JP2001311805A - ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット - Google Patents
ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲットInfo
- Publication number
- JP2001311805A JP2001311805A JP2000127317A JP2000127317A JP2001311805A JP 2001311805 A JP2001311805 A JP 2001311805A JP 2000127317 A JP2000127317 A JP 2000127317A JP 2000127317 A JP2000127317 A JP 2000127317A JP 2001311805 A JP2001311805 A JP 2001311805A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shielding film
- light
- forming
- black matrix
- light shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶ディスプレーなどのカラーパネルを構成す
るブラックマトリックスを形成するための遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット
を提供する。 【解決手段】ＮｉおよびＰｄの内の１種または２種を合
計で０．３〜３．０％を含有し、さらに必要に応じてＭ
ｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以上を合計で２
〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物から
なる組成を有するＴｉ基合金で構成された遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲッ
ト。
るブラックマトリックスを形成するための遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット
を提供する。 【解決手段】ＮｉおよびＰｄの内の１種または２種を合
計で０．３〜３．０％を含有し、さらに必要に応じてＭ
ｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以上を合計で２
〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物から
なる組成を有するＴｉ基合金で構成された遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲッ
ト。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
ーなどのカラーパネルを作製する工程で積層させるブラ
ックマトリックスを形成するための遮光膜およびその遮
光膜を形成するためのスパッタリングターゲットに関す
るものである。
ーなどのカラーパネルを作製する工程で積層させるブラ
ックマトリックスを形成するための遮光膜およびその遮
光膜を形成するためのスパッタリングターゲットに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶ディスプレーなどに使用す
るカラーパネルには、ガラス板や透明樹脂板などからな
る透明板の上に赤、青、緑の３原色カラーフィルター
と、この３原色の色画素間を仕切るための格子状にパタ
ーニングされたブラックマトリックスが形成されてお
り、このブラックマトリックスはカラーフィルターの３
原色の色画素を区切り、３原色の混合を防止して画像の
高コントラスト化および高品位画質化を図っている。前
記ブラックマトリックスは遮光膜をフォトリゾグラフィ
によりレジストパターンを形成し、これをマスクとして
エッチングすることにより微小開口部分を有する格子状
にパターンエッチングすることにより形成されるが、こ
の遮光膜の特性として最も重要な特性は、パターンエッ
チングが可能であるとともに耐食性を有すること、およ
び光源からの必要のない光を十分に遮蔽することができ
る遮光性を有することである。
るカラーパネルには、ガラス板や透明樹脂板などからな
る透明板の上に赤、青、緑の３原色カラーフィルター
と、この３原色の色画素間を仕切るための格子状にパタ
ーニングされたブラックマトリックスが形成されてお
り、このブラックマトリックスはカラーフィルターの３
原色の色画素を区切り、３原色の混合を防止して画像の
高コントラスト化および高品位画質化を図っている。前
記ブラックマトリックスは遮光膜をフォトリゾグラフィ
によりレジストパターンを形成し、これをマスクとして
エッチングすることにより微小開口部分を有する格子状
にパターンエッチングすることにより形成されるが、こ
の遮光膜の特性として最も重要な特性は、パターンエッ
チングが可能であるとともに耐食性を有すること、およ
び光源からの必要のない光を十分に遮蔽することができ
る遮光性を有することである。
【０００３】前述のようにして微小開口部分を有する格
子状パターン膜からなるブラックマトリックスを形成し
たのち、このブラックマトリックスの格子状パターン膜
により区切られた微小開口部分にオフセット印刷などに
より赤、青、緑の３原色カラーフィルター層を形成し、
さらにこのカラーフィルター層およびブラックマトリッ
クスの上にトップコート層を形成し、さらにこのトップ
コート層の上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透
明電極膜を形成してカラーパネルが作製される。
子状パターン膜からなるブラックマトリックスを形成し
たのち、このブラックマトリックスの格子状パターン膜
