JP2001313340A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JP2001313340A
JP2001313340A JP2000131572A JP2000131572A JP2001313340A JP 2001313340 A JP2001313340 A JP 2001313340A JP 2000131572 A JP2000131572 A JP 2000131572A JP 2000131572 A JP2000131572 A JP 2000131572A JP 2001313340 A JP2001313340 A JP 2001313340A
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JP
Japan
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wiring
external terminal
introduction
internal circuit
lead
Prior art date
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Pending
Application number
JP2000131572A
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Japanese (ja)
Inventor
Hisato Yoshida
久人 吉田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor integrated circuit that can easily modify the terminal connection of an LSI chip to a target package, that has a different number of terminals from the LSI chip, especially for QFP. SOLUTION: Lead-in wiring 211 to 216 for an external terminal, that are connected to external terminals 201 to 206, and lead-in wirings 221 to 226 for an internal circuit that are connected to the internal circuit are set to the same wiring layer, wiring segments 241 to 243 for lead-in wiring connection on two wiring layers for holding the wiring between the wiring segments are alternately arranged in upper and lower layers so that the two wiring layers cross the lead-in wiring for the internal circuit, and one of the two wiring layers crosses the lead-in wiring for the external terminal, and the arrangement of contacts 231 to 234 for connecting the wiring layers is changed, thus modifying the connection relationship between the internal circuit and external terminal.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に、半導体集積回路における外部端子の接続回
路の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to an improvement in a circuit for connecting external terminals in a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来技術】半導体集積回路の設計期間短縮を実現する
ため、多機能の集積回路を用いてプロトタイピングする
ことによりシステム検証を行なう方法が有効である。こ
の場合、多機能の集積回路であるため、目的とする集積
回路に対し、プロトタイピング用のLSIの端子数が多
く、実際の基板に搭載することができない場合が多い。
その解決手段として、従来では、まずLSIを中継基板
に実装して、その中継基板を介して基板(マザーボー
ド)に接続する方法が用いられていた。
2. Description of the Related Art In order to shorten the design period of a semiconductor integrated circuit, a method of performing system verification by prototyping using a multifunctional integrated circuit is effective. In this case, since the integrated circuit is a multifunctional integrated circuit, the number of terminals of the LSI for prototyping is larger than that of the target integrated circuit, and it is often impossible to mount the LSI on an actual board.
As a solution to this, conventionally, a method has been used in which an LSI is first mounted on a relay board and connected to a board (motherboard) via the relay board.

【0003】しかしながら、この方法では、マザーボー
ド上の寸法制約により中継基板を設置できない場合があ
る。そこで、LSIチップを、その未使用端子を接続せ
ずに目的のパッケージに封止してマザーボードに実装す
る方法が考えられる。例えば、CSP(cell si
ze package)の場合、そのパッケージの特徴
からパッケージ上の配線により、端子数の削減を行なう
ことが可能であるが、QFP(quad flat p
ackage)の場合には、端子数を変更するために、
ボンディング時の制約から集積回路上の端子位置の変更
が必要となる。
However, with this method, there is a case where the relay board cannot be installed due to dimensional restrictions on the motherboard. Therefore, a method of mounting the LSI chip on a motherboard by sealing the LSI chip in a target package without connecting the unused terminals is conceivable. For example, CSP (cell si
In the case of zero package, the number of terminals can be reduced by wiring on the package due to the characteristics of the package.
Acquisition), in order to change the number of terminals,
It is necessary to change the position of the terminal on the integrated circuit due to restrictions at the time of bonding.

【0004】かかる端子位置を変更する技術としては、
特開昭61−45353号公報あるいは特開平05−2
59284号公報に記載のゲートアレイを用いた回路変
更による方法や、特開平02−185796号公報に記
載の拡散工程終了後に外部からエネルギーを加えること
により回路変更を行なう方法がある。
As a technique for changing the terminal position,
JP-A-61-45353 or JP-A-Heisei 05-2
There is a method of changing a circuit using a gate array described in Japanese Patent No. 59284, and a method of changing a circuit by externally applying energy after the diffusion step described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 02-185796.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のゲートアレイを用いた方法では、修正されるレイア
が金属配線層全体にわたり、特に、多層配線を有するプ
ロセスにおいてはその修正量が大きくなるという問題が
ある。
However, in the above-described method using the conventional gate array, the layer to be repaired extends over the entire metal wiring layer, and the amount of repair becomes large especially in a process having multilayer wiring. There is.

【0006】また、上記従来の拡散工程終了後に外部か
らエネルギーを加えることにより回路変更する方法で
は、集積回路1個当りの工数が多いという問題がある。
Further, the conventional method of changing a circuit by applying energy from the outside after the completion of the diffusion step has a problem that the number of steps per integrated circuit is large.

【0007】本発明は、上記問題点に鑑み、LSIチッ
プとは端子数の異なる目的のパッケージ、特にQFPへ
のLSIチップの端子接続を容易に変更可能にした半導
体集積回路を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit in which the number of terminals of an LSI chip is different from that of an LSI chip, in particular, a semiconductor integrated circuit in which the terminal connection of the LSI chip to a QFP can be easily changed. And

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明に係る第1の半導体集積回路は、3層以上の
配線層を持つ半導体集積回路であって、外部端子に接続
された外部端子用導入配線と、前記外部端子用導入配線
と同じ配線層で形成され、前記外部端子用導入配線に接
続されることで前記外部端子と内部回路との間で信号を
結合する内部回路用導入配線と、前記外部端子用導入配
線を挟み込む二つの配線層で各組が形成され、連続して
並置された前記外部端子用導入配線とは前記二つの配線
層のうち一方の配線層のみが交互に交差し、かつ、前記
内部回路用導入配線とは前記二つの配線層が共に交差す
るように、各組が平行に複数配置された導入配線接続用
配線線分組と、前記二つの配線層間を接続するために前
記導入配線接続用配線線分組上に配設されるコンタクト
とを備え、前記コンタクトの配置に応じて、前記外部端
子用導入配線と前記内部回路用導入配線との接続関係が
変更されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a first semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers and connected to external terminals. An external terminal introduction wiring, and an internal circuit that is formed of the same wiring layer as the external terminal introduction wiring and that is connected to the external terminal introduction wiring to couple a signal between the external terminal and the internal circuit. Each group is formed by two wiring layers sandwiching the introductory wiring and the external terminal introductory wiring, and the external terminal introductory wiring continuously arranged is only one of the two wiring layers. Alternately intersecting, and the internal circuit introduction wiring is a plurality of introduction wiring connection wiring line segment sets each of which is arranged in parallel such that the two wiring layers intersect with each other, and the two wiring layers To connect the introductory wiring connection And a contact which is disposed a line segment set on, in accordance with the arrangement of the contact, the connection relationship between the external terminals for introducing wire and the introduction wires for the internal circuit is characterized in that it is changed.

【0009】前記第1の半導体集積回路において、前記
導入配線接続用配線線分組は、前記外部端子の内側位置
で前記内部回路を複数周回するように配置されることが
好ましい。
[0009] In the first semiconductor integrated circuit, it is preferable that the wiring line segment for connecting the lead-in wiring is arranged so as to go around the internal circuit a plurality of times at a position inside the external terminal.

