が悪いものが多いことから、ラミネートする
際に、蒸着層にクラックが入ることがあり、またヒート
シール法にて製袋加工する際には、ヒートシール部の蒸
着層に細かいクラックが生じて、外観やガスバリアー性
が悪化するという問題があった。
Therefore, in order to simplify the structure of the film and reduce the cost, silicon oxide, aluminum and aluminum oxide are directly deposited on the polyolefin film without using a heat-resistant base material. It has been tried to form a gas barrier film by forming a vapor-deposited layer. However, many polyolefin films have low Young's modulus and are easily stretched, and many have poor thermal dimensional stability.Therefore, when laminating, cracks may be formed in the deposited layer, During the bag making process, there is a problem that fine cracks occur in the vapor-deposited layer of the heat-sealed portion, and the appearance and gas barrier properties are deteriorated.

【0006】こうした問題点を改良する目的で、特公平
5−55299号公報、特公平8−18404号公報に
は、融点の異なる2種のポリプロピレン層からなる積層
フィルムを使用してフィルム自体の熱寸法安定性を向上
させ、融点の高い方のポリプロピレン層の上にアルミニ
ウム蒸着層を形成することで、ヒートシール時における
蒸着層へのクラック発生を抑制したガスバリアーフィル
ムが提案されている。
For the purpose of remedying such a problem, Japanese Patent Publication No. 5-55299 and Japanese Patent Publication No. 8-18404 disclose a method of using a laminated film composed of two types of polypropylene layers having different melting points to form a film. There has been proposed a gas barrier film in which dimensional stability is improved and an aluminum vapor-deposited layer is formed on a polypropylene layer having a higher melting point, thereby suppressing the occurrence of cracks in the vapor-deposited layer during heat sealing.

【0007】また、特開平10−237188号公報に
は、表面性を改良し、寸法変化の小さい無延伸ポリプロ
ピレンフィルムを使用したガスバリアーフィルムが提案
されている。具体的には、この特開平10−23718
8号公報は、120℃15分間加熱後の長手方向の寸法
変化率の絶対値が2%以下であり、表面を原子間力顕微
鏡で観察したときに100nm以上の高さの突起数が10
個/250μm2以下であるポリオレフィン系無延伸フ
ィルムを用いて、該無延伸フィルムの表面に無機薄膜が
形成されたガスバリアーフィルムが提案がなされてい
る。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-237188 proposes a gas barrier film using a non-stretched polypropylene film having improved surface properties and small dimensional change. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-23718
No. 8 discloses that the absolute value of the dimensional change in the longitudinal direction after heating at 120 ° C. for 15 minutes is 2% or less, and the number of protrusions having a height of 100 nm or more is 10% when the surface is observed with an atomic force microscope.
A gas barrier film in which an inorganic thin film is formed on the surface of a non-stretched film using a polyolefin-based unstretched film having a particle size of 250 μm 2 or less has been proposed.

【0008】また、特開平11−140199号公報に
は、添加剤量を少なくし、加熱時に発生する揮発成分が
少なく、寸法変化の小さなポリオレフィン無延伸フィル
ムを使用したガスバリアーフィルムが提案されている。
この特開平11−140199号公報では、ポリオレフ
ィン系無延伸フィルムとして、高融点ポリオレフィン系
樹脂層、低融点ポリオレフィン系樹脂層が2層積層され
たものが例示されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-140199 proposes a gas barrier film using an unstretched polyolefin film having a small amount of additives, a small amount of volatile components generated during heating, and a small dimensional change. .
JP-A-11-140199 exemplifies a polyolefin-based unstretched film in which two high-melting-point polyolefin-based resin layers and two low-melting-point polyolefin-based resin layers are laminated.

【0009】しかしながら、これらの公報に記載された
ガスバリアーフィルムでは、必ずしもガスバリアー性が
充分ではなかった。また、従来より形成されていた金属
蒸着膜、または金属酸化物蒸着膜を設ける代わりに、炭
素系蒸着膜を設けることも提案されている。
However, the gas barrier films described in these publications do not always have sufficient gas barrier properties. It has also been proposed to provide a carbon-based deposition film instead of a conventionally formed metal deposition film or metal oxide deposition film.

【0010】たとえば、特開平9−272567号公報
には、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム
の表面に、硬質炭素のコーティング膜を形成したガスバ
リアーフィルムが提案されている。また、本出願人は、
特開平10−249986号公報および特開平11−0
70152号公報において、水素濃度が50原子%以下
であり、かつ、酸素濃度が2〜20原子%のダイヤモン
ド状炭素膜を、プラスチックフィルムの表面に形成する
ことによりガスバリアー性が改善したフィルムを提案し
ている。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-272567 proposes a gas barrier film in which a hard carbon coating film is formed on the surface of a polyethylene film or a polypropylene film. In addition, the applicant has
JP-A-10-249986 and JP-A-11-0
Japanese Patent No. 70152 proposes a film having improved gas barrier properties by forming a diamond-like carbon film having a hydrogen concentration of 50 atomic% or less and an oxygen concentration of 2 to 20 atomic% on the surface of a plastic film. are doing.

【0011】しかしながら、これらのガスバリアーフィ
ルムであっても、ガスバリアー性は必ずしも満足しうる
ものではなかった。さらにまた、ポリプロピレンフィル
ムと蒸着薄膜との密着性を向上させるため、リエステル
樹脂やウレタン樹脂等のアンカーコート剤をポリプロピ
レンフィルム表面にアンカーコートしたガスバリアーフ
ィルム(特開平10−235777号公報参照)やPV
A樹脂等が無機酸化物薄膜の保護層として設けられたガ
スバリアーフィルム(特開平10−329286号公報
参照)なども提案されているが、製造コストが高くなる
上に、得られるフィルムの特性も必ずしも満足しうるも
のではなかった。
However, even with these gas barrier films, the gas barrier properties have not always been satisfactory. Furthermore, in order to improve the adhesion between the polypropylene film and the vapor-deposited thin film, a gas barrier film (see JP-A-10-235777) in which an anchor coating agent such as a ester resin or a urethane resin is anchor-coated on the polypropylene film surface is used.
A gas barrier film in which A resin or the like is provided as a protective layer of an inorganic oxide thin film (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-329286) has also been proposed, but the production cost is high and the properties of the obtained film are also high. It was not always satisfactory.

【0012】このような情況のもと、本発明者らは、優
れた特性を有するガスバリアーフィルムについて鋭意検
討した結果、無機化合物薄膜を形成するフィルム表面の
平滑性をできるかぎり高くすれば、ガスバリアー性に優
れたフィルムを得られることを見出した。なお、表面平
滑性が低いフィルムでは、ガスバリアー膜を成膜する際
に、たとえば突起があると突起部が影を作るため、ピン
ホールのような欠陥を生じ、また窪みがあると、窪み部
分にはガスバリアー膜を形成できないために同じくピン
ホールのような欠陥を生じ、ガスバリアー性が低下する
おそれがある。
Under these circumstances, the present inventors have conducted intensive studies on a gas barrier film having excellent characteristics. As a result, if the surface of the film on which the inorganic compound thin film is formed is made as smooth as possible, the gas barrier film can be obtained. It has been found that a film having excellent barrier properties can be obtained. In the case of a film having a low surface smoothness, when a gas barrier film is formed, for example, if there is a projection, a projection forms a shadow, so that a defect such as a pinhole occurs. Cannot form a gas barrier film, so that a defect such as a pinhole may also occur, and the gas barrier property may be reduced.

【0013】そして、さらに検討を加えた結果、200
μm×200μm以上の面積について測定された平均面
粗さSRaが20nm以下である平滑表面を有するポリオ
レフィン系フィルムを用いることによって、このポリオ
レフィン系フィルム表面に無機化合物薄膜を形成すれ
ば、極めてガスバリアー性の高いフィルムが得られるこ
とを見出し本発明を完成するに至った。
Further, as a result of further study, 200
By using a polyolefin-based film having a smooth surface having an average surface roughness SRa of 20 nm or less measured for an area of at least 200 μm × 200 μm, if an inorganic compound thin film is formed on the surface of the polyolefin-based film, extremely gas barrier properties can be obtained. The present inventors have found that a film having a high particle size can be obtained, and have completed the present invention.

【0014】なお、ポリエステル系ガスバリアフィルム
では、特定の表面平滑性を有するフィルム表面に酸化ア
ルミニウムなどの無機化合物からなる蒸着層を設けたガ
スバリアー性フィルムが提案されている。たとえば、特
開平11−320794号公報には、中心面平均粗さ
(SRa)が0.1nm≦SRa≦80nmの範囲にあ
り、フィルム表面の山の数(SPc)が2個/0.1mm
2≦SPc≦150個/0.1mm2の範囲にあり、SRa
/SPc ≧ 0.23nm/個を満足する二軸配向ポリ
エステルフイルムの表面に蒸着層を設けてガスバリアー
フィルムが記載されている。しかしながら、この特開平
11−320794号公報のようなポリエステル系のフ
ィルムでは、必ずしもヒートシール性が良くないため、
包装材料として使用するためには、ヒートシール層をラ
ミネートする必要が生じる場合がある。また、無機化合
物層を保護する目的でラミネーションを行う場合もあ
る。ポリエステル系フィルムや表面に形成された無機化
合物層はヒートシール層との熱接着性がよくないので溶
融押出ラミのような方法では剥離しやすいという欠点が
ある。このため、酢酸エチル等の有機溶媒にイソシアネ
ート系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリイミド系
等の接着剤を分散した溶液等を用いたドライラミが主に
行われている。しかしながら、上記のような技術では有
機溶媒がフィルム中に残り使用中または保存中に内容液
に移行するため、輸液バッグ等の直接人体に投与する薬
液を保存する包装形態には使うことができない。また食
品包装においては内容物の味覚を損なうおそれがある。
また、ポリエステル系フィルムは概して堅いため、輸送
時の振動等ピンホールが発生しやすく、内容物の保持安
定性が十分でなかった。
As a polyester-based gas barrier film, a gas barrier film having a vapor-deposited layer made of an inorganic compound such as aluminum oxide on the surface of a film having a specific surface smoothness has been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-320794 discloses that the center plane average roughness (SRa) is in the range of 0.1 nm ≦ SRa ≦ 80 nm, and the number of peaks (SPc) on the film surface is 2 / 0.1 mm.
2 ≦ SPc ≦ 150 pieces / 0.1mm 2 , SRa
A gas barrier film is described in which a vapor deposited layer is provided on the surface of a biaxially oriented polyester film satisfying /SPc≧0.23 nm / piece. However, a polyester film as disclosed in JP-A-11-320794 does not always have good heat sealing properties,
For use as a packaging material, it may be necessary to laminate a heat seal layer. In some cases, lamination is performed for the purpose of protecting the inorganic compound layer. The polyester-based film and the inorganic compound layer formed on the surface have a poor heat-adhesive property to the heat-sealing layer, and thus have a disadvantage that they are easily peeled off by a method such as melt extrusion lamination. For this reason, dry lamination using a solution or the like in which an isocyanate-based, polyester-based, polyamide-based, or polyimide-based adhesive is dispersed in an organic solvent such as ethyl acetate is mainly performed. However, in the technique described above, the organic solvent remains in the film and migrates to the liquid content during use or storage. Therefore, it cannot be used in a packaging form such as an infusion bag for storing a drug solution to be directly administered to a human body. In food packaging, the taste of the contents may be impaired.
In addition, since the polyester-based film is generally hard, pinholes such as vibration during transportation are easily generated, and the holding stability of the contents is not sufficient.