により区切られた微小開口部分にオフセット印刷などに
より赤、青、緑の３原色カラーフィルター層を形成し、
さらにこのカラーフィルター層およびブラックマトリッ
クスの上にトップコート層を形成し、さらにこのトップ
コート層の上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などの透
明電極膜を形成してカラーパネルが作製される。
【０００４】前記ブラックマトリックスを形成するため
の遮光膜の反射率が高いと外部からの反射光が表示画像
のコントラストを低下させるので、画像を一層見やすく
するために前記ガラスなどの透明板と遮光膜の間にＣｒ
Ｏ，ＣｒＮなどの化合物薄膜からな低反射膜を形成する
ことがある。従来、遮光膜として金属ＣｒもしくはＣｒ
基合金の蒸着膜またはスパッタリング膜が使用されてお
り、この金属ＣｒまたはＣｒ基合金からなる遮光膜は、
優れた耐食性および遮光性を有している。
の遮光膜の反射率が高いと外部からの反射光が表示画像
のコントラストを低下させるので、画像を一層見やすく
するために前記ガラスなどの透明板と遮光膜の間にＣｒ
Ｏ，ＣｒＮなどの化合物薄膜からな低反射膜を形成する
ことがある。従来、遮光膜として金属ＣｒもしくはＣｒ
基合金の蒸着膜またはスパッタリング膜が使用されてお
り、この金属ＣｒまたはＣｒ基合金からなる遮光膜は、
優れた耐食性および遮光性を有している。
【０００５】ところが、金属ＣｒまたはＣｒ基合金から
なる遮光膜は、エッチングして格子状パター膜を形成す
る際に有害である６価クロムが発生し、この６価クロム
は処理がなされずに外部に流出すると、環境問題に発展
する。そのため、近年、ブラックマトリックスを形成す
るための遮光膜として純ＮｉまたはＣｒを含まないＮｉ
基合金からなる薄膜、さらに純Ｔｉなどの耐食性に優れ
た金属または合金からなる薄膜が提案されている。
なる遮光膜は、エッチングして格子状パター膜を形成す
る際に有害である６価クロムが発生し、この６価クロム
は処理がなされずに外部に流出すると、環境問題に発展
する。そのため、近年、ブラックマトリックスを形成す
るための遮光膜として純ＮｉまたはＣｒを含まないＮｉ
基合金からなる薄膜、さらに純Ｔｉなどの耐食性に優れ
た金属または合金からなる薄膜が提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、液晶ディスプレ
ーは大画面化の傾向にあるが、カラーパネルが一層大型
化してもカラーパネルは重量の増加は厳しく抑えられて
いる。特にカラー液晶パネルは携帯用パソコンなどの液
晶ディスプレーとして最も多く使用されるところから一
層の軽量化が必要である。ところが、純ＮｉまたはＣｒ
を含まないＮｉ基合金からなる遮光膜は比重が大きいと
ころから軽量化は難しく、そのために純Ｔｉからなる遮
光膜が提案されているが、この純Ｔｉからなる遮光膜は
遮光性が十分でなく、さらにＩＴＯエッチング液に対す
る耐食性および洗浄液に対する耐食性が十分ではなかっ
た。
ーは大画面化の傾向にあるが、カラーパネルが一層大型
化してもカラーパネルは重量の増加は厳しく抑えられて
いる。特にカラー液晶パネルは携帯用パソコンなどの液
晶ディスプレーとして最も多く使用されるところから一
層の軽量化が必要である。ところが、純ＮｉまたはＣｒ
を含まないＮｉ基合金からなる遮光膜は比重が大きいと
ころから軽量化は難しく、そのために純Ｔｉからなる遮
光膜が提案されているが、この純Ｔｉからなる遮光膜は
遮光性が十分でなく、さらにＩＴＯエッチング液に対す
る耐食性および洗浄液に対する耐食性が十分ではなかっ
た。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
ＩＴＯエッチング液に対する耐食性および洗浄液に対す
る耐食性が優れるとともに、遮光性に優れ、さらに軽量
なブラックマトリックスを形成するための遮光膜を得る
べく研究を行った結果、ＮｉおよびＰｄの内の１種また
は２種を合計で０．３〜３．０％を含有し、さらに必要
に応じてＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以上
を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避
不純物からなる組成を有するＴｉ基合金で構成された遮
光膜は，エッチング性に優れると共に耐食性にも優れて
相反する特性を満たし、さらに遮光性が優れている、とい
う研究結果が得られたのである。
ＩＴＯエッチング液に対する耐食性および洗浄液に対す
る耐食性が優れるとともに、遮光性に優れ、さらに軽量
なブラックマトリックスを形成するための遮光膜を得る
べく研究を行った結果、ＮｉおよびＰｄの内の１種また
は２種を合計で０．３〜３．０％を含有し、さらに必要
に応じてＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以上
を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避
不純物からなる組成を有するＴｉ基合金で構成された遮
光膜は，エッチング性に優れると共に耐食性にも優れて
相反する特性を満たし、さらに遮光性が優れている、とい
う研究結果が得られたのである。
【０００８】この発明は、かかる研究結果に基づいて成
されたものであって、（１）Ｎｉ：０．３〜３．０％を
含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を
有するブラックマトリックスを形成するための遮光膜、
（２）Ｐｄ：０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉお
よび不可避不純物からなる組成を有するブラックマトリ
ックスを形成するための遮光膜、（３）ＮｉおよびＰｄ
を合計で０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉおよび
不可避不純物からなる組成を有するブラックマトリック