【0010】上記第1の半導体集積回路によれば、金属
配線を接続するコンタクト層の変更のみで、集積回路の
外部端子数を減少させることが可能になる。また、必要
最低限の配線線分で実現可能であるため、二層を用いな
い周回配線を用いた場合に比べ配線容量を低減すること
ができる。さらに、同じ周回配線を複数の外部端子への
接続に使用可能であるため、外部端子数よりも少ない周
回線数で機能を実現可能することが可能になる。
According to the first semiconductor integrated circuit, the number of external terminals of the integrated circuit can be reduced only by changing the contact layer for connecting the metal wiring. Further, since it can be realized with the minimum necessary number of wiring lines, the wiring capacity can be reduced as compared with the case where the circling wiring without using two layers is used. Further, since the same circuit wiring can be used for connection to a plurality of external terminals, it is possible to realize a function with a smaller number of circuits than the number of external terminals.

【0011】また、前記第1の半導体集積回路におい
て、前記外部端子用導入配線の総数mに対する実際に使
用する前記外部端子用導入配線数の割合をPとした場
合、前記導入配線接続用配線線分の周回数は、m×(1
−P)/2に設定される。この構成によれば、使用する
外部端子数が少ない場合、最低限の周回配線線分の数で
外部端子数を減少させることが可能となり、配線用に占
有されるチップ面積の削減を図ることが可能になる。
In the first semiconductor integrated circuit, when the ratio of the number of the external terminal introduction wirings actually used to the total number m of the external terminal introduction wirings is P, the introduction wiring connection wiring line The number of laps per minute is m × (1
-P) / 2. According to this configuration, when the number of external terminals to be used is small, it is possible to reduce the number of external terminals with the minimum number of peripheral wiring lines, and to reduce the chip area occupied by wiring. Will be possible.

【0012】前記の目的を達成するため、本発明に係る
第2の半導体集積回路は、3層以上の配線層を有する半
導体集積回路であって、外部端子に接続された外部端子
用導入配線と、前記外部端子用導入配線と同じ配線層で
形成され、前記外部端子用導入配線に接続されることで
前記外部端子と内部回路との間で信号を結合する内部回
路用導入配線と、前記外部端子用導入配線を挟み込む二
つの配線層で各組が形成され、連続して並置された前記
外部端子用導入配線とは前記二つの配線層のうち一方の
配線層のみが交互に交差し、かつ、前記内部回路用導入
配線とは前記二つの配線層が共に交差するように、各組
が平行に複数配置された導入配線接続用配線線分組と、
前記導入配線接続用配線線分組と直交し、前記外部端子
用導入配線と同一の配線層で形成され、隣り合う組の前
記導入配線接続用配線線分を接続する配線線分と、前記
二つの配線層間を接続するために前記導入配線接続用配
線線分組上に配設されるコンタクトとを備え、前記コン
タクトの配置に応じて、前記外部端子用導入配線と前記
内部回路用導入配線との接続関係が変更されることを特
徴とする。
In order to achieve the above object, a second semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers, wherein an external terminal introduction wiring connected to an external terminal is provided. An internal circuit introduction wiring formed of the same wiring layer as the external terminal introduction wiring and connected to the external terminal introduction wiring to couple a signal between the external terminal and the internal circuit; Each set is formed by two wiring layers sandwiching the terminal introduction wiring, and only one of the two wiring layers alternately intersects with the external terminal introduction wiring arranged side by side, and And the internal circuit introduction wiring, and a plurality of introduction wiring connection wiring line segment sets each of which is arranged in parallel such that the two wiring layers intersect together,
A wiring line segment orthogonal to the introduction wiring connection wiring line set, formed of the same wiring layer as the external terminal introduction wiring, and connecting the introduction wiring connection wiring line segments of an adjacent set; A contact disposed on the lead-in connection wiring line segment set for connecting a wiring layer, and connecting the external terminal lead-in and the internal circuit lead-in according to the arrangement of the contact. The relationship is changed.

【0013】上記第2の半導体集積回路によれば、周回
線を乗り換えて接続を行うことで、必要となる周回線数
を減少させることが可能となり、配線用に占有されるチ
ップ面積の削減を図ることが可能になる。
According to the second semiconductor integrated circuit, the number of peripheral circuits required can be reduced by changing the peripheral circuits and making connection, thereby reducing the chip area occupied by wiring. It becomes possible to plan.

【0014】前記の目的を達成するため、本発明に係る
第3の半導体集積回路は、3層以上の配線層を有する半
導体集積回路であって、外部端子に接続された外部端子
用導入配線と、前記外部端子用導入配線と同じ配線層で
形成され、通常動作時に前記外部端子用導入配線と接続
される通常時外部端子用導入配線と、前記外部端子用導
入配線と同じ配線層で形成され、テスト動作時に前記外
部端子用導入配線と接続されるテスト時外部端子用導入
配線と、前記通常時外部端子用導入配線または前記テス
ト時外部端子用導入配線と前記外部端子用導入配線との
接続を切り替える選択回路と、前記通常時外部端子用導
入配線と同じ配線層で形成され、前記通常時外部端子用
導入配線に接続されることで前記外部端子と内部回路と
の間で信号を結合する通常時内部回路用導入配線と、前
記テスト時外部端子用導入配線と同じ配線層で形成さ
れ、前記テスト時外部端子用導入配線に接続されること
で前記外部端子と内部回路との間で信号を結合するテス
ト時内部回路用導入配線と、前記通常時外部端子用導入
配線を挟み込む二つの配線層で各組が形成され、連続し
て並置された前記通常時外部端子用導入配線とは前記二
つの配線層のうち一方のみが交互に交差し、かつ、前記
通常時内部回路用導入配線とは前記二つの配線層が共に
交差するように、各組が平行に複数配置された通常時導
入配線接続用配線線分組と、前記テスト時外部端子用導
入配線を挟み込む二つの配線層で各組が形成され、連続
して並置された前記テスト時外部端子用導入配線とは前
記二つの配線層のうち一方のみが交互に交差し、かつ、
前記テスト時内部回路用導入配線とは前記二つの配線層
が共に交差するように、各組が平行に複数配置されたテ
スト時導入配線接続用配線線分組と、前記二つの配線層
間を接続するために前記通常時導入配線接続用配線線分
組上およびテスト時導入配線接続用配線線分組上に配設
されるコンタクトとを備え、前記コンタクトの配置に応
じて、前記通常時外部端子用導入配線と前記通常時内部
回路用導入配線との接続関係、および前記テスト時外部
端子用導入配線と前記テスト時内部回路用導入配線との
接続関係が変更されることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a third semiconductor integrated circuit according to the present invention is a semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers, wherein an external terminal introduction wiring connected to an external terminal is provided. A normal external terminal introduction wiring, which is formed in the same wiring layer as the external terminal introduction wiring and is connected to the external terminal introduction wiring during normal operation, and is formed in the same wiring layer as the external terminal introduction wiring. A test external terminal lead-in line connected to the external terminal lead-in line during a test operation, and the normal external terminal lead-in line or the test external terminal lead-in line and the external terminal lead-in line And a selection circuit that switches between the external terminal and the internal circuit by being formed in the same wiring layer as the normal external terminal introduction wiring and being connected to the normal external terminal introduction wiring. Normal internal circuit introduction wiring, and the test external terminal introduction wiring is formed in the same wiring layer, and is connected to the test external terminal introduction wiring by the test external connection between the external terminal and the internal circuit. Each set is formed by two wiring layers sandwiching the test-time internal circuit introduction wiring that couples the signal and the normal-time external terminal introduction wiring, and the normal-time external terminal introduction wiring continuously arranged side by side. Only one of the two wiring layers intersects alternately, and the normal internal circuit introduction wiring is such that the two wiring layers intersect with each other at normal times when a plurality of sets are arranged in parallel. Each set is formed by two wiring layers sandwiching the lead wire for external terminal connection during test and the lead wire for external terminal for test which is continuously juxtaposed. Only one of the layers alternates Crossed, and,
The test-internal-circuit-introduction-wiring connects the test-introduction-wiring-connection wiring line segment set in which a plurality of sets are arranged in parallel such that the two wiring layers intersect with each other, and connects the two wiring layers. And a contact disposed on the normal-time lead-in connection wiring line sub-assembly and the test-in lead-in connection wiring line sub-assembly, and according to the arrangement of the contacts, the normal-time external terminal lead-in wiring. And the connection relationship between the normal internal circuit introduction wiring and the test external terminal introduction wiring and the test internal circuit introduction wiring are changed.