【0015】[0015]

【発明の目的】本発明は、気体透過性を低く、食品、医
薬品、電子部品、機械部品、金属粉末等の保存性を高め
たガスバリアーフィルムを製造するために用いられる表
面平滑なポリオレフィン系フィルムを提供することを目
的としている。
An object of the present invention is to provide a polyolefin-based film having a low gas permeability and having a smooth surface which is used for producing a gas barrier film having improved preservability of foods, pharmaceuticals, electronic parts, mechanical parts, metal powders and the like. It is intended to provide.

【0016】[0016]

【発明の概要】本発明に係るポリオレフィン系フィルム
は、200μm×200μm以上の面積について測定さ
れた平均面粗さSRaが20nm以下である平滑表面を、
片面または両面に有することを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION A polyolefin film according to the present invention has a smooth surface having an average surface roughness SRa of 20 nm or less measured on an area of 200 μm × 200 μm or more.
It is characterized by having it on one side or both sides.

【0017】このようなポリオレフィン系フィルムの表
面に存在する100nm以上の突起および/または100
nm以上の深さの窪みの数が、2個/0.1mm2より少
ないことが好ましい。
The projections and / or 100 nm or more present on the surface of such a polyolefin film.
It is preferable that the number of depressions having a depth of at least nm is less than 2 / 0.1 mm 2 .

【0018】ポリオレフィン系フィルムは、必ずしも透
明である必要はないが、輸液バッグ等のように内容物の
量や色を確認したい包装容器や液晶ディスプレイや太陽
電池の保護等に用いる場合には、透明なフィルムである
ことが好ましい。ここで透明なフィルムとは、光線透過
率80%以上であることが好ましく、さらに好ましくは
90%以上である。このような透明フィルムを基材フィ
ルムとして用いることにより、ガスバリアー膜形成後に
光線透過率80%以上のガスバリアーフィルムを提供す
ることができる。
The polyolefin-based film is not necessarily required to be transparent. However, when the film is used for protecting a container, a liquid crystal display, a solar cell, or the like for which the quantity and color of the contents are to be confirmed, such as an infusion bag, the transparent film is used. It is preferable that the film is a transparent film. Here, the transparent film preferably has a light transmittance of 80% or more, and more preferably 90% or more. By using such a transparent film as the base film, a gas barrier film having a light transmittance of 80% or more after forming the gas barrier film can be provided.

【0019】ポリオレフィン系フィルムとしては、ポリ
エチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムまたは、環
状オレフィン共重合体フィルムが好適である。また、ポ
リオレフィン系フィルムが2種類以上のポリオレフィン
系フィルムが積層された多層構造を有するフィルムも好
適に用いることができる。
As the polyolefin film, a polyethylene film, a polypropylene film or a cyclic olefin copolymer film is preferred. In addition, a film having a multilayer structure in which two or more types of polyolefin-based films are laminated is also preferably used.

【0020】上記ポリオレフィン系フィルム中に含まれ
ている添加剤の総量は、0.5重量%以下であること好
ましい。また上記ポリオレフィン系フィルム中に含まれ
ているブロッキング防止剤の量が0.01重量%以下で
あることが好ましい。
The total amount of additives contained in the polyolefin film is preferably 0.5% by weight or less. The amount of the antiblocking agent contained in the polyolefin film is preferably 0.01% by weight or less.

【0021】また、上記ポリオレフィン系フィルムは、
フィルムを構成するポリオレフィンを溶融させ、シート
状に成形したものを、直ちに金属ロールを巻き付けて急
冷させて得られたものであって、このとき成形条件が、
成形温度をTb(℃)とし、金属ロール表面の温度をTr
(℃)としたときに、TbとTrとが以下の関係式を満足
しているものが好ましい。
The above-mentioned polyolefin film is
The polyolefin constituting the film was melted and molded into a sheet, which was immediately wrapped around a metal roll and quenched, and the molding conditions were:
The molding temperature is Tb (° C), and the temperature of the metal roll surface is Tr
When (° C.), Tb and Tr preferably satisfy the following relational expression.

【0022】Tr≦Tb−150 [℃] 本発明に係るポリオレフィン系フィルムは、120℃、
15分の条件で加熱した時の寸法変化率が4%以下、特
に2%以下であることが好ましい。
Tr ≦ Tb−150 [° C.] The polyolefin-based film according to the present invention has a temperature of 120 ° C.
The dimensional change when heated under the condition of 15 minutes is preferably 4% or less, particularly preferably 2% or less.

【0023】また、本発明に係るポリオレフィン系フィ
ルムは、130℃、5分の条件で加熱した時に発生する
揮発成分量が300μg/g以下であることが好まし
い。
In the polyolefin film according to the present invention, the amount of volatile components generated when heated at 130 ° C. for 5 minutes is preferably 300 μg / g or less.

【0024】[0024]

【発明の具体的説明】以下、本発明に係るポリオレフィ
ン系フィルムについて具体的に説明する。本発明に係る
ポリオレフィン系フィルムは、200μm×200μm
以上の面積について測定された平均面粗さSRaが20n
m以下である平滑表面を、片面または両面に有すること
を特徴としている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, the polyolefin film according to the present invention will be specifically described. The polyolefin-based film according to the present invention is 200 μm × 200 μm
The average surface roughness SRa measured for the above area is 20 n
It has a smooth surface of not more than m on one or both sides.

【0025】平均粗さの数値は、測定する方法や範囲に
よって変化する。測定面積が狭いと数の少ない突起を測
定しないため、粗さを小さく見積もってしまうおそれが
ある。また、中心線平均粗さのようにある長さの直線範
囲で粗さを測定する場合でも、突起部が測定された場合
には粗さを大きく見積もることになるが、そうでない場
合にはやはり粗さを小さく見積もってしまう。また、最
大高低差のような量は広い面積で測定した場合に、粗さ
を大きく見積もり過ぎるので好ましくない場合がある。
したがって、ある範囲の面積以上で測定した平均面粗さ
を用いることが好ましい。平均面粗さとは、JIS B0
601で定義されている中心線平均粗さRaを測定面に
適用できるように拡張したものある。すなわち、SRa
は、「基準面から指定面までの偏差の絶対値を平均した
値」と表現することができ、次式で与えられる。
The numerical value of the average roughness varies depending on the measuring method and range. If the measurement area is small, a small number of protrusions will not be measured, and the roughness may be underestimated. Also, even when measuring roughness in a linear range of a certain length, such as the center line average roughness, if the protrusion is measured, the roughness will be largely estimated, but if not, it will still be Roughness is underestimated. Further, the amount such as the maximum height difference is not preferable because the roughness is overestimated when measured over a large area.
Therefore, it is preferable to use the average surface roughness measured in a certain area or more. The average surface roughness is JIS B0
The center line average roughness Ra defined by 601 is extended so as to be applicable to the measurement surface. That is, SRa
Can be expressed as “a value obtained by averaging the absolute values of the deviations from the reference plane to the designated plane”, and is given by the following equation.

【0026】SRa=(1/S0)∫∫|F(X,Y)
−Z0|dXdY (式中、S0は測定した面積を示し、F(X,Y)は、
位置(X,Y)における測定面の高さを示し、Z0は基
準面の高さを示す。
SRa = (1 / S 0 ) ∫∫ | F (X, Y)
−Z 0 | dXdY (where S 0 represents the measured area, and F (X, Y) is:
The height of the measurement plane at the position (X, Y) is shown, and Z 0 is the height of the reference plane.

【0027】本発明のポリオレフィン系フィルムにおい
ては、少なくとも200μm×200μmの範囲で測定
した平均面粗さが、20nm以下であることが好まし
く、さらに好ましくは15nm以下が望ましく、特に1
0nm以下であるような高分子フィルムを用いることが
望ましい。なお、このような表面粗さは、通常触針型顕
微鏡を用いて測定する。
In the polyolefin-based film of the present invention, the average surface roughness measured in a range of at least 200 μm × 200 μm is preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, and particularly preferably 1 nm or less.
It is desirable to use a polymer film having a thickness of 0 nm or less. In addition, such a surface roughness is usually measured using a stylus type microscope.

【0028】また、本発明に係るポリオレフィン系フィ
ルムは、表面に存在する高さ100nm以上の突起および
/または100nm以上の深さの窪みの数が、2個/
0.1mm2より少ないことが好ましい(突起および窪み
が双方とも存在する場合、合計の個数をいう)。表面の
突起は、0.01以上の勾配(突起の高さ/突起のすそ
野からピークまでの水平距離)を有するものをいう。ま
た表面の窪みは、0.01以上の勾配(窪みの深さ/窪
みのすそ野から最深部までの水平距離)を有するものを
いう。このような突起および窪みはガスバリアーフィル
ムのガスバリアー性を劣化させる原因となることがあ
る。
In the polyolefin film according to the present invention, the number of protrusions having a height of 100 nm or more and / or depressions having a depth of 100 nm or more on the surface is 2 /
It is preferably less than 0.1 mm 2 (when both protrusions and depressions are present, it refers to the total number). The protrusion on the surface has a gradient of 0.01 or more (height of the protrusion / horizontal distance from the base of the protrusion to the peak). The surface depression has a gradient of 0.01 or more (depth of the depression / horizontal distance from the base of the depression to the deepest part). Such protrusions and depressions may cause deterioration of the gas barrier properties of the gas barrier film.

【0029】突起および/または窪み数の測定は、通
常、原子間力顕微鏡(AFM)で行われる。以上のよう
な特性を有するポリオレフィン系フィルムは表面が極め
て平滑である。本発明に係るポリオレフィン系フィルム
では、このような平滑表面が片面に形成されていてもよ
く、また両面に形成されていてもよい。本発明に係るポ
リオレフィン系フィルムをガスバリアーフィルムとして
使用する場合、平滑表面は、ガスバリアー層(無機化合
物層)の形成面に形成されていることが望ましい。
The measurement of the number of protrusions and / or depressions is usually performed by an atomic force microscope (AFM). The surface of the polyolefin-based film having the above characteristics is extremely smooth. In the polyolefin-based film according to the present invention, such a smooth surface may be formed on one side, or may be formed on both sides. When the polyolefin-based film according to the present invention is used as a gas barrier film, the smooth surface is desirably formed on the surface on which the gas barrier layer (inorganic compound layer) is formed.

