JPH11330257A - Semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Semiconductor device and its manufacture

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JPH11330257A
JPH11330257A JP10153819A JP15381998A JPH11330257A JP H11330257 A JPH11330257 A JP H11330257A JP 10153819 A JP10153819 A JP 10153819A JP 15381998 A JP15381998 A JP 15381998A JP H11330257 A JPH11330257 A JP H11330257A
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semiconductor
chip
semiconductor chips
chips
semiconductor device
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JP10153819A
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Japanese (ja)
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Koichi Ikeda
孝市 池田
Takeshi Ikeda
毅 池田
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TIF KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device and a method for manufacturing it, wherein fraction defective is decreased when a semiconductor device which allows high-density mounting is manufactured, with simplified process. SOLUTION: With a plurality of different kinds of semiconductor chips 1 (processor chip 1a and memory chip 1b) formed on a semiconductor wafer 2, a soundness inspection is performed with each semiconductor chip 1, and each semiconductor chip 1 which is determined to be sound is cut out of the semiconductor wafer 2 as a set where adjoining processor chip 1a and memory chip 1b are connected together, thus a semiconductor device is manufactured. After that, semiconductor device is mounted on a substrate 4 to manufacture a semiconductor module 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、メモリ基板やマザ
ーボードなどに実装可能な半導体装置およびその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device that can be mounted on a memory substrate, a motherboard, or the like, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハから切り出されたメモリチ
ップ等の半導体チップは、パッケージングされた状態で
プリント基板等に実装されるのが一般的である。ところ
が、パッケージの外形寸法は、各種の半導体チップ自体
のサイズに比べてかなり大きいため、プリント基板等に
実装可能なパッケージの数等には一定の制限がある。
2. Description of the Related Art Generally, semiconductor chips such as memory chips cut from a semiconductor wafer are mounted on a printed circuit board or the like in a packaged state. However, since the external dimensions of the package are considerably larger than the size of various semiconductor chips themselves, there are certain restrictions on the number of packages that can be mounted on a printed circuit board or the like.

【0003】一方、最近では、複数の半導体チップを基
板上に実装したマルチチップモジュール(MCM)が普
及しつつある。このマルチチップモジュールを用いるこ
とにより、実装面積の小型化およびこれに伴う軽量
化、高密度配線およびベアチップ実装による高性能・
高速化、高信頼性の確保等が可能になる。
On the other hand, recently, a multi-chip module (MCM) in which a plurality of semiconductor chips are mounted on a substrate has been spreading. By using this multi-chip module, the mounting area can be reduced and the weight can be reduced.
Higher speed and higher reliability can be ensured.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した高
密度実装が可能なマルチチップモジュールにおいては、
複数の半導体チップを1つの基板上に実装するため、各
半導体チップの不良率が累積されてモジュール全体とし
ての不良率が大きくなる。例えば、2個の半導体チップ
を1つのモジュール基板に実装する場合には、1つの半
導体チップが不良であってもモジュール全体の不良とな
る。したがって、不良となった半導体チップを交換する
リペア作業を行ったり、このモジュール全体を不良品と
して廃棄する等の処置を施す必要があり、歩留まりが悪
く、しかも無駄が多かった。また、複数の半導体チップ
を1つの基板上に実装する場合には、それぞれの半導体
チップを1個ずつ基板に実装するため、製造工程が複雑
になっていた。
By the way, in the above-mentioned multi-chip module capable of high-density mounting,
Since a plurality of semiconductor chips are mounted on one substrate, the failure rate of each semiconductor chip is accumulated and the failure rate of the entire module increases. For example, when two semiconductor chips are mounted on one module substrate, even if one semiconductor chip is defective, the entire module will be defective. Therefore, it is necessary to perform a repair operation for replacing a defective semiconductor chip, or to take measures such as discarding the entire module as a defective product, resulting in a low yield and a lot of waste. Further, when a plurality of semiconductor chips are mounted on one substrate, each semiconductor chip is mounted on the substrate one by one, so that the manufacturing process is complicated.