スを形成するための遮光膜、（４）Ｎｉ：０．３〜３．
０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種ま
たは２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉ
および不可避不純物からなる組成を有するブラックマト
リックスを形成するための遮光膜、（５）Ｐｄ：０．３
〜３．０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の
１種または２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残り
がＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有するブラッ
クマトリックスを形成するための遮光膜、（６）Ｎｉお
よびＰｄを合計で０．３〜３．０％、さらにＭｏ、Ｖお
よびＡｌの内の１種または２種以上を合計で２〜１０％
を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成
を有するブラックマトリックスを形成するための遮光
膜、に特徴を有するものである。
されたものであって、（１）Ｎｉ：０．３〜３．０％を
含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を
有するブラックマトリックスを形成するための遮光膜、
（２）Ｐｄ：０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉお
よび不可避不純物からなる組成を有するブラックマトリ
ックスを形成するための遮光膜、（３）ＮｉおよびＰｄ
を合計で０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉおよび
不可避不純物からなる組成を有するブラックマトリック
スを形成するための遮光膜、（４）Ｎｉ：０．３〜３．
０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種ま
たは２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉ
および不可避不純物からなる組成を有するブラックマト
リックスを形成するための遮光膜、（５）Ｐｄ：０．３
〜３．０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の
１種または２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残り
がＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有するブラッ
クマトリックスを形成するための遮光膜、（６）Ｎｉお
よびＰｄを合計で０．３〜３．０％、さらにＭｏ、Ｖお
よびＡｌの内の１種または２種以上を合計で２〜１０％
を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成
を有するブラックマトリックスを形成するための遮光
膜、に特徴を有するものである。
【０００９】さらに、この発明は、前記遮光膜を形成す
るためのスパッタリングターゲットをも含むものであ
る。したがって、この発明は、（７）Ｎｉ：０．３〜３．
０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる
組成を有するブラックマトリックスを形成するための遮
光膜形成用スパッタリングターゲット、（８）Ｐｄ：
０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不
純物からなる組成を有するブラックマトリックスを形成
するための遮光膜形成用スパッタリングターゲット、
（９）ＮｉおよびＰｄを合計で０．３〜３．０％を含有
し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有す
るブラックマトリックスを形成するための遮光膜形成用
スパッタリングターゲット、（１０）Ｎｉ：０．３〜
３．０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１
種または２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残りが
Ｔｉおよび不可避不純物からなる組成を有するブラック
マトリックスを形成するための遮光膜形成用スパッタリ
ングターゲット、（１１）Ｐｄ：０．３〜３．０％を含
有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種
以上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不
可避不純物からなる組成を有するブラックマトリックス
を形成するための遮光膜形成用スパッタリングターゲッ
ト、（１２）ＮｉおよびＰｄを合計で０．３〜３．０
％、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以
上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可
避不純物からなる組成を有するブラックマトリックスを
形成するための遮光膜形成用スパッタリングターゲッ
ト、に特徴を有するものである。
るためのスパッタリングターゲットをも含むものであ
る。したがって、この発明は、（７）Ｎｉ：０．３〜３．
０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる
組成を有するブラックマトリックスを形成するための遮
光膜形成用スパッタリングターゲット、（８）Ｐｄ：
０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不