【0030】このようなポリオレフィン系フィルムは、
必ずしも透明である必要はないが、輸液バッグ等のよう
に内容物の量や色を確認したい包装容器や液晶ディスプ
レイや太陽電池の保護等に用いる場合には、透明なフィ
ルムであることが好ましい。ここで透明なフィルムと
は、光線透過率80%以上であることが好ましく、さら
に好ましくは90%以上である。このような透明フィル
ムを基材フィルムとして用いることにより、ガスバリア
ー膜形成後に光線透過率80%以上のガスバリアーフィ
ルムを提供することができる。
Such a polyolefin film is
It is not necessary to be transparent, but when it is used for protection of a packaging container, a liquid crystal display, a solar cell, or the like, such as an infusion bag or the like, whose contents are desired to be confirmed, a transparent film is preferable. Here, the transparent film preferably has a light transmittance of 80% or more, and more preferably 90% or more. By using such a transparent film as the base film, a gas barrier film having a light transmittance of 80% or more after forming the gas barrier film can be provided.

【0031】ポリオレフィン系フィルムとしては、エチ
レン、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセ
ン、3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、ポリ3-
エチル-1-ペンテン、ポリ4-メチル-1-ペンテン、ポリ4-
メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ヘキセン、4,4-ジ
メチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセン、3-エチル-1
-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テ
トラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセンおよび1-
エイコセンなどのα-オレフィンの重合体からなるもの
が使用される。特に、本発明では、ポリエチレンフィル
ムまたはポリプロピレンフィルムが好適である。
Examples of the polyolefin-based film include ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, poly-3-
Ethyl-1-pentene, poly 4-methyl-1-pentene, poly 4-
Methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1
-Hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene and 1-
A polymer composed of a polymer of α-olefin such as eicosene is used. Particularly, in the present invention, a polyethylene film or a polypropylene film is preferable.

【0032】また、本発明に係るポリオレフィン系フィ
ルムとしては、環状オレフィン(共)重合体フィルムも
好適である。環状オレフィンとしては、シクロペンテ
ン、シクロへプテン、ノルボルネン、5-メチル-2-ノル
ボルネン、テトラシクロドデセン、ビニルシクロヘキサ
ンなどが挙げられる。環状オレフィン系(共)重合体
は、これらの環状オレフィンの単独重合体であっても、
前記したα-オレフィンとの共重合体であってもよい。
As the polyolefin-based film according to the present invention, a cyclic olefin (co) polymer film is also suitable. Examples of the cyclic olefin include cyclopentene, cycloheptene, norbornene, 5-methyl-2-norbornene, tetracyclododecene, vinylcyclohexane, and the like. Even if the cyclic olefin-based (co) polymer is a homopolymer of these cyclic olefins,
It may be a copolymer with the above-mentioned α-olefin.

【0033】また、ポリオレフィン系フィルムは、上記
した2種以上のポリオレフィン系フィルムが積層された
多層構造を有するフィルムであってもよい。好ましい2
種以上の組み合わせとしては、高融点のポリプロピレン
/低融点のポリプロピレン、ポリプロピレン/ポリエチ
レン、環状オレフィン(共)重合体/ポリプロピレン、
環状オレフィン(共)重合体/ポリエチレン等が挙げら
れる。
The polyolefin-based film may be a film having a multilayer structure in which two or more of the above-mentioned polyolefin-based films are laminated. Preferred 2
As combinations of more than one kind, high melting point polypropylene / low melting point polypropylene, polypropylene / polyethylene, cyclic olefin (co) polymer / polypropylene,
Cyclic olefin (co) polymer / polyethylene and the like.

【0034】本発明で用いられるポリオレフィン系フィ
ルムに用いられる重合体のメルトフローレート(MF
R)は比較的大きいことが望ましい。これは後述するよ
うに添加剤を少なくしているため、低い温度で製膜する
必要があるためである。このため、ポリオレフィン系フ
ィルムに用いられる重合体は融点が低く、密度の小さい
ものが好ましい。
The polymer used in the polyolefin film used in the present invention has a melt flow rate (MF)
R) is preferably relatively large. This is because it is necessary to form a film at a low temperature because the amount of additives is reduced as described later. For this reason, the polymer used for the polyolefin-based film preferably has a low melting point and a low density.

【0035】たとえば、ポリプロピレンを使用する場合
には、MFR(ASTM D1238 、230℃、2.
16kg)は、3〜40g/10分の範囲にあるものが
好ましい。またポリプロピレンの密度は、0.900〜
0.920g/cm3、好ましくは0.910〜0.920g
/cm3の範囲にあることが望ましい。さらにポリプロピレ
ンの融点は、140〜170℃、好ましくは145〜1
65℃の範囲にあることが望ましい。
For example, when polypropylene is used, the MFR (ASTM D1238, 230 ° C., 2.
16 kg) is preferably in the range of 3 to 40 g / 10 minutes. The density of polypropylene is 0.900
0.920 g / cm 3 , preferably 0.910 to 0.920 g
It is preferably in the range of / cm 3 . Further, the melting point of polypropylene is 140-170 ° C., preferably 145-1 ° C.
It is desirable to be in the range of 65 ° C.

【0036】また、ポリエチレンを使用する場合は低温
で製膜可能であるので、MFRの値は制限されるもので
はないが、作製されるフィルムの耐熱性を考慮して、M
FR(ASTM D1238 、230℃、2.16k
g)は、0.5〜5g/10分の範囲にあることが好ま
しい。またポリエチレンの密度は、0.910〜0.9
50g/cm3、好ましくは0.910〜0.940g/cm3
範囲にあることが望ましい。さらにポリエチレンの融点
は、100〜130℃、好ましくは110〜130℃の
範囲にあることが望ましい。
When polyethylene is used, since the film can be formed at a low temperature, the value of MFR is not limited.
FR (ASTM D1238, 230 ° C, 2.16k
g) is preferably in the range of 0.5 to 5 g / 10 minutes. The density of polyethylene is 0.910 to 0.9.
50 g / cm 3, preferably is desirably in the range of 0.910~0.940g / cm 3. Further, the melting point of polyethylene is desirably in the range of 100 to 130 ° C, preferably 110 to 130 ° C.

【0037】本発明に係るポリオレフィン系フィルムで
は、含まれている添加剤の総量を少なくすることが望ま
しく、総量で0.5重量%以下、好ましくは0.2重量
%以下であることが望ましい。添加剤量が前記範囲より
多いと表面にブリードアウトする量が多くなり、表面の
平滑性が阻害されることがある。
In the polyolefin film according to the present invention, it is desirable to reduce the total amount of additives contained, and it is desirable that the total amount be 0.5% by weight or less, preferably 0.2% by weight or less. If the amount of the additive is more than the above range, the amount of bleeding out to the surface increases, and the smoothness of the surface may be hindered.

【0038】このような本発明に係るポリオレフィン系
フィルムに含まれていてもよい添加剤としては、ブロッ
キング防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、塩素捕獲剤等が
挙げられる。
Examples of the additives that may be contained in the polyolefin-based film according to the present invention include an antiblocking agent, a heat stabilizer, an antioxidant, and a chlorine scavenger.

【0039】ブロッキング防止剤としては、液体または
固体パラフィン、合成ワックス、ポリエチレンワック
ス、天然蝋等のワックス類、シリコーン、脂肪酸アマイ
ド等の有機系ブロッキング防止剤およびタルク(滑
石)、珪藻土、カオリン(陶土)、酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、ゼオライト等の無機系ブロッキング
防止剤が挙げられる。これらは、混合して使用してもよ
い。
Examples of the antiblocking agent include liquid or solid paraffin, synthetic wax, polyethylene wax, waxes such as natural wax, organic antiblocking agents such as silicone and fatty acid amide, and talc (talc), diatomaceous earth, and kaolin (porcelain clay). And inorganic blocking inhibitors such as silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate and zeolite. These may be used as a mixture.

【0040】このようなブロッキング防止剤は、球形粒
子状のものが好ましく、粒径は1〜6μmの範囲にある
ことが望ましい。また、ポリオレフィン系フィルム中に
含まれているブロッキング防止剤の量は、0.01重量
%以下、好ましくは0.005重量%以下であることが
望ましい。
Such an antiblocking agent is preferably in the form of spherical particles, and the particle diameter is preferably in the range of 1 to 6 μm. Further, the amount of the antiblocking agent contained in the polyolefin-based film is desirably 0.01% by weight or less, preferably 0.005% by weight or less.

【0041】ブロッキング剤が上記範囲を超えて多く含
まれていると、フィルム表面の凹凸となり、表面の平滑
性が阻害されることがある。ポリオレフィン系フィルム
が積層フィルムの場合は、ポリオレフィン系フィルムに
ガスバリアー層を形成しないポリオレフィン系フィルム
層に、ブロッキング防止剤が含まれていればよい。な
お、ガスバリアー層を形成しないポリオレフィン系フィ
ルムにブロッキング防止剤を添加する場合であっても製
膜されたフィルムをロール状に巻き取った後、ブロッキ
ング防止剤がガスバリアー層が形成されたフィルム側に
移行したり、ガスバリアー層が形成されていないフィル
ム表面の凹凸の跡がガスバリアー層樹脂表面に転写され
る場合がある。このため、ガスバリアー層が形成されな
いポリオレフィンフィルム層であっても、含まれている
ブロッキング防止剤の量は0.01重量%以下であるこ
とが望ましい。
If the content of the blocking agent is larger than the above range, the surface of the film becomes uneven, and the smoothness of the surface may be hindered. When the polyolefin-based film is a laminated film, the polyolefin-based film layer which does not form a gas barrier layer on the polyolefin-based film may contain an anti-blocking agent. Even if the anti-blocking agent is added to the polyolefin-based film that does not form a gas barrier layer, after the formed film is wound into a roll, the anti-blocking agent is applied to the film on which the gas barrier layer is formed. In some cases, traces of irregularities on the film surface where the gas barrier layer is not formed are transferred to the resin surface of the gas barrier layer. For this reason, even in a polyolefin film layer on which a gas barrier layer is not formed, the amount of the contained antiblocking agent is desirably 0.01% by weight or less.

【0042】熱安定剤としては、2,6−ジ−tert−ブ
チル−4−メチルフェノール(BHT)などが挙げられ
る。ポリオレフィン系フィルム中に含まれている熱安定
剤の量は、ポリオレフィン系フィルム中に0.1重量%
以下であることが望ましい。
Examples of the heat stabilizer include 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT). The amount of the heat stabilizer contained in the polyolefin film is 0.1% by weight in the polyolefin film.
It is desirable that:

【0043】酸化防止剤としては、テトラキス−{メチ
レン−(3,5-ジ−3−ブチル−4−ハイドロシンナメー
ト)}ブタン(“Irganox1010”)などが挙
げられる。ポリオレフィン系フィルム中に含まれている
酸化防止剤の量は、0.1重量%以下であることが望ま
しい。
Examples of the antioxidant include tetrakis- {methylene- (3,5-di-3-butyl-4-hydrocinnamate)} butane (“Irganox 1010”). The amount of the antioxidant contained in the polyolefin film is desirably 0.1% by weight or less.