【0005】本発明は、このような点に鑑みて創作され
たものであり、その目的は、高密度実装が可能な半導体
装置を製造する際の不良率を低減することができ、しか
も工程の簡略化が可能な半導体装置およびその製造方法
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to reduce a defect rate in manufacturing a semiconductor device capable of high-density mounting, and to further reduce the number of processes. An object of the present invention is to provide a semiconductor device which can be simplified and a manufacturing method thereof.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、本発明では、半導体ウエハに複数の異種類の半
導体チップを形成した後に、あるいはこれらの半導体チ
ップに対して配線、樹脂封止、端子形成を行った後に、
各半導体チップの良否検査を行い、その結果に応じて所
定の複数個を単位として半導体チップを切り分けること
により半導体装置が形成される。良否検査の結果に応じ
て半導体チップの切り分けを行っているため、複数個の
半導体チップによって構成される高密度実装が可能な半
導体装置を製造したときに、その中の一部の半導体チッ
プが不良品であるために半導体装置全体が不良品になる
ということがなく、半導体装置を製造する際の不良率を
低減することができる。また、複数個の半導体チップか
らなる半導体装置をその後の工程で用いることができる
ため、単一の半導体チップからなる半導体装置を複数個
組み合わせて用いる場合に比べて、その後の工程を簡略
化することができる。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, after a plurality of different kinds of semiconductor chips are formed on a semiconductor wafer, or wiring or resin sealing is performed on these semiconductor chips. After forming the terminals,
A semiconductor device is formed by performing a quality inspection of each semiconductor chip and dividing the semiconductor chip into predetermined plural units according to the result. Since the semiconductor chips are separated according to the results of the pass / fail inspection, when a semiconductor device composed of a plurality of semiconductor chips and capable of high-density mounting is manufactured, some of the semiconductor chips in the semiconductor devices are defective. Since the semiconductor device is a non-defective product, the entire semiconductor device does not become defective, and the defect rate in manufacturing the semiconductor device can be reduced. Further, since a semiconductor device including a plurality of semiconductor chips can be used in a subsequent step, the subsequent steps can be simplified as compared with a case where a plurality of semiconductor devices including a single semiconductor chip are used in combination. Can be.

【0007】特に、半導体ウエハに形成された各半導体
チップに対して配線、樹脂封止、端子形成からなる実装
工程を実施することにより、各半導体チップを個別に切
り分けた後にこの実装工程を実施する場合に比べてさら
なる工程の簡略化が可能になる。
In particular, by performing a mounting process including wiring, resin sealing, and terminal formation on each semiconductor chip formed on the semiconductor wafer, the mounting process is performed after each semiconductor chip is individually cut. The process can be further simplified as compared with the case.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、本発明
を適用した第1の実施形態の半導体装置について、図面
を参照しながら具体的に説明する。図1は、本実施形態
の半導体装置の製造工程を示す図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First Embodiment A semiconductor device according to a first embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a manufacturing process of the semiconductor device of the present embodiment.

【0009】まず、図1(a)および(b)に示すよう
に、例えばシリコン単結晶の薄片である半導体ウエハ2
を導入し、この半導体ウエハ2に2種類の半導体チップ
1を形成する(第1の工程)。例えば、2種類の半導体
チップ1の一方をプロセッサチップ1aとし、他方をメ
モリチップ1bとする。図1(b)の点線で囲まれた空
白の領域がプロセッサチップ1aを示しており、斜線の
領域がメモリチップ1bを示している。図1(b)に示
すように、半導体ウエハ2に複数の半導体チップ1を形
成する際は、プロセッサチップ1aとメモリチップ1b
が互いに四方に隣り合うように配置される。
First, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), a semiconductor wafer 2 which is a thin silicon single crystal, for example, is used.
To form two types of semiconductor chips 1 on the semiconductor wafer 2 (first step). For example, one of the two types of semiconductor chips 1 is a processor chip 1a, and the other is a memory chip 1b. A blank area surrounded by a dotted line in FIG. 1B indicates the processor chip 1a, and a hatched area indicates the memory chip 1b. As shown in FIG. 1B, when a plurality of semiconductor chips 1 are formed on a semiconductor wafer 2, a processor chip 1a and a memory chip 1b are formed.
Are arranged so as to be adjacent to each other on all sides.

【0010】図2は、半導体ウエハ2に形成される半導
体チップ1の概略を示す図である。図2に示すように、
半導体チップ1は、所定の大きさの半導体ウエハ2と、
この半導体ウエハ2の表面に形成される複数のチップ用
パッド3とを含んで構成される。チップ用パッド3は、
半導体チップ1が実装される基板との電気的接続を行う
ための接続端子である。なお、図2には半導体チップ1
のほぼ中央に一列にチップ用パッド3が形成された場合
を示したが、チップ用パッド3の配列数および配置位置
は、半導体チップ1の種類によって適宜変更される。
FIG. 2 is a view schematically showing a semiconductor chip 1 formed on a semiconductor wafer 2. As shown in FIG.
The semiconductor chip 1 includes a semiconductor wafer 2 having a predetermined size,
And a plurality of chip pads 3 formed on the surface of the semiconductor wafer 2. The chip pad 3
This is a connection terminal for making an electrical connection with a substrate on which the semiconductor chip 1 is mounted. FIG. 2 shows the semiconductor chip 1
Although the case where the chip pads 3 are formed in a line at substantially the center of FIG. 1 is shown, the number and arrangement position of the chip pads 3 are appropriately changed depending on the type of the semiconductor chip 1.