【0015】上記第3の半導体集積回路によれば、外部
端子数を減少させる際に、通常動作とテスト動作の組み
合わせをすべての外部端子を使用した場合と同じにする
必要がなく、通常時に外部端子に結合する内部回路から
の信号を、テスト動作時の信号とは無関係に選択するこ
とが可能になる。
According to the third semiconductor integrated circuit, when reducing the number of external terminals, it is not necessary to make the combination of the normal operation and the test operation the same as when all the external terminals are used. The signal from the internal circuit coupled to the terminal can be selected independently of the signal during the test operation.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を用いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】(第1実施形態)まず、本発明の第1実施
形態について、図1から図6を参照しながら説明する。
(First Embodiment) First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0018】図1は、本発明の第1実施形態による半導
体集積回路における端子接続回路の一構成例を部分的に
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view partially showing a configuration example of a terminal connection circuit in a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【0019】図1において、101は集積回路の外部端
子であり、102は外部端子101に接続された外部端
子用導入配線である。また、103は、外部端子用導入
配線102に接続されることで、信号を内部回路から外
部端子に出力する、あるいは外部端子から内部回路へ入
力するための内部回路用導入配線である。また、104
および105は、外部端子用導入配線102と内部回路
用導入配線103との間を接続するための配線を構成す
る導入配線接続用配線線分であり、導入配線接続用配線
線分104と105とで一つの導入配線接続用配線線分
組をなす。導入配線接続用配線線分104および105
は、金属配線層のうち、例えば第3層と第1層のように
間を一層あけた二層で構成される。外部端子用導入配線
102および内部回路用導入配線103には共に、導入
配線接続用配線線分104と105が形成される配線層
の間にある配線層、例えば第2層の金属配線が割り当て
られる。
In FIG. 1, reference numeral 101 denotes an external terminal of the integrated circuit, and reference numeral 102 denotes an external terminal introduction wiring connected to the external terminal 101. Reference numeral 103 denotes an internal circuit introduction wiring for connecting the external terminal introduction wiring 102 to output a signal from the internal circuit to the external terminal or to input a signal from the external terminal to the internal circuit. Also, 104
And 105 are wiring lines for connecting the wirings for connecting between the wirings 102 for external terminals and the wiring 103 for the internal circuit. Constitutes one set of wiring lines for connecting introductory wiring. Introductory wiring connection wiring line segments 104 and 105
Are composed of two layers of a metal wiring layer, such as a third layer and a first layer, which are further separated from each other. A wiring layer between the wiring layers on which the wiring lines 104 and 105 for connecting the wirings are formed, for example, a second-layer metal wiring is assigned to both the external terminal introducing wiring 102 and the internal circuit introducing wiring 103. .

【0020】導入配線接続用配線線分104および10
5は、その上位層線分104および下位層線分105が
外部端子用導入配線102と交互に交差し、かつ、内部
回路用導入配線103とは両方の線分104と105が
交差するように配置される。また、二つの導入用配線以
外に、二層の導入配線接続用配線線分104と105同
士を二つの導入用配線以外の箇所で接続するコンタクト
を配置するためのコンタクト用線分が、中間の二つの導
入配線接続用配線線分が形成される配線層の間に配置さ
れる。また、このコンタクト用線分が浮遊配線とならな
いように、コンタクト用線分は上位層または下位層の導
入配線接続用配線線分104、105の一方とコンタク
トにより接続される。
Introductory wiring connection wiring line segments 104 and 10
5 is such that the upper-layer line segment 104 and the lower-layer line segment 105 alternately intersect with the external terminal introduction wiring 102, and both the line segments 104 and 105 intersect with the internal circuit introduction wiring 103. Be placed. In addition to the two introduction wirings, a contact line for arranging a contact connecting the two-layer introduction wiring connection wiring line segments 104 and 105 at a position other than the two introduction wirings is an intermediate line. The two introductory wiring connecting wiring lines are arranged between the wiring layers in which they are formed. In addition, the contact line is connected to one of the upper-layer or lower-layer lead-in wiring lines 104 and 105 by a contact so that the contact line does not become a floating line.

【0021】導入配線接続用配線線分104、105
は、図4に示すように、外部端子101と内部回路(コ
アブロック)との間に前述の配置方法で集積回路を一周
するように配置され、これが複数組配置される。導入配
線接続用配線線分104、105を内部回路用導入配線
103と外部端子用導入配線102のうちの近い側の半
周側に設けることで、最大配線長が二辺の長さとなり、
その結果周回させる配線数は最大外部端子数の半分とな
る。
Introductory wiring connection wiring line segments 104 and 105
As shown in FIG. 4, a plurality of sets are arranged between the external terminal 101 and the internal circuit (core block) so as to go around the integrated circuit by the above-described arrangement method. By providing the wiring line segments 104 and 105 for connecting the introductory wiring on the nearer half of the inner circuit introducing wire 103 and the external terminal introducing wire 102, the maximum wiring length becomes the length of two sides,
As a result, the number of wirings to be circulated is half of the maximum number of external terminals.