【0044】塩素捕獲剤としては、ステアリン酸カルシ
ウムなどが挙げられる。ポリオレフィン系フィルム中に
含まれている塩素捕獲剤の量は、0.1重量%以下であ
ることが望ましい。
Examples of the chlorine scavenger include calcium stearate. The amount of the chlorine scavenger contained in the polyolefin film is desirably 0.1% by weight or less.

【0045】本発明に係るポリオレフィン系フィルムは
以下の方法によって製造されたものが望ましい。具体的
には、押出ホッパーを窒素雰囲気にした押出機にポリオ
レフィン系樹脂と必要に応じて添加剤を供給して、フィ
ルムを構成するポリオレフィンを溶融させ、シート状に
成形したものを、直ちに金属ロールを巻き付けて急冷さ
せる。
The polyolefin film according to the present invention is preferably produced by the following method. Specifically, a polyolefin-based resin and additives as needed are supplied to an extruder in which the extrusion hopper is set to a nitrogen atmosphere, and the polyolefin constituting the film is melted. And quench.

【0046】このとき、成形温度をTb(℃)とし、金
属ロール表面の温度をTr(℃)としたときに、TbとT
rとが以下の関係式を満足することが好ましい。 Tr≦Tb−150 [℃] ポリオレフィンを溶融混合する温度は、180〜250
℃の範囲にあることが望ましい。溶融混合したポリオレ
フィンは、濾過フィルターで濾過してもよい。成形は、
通常T−ダイを用いて行われる。このときの成形温度
は、180℃〜250℃の範囲にあることが好ましい。
金属ロール表面の温度0〜35℃の温度にあることが望
ましい。
At this time, when the forming temperature is Tb (° C.) and the temperature of the metal roll surface is Tr (° C.), Tb and Tb
It is preferable that r satisfies the following relational expression. Tr ≦ Tb−150 [° C.] The temperature at which the polyolefin is melted and mixed is 180 to 250.
It is desirably in the range of ° C. The melt-blended polyolefin may be filtered with a filtration filter. Molding is
This is usually performed using a T-die. The molding temperature at this time is preferably in the range of 180 ° C to 250 ° C.
It is desirable that the temperature of the metal roll surface be in the range of 0 to 35 ° C.

【0047】このような方法によれば、上記したような
平滑表面を有するポリオレフィン系無延伸フィルムが作
製される。特に、添加剤量を少なくして、かつフィルム
を急冷する上記方法で得られたフィルムは、極めて表面
平滑性に優れている。このような理由については明確で
はないものの、添加剤の少ない条件で得られたフィルム
を急冷すると、フィルム内でのポリオレフィンの結晶化
が抑制され、これにより表面の平滑性が維持されるもの
と考えられる。
According to such a method, a polyolefin-based unstretched film having a smooth surface as described above is produced. In particular, a film obtained by the above-described method in which the amount of an additive is reduced and the film is rapidly cooled has extremely excellent surface smoothness. Although the reason for this is not clear, it is thought that quenching of the film obtained under the condition with a small amount of additives suppresses crystallization of polyolefin in the film, thereby maintaining the surface smoothness. Can be

【0048】ポリオレフィン系フィルムがポリプロピレ
ンフィルムの場合、耐熱性やヤング率を向上させるため
延伸を行ってもよい。また積層フィルムを作製する場合
は、共押出や溶融押出ラミネーション等の方法が用いら
れる。
When the polyolefin film is a polypropylene film, it may be stretched to improve heat resistance and Young's modulus. When a laminated film is produced, a method such as coextrusion or melt extrusion lamination is used.

【0049】本発明に係るポリオレフィン系フィルムの
厚さは、10〜500μmが好ましい。フィルムが薄す
ぎる場合には、内部応力によりガスバリアー層が破損す
るおそれがあるためである。厚すぎると冷却が不十分と
なるため、球晶の粗大化や添加剤のブリードアウトによ
って表面を荒らすおそれがあるためである。
The thickness of the polyolefin film according to the present invention is preferably from 10 to 500 μm. If the film is too thin, the gas barrier layer may be damaged by internal stress. If the thickness is too large, cooling becomes insufficient, and the surface may be roughened due to coarsening of spherulites or bleed-out of additives.

【0050】本発明に係るポリオレフィン系フィルム
は、加熱によるフィルムの寸法変化が、120℃、15
分の条件で加熱した時の寸法変化率が4%以下、特に2
%以下であることが好ましい。なお、本発明に係るポリ
オレフィン系フィルム表面に形成されるガスバリアー層
が炭素を含有した酸化珪素膜、ダイヤモンド状炭素膜の
場合、これらの膜は柔軟性に優れるため、加熱によるポ
リオレフィン系フィルムの寸法変化は、特に限定される
ものではないが、ガスバリアー層として、炭素を含有し
た酸化ケイ素膜、酸化アルミニウム膜、または窒化ケイ
素膜などが形成される場合、これらのガスバリアー層は
柔軟性が低いので、フィルムの伸びによりクラックが発
生しやすく、このため120℃、15分の加熱によるフ
ィルムの寸法変化が上記範囲にあることがの望ましい。
In the polyolefin film according to the present invention, the dimensional change of the film due to heating is 120 ° C., 15 ° C.
Dimensional change rate of 4% or less when heated under
% Is preferable. In the case where the gas barrier layer formed on the surface of the polyolefin-based film according to the present invention is a silicon oxide film containing carbon or a diamond-like carbon film, these films are excellent in flexibility, so that the dimensions of the polyolefin-based film by heating are reduced. Changes are not particularly limited, but when a silicon oxide film containing carbon, an aluminum oxide film, or a silicon nitride film is formed as a gas barrier layer, these gas barrier layers have low flexibility. Therefore, cracks are likely to occur due to the elongation of the film, and therefore, it is desirable that the dimensional change of the film due to heating at 120 ° C. for 15 minutes is within the above range.

【0051】また、本発明に係るポリオレフィン系フィ
ルムは、130℃、5分の条件で加熱した時に発生する
揮発成分量が300μg/g以下、特に100μg/g
以下であることが好ましい。揮発成分量が300μg/
gを超えるとガスバリアー層の接着強度が低下しやす
く、ガスバリアー性が劣りやすい。
The polyolefin-based film according to the present invention has a volatile component amount of 300 μg / g or less, particularly 100 μg / g when heated at 130 ° C. for 5 minutes.
The following is preferred. The amount of volatile components is 300 μg /
If it exceeds g, the adhesive strength of the gas barrier layer tends to decrease, and the gas barrier property tends to deteriorate.

【0052】ポリオレフィン系フィルムを作製する際
に、ロール表面の表面は鏡面にすることが望ましい。し
かしながら、あまりに表面平滑性がよすぎる場合には、
フィルムがロールに貼りつく場合があり、逆にロールの
表面を荒らす方が好ましい場合がある。
When producing a polyolefin-based film, it is desirable that the surface of the roll surface be a mirror surface. However, if the surface smoothness is too good,
The film may stick to the roll, and conversely, it may be preferable to roughen the surface of the roll.

【0053】ポリオレフィン系フィルムを作製する際に
は、酸素存在下での製膜すると、ポリオレフィン系樹脂
の一部が酸化分解し、低分子量化合物を生成し、フィル
ム表面に付着することがある。また酸素存在下での製膜
すると、ポリオレフィン樹脂に添加した添加剤も、ブリ
ードアウトしやすくフィルム表面に付着しやすい。しか
も付着物は、蒸着時の熱によって揮発ガスとなって、ガ
スバリアー層形成に影響を与えやすくなる。このため、
無酸素状態で製膜することが好ましい。
When producing a polyolefin-based film, if the film is formed in the presence of oxygen, a part of the polyolefin-based resin may be oxidized and decomposed to produce a low-molecular-weight compound, which may adhere to the film surface. In addition, when the film is formed in the presence of oxygen, the additives added to the polyolefin resin easily bleed out and easily adhere to the film surface. Moreover, the deposit becomes a volatile gas due to the heat at the time of vapor deposition, and tends to affect the formation of the gas barrier layer. For this reason,
It is preferable to form a film in an oxygen-free state.

【0054】本発明に係るポリオレフィン系フィルムが
ガスバリアーフィルムとして使用される場合、ポリオレ
フィン系フィルム表面に、通常、無機化合物からなるガ
スバリアー層が形成される。
When the polyolefin-based film according to the present invention is used as a gas barrier film, a gas barrier layer usually made of an inorganic compound is formed on the surface of the polyolefin-based film.

【0055】ガスバリアー層として使用される無機化合
物とは、炭素化合物、または、酸素化合物、または、窒
素化合物などである。炭素化合物としては、ダイヤモン
ド状炭素、ダイヤモンド、炭化ケイ素や他の金属炭化物
が挙げられる。また、酸素化合物としては、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、他の金属化合物が挙げられる。
また、窒素化合物としては、窒化ケイ素や他の金属窒化
物が挙げられる。酸化ケイ素には炭素が含有されていて
もよい。
The inorganic compound used as the gas barrier layer is a carbon compound, an oxygen compound, a nitrogen compound, or the like. Carbon compounds include diamond-like carbon, diamond, silicon carbide and other metal carbides. In addition, examples of the oxygen compound include silicon oxide, aluminum oxide, and other metal compounds.
Examples of the nitrogen compound include silicon nitride and other metal nitrides. Silicon oxide may contain carbon.

【0056】これらの無機化合物からなるガスバリアー
層は、CVD法、スパッタ法や蒸着法などの物理蒸着法
を用いて形成することができる。これらの無機化合物の
うち、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素が、
原料の価格や調達の容易さの点で好適に使用される。
The gas barrier layer made of these inorganic compounds can be formed by using a physical vapor deposition method such as a CVD method, a sputtering method and a vapor deposition method. Of these inorganic compounds, silicon oxide, aluminum oxide, silicon nitride,
It is preferably used in view of the price of raw materials and ease of procurement.