【0011】このようにして半導体ウエハ2に複数の半
導体チップ1が形成された状態で、次に、半導体チップ
1のそれぞれについて良否検査を行う(第2の工程)。
例えば、各半導体チップ1に形成されたチップ用パッド
3に検査用プローブを押圧して電気的に接触させること
により、各種の機能試験を実施する。各半導体チップ1
の良否検査を半導体ウエハ2の全体を単位として行うこ
とにより、すなわち、半導体ウエハ2に形成された複数
の半導体チップ1の良否検査を一度に行うことにより、
検査効率の向上を図っている。
With the plurality of semiconductor chips 1 formed on the semiconductor wafer 2 in this manner, next, a pass / fail inspection is performed on each of the semiconductor chips 1 (second step).
For example, various functional tests are performed by pressing a test probe against a chip pad 3 formed on each semiconductor chip 1 to make it electrically contact. Each semiconductor chip 1
By performing the pass / fail inspection of the entire semiconductor wafer 2 as a unit, that is, by conducting pass / fail inspection of a plurality of semiconductor chips 1 formed on the semiconductor wafer 2 at one time.
The aim is to improve inspection efficiency.

【0012】次に、第2の工程における良否検査の結果
に基づいて、図1(c)に示すように、良品と判定され
た各半導体チップ1を、隣り合った1個のプロセッサチ
ップ1aと1個のメモリチップ1bとを組み合わせた2
個を1セットとして切り分ける(第3の工程)。
Next, based on the results of the pass / fail inspection in the second step, as shown in FIG. 1C, each semiconductor chip 1 determined to be non-defective is replaced with one adjacent processor chip 1a. 2 combining one memory chip 1b
The individual pieces are cut as one set (third step).

【0013】図3は、半導体ウエハ2に形成された複数
の半導体チップ1の切り分け方法の一例を示す図であ
る。図3(a)は、上述した第2の工程における半導体
ウエハ2に形成された各半導体チップ1の良否検査の結
果を示す図であり、○印は良品と判定された1個の半導
体チップ1を、×印は不良品と判定された1個の半導体
チップ1をそれぞれ示している。また、図3(b)は、
図3(a)において良品と判定された半導体チップ1を
どのように切り分けるかを示す図であり、実線で囲まれ
た範囲が切り分けの単位を示している。上述したよう
に、各半導体チップ1は、1個のプロセッサチップ1a
と1個のメモリチップ1bとが組み合わされて切り分け
られる。したがって、図3(b)に示すように、良品と
判定された互いに隣り合ったプロセッサチップ1aとメ
モリ用チップ1bとの組み合わせ方を工夫して切り分け
ることにより、プロセッサチップ1aとメモリ用チップ
1bとがつながった状態の半導体装置が製造される。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a method for separating a plurality of semiconductor chips 1 formed on a semiconductor wafer 2. FIG. 3A is a diagram showing a result of a pass / fail inspection of each semiconductor chip 1 formed on the semiconductor wafer 2 in the above-described second step. , And the crosses indicate one semiconductor chip 1 determined to be defective. FIG. 3 (b)
FIG. 4A is a diagram illustrating how the semiconductor chip 1 determined to be non-defective in FIG. 3A is separated, and a range surrounded by a solid line indicates a unit of separation. As described above, each semiconductor chip 1 includes one processor chip 1a.
And one memory chip 1b are combined and cut. Therefore, as shown in FIG. 3B, the processor chip 1a and the memory chip 1b are separated by devising and combining the adjoining processor chip 1a and the memory chip 1b determined to be non-defective. A semiconductor device in a state of being connected is manufactured.