純物からなる組成を有するブラックマトリックスを形成
するための遮光膜形成用スパッタリングターゲット、
（９）ＮｉおよびＰｄを合計で０．３〜３．０％を含有
し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有す
るブラックマトリックスを形成するための遮光膜形成用
スパッタリングターゲット、（１０）Ｎｉ：０．３〜
３．０％を含有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１
種または２種以上を合計で２〜１０％を含有し、残りが
Ｔｉおよび不可避不純物からなる組成を有するブラック
マトリックスを形成するための遮光膜形成用スパッタリ
ングターゲット、（１１）Ｐｄ：０．３〜３．０％を含
有し、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種
以上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不
可避不純物からなる組成を有するブラックマトリックス
を形成するための遮光膜形成用スパッタリングターゲッ
ト、（１２）ＮｉおよびＰｄを合計で０．３〜３．０
％、さらにＭｏ、ＶおよびＡｌの内の１種または２種以
上を合計で２〜１０％を含有し、残りがＴｉおよび不可
避不純物からなる組成を有するブラックマトリックスを
形成するための遮光膜形成用スパッタリングターゲッ
ト、に特徴を有するものである。
【００１０】この発明のブラックマトリックスを形成す
るための遮光膜およびその遮光膜を形成するためのスパ
ッタリングターゲットにおいて成分組成を前記のごとく
限定した理由を説明する。 ＮｉおよびＰｄ：これら成分は、Ｔｉの遮光性および耐
食性を一層向上させる作用を有するが、これら成分を
０．３％未満含有しても格別な効果が得られず、一方、こ
れら成分を３．０％を越えて含有すると耐食性が良くな
りすぎてエッチングによる格子状パターンを形成できな
くなるので好ましくない。したがって、ＮｉおよびＰｄ
は１種または２種を合計で０．３〜３．０％に定めた。
これら成分の含有量の一層好ましい範囲は０．５〜１．
８％である。
るための遮光膜およびその遮光膜を形成するためのスパ
ッタリングターゲットにおいて成分組成を前記のごとく
限定した理由を説明する。 ＮｉおよびＰｄ：これら成分は、Ｔｉの遮光性および耐
食性を一層向上させる作用を有するが、これら成分を
０．３％未満含有しても格別な効果が得られず、一方、こ
れら成分を３．０％を越えて含有すると耐食性が良くな
りすぎてエッチングによる格子状パターンを形成できな
くなるので好ましくない。したがって、ＮｉおよびＰｄ
は１種または２種を合計で０．３〜３．０％に定めた。
これら成分の含有量の一層好ましい範囲は０．５〜１．
８％である。
【００１１】Ｍｏ、Ｖ、Ａｌ：これら成分は、Ｔｉ合金
の耐食性を向上させるとともに遮光膜の遮光性を一段と
向上させるので必要に応じて添加するが、これら成分の
含有量が２％未満では所望の効果が得られず、一方、こ
れら成分が１０％を越えて含有しても格別な耐食性およ
び遮光膜の向上効果が得られない。したがってこの発明
のブラックマトリックスを形成するための遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット
に含まれるＭｏ、ＶおよびＡｌは１種または２種以上を
合計で２〜１０％に定めた。これら成分の含有量の一層
好ましい範囲は４〜７％である。
の耐食性を向上させるとともに遮光膜の遮光性を一段と
向上させるので必要に応じて添加するが、これら成分の
含有量が２％未満では所望の効果が得られず、一方、こ
れら成分が１０％を越えて含有しても格別な耐食性およ
び遮光膜の向上効果が得られない。したがってこの発明
のブラックマトリックスを形成するための遮光膜および
その遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット
に含まれるＭｏ、ＶおよびＡｌは１種または２種以上を
合計で２〜１０％に定めた。これら成分の含有量の一層
好ましい範囲は４〜７％である。
【００１２】
【発明の実施の形態】表１〜２に示される成分組成を有
し、直径：１７０ｍｍの寸法を有するＴｉ基合金インゴ
ットを真空溶解することにより作製し、得られたこれら
インゴットを輪切りにしたのち、機械加工することによ
り直径：１５０ｍｍ、厚さ：６ｍｍの寸法を有する円盤
状のスパッタリングターゲットを作製し、これらターゲ
ットをＤＣマグネトロンスパッタリング装置に設置し、
コーニング社製の＃７０５９ガラス基板表面にいずれも
膜厚：約１２０ｎｍの本発明遮光膜１〜２２、比較遮光
膜１〜４および従来遮光膜を形成し、得られた遮光膜の
成分組成を測定し、その結果を表１〜２に示した。
し、直径：１７０ｍｍの寸法を有するＴｉ基合金インゴ
ットを真空溶解することにより作製し、得られたこれら
インゴットを輪切りにしたのち、機械加工することによ
り直径：１５０ｍｍ、厚さ：６ｍｍの寸法を有する円盤
状のスパッタリングターゲットを作製し、これらターゲ
ットをＤＣマグネトロンスパッタリング装置に設置し、
コーニング社製の＃７０５９ガラス基板表面にいずれも
膜厚：約１２０ｎｍの本発明遮光膜１〜２２、比較遮光
膜１〜４および従来遮光膜を形成し、得られた遮光膜の
成分組成を測定し、その結果を表１〜２に示した。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】このようにして得られた本発明遮光膜１〜
２２、比較遮光膜１〜４および従来遮光膜について、下
記の透過試験および腐食試験を行った。
２２、比較遮光膜１〜４および従来遮光膜について、下
記の透過試験および腐食試験を行った。
【００１６】（イ）透過試験 入射光の強度Ｉおよび透過光の強度Ｉ0を測定して透過
率Ｉ／Ｉ0を求め、−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉ0）で定義する値