【0057】また、ダイヤモンド状炭素からなるガスバ
リアー層は、低温で形成することができ、得られた膜が
柔軟性に優れるため特に好ましく用いられる。ダイヤモ
ンド状炭素とは、非晶質のダイヤモンドライクカーボン
であり、ダイヤモンド、グラファイト、ポリマーの各成
分を含んでいる。このダイヤモンド状炭素からなるガス
バリアー層は、これら成分の混合割合で性質が異なり、
高い硬度を有するダイヤモンド状炭素膜であっても、必
ずしも、水蒸気や酸素等のガスバリアー層として機能す
るわけではない。水蒸気や酸素等のバリア層として機能
するダイヤモンド状炭素膜には、水素が50原子%以下
の濃度で含まれていることが好ましく、より好ましくは
45原子%以下、さらに好ましくは40原子%以下であ
る。また、酸素は、20原子%以下の濃度でダイヤモン
ド状炭素膜に含まれていることが好ましく、より好まし
くは15原子%以下、さらに好ましくは10原子%以下で
ある。(残りは炭素である) このようなダイヤモンド状炭素膜を、上記ポリオレフィ
ン系フィルム表面に生膜する際には、原料ガスを用いた
イオンプレーティング法および固体の炭素源を用いたイ
オンビームスパッタリング法の物理的蒸着法によって、
形成することができる。
The gas barrier layer made of diamond-like carbon can be formed at a low temperature, and is particularly preferably used because the obtained film has excellent flexibility. The diamond-like carbon is amorphous diamond-like carbon, and contains diamond, graphite, and polymer components. The properties of the gas barrier layer made of diamond-like carbon differ depending on the mixing ratio of these components.
Even a diamond-like carbon film having high hardness does not necessarily function as a gas barrier layer for water vapor, oxygen, and the like. The diamond-like carbon film functioning as a barrier layer such as water vapor or oxygen preferably contains hydrogen at a concentration of 50 atomic% or less, more preferably 45 atomic% or less, and still more preferably 40 atomic% or less. is there. Further, oxygen is preferably contained in the diamond-like carbon film at a concentration of 20 atomic% or less, more preferably 15 atomic% or less, and still more preferably 10 atomic% or less. (The remainder is carbon.) When such a diamond-like carbon film is formed on the surface of the polyolefin film, an ion plating method using a raw material gas and an ion beam sputtering method using a solid carbon source are used. By the physical vapor deposition method of
Can be formed.

【0058】これらの方法では、成膜装置内でプラズマ
を発生させて、気体をイオン化または励起するのである
が、この方法としては、気体を、たとえば直流電圧を印
加してプラズマ分解する方法、高周波を印加してプラズ
マ分解する方法、マイクロ波放電によってプラズマ分解
する方法、電子サイクロトロン共鳴によってプラズマ分
解する方法、および熱フィラメントによる加熱によって
熱分解する方法等が挙げられる。
In these methods, a plasma is generated in a film forming apparatus to ionize or excite a gas. Examples of the method include a method of applying a DC voltage to a plasma to decompose the gas, a method of decomposing a gas, , Plasma decomposition by microwave discharge, plasma decomposition by electron cyclotron resonance, and thermal decomposition by heating with a hot filament.

【0059】ただし、基材フィルムとして上記フィルム
を用いて直流電圧を印加する方法を採用した場合、電極
表面に載置されるポリオレフィン系フィルム自体が絶縁
物であり、電極間で電圧が印加されず、成膜装置内でプ
ラズマが発生しないため、この方法は必ずしも好ましく
ない。また、熱フィラメント法を用いる場合には、フィ
ラメントを500℃以上と高温にしなければならないた
め、上記基材フィルムの耐熱性を考慮すると好ましくな
い場合がある。
However, when a method of applying a DC voltage using the above film as the base film is adopted, the polyolefin film itself mounted on the electrode surface is an insulator, and no voltage is applied between the electrodes. This method is not always preferable because no plasma is generated in the film forming apparatus. Further, when the hot filament method is used, the filament must be heated to a high temperature of 500 ° C. or more, which is not preferable in consideration of the heat resistance of the base film.

【0060】一方、マイクロ波プラズマ法や電子サイク
ロトロン共鳴によってプラズマ分解する方法は、成膜速
度が大きく、成膜温度を低くすることができる。また、
大面積のフィルムに成膜する場合においては、高周波プ
ラズマ法を用いるのが好ましい。
On the other hand, the plasma decomposition method using the microwave plasma method or the electron cyclotron resonance can increase the film forming speed and lower the film forming temperature. Also,
In the case of forming a film on a large area film, it is preferable to use a high frequency plasma method.

【0061】このダイヤモンド状炭素膜の薄膜を形成す
るための原料ガスは、炭素と水素とを含有するものであ
る。たとえば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペ
ンタン、ヘキサン等のアルカン系ガス類;エチレン、プ
ロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン系ガス類、ペ
ンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類;ア
セチレン、メチルアセチレン等のアルキン系ガス類;ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、
フェナントレン等の芳香族炭化水素系ガス類;シクロプ
ロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン系ガス類;
メタノール、エタノール等のアルコール系ガス類、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系ガス類;メタナ
ール、エタナール等のアルデヒド系ガス類等が挙げられ
る。上記ガスは、単独で、または2種以上組み合わせて
用いることができる。
The source gas for forming the thin film of the diamond-like carbon film contains carbon and hydrogen. For example, alkane-based gases such as methane, ethane, propane, butane, pentane and hexane; alkene-based gases such as ethylene, propylene, butene and pentene; alkadiene-based gases such as pentadiene and butadiene; acetylene and methylacetylene; Alkyne gases: benzene, toluene, xylene, indene, naphthalene,
Aromatic hydrocarbon gases such as phenanthrene; cycloalkane gases such as cyclopropane and cyclohexane;
Examples include alcohol-based gases such as methanol and ethanol; ketone-based gases such as acetone and methyl ethyl ketone; and aldehyde-based gases such as methanal and ethanal. The above gases can be used alone or in combination of two or more.

【0062】他の原料ガスとしては、上記ガスと水素ガ
スとの混合ガス、上記ガスと、一酸化炭素ガス、二酸化
炭素ガス等の酸素含有ガスとの混合ガス、水素ガスと、
一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス等の酸素含有ガスとの
混合ガス、酸素ガスと、水蒸気と、一酸化炭素ガス、二
酸化炭素ガス等の酸素含有ガスとの混合ガスなどが挙げ
られる。
Other source gases include a mixed gas of the above gas and hydrogen gas, a mixed gas of the above gas and an oxygen-containing gas such as a carbon monoxide gas and a carbon dioxide gas, and a hydrogen gas.
A mixed gas of an oxygen-containing gas such as a carbon monoxide gas and a carbon dioxide gas, and a mixed gas of an oxygen gas, water vapor, and an oxygen-containing gas such as a carbon monoxide gas and a carbon dioxide gas may be used.

【0063】さらに、他の原料ガスとしては、上記原料
ガスと希ガスとの混合ガスが挙げられる。たとえば、ヘ
リウム、アルゴン、ネオン、キセノン等が挙げられ、こ
れらは単独で、または2種以上組み合わせて用いること
ができる。
Further, as another raw material gas, a mixed gas of the above raw material gas and a rare gas may be used. For example, helium, argon, neon, xenon and the like can be mentioned, and these can be used alone or in combination of two or more.

【0064】これら混合ガスにおける水素ガス、酸素ガ
ス(酸素含有ガス)、希ガスの混合量は、使用する成膜
装置の種類、混合ガスの種類や成膜圧力等により異な
る。具体的には、成膜されたダイヤモンド状炭素膜に含
まれる水素濃度が50原子%、好ましくは45原子%以
下、より好ましくは40原子%以下、しかも酸素原子が
20原子%、好ましくは15原子%、より好ましくは1
0原子%となるように調整するのが好ましい。
The mixing amounts of hydrogen gas, oxygen gas (oxygen-containing gas), and rare gas in these mixed gases vary depending on the type of film forming apparatus to be used, the type of mixed gas, the film forming pressure, and the like. Specifically, the concentration of hydrogen contained in the formed diamond-like carbon film is 50 atomic%, preferably 45 atomic% or less, more preferably 40 atomic% or less, and oxygen atoms are 20 atomic%, preferably 15 atomic%. %, More preferably 1
It is preferable to adjust so as to be 0 atomic%.

【0065】また、イオンビームスパッタリング法によ
りダイヤモンド状炭素膜を形成する際に用いられる炭素
源としては、黒鉛、ダイヤモンド等の炭素同素体の固体
が挙げられる。炭素源は、成膜装置内の所定の位置に設
置して使用される。成膜装置内のガスとしては、希ガ
ス、水素ガス、酸素含有ガスなどを用いることができる
が、酸素源としては、成膜装置に残存する微量のO2
たはH2Oで十分であり、その濃度はバックグラウンド
の圧力によって調整できる。
The carbon source used for forming the diamond-like carbon film by the ion beam sputtering method includes a carbon allotrope solid such as graphite and diamond. The carbon source is installed and used at a predetermined position in the film forming apparatus. As a gas in the film formation apparatus, a rare gas, a hydrogen gas, an oxygen-containing gas, or the like can be used. However, as an oxygen source, a small amount of O 2 or H 2 O remaining in the film formation apparatus is sufficient. The concentration can be adjusted by the background pressure.

【0066】以上のように形成されたダイヤモンド状炭
素膜は、ラマン分光法によって確認することができる。
また、この膜の水素原子濃度は、SIMS(二次イオン
質量分析法)により確認することができる。
The diamond-like carbon film formed as described above can be confirmed by Raman spectroscopy.
The hydrogen atom concentration of this film can be confirmed by SIMS (secondary ion mass spectrometry).

【0067】上記ダイヤモンド状炭素膜の膜厚は、必要
に応じて決定されるが、膜厚が厚くなると、ポリオレフ
ィン系フィルムとの密着性が悪くなったり、膜の内部応
力により形成した形成したダイヤモンド状炭素膜が剥離
したり、フィルム自体の透明性が悪くなりことあるの
で、500nm以下が好ましく、より好ましくは100
nm以下、さらに好ましくは50nm以下が望ましい。
The thickness of the diamond-like carbon film is determined as necessary. As the thickness increases, the adhesion to the polyolefin-based film deteriorates, or the diamond formed by the internal stress of the film is formed. 500 nm or less, more preferably 100 nm or less, since the carbon-like carbon film may peel off or the transparency of the film itself may deteriorate.
nm or less, more preferably 50 nm or less.

【0068】上記ポリオレフィン系フィルム表面とガス
バリアー層との密着性を高めるために、必要に応じて、
該基材表面を脱脂、脱水するための洗浄等の清浄化処
理、基材表面に真空容器内でHe等の不活性ガスや酸素
ガス等の活性ガスによるプラズマ処理などの公知の処理
を行ってもよい。しかし、表面平滑性を悪くしないこと
が重要である。 <ダイヤモンド状炭素膜の生成方法>以下、図面を参照
しながら本発明に使用される装置を説明する。図1は、
本発明のダイヤモンド状炭素膜を生成する装置の1例を
示す模式図である。図1において、1は真空容器であ
る。2はマグネット、3はターゲットの付いた電極であ
る。4はシャッター機構、5はガス導入管、6は高周波
電源、7は自動整合器、8はホルダーに取り付けられた
基材フィルム(ポリオレフィン系フィルム)である。
In order to enhance the adhesion between the surface of the polyolefin film and the gas barrier layer, if necessary,
A known treatment such as cleaning treatment such as cleaning for degreasing and dehydrating the substrate surface, and plasma treatment with an inert gas such as He or an active gas such as oxygen gas in a vacuum vessel is performed on the substrate surface. Is also good. However, it is important not to impair the surface smoothness. <Method for Producing Diamond-like Carbon Film> The apparatus used in the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
It is a schematic diagram which shows an example of the apparatus which produces | generates the diamond-like carbon film of this invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a vacuum container. 2 is a magnet, 3 is an electrode with a target. Reference numeral 4 denotes a shutter mechanism, 5 denotes a gas introduction pipe, 6 denotes a high-frequency power source, 7 denotes an automatic matching device, and 8 denotes a base film (polyolefin-based film) attached to a holder.