【0022】さらに、外部端子101の数を削減した後
の信号の割り当てを元の順序関係を保持するようにする
ことで、より周回配線数を減少させることが可能とな
る。例えば、1辺に本来の集積回路では総数m本の外部
端子用導入配線があり、それに対する割合Pの数の外部
端子用導入配線数まで減少させて使用する場合、ある外
部端子用導入配線に接続しようとしている内部回路用導
入配線を横切っている導入配線接続用配線線分の数は、
(m−m×P)で求められる。なぜなら、ある外部端子
を基点としそこからmまでに含まれる内部回路用導入配
線数の数はmであり、実際に使用する外部端子用導入配
線の数はm×Pであるため接続されていない信号線数は
m×(1−P)となる。従って、周回配線数の最大値は
m×(1−P)とできる。例えば、外部端子数を減少さ
せる割合が最小1/2であるとき、半周に含まれる外部
端子用導入配線を対象に考えると、mは元外部端子用導
入配線の数の1/2であるため、周回配線数は1/4と
すればよい。
Furthermore, by maintaining the original order of the signal assignment after the number of external terminals 101 is reduced, the number of circuit wirings can be further reduced. For example, the original integrated circuit has a total of m external terminal introductory lines on one side, and when the number of external terminal introductory lines is reduced to the ratio P to the number of external terminal introductory lines, a certain external terminal introductory line The number of wiring lines for the introductory wiring connecting across the introductory wiring for the internal circuit to be connected is
(M−m × P). This is because the number of internal circuit introduction wirings included from a certain external terminal as a base point to m from there is m, and the number of external terminal introduction wirings actually used is m × P, so that they are not connected. The number of signal lines is mx (1-P). Therefore, the maximum value of the number of orbiting wirings can be m × (1−P). For example, when the reduction ratio of the number of external terminals is at least 1 /, considering the external terminal introduction wiring included in a half circumference, m is の of the number of original external terminal introduction wirings. , The number of circuit wirings may be set to 4.

【0023】また、電源配線は、導入配線接続用配線線
分104、105の内側あるいは外側に集積回路を一周
するように配置される。なお、図4において、外部端子
用導入配線102および内部回路用導入配線103は、
説明の明瞭化のために削除している。
Further, the power supply wiring is arranged inside or outside of the lead wiring connecting line segments 104 and 105 so as to go around the integrated circuit. In FIG. 4, the external terminal introduction wiring 102 and the internal circuit introduction wiring 103 are
Removed for clarity.

【0024】次に、図2、図3、図5および図6を用い
て、配線接続方法について説明する。
Next, a wiring connection method will be described with reference to FIGS. 2, 3, 5, and 6. FIG.

【0025】図2は、本実施形態における配線接続方法
の一例を部分的に示す平面図である。なお、図2および
図3おいて、第1コンタクトタイプ(コンタクトタイプ
1)は、上位層と中間層との接続を行なうコンタクトを
表し、第2コンタクトタイプ(コンタクトタイプ2)
は、下位層と中間層との接続を行なうコンタクトを表
す。
FIG. 2 is a plan view partially showing an example of the wiring connection method in the present embodiment. In FIGS. 2 and 3, a first contact type (contact type 1) indicates a contact for connecting an upper layer and an intermediate layer, and a second contact type (contact type 2).
Represents a contact for connecting the lower layer and the intermediate layer.

【0026】まず、すべての外部端子を使用する場合に
ついて、図2および図5を用いて説明する。
First, the case where all the external terminals are used will be described with reference to FIGS.

【0027】図2において、201から206は外部端
子であり、211から216はそれぞれ、外部端子20
1から206に接続された外部端子用導入配線であり、
221から226はそれぞれ、外部端子201から20
6をすべて使用する場合に、外部端子用導入配線211
から216に接続される内部回路用導入配線である。ま
た、242は導入配線接続用配線の上位層線分であり、
241および243は導入配線接続用配線の下位層線分
である。この場合には、外部端子用導入配線211から
216と内部回路用導入配線221から226の隣合う
配線が接続される。すなわち、本来の外部端子割り当て
に従った接続となる。この際、外部端子用導入配線21
1から216と交差する側の導入配線接続用配線線分に
二つの導入配線を接続するコンタクトを配置する。すな
わち、第1タイプのコンタクト231と232によっ
て、内部回路用導入配線221と外部端子用導入配線2
11を接続し、第2タイプのコンタクト233と234
によって、内部回路用導入配線222と外部端子用導入
配線212を接続する。
In FIG. 2, reference numerals 201 to 206 denote external terminals, and 211 to 216 denote external terminals 20 respectively.
External terminal lead-in wires connected to 1 to 206;
221 to 226 are external terminals 201 to 20 respectively.
6 is used, the external terminal introduction wiring 211 is used.
To 216 are internal circuit introduction wirings. Reference numeral 242 denotes an upper layer line of the introductory wiring connection wiring,
Reference numerals 241 and 243 denote lower-layer line segments of the introductory wiring connection wiring. In this case, wirings adjacent to the external terminal introduction wirings 211 to 216 and the internal circuit introduction wirings 221 to 226 are connected. That is, the connection follows the original external terminal assignment. At this time, the external terminal introduction wiring 21
A contact for connecting the two introductory wirings is arranged on the introductory wiring connecting wiring line segment on the side intersecting 1 to 216. That is, the first type contacts 231 and 232 allow the internal circuit lead-in 221 and the external terminal lead-in 2
11 and the second type of contacts 233 and 234
Thus, the internal circuit introduction wiring 222 and the external terminal introduction wiring 212 are connected.

【0028】図5は、本実施形態における配線接続例を
立体的に示す、図2の外部端子201、202側から見
た模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of the wiring connection in this embodiment in a three-dimensional manner, as viewed from the external terminals 201 and 202 in FIG.

【0029】図5において、511、512はそれぞ
れ、図2の外部端子用導入配線211、212に対応す
る。また、521、522はそれぞれ、図2の内部回路
用導入配線221、222に対応し、541、542、
543はそれぞれ、図2の導入配線接続用配線線分24
1、242、243に対応する。また、図2のコンタク
ト231、232、233、234はそれぞれ、符号5
31、532、533、534で示す箇所に配置され
る。
In FIG. 5, reference numerals 511 and 512 correspond to the external terminal introduction wirings 211 and 212 in FIG. 2, respectively. 521 and 522 correspond to the internal circuit introduction wirings 221 and 222 in FIG.
Reference numerals 543 denote wiring line segments 24 for connecting the lead-in wiring of FIG.
1, 242 and 243. The contacts 231, 232, 233, and 234 in FIG.
31, 532, 533, and 534 are arranged.

【0030】次に、外部端子を一つ置きに使用して、連
続する内部回路導入用配線をそれらに対応する外部端子
に順次接続する場合について、図3および図6を用いて
説明する。
Next, a description will be given of a case where every other external terminal is used and a continuous wiring for introducing an internal circuit is sequentially connected to the corresponding external terminal with reference to FIGS. 3 and 6. FIG.

【0031】図3において、301から303は使用す
る外部端子である。311から313はそれぞれ、外部
端子301から303に接続された外部端子用導入配線
であり、321から323はそれぞれ、外部端子用導入
配線311から313に接続されるべき内部回路用導入
配線である。また、342、344、346、348は
上位層の導入配線接続用配線線分であり、341、34
3、345、347は下位層の導入配線接続用配線線分
であり、331、332、335、336は第1タイプ
のコンタクトであり、333、334は第2タイプのコ
ンタクトである。
In FIG. 3, reference numerals 301 to 303 denote external terminals to be used. Reference numerals 311 to 313 denote external terminal introduction wirings connected to the external terminals 301 to 303, respectively, and reference numerals 321 to 323 denote internal circuit introduction wirings to be connected to the external terminal introduction wirings 311 to 313, respectively. Reference numerals 342, 344, 346, and 348 denote wiring lines for introducing wiring connection in the upper layer.
Reference numerals 3, 345, 347 denote lower-layer wiring lines for introducing wiring connection, 331, 332, 335, 336 are first type contacts, and 333, 334 are second type contacts.