（オプティカルデンシティ値、以下これをＯＤ値とい
う）を求め、その結果を表３に示した。
率Ｉ／Ｉ0を求め、−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉ0）で定義する値
（オプティカルデンシティ値、以下これをＯＤ値とい
う）を求め、その結果を表３に示した。
【００１７】（ロ）腐食試験 試験液として、いずれもＩＴＯ洗浄液に相当する１０質
量％ＫＯＨの水酸化カリウム水溶液を用意し、さらに６
質量％ＨＣｌの塩酸水溶液を用意し、さらにＦｅＣ
ｌ3：３０質量％、ＨＣｌ：４質量％を溶解したＩＴＯ
エッチングに使用する水溶液と同じ成分組成の水溶液
（以下、ＩＴＯエッチング液という）を用意し、これら
水溶液に１０分間浸漬し、浸漬前後における遮光膜の膜
厚変化量を測定し、その結果を表３に示して耐食性を評
価した。膜厚の変化量が多いほど腐食により膜厚が減少
し、耐食性が劣るという評価が得られることになる。
量％ＫＯＨの水酸化カリウム水溶液を用意し、さらに６
質量％ＨＣｌの塩酸水溶液を用意し、さらにＦｅＣ
ｌ3：３０質量％、ＨＣｌ：４質量％を溶解したＩＴＯ
エッチングに使用する水溶液と同じ成分組成の水溶液
（以下、ＩＴＯエッチング液という）を用意し、これら
水溶液に１０分間浸漬し、浸漬前後における遮光膜の膜
厚変化量を測定し、その結果を表３に示して耐食性を評
価した。膜厚の変化量が多いほど腐食により膜厚が減少
し、耐食性が劣るという評価が得られることになる。
【００１８】
【表３】
【００１９】
【発明の効果】表１〜３に示された結果から、この発明
のＮｉおよびＰｄの１種または２種を合計で０．３〜
３．０％を含有し、必要に応じてＭｏ、ＶおよびＡｌの
内の１種または２種以上を合計で２〜１０％を含有する
Ｔｉ基合金からなる本発明遮光膜１〜２２は、比較遮光
膜１〜４および従来遮光膜１に比べて、膜厚変化量が小
さいところから水酸化カリウム水溶液、塩酸水溶液およ
びＩＴＯエッチング液に対する耐食性に優れ、さらにＯ
Ｄ値が格段に高いところから一層遮光性が優れており、
したがって、この発明は液晶パネルの品質の向上、軽量
化およびコスト削減を行うことができ、ディスプレー産
業の発展に大いに貢献し得るものである。
のＮｉおよびＰｄの１種または２種を合計で０．３〜
３．０％を含有し、必要に応じてＭｏ、ＶおよびＡｌの
内の１種または２種以上を合計で２〜１０％を含有する
Ｔｉ基合金からなる本発明遮光膜１〜２２は、比較遮光
膜１〜４および従来遮光膜１に比べて、膜厚変化量が小
さいところから水酸化カリウム水溶液、塩酸水溶液およ
びＩＴＯエッチング液に対する耐食性に優れ、さらにＯ
Ｄ値が格段に高いところから一層遮光性が優れており、
したがって、この発明は液晶パネルの品質の向上、軽量
化およびコスト削減を行うことができ、ディスプレー産
業の発展に大いに貢献し得るものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北村 英男 東京都千代田区丸の内１−５−１ 三菱マ テリアル株式会社非鉄材料カンパニー品質 保証・開発部内 (72)発明者 金子 憲史 埼玉県桶川市上日出谷1230 三菱マテリア ル株式会社桶川製作所内 (72)発明者 菅原 克生 埼玉県大宮市北袋町１−297 三菱マテリ アル株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BB01 BB42 2H091 FA02Y FA35Y FB08 LA30 4K029 AA09 AA24 BA01 BA03 BA11 BA12 BA17 BC07 BD09 DC04 DC08
Claims (4)
- 【請求項１】質量％で（以下％は質量％を示す）、Ｎｉ
およびＰｄの内の１種または２種を合計で０．３〜３．
０％を含有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる
組成を有することを特徴とするブラックマトリックスを
形成するための遮光膜。 - 【請求項２】ＮｉおよびＰｄの内の１種または２種を合
計で０．３〜３．０％を含有し、さらにＭｏ、Ｖおよび
Ａｌの内の１種または２種以上を合計で２〜１０％を含
有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有
することを特徴とするブラックマトリックスを形成する
ための遮光膜。 - 【請求項３】ＮｉおよびＰｄの内の１種または２種を合
計で０．３〜３．０％を含有し、残りがＴｉおよび不可
避不純物からなる組成を有することを特徴とするブラッ
クマトリックスを形成するための遮光膜形成用スパッタ
リングターゲット。 - 【請求項４】ＮｉおよびＰｄの内の１種または２種を合
計で０．３〜３．０％を含有し、さらにＭｏ、Ｖおよび
Ａｌの内の１種または２種以上を合計で２〜１０％を含
有し、残りがＴｉおよび不可避不純物からなる組成を有
することを特徴とするブラックマトリックスを形成する
ための遮光膜形成用スパッタリングターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000127317A JP2001311805A (ja) | 2000-04-27 | 2000-04-27 | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000127317A JP2001311805A (ja) | 2000-04-27 | 2000-04-27 | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001311805A true JP2001311805A (ja) | 2001-11-09 |
Family