【0069】上記基材フィルムの温度制御は、液体ある
いは気体の循環方式等の方法によって行われるが、50
℃以下に保持されるのが好ましく、そのために熱容量の
大きい液体の循環方式が好ましい。この際、循環させる
液体としては、所定の温度に加温あるいは冷却された液
体が挙げられ、循環される液体としては、水、エチレン
グリコール(不凍液)、アルコール類、さらに低温化す
る場合には、液体窒素、液体ヘリウム等が好適に使用さ
れる。
The temperature of the substrate film is controlled by a method such as a liquid or gas circulation method.
It is preferable that the temperature is maintained at not more than 0 ° C., and therefore, a liquid circulation system having a large heat capacity is preferable. At this time, the liquid to be circulated may be a liquid heated or cooled to a predetermined temperature, and the liquid to be circulated may be water, ethylene glycol (antifreeze), alcohols. Liquid nitrogen, liquid helium and the like are preferably used.

【0070】プラズマ密度を向上し成膜速度を向上させ
るためマグネットを用いることが好ましい。図1におい
てはターゲットの付いた電極の後ろに永久磁石を設置し
てある。ターゲットとしてはグラファイト、ステンレ
ス、Si等が用いられる。
It is preferable to use a magnet in order to improve the plasma density and the film forming speed. In FIG. 1, a permanent magnet is installed behind the electrode with the target. As a target, graphite, stainless steel, Si or the like is used.

【0071】使用できる原料ガスの組成範囲を広げるた
り、膜の質を良くするために基材に直流バイアスを印加
するのが好ましく、直流バイアス値としては−500〜
100Vが好ましい、より好ましくは−400〜10V
である。
It is preferable to apply a DC bias to the substrate in order to widen the range of the composition of the source gas that can be used or to improve the quality of the film.
100V is preferred, more preferably -400 to 10V
It is.

【0072】まず、真空容器1内の冷却板上にホルダー
に取り付けたプラスチックフィルム基材を設置する。冷
却板の材質としては、ステンレス、Niめっきを施した
無酸素銅、アルミ等が用いられる。冷却板の表面は冷却
効率の点からは鏡面が好ましい。しかしながら、フィル
ムが冷却板に貼り付かないように適度に荒らす方が好ま
しい場合がある。次に真空容器内を高真空とする。この
ときの真空度は、他の不純物ガスの残留による成膜への
影響をなくすために1×10-4Torr(1×10-2
a)以下が好ましい。
First, a plastic film substrate attached to a holder is placed on a cooling plate in the vacuum vessel 1. As the material of the cooling plate, stainless steel, oxygen-free copper plated with Ni, aluminum, or the like is used. The surface of the cooling plate is preferably a mirror surface from the viewpoint of cooling efficiency. However, it may be preferable to moderately roughen the film so that it does not stick to the cooling plate. Next, the inside of the vacuum vessel is made high vacuum. At this time, the degree of vacuum is set to 1 × 10 −4 Torr (1 × 10 −2 P) in order to eliminate the influence of the remaining impurity gas on the film formation.
a) The following are preferred.

【0073】次いで、ガス導入管から原料ガスを導入し
て所定の圧力に保つ。このときの圧力は1×10-3〜1
Torr(0.1Pa〜100Pa)が好ましい。この
ようにしてポリオレフィン系フィルム表面にガスバリア
ー層が形成されたガスバリアー性フィルムが得られ、こ
のガスバリアー性フィルムは、長期保存安定性に優れる
ため、各種包装容器の保護フィルムとして好適である。
Next, a raw material gas is introduced from a gas introduction pipe and maintained at a predetermined pressure. The pressure at this time is 1 × 10 −3 to 1
Torr (0.1 Pa to 100 Pa) is preferable. Thus, a gas barrier film having a gas barrier layer formed on the surface of a polyolefin-based film is obtained. This gas barrier film has excellent long-term storage stability and is therefore suitable as a protective film for various packaging containers.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明のポリオレフィン系フィルムは表
面平滑であるので、高いガスバリアー性を有するガスバ
リアーフィルムの基材として用いることができる。
Since the polyolefin film of the present invention has a smooth surface, it can be used as a base material of a gas barrier film having high gas barrier properties.

【0075】[0075]

【実施例】以下、本発明について、実施例によりさらに
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例になんら限
定されるものではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0076】なお、実施例および比較例におけるフィル
ムの寸法変化率、揮発成分量、および全光線透過率の評
価は以下のようにして行った。 (1)寸法変化率 寸法変化率は、フィルムの長手方向を機械方向として、
長さ260mm、幅10mmの短冊にサンプリングし、
両端から30mmのところにマークを入れて、原寸(L0)
を200mmとする。このサンプルの下端に3gの荷重
を付け、120℃に保たれたオーブン中につるして15
分間加熱する。そのフィルムを取り出し、先に付したマ
ーク間の長さ(L1)を測定し、次式により寸法変化率(R)
を求めた。
The dimensional change, the amount of volatile components, and the total light transmittance of the films in Examples and Comparative Examples were evaluated as follows. (1) Dimensional change rate The dimensional change rate is determined by taking the longitudinal direction of the film as the machine direction.
Sampling into strips 260 mm long and 10 mm wide,
Make a mark at 30mm from both ends and make it the actual size (L 0 )
Is set to 200 mm. A load of 3 g was applied to the lower end of the sample, and the sample was suspended in an oven maintained at 120 ° C. for 15 minutes.
Heat for a minute. Take out the film, measure the length (L 1 ) between the previously attached marks, and calculate the dimensional change rate (R) according to the following equation.
I asked.

【0077】 寸法変化率(R)(%)={(L1−L0)/L0}×100 (2)揮発成分量 揮発成分量の測定には、ヒューレットパッカード社製の
ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC/MS)(58
90/5972)とクロムパック社製TCT装置を用
い、15mgに秤量したフィルム試料をガラス管に封入
し、ヘリウムガス気流下、130℃5分加熱し、揮発成
分を−120℃に冷却トラップする。次に−120℃か
ら280℃まで昇温温度600℃/分で加熱して、ヘリ
ウムガス圧力0.8kg/cm2の気流下でCPC型分
離カラム(CPC:HP−1×30m×0.32mm×
0.25μm)を装備したガスクロマトグラフ質量分析
装置に導入し、トータルイオンクロマトグラム(TI
C)を得る。得られたトータルイオンクロマトグラムか
ら各揮発成分の和を求め、揮発成分量とした。 (3)全光線透過率 全光線透過率(%)は、東京電色技術センター製全自動
ヘーズメータ(TC−H111DPK)を用いて測定し
た。光源には、ハロゲンランプ(条件C光)を用いた。
Dimensional change rate (R) (%) = {(L 1 −L 0 ) / L 0 } × 100 (2) Amount of volatile component The amount of volatile component is measured by a gas chromatograph mass spectrometer manufactured by Hewlett-Packard Company. Apparatus (GC / MS) (58
90/5972) and a film sample weighed to 15 mg were sealed in a glass tube using a TCT device manufactured by Chrompack, and heated at 130 ° C. for 5 minutes in a helium gas stream to trap and trap volatile components at −120 ° C. Next, the mixture was heated from -120 ° C. to 280 ° C. at a heating temperature of 600 ° C./min, and was subjected to a CPC type separation column (CPC: HP-1 × 30 m × 0.32 mm) under a helium gas pressure of 0.8 kg / cm 2. ×
0.25 μm) into a gas chromatograph mass spectrometer equipped with a total ion chromatogram (TI
Obtain C). The sum of each volatile component was determined from the obtained total ion chromatogram and defined as the volatile component amount. (3) Total light transmittance The total light transmittance (%) was measured using a fully automatic haze meter (TC-H111DPK) manufactured by Tokyo Denshoku Technical Center. As a light source, a halogen lamp (condition C light) was used.

【0078】[0078]

【実施例1】ポリプロピレンフィルムの作製 密度:0.910g/cm3、MFR(ASTM D12
38、230℃、荷重2.16kg)19g/10mi
n、融点148℃のポリプロピレン樹脂を使用した。ま
た、熱安定剤としては、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチル
フェノール(BHT)を、ポリプロピレンに対して、
0.1重量%添加した。さらにまた、酸化防止剤として
は、テトラキス−{メチレン-(3,5-ジ-3-ブチル-4-ハイ
ドロシンナメート)}ブタン(“Irganox101
0”)を、ポリプロピレンに対して、0.05重量%添
加した。塩素捕獲剤としては、ステアリン酸カルシウム
を0.05重量%で添加した。なお、ブロッキング防止
剤は添加しなかった。Tダイを装着した溶融押出成形機
を用いて230℃の成形温度でフィルムを製膜したの
ち、表面温度が10℃に設定された冷却ロールで急冷
し、フィルムを作製した。
Example 1 Production density of polypropylene film : 0.910 g / cm 3 , MFR (ASTM D12
38, 230 ° C, load 2.16 kg) 19 g / 10 mi
n, a polypropylene resin having a melting point of 148 ° C. was used. Further, as a heat stabilizer, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol (BHT) is added to polypropylene,
0.1% by weight was added. Further, as an antioxidant, tetrakis- {methylene- (3,5-di-3-butyl-4-hydrocinnamate)} butane (“Irganox 101”)
0 ″) was added to polypropylene at 0.05% by weight. As a chlorine scavenger, calcium stearate was added at 0.05% by weight. No antiblocking agent was added. After a film was formed at a molding temperature of 230 ° C. using the attached melt extrusion molding machine, the film was quenched by a cooling roll having a surface temperature set at 10 ° C. to produce a film.

【0079】得られたポリプロピレンフィルムの表面粗
さおよび100nm以上の突起および窪みの数を測定し
た。表面粗さは12nmであり、突起および窪みの数は
0.8個/0.1mm2であった。表面粗さは、セイコー
インスツルメント株式会社製の触針型顕微鏡Nanop
ics1000を用いて、200μm×200μmの測
定範囲で表面形状の測定を行い、平均面粗さを計算し
た。また突起および窪みの数は、原子間力顕微鏡(AF
M)を用いて行った。
The surface roughness of the obtained polypropylene film and the number of projections and depressions of 100 nm or more were measured. The surface roughness was 12 nm, and the number of projections and depressions was 0.8 / 0.1 mm 2 . The surface roughness was measured using a Nanop stylus probe manufactured by Seiko Instruments Inc.
Using ics1000, the surface shape was measured in a measurement range of 200 μm × 200 μm, and the average surface roughness was calculated. The number of protrusions and depressions was determined by using an atomic force microscope (AF).
M).