【0032】内部回路用導入配線とそれに接続すべき外
部端子用導入配線との間に、別の外部端子用導入配線も
しくは別の内部回路用導入配線が存在する場合には、コ
ンタクト用配線線分を介して、上位層と下位層の導入配
線接続用配線線分を直接接続した配線線分を作成し、そ
の配線線分により内部回路用導入配線と外部端子用導入
配線を接続する。
If another external terminal introduction wiring or another internal circuit introduction wiring exists between the internal circuit introduction wiring and the external terminal introduction wiring to be connected thereto, the contact wiring line , A wiring line is formed by directly connecting the wiring lines for connecting the upper wiring and the lower wiring, and the wiring for the internal circuit and the wiring for the external terminal are connected by the wiring.

【0033】例えば、図3に示すように、内部回路用導
入配線322に接続された内部回路と外部端子用導入配
線312に接続された外部端子302との間で信号を結
合させるために、内部回路用導入配線322と外部端子
用導入配線312を接続する場合、第1タイプコンタク
ト334と第2タイプコンタクト335により導入配線
接続用配線線分347と348を直接接続し、第2タイ
プコンタクト333により内部回路用導入配線322と
導入配線接続用配線線分347を接続し、第1タイプコ
ンタクト336により外部端子用導入配線312と導入
配線接続用配線線分348を接続することで、図3の太
線で示した経路により、内部回路用導入配線322と外
部端子用導入配線312が接続される。
For example, as shown in FIG. 3, in order to couple a signal between the internal circuit connected to the internal circuit introduction wiring 322 and the external terminal 302 connected to the external terminal introduction wiring 312, When connecting the circuit introduction wiring 322 and the external terminal introduction wiring 312, the introduction wiring connection wiring line segments 347 and 348 are directly connected by the first type contact 334 and the second type contact 335, and the second type contact 333 is used. By connecting the internal circuit introduction wiring 322 and the introduction wiring connection wiring line segment 347, and connecting the external terminal introduction wiring 312 and the introduction wiring connection wiring line segment 348 by the first type contact 336, the thick line in FIG. 3 is obtained. Are connected between the internal circuit introduction wiring 322 and the external terminal introduction wiring 312.

【0034】図6は、本実施形態における別の配線接続
例を立体的に示す、図3の外部端子301、302側か
ら見た模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing another example of the wiring connection in this embodiment in a three-dimensional manner, as viewed from the external terminals 301 and 302 in FIG.

【0035】図6において、外部端子用導入配線611
および612はそれぞれ、図3の311および312に
対応する。また、内部回路用導入配線621および62
2はそれぞれ、図3の321および322に対応し、導
入配線接続用配線線分641から648はそれぞれ、図
3の341から348に対応し、コンタクト631から
636はそれぞれ、図3のコンタクト331から336
に対応する。
In FIG. 6, the external terminal lead-in line 611 is shown.
And 612 respectively correspond to 311 and 312 in FIG. Also, the internal circuit introduction wirings 621 and 62
3 respectively correspond to 321 and 322 in FIG. 3, the wiring segments 641 to 648 for the lead-in connection correspond to 341 to 348 in FIG. 3, respectively, and the contacts 631 to 636 correspond to the contacts 331 to 331 in FIG. 336
Corresponding to

【0036】未使用の外部端子に対する導入配線の内、
外部端子で入力として使用されるものについては、コン
タクトを介して電源配線と接続することで浮遊配線とな
ることを回避する。
Of the lead-in wires for unused external terminals,
For an external terminal used as an input, it is connected to a power supply line via a contact to avoid a floating line.

【0037】なお、本実施形態において、二つの導入配
線である外部端子用導入配線と内部回路用導入配線、お
よび導入配線接続用配線線分の順序関係を満たす限り、
使用配線層によらず同等の効果が得られる。
In this embodiment, as long as the order of the two lead wires, ie, the external terminal lead wire, the internal circuit lead wire, and the lead wire connecting wire line, is satisfied.
The same effect can be obtained regardless of the used wiring layer.

【0038】また、クロック信号やリセット信号など常
に必要となる信号については、上記の回路構成とは別に
固定した回路で実現しても同等の効果を得ることができ
る。
For signals that are always required, such as a clock signal and a reset signal, the same effects can be obtained even if the signals are realized by a fixed circuit separately from the above circuit configuration.

【0039】また、集積回路の特性から導入配線接続用
配線線分を周回線とはせず、特定の辺あるいは部分に適
用したとしても、その箇所に対し同等の効果を得ること
が可能となる。
Further, even if the wiring line for the lead-in connection is not used as a peripheral circuit but is applied to a specific side or a part, the same effect can be obtained for that part due to the characteristics of the integrated circuit. .

【0040】さらに、本実施形態では、一つの外部端子
に対し、一つの外部端子用導入配線を設定したが、入出
力端子等で端子当り複数の導入配線を必要とする場合に
は、それぞれの導入配線を上述の外部端子用導入配線の
一つとみなすことで、同等の回路を構成でき、かつ同等
の効果を得ることが可能である。
Further, in this embodiment, one external terminal lead-in wire is set for one external terminal. However, when a plurality of lead-in wires are required for each terminal for input / output terminals, etc. By regarding the introduction wiring as one of the above-described external terminal introduction wirings, an equivalent circuit can be configured and an equivalent effect can be obtained.

【0041】(第2実施形態)次に、本発明の第2実施
形態について、図7および図8を参照しながら説明す
る。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0042】図7は、本発明の第2実施形態による半導
体集積回路における端子接続回路の一構成例を部分的に
示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view partially showing a configuration example of a terminal connection circuit in a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【0043】図7において、701は集積回路の外部端
子であり、702は外部端子に接続された外部端子用導
入配線である。また、703は、外部端子用導入配線7
02に接続されることで、信号を内部回路から外部端子
701に出力する、あるいは外部端子701から内部回
路へ入力するための内部回路用導入配線である。また、
704および705は、外部端子用導入配線702と内
部回路用導入配線703との間を接続するための配線を
構成する導入配線接続用配線線分であり、導入配線接続
用配線線分704と705とで一つの導入配線接続用配
線線分組をなす。また、706は、隣り合う周回の導入
配線接続用配線線分を接続するための配線線分である。
In FIG. 7, reference numeral 701 denotes an external terminal of the integrated circuit, and reference numeral 702 denotes an external terminal introduction wiring connected to the external terminal. Reference numeral 703 denotes an external terminal introduction wiring 7.
02 is an internal circuit introduction wiring for outputting a signal from the internal circuit to the external terminal 701 or inputting the signal from the external terminal 701 to the internal circuit. Also,
Reference numerals 704 and 705 denote wiring lines for connecting the wirings for connecting between the wiring 702 for the external terminal and the wiring 703 for the internal circuit, and the wiring lines 704 and 705 for the wiring connection. Together, these form a single lead wiring connection wiring line set. Reference numeral 706 denotes a wiring line for connecting adjacent wiring lines for introduction wiring connection.