ID=18636934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000127317A Withdrawn JP2001311805A (ja) | 2000-04-27 | 2000-04-27 | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001311805A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007101848A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 濃色隔画壁の形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
| CN102953036A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 日立金属株式会社 | 电子部件用层叠配线膜和被覆层形成用溅射靶材 |
-
2000
- 2000-04-27 JP JP2000127317A patent/JP2001311805A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007101848A (ja) * | 2005-10-04 | 2007-04-19 | Fujifilm Corp | 濃色隔画壁の形成方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置 |
| CN102953036A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 日立金属株式会社 | 电子部件用层叠配线膜和被覆层形成用溅射靶材 |
| KR101350648B1 (ko) | 2011-08-22 | 2014-01-10 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 전자부품용 적층 배선막 및 피복층 형성용 스퍼터링 타겟재 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011197521A (ja) | 遮光膜付ガラス基板および液晶表示装置 | |
| US20090051860A1 (en) | Blank, black matrix, and color filter | |
| JPH09176837A (ja) | 透明導電膜 | |
| JPH10255669A (ja) | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びそれを用いたプラズマディスプレイ装置 | |
| JP4419037B2 (ja) | ブラックマトリックス用遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット | |
| JP6801168B2 (ja) | スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜 | |
| JP2001311805A (ja) | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JP2001311812A (ja) | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット | |
| WO2007010866A1 (ja) | グレートーンマスク用ブランクス、及びそれを用いたグレートーンマスク及びその製造方法 | |
| JP2008159534A (ja) | 導電性フリット材、透明面状ヒーター及び電磁波シールド体 | |
| JP2001305311A (ja) | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JP4569016B2 (ja) | 液晶表示装置用ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ | |
| JP4419036B2 (ja) | ブラックマトリックス用遮光膜を形成するためのスパッタリングターゲット | |
| TW538421B (en) | CRT panel glass and production method thereof and CRT | |
| JP2001305334A (ja) | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JPH11119676A (ja) | ブランクス及びブラックマトリクス | |
| JP2001356204A (ja) | ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット | |
| JP3539355B2 (ja) | ブラックマトリックス用Ｎｉ−Ｗ系スパッタリングターゲット | |
| JPH0955175A (ja) | 透明導電膜付き陰極線管 | |
| JPH11119007A (ja) | ブランクス及びブラックマトリクス | |
| JP2000214309A (ja) | ブラックマトリックス薄膜付き基板、カラ―フィルタ基板、ブラックマトリックス薄膜形成用タ―ゲットおよび基板の製造方法 | |
| JP4009086B2 (ja) | スパッタリングターゲット、遮光膜、カラーフィルタ及び表示素子体 | |
| JPH06130214A (ja) | 液晶用ガラス基板、ｔｆｔ液晶用カラーフィルター、プロジェクション用ｔｆｔ液晶表示装置、カラーｔｆｔ液晶表示装置 | |
| WO1997031290A1 (fr) | Substrat support de film avec facteur de reflexion bas | |
| JP2000121825A (ja) | 遮光層付き基板、その製造方法並びにスパッタターゲット、カラーフィルタ基板、及び表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070703 |