【0080】また、このポリプロピレンフィルムの12
0℃、15分の条件で加熱したときの寸法変化は2.5
%であり、130℃、5分の条件で加熱したときに発生
する揮発成分量は118μg/gであった。
The polypropylene film 12
The dimensional change when heated at 0 ° C. for 15 minutes is 2.5
%, And the amount of volatile components generated when heated at 130 ° C. for 5 minutes was 118 μg / g.

【0081】ガスバリアー層の形成 このようにして得られた厚さ約40μmの未延伸ポリプ
ロピレンフィルムを基材ホルダーに取り付けた後、図1
に示す真空容器1内のステンレス製の冷却板7上に設置
し、真空容器内を1.5×10-6Torr(2×10-4
Pa)に減圧した。
Formation of Gas Barrier Layer After the thus obtained unstretched polypropylene film having a thickness of about 40 μm was attached to a substrate holder,
Is placed on the stainless steel cooling plate 7 in the vacuum vessel 1 shown in FIG. 1 and the inside of the vacuum vessel is 1.5 × 10 −6 Torr (2 × 10 −4).
The pressure was reduced to Pa).

【0082】次いで、アセチレンガス(99.999
%)を導入管8より、85立方センチメートル毎分(s
ccm)の流速で導入した。真空容器1内の原料ガスの
圧力を10×10-3Torr(1Pa)にした後、周波
数13.56MHz、50Wの高周波電力を印加するこ
とによって、10秒間成膜を行いガスバリアー層を形成
した。
Then, acetylene gas (99.999)
%) From the inlet tube 8 to 85 cubic centimeters per minute (s
ccm). After the pressure of the source gas in the vacuum vessel 1 was set to 10 × 10 −3 Torr (1 Pa), a high-frequency power of 13.56 MHz and 50 W was applied to form a film for 10 seconds to form a gas barrier layer. .

【0083】得られたガスバリアー層を、ラマン分光法
で評価した結果、この膜はダイヤモンド状炭素膜である
ことが確認された。また、膜の組成をラザフォード前方
および後方散乱を用いて決定すると、ダイヤモンド状炭
素膜には、水素が47原子%、酸素が1原子%含まれて
いた。
As a result of evaluating the obtained gas barrier layer by Raman spectroscopy, it was confirmed that this film was a diamond-like carbon film. When the composition of the film was determined using Rutherford forward and back scattering, the diamond-like carbon film contained 47 at% of hydrogen and 1 at% of oxygen.

【0084】得られたガスバリアーフィルムについて、
酸素透過度および全光線透過率を測定した。その結果を
表1に示す。なお、酸素透過度は、ヤナコ分析工業株式
会社製差圧式ガス透過率測定システム(GTR−30A
M)を使用して、40℃の酸素雰囲気で行った。
About the obtained gas barrier film,
Oxygen permeability and total light transmittance were measured. Table 1 shows the results. The oxygen permeability was measured using a differential pressure gas permeability measuring system (GTR-30A) manufactured by Yanaco Analytical Industry Co., Ltd.
M) using an oxygen atmosphere at 40 ° C.

【0085】[0085]

【実施例2】ポリエチレンフィルムの作製 密度0.918g/cm3、MFR(ASTM D123
8、190℃、荷重2.16kg)1.0g/10mi
n、融点117℃の直鎖状低密度ポリエチレン樹脂を使
用した。なお、この直鎖状低密度ポリエチレン樹脂には
添加剤を添加しなかった。
Example 2 Production of polyethylene film : 0.918 g / cm 3 , MFR (ASTM D123)
8, 190 ° C, load 2.16 kg) 1.0 g / 10 mi
n, a linear low density polyethylene resin having a melting point of 117 ° C. was used. No additives were added to the linear low-density polyethylene resin.

【0086】押出ホッパーを窒素雰囲気にした一軸押出
機に直鎖状低密度ポリエチレン樹脂を供給して230℃
の温度で溶融させ、ろ過フィルターを経た後、Tダイを
通して押出して10℃に冷却した金属ロールに巻き付け
て冷却し、厚さ50μmのポリエチレンフィルムを得
た。
The linear low-density polyethylene resin was supplied to a single-screw extruder in which the extrusion hopper was set to a nitrogen atmosphere, and 230 ° C.
After passing through a filtration filter, the mixture was extruded through a T die, wound around a metal roll cooled to 10 ° C., and cooled to obtain a polyethylene film having a thickness of 50 μm.

【0087】得られたポリエチレンフィルムについて、
実施例1と同様に表面粗さおよび100nm以上の突起お
よび窪みの数を測定したところ、表面粗さは14nmであ
り、突起および窪みの数は0.5個/0.1mm2であっ
た。また、このポリエチレンフィルムの120℃、15
分の条件で加熱したときの寸法変化は26.0%であ
り、130℃、5分の条件で加熱したときに発生する揮
発成分量は235μg/gであった。
About the obtained polyethylene film,
When the surface roughness and the number of protrusions and depressions of 100 nm or more were measured in the same manner as in Example 1, the surface roughness was 14 nm, and the number of protrusions and depressions was 0.5 / 0.1 mm 2 . Further, the temperature of the polyethylene film at 120 ° C. and 15 ° C.
The dimensional change when heated under the conditions of 1 minute was 26.0%, and the amount of volatile components generated when heated under the conditions of 130 ° C. and 5 minutes was 235 μg / g.

【0088】こうして得られたポリエチレンフィルムに
ついて実施例1と同様の方法でダイヤモンド状炭素膜を
成膜し、酸素透過度および全光線透過率を測定した。そ
の結果を表1に示す。
On the polyethylene film thus obtained, a diamond-like carbon film was formed in the same manner as in Example 1, and the oxygen transmittance and the total light transmittance were measured. Table 1 shows the results.

【0089】[0089]

【比較例1】厚さ20μmの二軸延伸ポリプロピレンフ
ィルム(東セロ株式会社製「OP−Z102」)を使用
した。
Comparative Example 1 A biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm (“OP-Z102” manufactured by Tosero Corporation) was used.

【0090】この二軸延伸ポリプロピレンフィルムにつ
いて、実施例1と同様に表面粗さおよび100nm以上の
突起および窪みの数を測定したところ、表面粗さは54
nmであり、突起および窪みの数は31個/0.1mm2
あった。また、このポリエチレンフィルムの120℃、
15分の条件で加熱したときの寸法変化は0.5%であ
り、130℃、5分の条件で加熱したときに発生する揮
発成分量は739μg/gであった。
The surface roughness and the number of protrusions and depressions of 100 nm or more were measured for this biaxially oriented polypropylene film in the same manner as in Example 1.
nm, and the number of protrusions and depressions was 31 / 0.1 mm 2 . Also, at 120 ° C. of the polyethylene film,
The dimensional change when heated for 15 minutes was 0.5%, and the amount of volatile components generated when heated at 130 ° C. for 5 minutes was 739 μg / g.

【0091】この二軸延伸ポリプロピレンフィルムに、
実施例1と同様の方法でダイヤモンド状炭素膜を成膜
し、酸素透過度および全光線透過率を測定した。その結
果を表1に示す。
The biaxially stretched polypropylene film has
A diamond-like carbon film was formed in the same manner as in Example 1, and the oxygen transmittance and the total light transmittance were measured. Table 1 shows the results.

【0092】[0092]

【比較例2】密度0.930g/cm3、MFR(AS
TM D1238、190℃、荷重2.16kg)4.
0g/10min、融点121℃の直鎖状低密度ポリエ
チレン樹脂にブロッキング防止剤としてシリカを(A)
添加していないものと(B)0.5重量%添加したもの
を用意した。押出ホッパーを窒素雰囲気にした2台の一
軸押出機にそれぞれの樹脂を供給して、230℃の温度
で溶融させ、それぞれのろ過フィルターを経た後、2層
成形口金にてA層/B層となるように口金内で合流させ
て押出し、10℃に冷却した金属ロールに巻き付けて冷
却し、厚さ50μmのポリエチレンフィルムを得た。
[Comparative Example 2] A density of 0.930 g / cm 3 , MFR (AS
3. TM D1238, 190 ° C, load 2.16 kg)
Silica (A) as a blocking inhibitor in a linear low density polyethylene resin having a melting point of 121 ° C. and 0 g / 10 min.
One without addition and one with (B) 0.5% by weight added were prepared. Each resin was supplied to two single-screw extruders in which the extrusion hopper was in a nitrogen atmosphere, melted at a temperature of 230 ° C., passed through respective filtration filters, and then subjected to A layer / B layer with a two-layer forming die. Then, they were joined together in a die and extruded, wound around a metal roll cooled to 10 ° C., and cooled to obtain a polyethylene film having a thickness of 50 μm.

【0093】得られた積層ポリエチレンフィルムについ
て、実施例1と同様に表面粗さおよび100nm以上の突
起数を測定したところ、表面粗さは61nmであり、突起
数は13個/0.1mm2であった。また、このポリエチ
レンフィルムの120℃、15分の条件で加熱したとき
の寸法変化は4.8%であり、130℃、5分の条件で
加熱したときに発生する揮発成分量は156μg/gで
あった。
The surface roughness and the number of protrusions of 100 nm or more of the obtained laminated polyethylene film were measured in the same manner as in Example 1. The surface roughness was 61 nm, and the number of protrusions was 13 / 0.1 mm 2 . there were. The dimensional change of this polyethylene film when heated at 120 ° C. for 15 minutes was 4.8%, and the amount of volatile components generated when heated at 130 ° C. for 5 minutes was 156 μg / g. there were.

【0094】このポリエチレンフィルムに、実施例1と
同様の方法でA層側にダイヤモンド状炭素膜を成膜し、
酸素透過度および全光線透過率を測定した。その結果を
表1に示す。
On this polyethylene film, a diamond-like carbon film was formed on the layer A side in the same manner as in Example 1.
Oxygen permeability and total light transmittance were measured. Table 1 shows the results.