【0044】図8は、本実施形態における配線接続例を
立体的に示す、図7の外部端子701側から見た模式図
である。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a three-dimensional example of the wiring connection in this embodiment, as viewed from the external terminal 701 side in FIG.

【0045】図8において、外部端子用導入配線802
は図7の702に対応し、内部回路用導入配線803は
図7の703に対応し、導入配線接続用配線線分80
4、805はそれぞれ、図7の704、705に対応す
る。図7の隣り合う導入配線接続用配線線分を接続する
ための配線線分706は図8の806として配置され
る。導入配線接続用配線線分804、805は、金属配
線層のうち、例えば第3層と第1層のように間を一層開
けた二層で構成される。外部端子用導入配線802、内
部回路用導入配線803、および導入配線接続用配線線
分804、805を接続するための配線線分にはすべ
て、導入配線接続用配線線分804と805の配線層の
間にある配線層、例えば第2層が割り当てられる。
In FIG. 8, the external terminal introduction wiring 802 is used.
7 corresponds to 702 in FIG. 7, and the internal circuit introduction wiring 803 corresponds to 703 in FIG.
4 and 805 respectively correspond to 704 and 705 in FIG. Wiring line segments 706 for connecting adjacent wiring lines for introducing wiring in FIG. 7 are arranged as 806 in FIG. The wiring line segments 804 and 805 for connecting the introductory wiring are formed of two layers of a metal wiring layer, such as a third layer and a first layer, with a gap between them. The wiring layers for connecting the external terminal introduction wiring 802, the internal circuit introduction wiring 803, and the introduction wiring connection wiring line segments 804 and 805 are all wiring layers of the introduction wiring connection wiring line segments 804 and 805. A wiring layer between them, for example, a second layer is allocated.

【0046】導入配線接続用配線線分804、805を
接続するための配線線分806は、隣り合う周回の導入
配線接続用配線線分に接続を乗り換えるために使用さ
れ、これにより周回線分数を少なくすることが可能にな
る。
The wiring line segment 806 for connecting the wiring line segments 804 and 805 for the introduction wiring connection is used to switch the connection to the adjacent wiring line line for the introduction wiring connection. It is possible to reduce it.

【0047】(第3実施形態)次に、本発明の第3実施
形態について、図9を参照しながら説明する。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0048】図9は、本発明の第3実施形態による半導
体集積回路における端子接続回路の一構成例を部分的に
示す平面図である。
FIG. 9 is a plan view partially showing a configuration example of the terminal connection circuit in the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention.

【0049】図9において、901は集積回路の外部端
子であり、902は外部端子に接続された外部端子用導
入配線である。903は、通常動作時に、対応する外部
端子に接続される通常時外部端子用導入配線である。ま
た、904は、テスト動作時に、対応する外部端子に接
続されるテスト時外部端子用導入配線である。
In FIG. 9, reference numeral 901 denotes an external terminal of the integrated circuit, and reference numeral 902 denotes an external terminal introduction wiring connected to the external terminal. Reference numeral 903 denotes a normal external terminal introduction wiring connected to a corresponding external terminal during a normal operation. Reference numeral 904 denotes a test external terminal introduction wiring connected to a corresponding external terminal during a test operation.

【0050】912は、通常時外部端子用導入配線90
3とテスト時外部端子用導入配線904への信号経路を
切り換える選択回路(mux)であり、911は、通常
動作時とテスト動作時を切り換えるための動作選択信号
が供給される動作選択信号用配線である。
Reference numeral 912 denotes a normal external terminal lead-in line 90.
3 and a selection circuit (mux) for switching the signal path to the external terminal introduction wiring 904 at the time of test, and 911 is an operation selection signal wiring to which an operation selection signal for switching between normal operation and test operation is supplied. It is.

【0051】905は、通常動作時に、信号を集積回路
の内部回路から外部端子901に出力する、あるいは外
部端子901から内部回路に入力するための通常時内部
回路用導入配線である。906は、テスト動作時に、信
号を集積回路の内部回路から外部端子901に出力す
る、あるいは外部端子901から内部回路に入力するた
めのテスト時内部回路用導入配線である。
Reference numeral 905 denotes a normal internal circuit introduction wiring for outputting a signal from the internal circuit of the integrated circuit to the external terminal 901 or inputting the signal from the external terminal 901 to the internal circuit during a normal operation. Reference numeral 906 denotes a test internal circuit introduction wiring for outputting a signal from the internal circuit of the integrated circuit to the external terminal 901 or inputting a signal from the external terminal 901 to the internal circuit during a test operation.

【0052】また、907および908は、通常時外部
端子用導入配線903と通常時内部回路用導入配線90
5との間を接続するための配線を構成する通常時導入配
線接続用配線線分である。909および910は、テス
ト時外部端子用導入配線904とテスト時内部回路用導
入配線906との間を接続するための配線を構成するテ
スト時導入配線接続用配線線分である。なお、通常時導
入配線接続用配線線分907と908、また、テスト時
導入配線接続用配線線分909と910は、第1実施形
態と同様に、それぞれ上位層と下位層の二層の配線層に
構成される。
Reference numerals 907 and 908 denote a normal external terminal introduction wiring 903 and a normal internal circuit introduction wiring 90.
5 is a wiring line for normal introduction wiring connection which constitutes a wiring for connection with the wiring 5. Reference numerals 909 and 910 are test-introduction-wiring connection wiring lines that constitute wiring for connecting between the external-terminal-introduction-in-test-in wiring 904 and the internal-circuit-introducing-in-test-in wiring 906. Note that the wiring lines 907 and 908 for connecting the normal wiring and the wiring lines 909 and 910 for connecting the wiring during the test are the two-layer wiring of the upper layer and the lower layer, respectively, as in the first embodiment. Composed of layers.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
以下に列記する効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
The following effects are obtained.

【0054】(1)金属配線を接続するコンタクト層の
変更のみで、集積回路の外部端子数を減少させることが
可能になる。また、必要最低限の配線線分で実現可能で
あるため、二層を用いない周回配線を用いた場合に比べ
配線容量を低減することができる。さらに、同じ周回配
線を複数の外部端子への接続に使用可能であるため、外
部端子数よりも少ない周回線数で機能を実現可能するこ
とが可能になる。
(1) The number of external terminals of the integrated circuit can be reduced only by changing the contact layer for connecting the metal wiring. Further, since it can be realized with the minimum necessary number of wiring lines, the wiring capacity can be reduced as compared with the case where the circling wiring without using two layers is used. Further, since the same circuit wiring can be used for connection to a plurality of external terminals, it is possible to realize a function with a smaller number of circuits than the number of external terminals.

【0055】(2)使用する外部端子数が少ない場合、
最低限の周回配線線分の数で外部端子数を減少させるこ
とが可能となり、配線用に占有されるチップ面積の削減
を図ることが可能になる。
(2) When the number of external terminals to be used is small,
The number of external terminals can be reduced with the minimum number of circuit wiring lines, and the chip area occupied by wiring can be reduced.