【0014】次に、図1(d)に示すように、切り分け
たプロセッサチップ1aとメモリ用チップ1bを基板4
に実装して、最終的に、半導体モジュール10を完成さ
せる(第4の工程)。基板4への実装方法としては、半
導体チップ1に形成されたチップ用パッド3と基板4に
形成された電極(図示せず)とをボンディングワイヤを
用いて接続する。
Next, as shown in FIG. 1D, the separated processor chip 1a and memory chip 1b
To finally complete the semiconductor module 10 (fourth step). As a mounting method on the substrate 4, the chip pads 3 formed on the semiconductor chip 1 are connected to electrodes (not shown) formed on the substrate 4 using bonding wires.

【0015】このように、半導体ウエハ2に2種類の半
導体チップ1を複数個形成し、これらの半導体チップ1
のうち、良否検査によって良品であると判定されたもの
のみを組み合わせて切り分けて半導体モジュール10が
製造されるため、半導体モジュール10に含まれる一方
の半導体チップ1が不良品であるために半導体モジュー
ル10全体が不良品となってしまうことがなく、半導体
モジュール10の製造の際の不良率を低減することがで
きる。
As described above, a plurality of two types of semiconductor chips 1 are formed on the semiconductor wafer 2 and these semiconductor chips 1 are formed.
Of these, the semiconductor module 10 is manufactured by combining and cutting only those which are determined to be non-defective by the pass / fail inspection. One of the semiconductor chips 1 included in the semiconductor module 10 is defective, and the semiconductor module 10 The entire product does not become defective, and the defective rate at the time of manufacturing the semiconductor module 10 can be reduced.

【0016】特に、本実施形態では、プロセッサチップ
1aとメモリチップ1bとがつながった状態で切り出さ
れるが、隣接するプロセッサチップ1aとメモリチップ
1bとの組み合わせを良否試験の結果に基づいて自由に
決めることができる。したがって、各プロセッサチップ
1aは、隣り合う1個のメモリチップ1bが不良品であ
っても、隣り合う他のメモリチップ1bと組み合わせる
ことができる。同様に、各メモリ用チップ1bは、隣り
合う1個のプロセッサチップ1aが不良品であっても、
隣り合う他のプロセッサチップabと組み合わせること
ができる。このため、プロセッサチップ1aとメモリチ
ップ1bとの組み合わせを工夫することにより、1枚の
半導体ウエハ2から、2つの半導体チップ1の組み合わ
せである半導体装置をより多く製造することができる。
In particular, in this embodiment, the processor chip 1a and the memory chip 1b are cut out in a connected state, but the combination of the adjacent processor chip 1a and the memory chip 1b is freely determined based on the result of the pass / fail test. be able to. Therefore, each processor chip 1a can be combined with another adjacent memory chip 1b even if one adjacent memory chip 1b is defective. Similarly, each of the memory chips 1b can be used even if one adjacent processor chip 1a is defective.
It can be combined with another adjacent processor chip ab. For this reason, by devising the combination of the processor chip 1a and the memory chip 1b, it is possible to manufacture more semiconductor devices as a combination of the two semiconductor chips 1 from one semiconductor wafer 2.

【0017】また、半導体モジュール10は、半導体ウ
エハ2に形成されたプロセッサチップ1aとメモリチッ
プ1bをまとめて切り出したものが実装されている。す
なわち、複数の半導体チップ1が互いにつながった状態
で実装されるため、半導体ウエハ2からプロセッサチッ
プ1aとメモリチップ1bを1個ずつ切り出し、それら
を間隔をとって実装して半導体モジュールを形成する場
合と比較すると、高密度実装による部品の小型化が可能
になる。また、一度に複数の半導体チップ1を実装する
ことができるため、製造工程を簡略化することが可能と
なる。
The semiconductor module 10 has a processor chip 1a and a memory chip 1b formed on the semiconductor wafer 2 cut out together and mounted. That is, since the plurality of semiconductor chips 1 are mounted in a state of being connected to each other, a processor module 1a and a memory chip 1b are cut out from the semiconductor wafer 2 one by one, and they are mounted at an interval to form a semiconductor module. In comparison with the above, it is possible to reduce the size of components by high-density mounting. Further, since a plurality of semiconductor chips 1 can be mounted at one time, the manufacturing process can be simplified.

【0018】(第2の実施形態)次に、本発明を適用し
た第2の実施形態の半導体モジュールについて説明す
る。本実施形態の半導体モジュールは、チップサイズパ
ッケージ(CSP;Chip Size Package )実装技術によ
って製造される。図4は、本実施形態の半導体モジュー
ルの製造工程を示す図である。
(Second Embodiment) Next, a semiconductor module according to a second embodiment of the present invention will be described. The semiconductor module of the present embodiment is manufactured by a chip size package (CSP) mounting technology. FIG. 4 is a diagram illustrating a manufacturing process of the semiconductor module of the present embodiment.