【0095】[0095]

【表1】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1はガスバリアー層を形成するための製膜装
置の概略図を示す
FIG. 1 is a schematic view of a film forming apparatus for forming a gas barrier layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空容器 2 マグネット 3 ターゲット電極 4 シャッター機構 5 ガス導入管 6 高周波電源 7 自動整合器 8 ホルダーに取り付けた基材フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum container 2 Magnet 3 Target electrode 4 Shutter mechanism 5 Gas introduction pipe 6 High frequency power supply 7 Automatic matching device 8 Base film attached to holder

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 23/04 C08L 23/04 23/10 23/10 45/00 45/00 Fターム(参考) 4F071 AA14 AA15 AA20 AA39 AA83 AE22 AF07 AF30Y AF61Y BC01 BC13 BC14 BC15 BC16 4F100 AK02A AK03A AK04A AK07A BA01 BA16 DD07A GB15 GB23 JK15A JL04 JN01A JN30A YY00 YY00A 4J002 AE032 AE052 BB031 BB041 BB121 BB141 BK001 DE146 DJ016 DJ046 EP006 FD206──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) C08L 23/04 C08L 23/04 23/10 23/10 45/00 45/00 F term (reference) 4F071 AA14 AA15 AA20 AA39 AA83 AE22 AF07 AF30Y AF61Y BC01 BC13 BC14 BC15 BC16 4F100 AK02A AK03A AK04A AK07A BA01 BA16 DD07A GB15 GB23 JK15A JL04 JN01A JN30A YY00 YY00A 4J002 AE032 EB051 BB01 EB051

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】200μm×200μm以上の面積につい
て測定された平均面粗さSRaが20nm以下である平滑
表面を、片面または両面に有することを特徴とするポリ
オレフィン系フィルム。
1. A polyolefin-based film having a smooth surface having an average surface roughness SRa of 20 nm or less on one or both surfaces, measured on an area of 200 μm × 200 μm or more.
【請求項2】ポリオレフィン系フィルム表面に存在する
100nm以上の高さの突起および/または100nm以
上の深さの窪みが、2個/0.1mm2より少ないことを
特徴とする請求項1に記載のポリオレフィン系フィル
ム。
2. The method according to claim 1, wherein the number of protrusions having a height of 100 nm or more and / or depressions having a depth of 100 nm or more on the surface of the polyolefin film is less than 2 / 0.1 mm 2. Polyolefin film.
【請求項3】ポリオレフィン系フィルムが透明フィルム
であることを特徴する請求項1または2に記載のポリオ
レフィン系フィルム。
3. The polyolefin film according to claim 1, wherein the polyolefin film is a transparent film.
【請求項4】透明フィルムの光線透過率が80%以上で
あることを特徴する請求項3に記載のポリオレフィン系
フィルム。
4. The polyolefin film according to claim 3, wherein the light transmittance of the transparent film is 80% or more.
【請求項5】ポリオレフィン系フィルムがポリエチレン
フィルム、ポリプロピレンフィルム、環状オレフィン共
重合体フィルムからなる群から選ばれる少なくとも1種
であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載
のポリオレフィン系フィルム。
5. The polyolefin-based film according to claim 1, wherein the polyolefin-based film is at least one selected from the group consisting of a polyethylene film, a polypropylene film, and a cyclic olefin copolymer film. the film.
【請求項6】ポリオレフィン系フィルムが2種類以上の
ポリオレフィン系フィルムが積層された多層構造を有す
るフィルムであることを特徴とする請求項1〜4のいず
れかに記載のポリオレフィン系フィルム。
6. The polyolefin film according to claim 1, wherein the polyolefin film is a film having a multilayer structure in which two or more kinds of polyolefin films are laminated.
【請求項7】上記ポリオレフィン系フィルム中に含まれ
る添加剤の総量が、0.5重量%以下であることを特徴
とする請求項1〜6のいずれかに記載のポリオレフィン
系フィルム。
7. The polyolefin film according to claim 1, wherein the total amount of additives contained in the polyolefin film is 0.5% by weight or less.
【請求項8】上記ポリオレフィン系フィルム中に含まれ
るブロッキング防止剤の量が0.01重量%以下である
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のポリ
オレフィン系フィルム。
8. The polyolefin film according to claim 1, wherein the amount of the antiblocking agent contained in the polyolefin film is 0.01% by weight or less.
【請求項9】上記ポリオレフィン系フィルムが、フィル
ムを構成するポリオレフィンを溶融させ、シート状に成
形したものを、直ちに金属ロールを巻き付けて急冷させ
て得られたものであり、成形温度をTb(℃)とし、金
属ロール表面の温度をTr(℃)としたときに、TbとT
rとが以下の関係式を満足することを特徴とする請求項
1〜8のいずれかに記載のポリオレフィン系フィルム。 Tr≦Tb−150 [℃]
9. The polyolefin-based film is obtained by melting a polyolefin constituting the film and forming it into a sheet, immediately wrapping it around a metal roll and quenching it, and setting the forming temperature to Tb (° C.). ), And when the temperature of the metal roll surface is Tr (° C.), Tb and T
The polyolefin film according to any one of claims 1 to 8, wherein r satisfies the following relational expression. Tr ≦ Tb-150 [° C]
【請求項10】120℃、15分の条件で加熱した時の
寸法変化率が4%以下であることを特徴とする請求項1
〜9のいずれかに記載のポリオレフィン系フィルム。
10. The dimensional change when heated at 120 ° C. for 15 minutes is 4% or less.
10. The polyolefin-based film according to any one of items 1 to 9.
【請求項11】130℃、5分の条件で加熱した時に発
生する揮発成分量が300μg/g以下であることを特
徴とする請求項1〜10のいずれかに記載のポリオレフ
ィン系フィルム。
11. The polyolefin film according to claim 1, wherein the amount of volatile components generated when heated at 130 ° C. for 5 minutes is 300 μg / g or less.
JP2000134315A 2000-04-28 2000-04-28 Polyolefin film Pending JP2001316489A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000134315A JP2001316489A (en) 2000-04-28 2000-04-28 Polyolefin film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000134315A JP2001316489A (en) 2000-04-28 2000-04-28 Polyolefin film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001316489A true JP2001316489A (en) 2001-11-13

Family

ID=18642620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000134315A Pending JP2001316489A (en) 2000-04-28 2000-04-28 Polyolefin film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001316489A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004065119A1 (en) 2003-01-20 2004-08-05 Zeon Corporation Multilayer body and method for producing same
JP2006057121A (en) * 2004-08-18 2006-03-02 Kuraray Co Ltd Method for producing silicon nitride film, and film for display device
JP2009172988A (en) * 2007-10-16 2009-08-06 Fujifilm Corp Barrier laminate, barrier film substrate, device, and method for producing barrier laminate
JP2011148139A (en) * 2010-01-20 2011-08-04 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier laminate
JP5344909B2 (en) * 2006-04-13 2013-11-20 三井化学株式会社 Thermoplastic resin composition, solar cell sealing sheet and solar cell
EP2949466A1 (en) * 2014-05-30 2015-12-02 Bischof + Klein GmbH & Co. KG Packaging film and method of producing same
JP2018144483A (en) * 2017-03-07 2018-09-20 東洋紡株式会社 Polyethylene film for vapor-deposited substrate and vapor-deposited film
KR20190126323A (en) * 2017-03-07 2019-11-11 도요보 가부시키가이샤 Polyethylene film for vapor deposition substrates and vapor deposition film using same
WO2020116514A1 (en) 2018-12-06 2020-06-11 凸版印刷株式会社 Gas barrier film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1170152A (en) * 1997-06-16 1999-03-16 Mitsui Chem Inc Film for pharmaceutical container
JPH11140199A (en) * 1997-11-10 1999-05-25 Toray Ind Inc Non-oriented polyolefin film and vacuum-deposited non-oriented film made therefrom
JPH11162779A (en) * 1997-11-27 1999-06-18 Toray Ind Inc Polypropylene film for capacitor

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1170152A (en) * 1997-06-16 1999-03-16 Mitsui Chem Inc Film for pharmaceutical container
JPH11140199A (en) * 1997-11-10 1999-05-25 Toray Ind Inc Non-oriented polyolefin film and vacuum-deposited non-oriented film made therefrom
JPH11162779A (en) * 1997-11-27 1999-06-18 Toray Ind Inc Polypropylene film for capacitor

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004065119A1 (en) 2003-01-20 2004-08-05 Zeon Corporation Multilayer body and method for producing same
JP2006057121A (en) * 2004-08-18 2006-03-02 Kuraray Co Ltd Method for producing silicon nitride film, and film for display device
JP4589054B2 (en) * 2004-08-18 2010-12-01 株式会社クラレ Method for producing film for display device
JP5344909B2 (en) * 2006-04-13 2013-11-20 三井化学株式会社 Thermoplastic resin composition, solar cell sealing sheet and solar cell
JP2009172988A (en) * 2007-10-16 2009-08-06 Fujifilm Corp Barrier laminate, barrier film substrate, device, and method for producing barrier laminate
JP2011148139A (en) * 2010-01-20 2011-08-04 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier laminate
EP2949466A1 (en) * 2014-05-30 2015-12-02 Bischof + Klein GmbH & Co. KG Packaging film and method of producing same
JP2018144483A (en) * 2017-03-07 2018-09-20 東洋紡株式会社 Polyethylene film for vapor-deposited substrate and vapor-deposited film
KR20190126323A (en) * 2017-03-07 2019-11-11 도요보 가부시키가이샤 Polyethylene film for vapor deposition substrates and vapor deposition film using same
JP6996339B2 (en) 2017-03-07 2022-01-17 東洋紡株式会社 Polyethylene film for vapor deposition base material and vapor deposition film using it
KR102412325B1 (en) 2017-03-07 2022-06-22 도요보 가부시키가이샤 Polyethylene film for vapor deposition substrates and vapor deposition film using same
WO2020116514A1 (en) 2018-12-06 2020-06-11 凸版印刷株式会社 Gas barrier film
US11780978B2 (en) 2018-12-06 2023-10-10 Toppan Printing Co., Ltd. Gas barrier film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001310412A (en) Gas barrier film
EP0925912B1 (en) A biaxially oriented polypropylene film to be metallized, a film so metallized and a laminate utilizing it
JP4420052B2 (en) Method for producing plastic molded article with vapor deposition film
CA2766816C (en) Biaxially oriented metallized polylactic acid film with high metal adhesion and high barrier properties
JP5083200B2 (en) Plastic molded product with vapor deposition film
JP2001316489A (en) Polyolefin film
Iwamori et al. Silicon oxide gas barrier films deposited by reactive sputtering
EP1634699A1 (en) Multilayer metallized film and production method
WO2022138531A1 (en) Polypropylene film, laminate, packaging material, and packing body
CN113474398A (en) Film for sealant
JPH1126155A (en) Protection film for electroluminescent element
JP2004107417A (en) Biaxially oriented moistureproof polypropylene film
TW201226606A (en) Gas-barrier laminate film
JP2004181876A (en) Heat shrinkable polyolefine film
WO2013140868A1 (en) Polylactic acid molding provided with deposited film and method for producing same
TW202000953A (en) Vapor deposition film and production method of vapor deposition film
JPH10249986A (en) Transparent gas barrier film
JP3352943B2 (en) Barrier film and method for producing the same
JPH1170152A (en) Film for pharmaceutical container
JP2009184252A (en) Polypropylene film for metal vapor deposition and metallized polypropylene film
JPS59223731A (en) Formation of thin metallic film on surface of synthetic resin molding and product obtained thereby
JP4240620B2 (en) Metallized biaxially oriented polypropylene film and laminate using the same
JP7243905B2 (en) Laminates, packaging materials, and packages
JPH07285191A (en) Gas barrier packaging material
JP4060935B2 (en) Gas barrier film and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060215

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080718

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080729

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080929

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090331

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090529

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100706