【0056】(3)周回線を乗り換えて接続を行うこと
で、必要となる周回線数を減少させることが可能とな
り、配線用に占有されるチップ面積の削減を図ることが
可能になる。
(3) By connecting the peripheral circuits, the required number of peripheral circuits can be reduced, and the chip area occupied by the wiring can be reduced.

【0057】(4)外部端子数を減少させる際に、通常
動作とテスト動作の組み合わせをすべての外部端子を使
用した場合と同じにする必要がなく、通常時に外部端子
に結合する内部回路からの信号を、テスト動作時の信号
とは無関係に選択することが可能になる。
(4) When reducing the number of external terminals, the combination of normal operation and test operation does not need to be the same as when all external terminals are used. The signal can be selected independently of the signal in the test operation.

【0058】(5)上記(1)から(4)により、LS
Iチップとは端子数の異なる目的のパッケージ、特にQ
FPへのLSIチップの端子接続を容易に変更すること
が可能になる。
(5) According to the above (1) to (4), LS
Package with different number of terminals from I chip, especially Q
The terminal connection of the LSI chip to the FP can be easily changed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1実施形態による半導体集積回路
における端子接続回路の一構成例を部分的に示す平面図
FIG. 1 is a plan view partially showing a configuration example of a terminal connection circuit in a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention;

【図2】 本発明の第1実施形態による半導体集積回路
における配線接続方法の一例を部分的に示す平面図
FIG. 2 is a plan view partially showing an example of a wiring connection method in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 本発明の第1実施形態による半導体集積回路
における配線接続方法の他の例を部分的に示す平面図
FIG. 3 is a plan view partially showing another example of the wiring connection method in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention;

【図4】 本発明の実施形態による半導体集積回路おい
て、導入配線接続用配線が外部端子と内部回路(コアブ
ロック)の間で周回配置されている様子を模式的に示す
平面図
FIG. 4 is a plan view schematically showing a state in which lead-in connection wiring is circulated between an external terminal and an internal circuit (core block) in the semiconductor integrated circuit according to the embodiment of the present invention;

【図5】 本発明の第1実施形態による半導体集積回路
における配線接続方法の一例を立体的に示す、図2の外
部端子201、202側から見た模式図
FIG. 5 is a schematic diagram showing the example of the wiring connection method in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention in a three-dimensional manner, viewed from the external terminals 201 and 202 in FIG. 2;

【図6】 本発明の第1実施形態による半導体集積回路
における配線接続方法の他の例を立体的に示す、図3の
外部端子301、302側から見た模式図
FIG. 6 is a schematic view showing another example of the wiring connection method in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention, viewed from the external terminals 301 and 302 side in FIG.

【図7】 本発明の第2実施形態による半導体集積回路
における端子接続回路の一構成例を部分的に示す平面図
FIG. 7 is a plan view partially showing a configuration example of a terminal connection circuit in a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention;

【図8】 本発明の第2実施形態による半導体集積回路
における配線接続方法の一例を立体的に示す、図7の外
部端子701側から見た模式図
FIG. 8 is a schematic view showing the example of the wiring connection method in the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention, viewed from the external terminal 701 side in FIG.