【0019】まず、図4(a)および(b)に示すよう
に、半導体ウエハ12を導入し、この半導体ウエハ12
に複数の半導体チップ11(例えばプロセッサチップ1
1aおよびメモリチップ11b)を形成する(第1の工
程)。図4(b)の点線で囲まれた空白領域はプロセッ
サチップ11aを示しており、斜線領域はメモリチップ
11bを示している。半導体ウエハ12に複数の半導体
チップ11を形成する際は、プロセッサチップ11aと
メモリチップ11bとが互いに四方に隣り合うように形
成する。次に、複数の半導体チップ11が形成された状
態の半導体ウエハ12全体を対象として、図4(c)に
示すように、配線と樹脂封止を行った後に端子を形成す
るCSP実装を行う(第2の工程)。
First, as shown in FIGS. 4A and 4B, a semiconductor wafer 12 is introduced.
A plurality of semiconductor chips 11 (for example, processor chip 1
1a and the memory chip 11b) are formed (first step). A blank area surrounded by a dotted line in FIG. 4B indicates the processor chip 11a, and a hatched area indicates the memory chip 11b. When a plurality of semiconductor chips 11 are formed on the semiconductor wafer 12, the processor chips 11a and the memory chips 11b are formed so as to be adjacent to each other on all sides. Next, as shown in FIG. 4C, CSP mounting for forming terminals after performing wiring and resin sealing is performed on the entire semiconductor wafer 12 on which the plurality of semiconductor chips 11 are formed (FIG. 4C). Second step).

【0020】図5は、CSP実装された半導体チップ1
1の拡大断面図である。図5に示すように、CSP実装
された半導体チップ11は、半導体ウエハ12、配線パ
ターン13、ビア・ポスト14、バリヤ・メタル15、
樹脂層16、半田ボール17を含んで構成される。
FIG. 5 shows a semiconductor chip 1 mounted with CSP.
1 is an enlarged sectional view of FIG. As shown in FIG. 5, the CSP-mounted semiconductor chip 11 includes a semiconductor wafer 12, a wiring pattern 13, a via post 14, a barrier metal 15,
It is configured to include the resin layer 16 and the solder balls 17.

【0021】配線パターン13は、半導体ウエハ12の
表面に形成された金属薄膜をレジストで加工した後、電
解メッキ処理を施すことにより形成される。ビア・ポス
ト14は、配線パターン13に接続されており、その頂
上部にはバリヤ・メタル15が形成される。樹脂層16
は、半導体ウエハ12の表面を封止している。樹脂層1
6は、ビア・ポスト14の高さとほぼ等しい厚さを有し
ており、樹脂封止したときにバリヤ・メタル15が外部
に露出するようになっている。半田ボール17は、半導
体チップ11が実装される基板との電気的接続を行うた
めの接続端子である。
The wiring pattern 13 is formed by processing a metal thin film formed on the surface of the semiconductor wafer 12 with a resist, and then performing an electrolytic plating process. The via post 14 is connected to the wiring pattern 13, and a barrier metal 15 is formed on the top of the via post 14. Resin layer 16
Seals the surface of the semiconductor wafer 12. Resin layer 1
Numeral 6 has a thickness substantially equal to the height of the via post 14, so that the barrier metal 15 is exposed to the outside when sealed with a resin. The solder balls 17 are connection terminals for making an electrical connection with a substrate on which the semiconductor chip 11 is mounted.

【0022】このようにして半導体ウエハ12に形成さ
れた複数の半導体チップ11がCSP実装された状態
で、次に、各半導体チップ11の良否検査を行う(第3
の工程)。例えば、各半導体チップ11に対応して形成
された半田ボール17に検査用プローブを押圧して電気
的に接触させることにより、各種の機能試験を実施す
る。半導体チップ11の良否検査を半導体ウエハ12の
全体を単位として行うことにより、すなわち、半導体ウ
エハ12に形成された複数の半導体チップ11の良否検
査を一度に行うことにより、検査効率の向上を図ってい
る。
With the plurality of semiconductor chips 11 thus formed on the semiconductor wafer 12 mounted on the CSP, a pass / fail inspection of each semiconductor chip 11 is then performed (third test).
Process). For example, various functional tests are performed by pressing an inspection probe against a solder ball 17 formed corresponding to each semiconductor chip 11 to make it electrically contact. By performing the pass / fail inspection of the semiconductor chip 11 in units of the entire semiconductor wafer 12, that is, by passing the pass / fail inspection of the plurality of semiconductor chips 11 formed on the semiconductor wafer 12 at once, the inspection efficiency is improved. I have.

【0023】次に、第3の工程における良否検査の結果
に基づいて、図4(d)に示すように、良品と判定され
たCSP実装後の各半導体チップ11が、プロセッサチ
ップ11aとメモリチップ11bとを組み合わせたもの
を1セットとした半導体装置として切り分けることによ
り、最終的に、半導体モジュール20を完成させる(第
4の工程)。具体的な切り分け方法は、上述した第1の
実施形態において、図3に示した切り分け方法が適用さ
れる。
Next, based on the result of the pass / fail inspection in the third step, as shown in FIG. 4D, each of the semiconductor chips 11 after mounting the CSP determined to be non-defective is replaced with a processor chip 11a and a memory chip 11a. The semiconductor module 20 is finally completed by dividing the combination of the semiconductor device 11b and the semiconductor device 11b into one set of semiconductor devices (fourth step). As a specific dividing method, the dividing method shown in FIG. 3 in the first embodiment described above is applied.

【0024】このように、半導体ウエハ12に異種類の
半導体チップ11を複数個形成した後にCSP実装を行
い、CSP実装後の各半導体チップ11のうち、良否検
査によって良品であると判定されたもののみを切り分け
て半導体装置としての半導体モジュール20が製造され
るため、半導体モジュール20に含まれる2個の半導体
チップ11(プロセッサチップ11a、メモリチップ1
1b)の少なくとも一方が不良品であるために半導体モ
ジュール20全体が不良品となってしまうことがなく、
半導体モジュール20を製造する際の不良率を低減する
ことができる。
As described above, after a plurality of different types of semiconductor chips 11 are formed on the semiconductor wafer 12, CSP mounting is performed, and among the semiconductor chips 11 after CSP mounting, those which are determined to be non-defective by the quality inspection. Since only the semiconductor module 20 as a semiconductor device is manufactured by cutting only the semiconductor chip 20, the two semiconductor chips 11 (the processor chip 11a and the memory chip 1
Since at least one of 1b) is defective, the entire semiconductor module 20 does not become defective.
The defective rate when manufacturing the semiconductor module 20 can be reduced.

【0025】また、半導体モジュール20は、半導体ウ
エハ12からプロセッサチップ11aとメモリチップ1
1bとを1セットとしてまとめて切り出したものが用い
られる。このため、半導体ウエハ12から、プロセッサ
チップ11aとメモリチップ11bを別々に切り出した
後にそれらの間の間隔をとって実装して半導体モジュー
ルを形成する場合と比較すると、高密度実装による部品
の小型化が可能になる。特に、CSP実装を行っている
ため、実装面積が最小になる。また、良否パターンに基
づいて各半導体チップ11の切り出しが行われるため、
多数個取りの半導体モジュール20を効率よく製造する
ことができる。
Further, the semiconductor module 20 includes a processor chip 11a and a memory chip 1 from the semiconductor wafer 12.
1b are cut out as a set. For this reason, compared with the case where the processor chip 11a and the memory chip 11b are separately cut out from the semiconductor wafer 12 and then mounted with an interval between them to form a semiconductor module, miniaturization of components by high-density mounting is achieved. Becomes possible. In particular, since the CSP mounting is performed, the mounting area is minimized. Further, since each semiconductor chip 11 is cut out based on the pass / fail pattern,
The multi-cavity semiconductor module 20 can be manufactured efficiently.