【図9】 本発明の第3実施形態による半導体集積回路
における端子接続回路の一構成例を部分的に示す平面図
FIG. 9 is a plan view partially showing a configuration example of a terminal connection circuit in a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101、201−206、301−303、701、9
01 外部端子 102、211−216、311−313、511、5
12、611、612、702、802、902 外部
端子用導入配線 103、221−226、321−323、521、5
22、621、622、703、803 内部回路用導
入配線 104、105、241−243、341−348、5
41−543、641−648、704、705、80
4、805 導入配線接続用配線線分 231、232、331、332、335、336、5
31、532、631、632、635、636 第1
タイプのコンタクト 233、234、333、334、533、534、6
33、634 第2タイプのコンタクト 706、806 隣り合う組の導入配線接続用配線線分
を接続する配線線分 903 通常時外部端子用導入配線 904 テスト時外部端子用導入配線 905 通常時内部回路用導入配線 906 テスト時内部回路用導入配線 907、908 通常時導入配線接続用配線線分 909、910 テスト時導入配線接続用配線線分 911 動作選択信号用配線 912 選択回路
101, 201-206, 301-303, 701, 9
01 External terminal 102, 211-216, 311-313, 511, 5
12, 611, 612, 702, 802, 902 Introducing wiring for external terminals 103, 221-226, 321-323, 521, 5
22, 621, 622, 703, 803 Internal circuit introduction wiring 104, 105, 241-243, 341-348, 5
41-543, 641-648, 704, 705, 80
4,805 Introductory wiring connection wiring line segment 231,232,331,332,335,336,5
31, 532, 631, 632, 635, 636 First
Type contacts 233,234,333,334,533,533,534,6
33, 634 Second type contact 706, 806 Wiring line for connecting adjacent pairs of wiring for connecting wiring for wiring 903 Normal wiring for external terminal 904 Normal wiring for external terminal at test 905 Normal internal circuit for wiring Introductory wiring 906 Introductory wiring for internal circuit during test 907, 908 Introductory wiring connecting wiring for normal operation 909, 910 Introductory wiring connecting wiring for test 911 Operation selection signal wiring 912 Selection circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 3層以上の配線層を持つ半導体集積回路
であって、 外部端子に接続された外部端子用導入配線と、 前記外部端子用導入配線と同じ配線層で形成され、前記
外部端子用導入配線に接続されることで前記外部端子と
内部回路との間で信号を結合する内部回路用導入配線
と、 前記外部端子用導入配線を挟み込む二つの配線層で各組
が形成され、連続して並置された前記外部端子用導入配
線とは前記二つの配線層のうち一方の配線層のみが交互
に交差し、かつ、前記内部回路用導入配線とは前記二つ
の配線層が共に交差するように、各組が平行に複数配置
された導入配線接続用配線線分組と、 前記二つの配線層間を接続するために前記導入配線接続
用配線線分組上に配設されるコンタクトとを備え、 前記コンタクトの配置に応じて、前記外部端子用導入配
線と前記内部回路用導入配線との接続関係が変更される
ことを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers, wherein the external terminal is formed of the same wiring layer as the external terminal introducing wiring connected to an external terminal. Each set is formed by two wiring layers sandwiching the internal terminal introduction wiring, and an internal circuit introduction wiring that couples a signal between the external terminal and the internal circuit by being connected to the introduction terminal wiring, In this case, only one of the two wiring layers alternately intersects with the external terminal introduction wiring, and the two wiring layers intersect with the internal circuit introduction wiring. As described above, each set includes a plurality of introductory wiring connecting wiring line sets arranged in parallel, and a contact disposed on the introductory wiring connecting wiring line set to connect the two wiring layers, Depending on the arrangement of the contacts, The semiconductor integrated circuit characterized in that connections of Kigaibu terminal introducing wire and said internal circuit introducing wiring is changed.
【請求項2】 前記導入配線接続用配線線分組は、前記
外部端子の内側位置で前記内部回路を複数周回するよう
に配置される請求項1記載の半導体集積回路。
2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the wiring group for connecting the introduction wiring is arranged so as to go around the internal circuit a plurality of times at a position inside the external terminal.
【請求項3】 前記外部端子用導入配線の総数mに対す
る実際に使用する前記外部端子用導入配線数の割合をP
とした場合、前記導入配線接続用配線線分の周回数は、
m×(1−P)/2に設定される請求項2記載の半導体
集積回路。
3. The ratio of the number of the external terminal introduction wirings actually used to the total number m of the external terminal introduction wirings is P.
, The number of turns of the wiring line for the introduction wiring connection,
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the value is set to mx (1-P) / 2.
【請求項4】 3層以上の配線層を有する半導体集積回
路であって、 外部端子に接続された外部端子用導入配線と、 前記外部端子用導入配線と同じ配線層で形成され、前記
外部端子用導入配線に接続されることで前記外部端子と
内部回路との間で信号を結合する内部回路用導入配線
と、 前記外部端子用導入配線を挟み込む二つの配線層で各組
が形成され、連続して並置された前記外部端子用導入配
線とは前記二つの配線層のうち一方の配線層のみが交互
に交差し、かつ、前記内部回路用導入配線とは前記二つ
の配線層が共に交差するように、各組が平行に複数配置
された導入配線接続用配線線分組と、前記導入配線接続
用配線線分組と直交し、前記外部端子用導入配線と同一
の配 線層で形成され、隣り合う組の前記導入配線接続用配線
線分を接続する配線線分と、 前記二つの配線層間を接続するために前記導入配線接続
用配線線分組上に配設されるコンタクトとを備え、 前記コンタクトの配置に応じて、前記外部端子用導入配
線と前記内部回路用導入配線との接続関係が変更される
ことを特徴とする半導体集積回路。
4. A semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers, wherein said external terminal is formed of an external terminal lead-in connected to an external terminal and the same wiring layer as said external terminal lead-in. Each set is formed by two wiring layers sandwiching the internal terminal introduction wiring, and an internal circuit introduction wiring that couples a signal between the external terminal and the internal circuit by being connected to the introduction terminal wiring, In this case, only one of the two wiring layers alternately intersects with the external terminal introduction wiring, and the two wiring layers intersect with the internal circuit introduction wiring. In this way, each of the sets is arranged in parallel with a plurality of lead-wiring connection wiring line sets, and the lead-wiring connection wiring line-segment groups are formed of the same wiring layer as the external terminal lead-wirings. Matching set of wiring lines for connecting the introduction wiring A wiring line segment to be connected, and a contact disposed on the wiring line segment for connecting the introduction wiring for connecting the two wiring layers, and the introduction wiring for the external terminal according to the arrangement of the contact. A connection relationship between the semiconductor integrated circuit and the internal circuit introduction wiring is changed.
【請求項5】 3層以上の配線層を有する半導体集積回
路であって、 外部端子に接続された外部端子用導入配線と、 前記外部端子用導入配線と同じ配線層で形成され、通常
動作時に前記外部端子用導入配線と接続される通常時外
部端子用導入配線と、 前記外部端子用導入配線と同じ配線層で形成され、テス
ト動作時に前記外部端子用導入配線と接続されるテスト
時外部端子用導入配線と、 前記通常時外部端子用導入配線または前記テスト時外部
端子用導入配線と前記外部端子用導入配線との接続を切
り替える選択回路と、 前記通常時外部端子用導入配線と同じ配線層で形成さ
れ、前記通常時外部端子用導入配線に接続されることで
前記外部端子と内部回路との間で信号を結合する通常時
内部回路用導入配線と、 前記テスト時外部端子用導入配線と同じ配線層で形成さ
れ、前記テスト時外部端子用導入配線に接続されること
で前記外部端子と内部回路との間で信号を結合するテス
ト時内部回路用導入配線と、 前記通常時外部端子用導入配線を挟み込む二つの配線層
で各組が形成され、連続して並置された前記通常時外部
端子用導入配線とは前記二つの配線層のうち一方のみが
交互に交差し、かつ、前記通常時内部回路用導入配線と
は前記二つの配線層が共に交差するように、各組が平行
に複数配置された通常時導入配線接続用配線線分組と、 前記テスト時外部端子用導入配線を挟み込む二つの配線
層で各組が形成され、連続して並置された前記テスト時
外部端子用導入配線とは前記二つの配線層のうち一方の
みが交互に交差し、かつ、前記テスト時内部回路用導入
配線とは前記二つの配線層が共に交差するように、各組
が平行に複数配置されたテスト時導入配線接続用配線線
分組と、 前記二つの配線層間を接続するために前記通常時導入配
線接続用配線線分組上およびテスト時導入配線接続用配
線線分組上に配設されるコンタクトとを備え、 前記コンタクトの配置に応じて、前記通常時外部端子用
導入配線と前記通常時内部回路用導入配線との接続関
係、および前記テスト時外部端子用導入配線と前記テス
ト時内部回路用導入配線との接続関係が変更されること
を特徴とする半導体集積回路。
5. A semiconductor integrated circuit having three or more wiring layers, comprising: an external terminal introducing wiring connected to an external terminal; and the same wiring layer as the external terminal introducing wiring, and formed during normal operation. A normal external terminal lead-in connected to the external terminal lead-in, and a test external terminal formed in the same wiring layer as the external terminal lead-in and connected to the external terminal lead-in during a test operation A selection circuit for switching the connection between the normal external terminal introduction wiring or the test external terminal introduction wiring and the external terminal introduction wiring; and the same wiring layer as the normal external terminal introduction wiring A normal internal circuit lead-in which is connected to the normal external terminal lead-in and couples a signal between the external terminal and the internal circuit by being connected to the normal external terminal lead-in. A test internal circuit introduction wiring which is formed of the same wiring layer as the wiring and is connected to the test external terminal introduction wiring to couple a signal between the external terminal and the internal circuit; Each set is formed by two wiring layers sandwiching the terminal introduction wiring, and only one of the two wiring layers alternately intersects with the normal external terminal introduction wiring continuously juxtaposed, and The normal internal circuit introduction wiring is a normal introduction wiring connection wiring line segment set in which a plurality of sets are arranged in parallel such that the two wiring layers intersect with each other, and the test external terminal introduction wiring. Each pair is formed by two wiring layers sandwiching the same, and only one of the two wiring layers alternately intersects with the external terminal introduction wiring for test which is continuously juxtaposed, and Introductory wiring for circuits A test-introduction wiring connection wiring line segment set in which a plurality of sets are arranged in parallel such that the wiring layers intersect with each other; and the normal-time introduction wiring connection wiring line segment set in order to connect the two wiring layers. And a contact disposed on the wiring line set for connection of the test-introduction wiring, and connection between the normal-time external terminal introduction wiring and the normal-time internal circuit introduction wiring in accordance with the arrangement of the contacts. A semiconductor integrated circuit, wherein a relationship and a connection relationship between the test-time external terminal lead-in and the test-time internal circuit lead-in are changed.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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