【0026】本発明は、上記実施形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可
能である。例えば、上述した第1の実施形態の半導体ウ
エハ2に含まれるプロセッサチップ1aとメモリチップ
1bは、対応する端子同士を配線によって相互に接続す
るようにしてもよい。例えば、プロセッサチップ1aと
メモリチップ1bのそれぞれの電源端子には共通の電源
電圧が印加され、それぞれのクロック端子には共通の動
作クロック信号が入力される。同じ電圧が印加される端
子同士あるいは同じ信号が入力される信号同士を各半導
体チップ1を形成する際に接続しておいて、2個の半導
体チップ1がつながった状態で切り出された半導体装置
では、2個の半導体チップ1の中のいずれか一方に対し
て、共通の電圧を印加し、あるいは共通の信号を入力す
るようにする。このように、各半導体チップ1の内部で
相互に配線を行うことにより、複数の半導体チップ1と
これを実装する基板4との間の配線量を減らすことがで
き、実装工程の簡略化が可能になる。
The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention. For example, the corresponding terminals of the processor chip 1a and the memory chip 1b included in the semiconductor wafer 2 of the first embodiment described above may be connected to each other by wiring. For example, a common power supply voltage is applied to each power supply terminal of the processor chip 1a and the memory chip 1b, and a common operation clock signal is input to each clock terminal. In a semiconductor device in which terminals to which the same voltage is applied or signals to which the same signal is input are connected when forming each semiconductor chip 1 and the two semiconductor chips 1 are cut out in a connected state. A common voltage is applied to one of the two semiconductor chips 1 or a common signal is input. As described above, by mutually interconnecting the insides of the semiconductor chips 1, the amount of wiring between the plurality of semiconductor chips 1 and the substrate 4 on which the semiconductor chips 1 are mounted can be reduced, and the mounting process can be simplified. become.

【0027】但し、隣接する各半導体チップ1をどのよ
うに組み合わせて切り出すかは、良否検査を行うまでわ
からないため、図6に示すように、隣接する全ての半導
体チップ1同士の対応する端子同士を相互に配線してお
くことが好ましい。また、一例として電源端子やクロッ
ク端子を相互に接続する場合を説明したがその他の端子
を相互に接続するようにしてもよい。
However, it is not known how to combine and cut out adjacent semiconductor chips 1 until a pass / fail inspection is performed. Therefore, as shown in FIG. 6, corresponding terminals of all adjacent semiconductor chips 1 are connected to each other. It is preferable to wire them mutually. Further, as an example, the case where the power supply terminal and the clock terminal are connected to each other has been described, but other terminals may be connected to each other.

【0028】また、上述した第1の実施形態では、2個
の半導体チップ1がつながった状態の半導体装置を製造
し、さらにこれを基板4上に実装して半導体モジュール
10を形成したが、2個の半導体チップ1からなる半導
体装置をパーソナルコンピュータのマザーボード等に直
接実装するようにしてもよい。
In the above-described first embodiment, a semiconductor device in which two semiconductor chips 1 are connected is manufactured and further mounted on a substrate 4 to form a semiconductor module 10. A semiconductor device composed of the individual semiconductor chips 1 may be directly mounted on a motherboard or the like of a personal computer.

【0029】また、上述した各実施形態では、2個の異
種類の半導体チップ1や11を組み合わせて半導体装置
を形成したが、それ以上(例えば4個)の異種類の半導
体チップ1や11を組み合わせるようにしてもよい。こ
の場合に、必ずしも全部の半導体チップの種類が異なる
必要はなく、少なくとも2種類の半導体チップが組み合
わされる。また、異種類の半導体チップの組み合わせに
は、種類の異なるメモリチップ(DRAMとフラッシュ
メモリ等)を組み合わせる場合や、同じDRAMであっ
てビット構成や容量が異なるものを組み合わせる場合も
含まれる。
Further, in each of the above-described embodiments, a semiconductor device is formed by combining two different kinds of semiconductor chips 1 and 11, but more (for example, four) different kinds of semiconductor chips 1 and 11 are formed. They may be combined. In this case, the types of all the semiconductor chips do not necessarily need to be different, and at least two types of semiconductor chips are combined. The combination of different types of semiconductor chips includes a case where different types of memory chips (such as a DRAM and a flash memory) are combined, and a case where the same DRAM is combined with different bit configurations and capacities.

【0030】[0030]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、良否
検査の結果に応じて所定の複数個を単位として半導体チ
ップを切り分けているため、複数個の半導体チップによ
って構成される高密度実装が可能な半導体装置を製造し
たときに、その中の一部の半導体チップが不良品である
ために半導体装置全体が不良品になるということがな
く、半導体装置を製造する際の不良率を低減することが
できる。また、複数個の半導体チップからなる半導体装
置をその後の工程で用いることができるため、単一の半
導体チップからなる半導体装置を複数個組み合わせて用
いる場合に比べて、その後の工程を簡略化することがで
きる。
As described above, according to the present invention, a semiconductor chip is divided into a plurality of units in accordance with a result of a pass / fail inspection, so that a high-density mounting constituted by a plurality of semiconductor chips is performed. When manufacturing a semiconductor device that can be used, the semiconductor device as a whole is not defective because some of the semiconductor chips in it are defective, reducing the defect rate when manufacturing semiconductor devices. can do. Further, since a semiconductor device including a plurality of semiconductor chips can be used in a subsequent step, the subsequent steps can be simplified as compared with a case where a plurality of semiconductor devices including a single semiconductor chip are used in combination. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態の半導体モジュールの製造工程
を示す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a manufacturing process of a semiconductor module according to a first embodiment.

【図2】半導体ウエハに形成される半導体チップの概略
を示す図である。
FIG. 2 is a view schematically showing a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer.

【図3】半導体ウエハに形成された半導体チップの切り
分け方法の一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a method for separating semiconductor chips formed on a semiconductor wafer.

【図4】第2の実施形態の半導体モジュールの製造工程
を示す図である。
FIG. 4 is a view illustrating a manufacturing process of the semiconductor module according to the second embodiment;

【図5】CSP実装された半導体チップの拡大断面図で
ある。
FIG. 5 is an enlarged sectional view of a semiconductor chip mounted with CSP.

【図6】相互に接続される各半導体チップ間の接続状態
を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a connection state between respective semiconductor chips connected to each other;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、11 半導体チップ 1a、11a プロセッサチップ 1b、11b メモリチップ 2、12 半導体ウエハ 3 チップ用パッド 4 基板 10 半導体モジュール 13 配線パターン 14 ビア・ポスト 15 バリヤ・メタル 16 樹脂層 17 半田ボール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11 Semiconductor chip 1a, 11a Processor chip 1b, 11b Memory chip 2, 12 Semiconductor wafer 3 Chip pad 4 Substrate 10 Semiconductor module 13 Wiring pattern 14 Via post 15 Barrier metal 16 Resin layer 17 Solder ball

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハに複数の異種類の半導体チ
ップを形成した後に、各半導体チップの良否検査の結果
に応じて所定の複数個を単位として前記半導体チップを
切り分けることにより形成することを特徴とする半導体
装置。
2. A semiconductor device comprising: forming a plurality of different types of semiconductor chips on a semiconductor wafer; and forming the plurality of semiconductor chips by dividing the plurality of semiconductor chips into a plurality of units in accordance with a result of a pass / fail inspection of each semiconductor chip. Semiconductor device.
【請求項2】 半導体ウエハに形成された複数の異種類
の半導体チップに対して配線、樹脂封止、端子形成を行
った後に、各半導体チップの良否検査の結果に応じて所
定の複数個を単位として前記半導体チップを切り分ける
ことにより形成することを特徴とする半導体装置。
2. After performing wiring, resin sealing, and terminal formation on a plurality of different types of semiconductor chips formed on a semiconductor wafer, a predetermined plurality of semiconductor chips are formed according to the result of a pass / fail inspection of each semiconductor chip. A semiconductor device formed by cutting the semiconductor chip as a unit.
【請求項3】 半導体ウエハに複数の異種類の半導体チ
ップを形成する第1の工程と、 前記半導体ウエハに形成された複数の前記半導体チップ
のそれぞれの良否検査を行う第2の工程と、 前記良否検査の結果に基づいて所定の複数個を単位とし
て前記半導体チップを切り分ける第3の工程と、 を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
3. A first step of forming a plurality of different types of semiconductor chips on a semiconductor wafer; a second step of performing a pass / fail inspection of each of the plurality of semiconductor chips formed on the semiconductor wafer; A third step of dividing the semiconductor chip into a plurality of units based on the result of the pass / fail inspection.
【請求項4】 半導体ウエハに複数の異種類の半導体チ
ップを形成する第1の工程と、 前記半導体ウエハ上に形成された複数の前記半導体チッ
プに対して配線、樹脂封止、端子形成を行う第2の工程
と、 前記第2の工程によって形成された前記端子を用いて、
前記半導体ウエハに形成された複数の前記半導体チップ
のそれぞれの良否検査を行う第3の工程と、 前記良否検査の結果に基づいて所定の複数個を単位とし
て前記半導体チップを切り分ける第4の工程と、 を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
4. A first step of forming a plurality of different types of semiconductor chips on a semiconductor wafer, and performing wiring, resin sealing, and terminal formation on the plurality of semiconductor chips formed on the semiconductor wafer. A second step, and using the terminal formed in the second step,
A third step of performing a pass / fail inspection of each of the plurality of semiconductor chips formed on the semiconductor wafer; and a fourth step of separating the semiconductor chips into a plurality of units based on a result of the pass / fail inspection. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising:
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