|
KR100464367B1
(ko)
*
|
2002-01-08 |
2005-01-03 |
삼성전자주식회사 |
포토다이오드 디텍터 및 그 제조방법
|
|
KR100755287B1
(ko)
|
2003-02-14 |
2007-09-04 |
캐논 가부시끼가이샤 |
방사선 촬상장치
|
|
JP2004265932A
(ja)
*
|
2003-02-14 |
2004-09-24 |
Canon Inc |
放射線撮像装置
|
|
JP2005175418A
(ja)
*
|
2003-11-19 |
2005-06-30 |
Canon Inc |
光電変換装置
|
|
JP4734847B2
(ja)
*
|
2004-05-06 |
2011-07-27 |
ソニー株式会社 |
固体撮像装置
|
|
JP4127243B2
(ja)
|
2004-05-24 |
2008-07-30 |
セイコーエプソン株式会社 |
光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器
|
|
JP2008205480A
(ja)
*
|
2008-03-13 |
2008-09-04 |
Seiko Epson Corp |
光センサ、光センサの読取方法、マトリクス型光センサ回路および電子機器
|
|
JP5032442B2
(ja)
*
|
2008-11-06 |
2012-09-26 |
株式会社ジャパンディスプレイセントラル |
光センサ用ダイオード
|
|
KR101773992B1
(ko)
|
2010-03-12 |
2017-09-01 |
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 |
반도체 장치
|
|
US8836626B2
(en)
*
|
2011-07-15 |
2014-09-16 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Semiconductor device and method for driving the same
|
|
JP6325953B2
(ja)
*
|
2014-09-16 |
2018-05-16 |
株式会社東芝 |
半導体装置の製造方法
|
|
JP6483434B2
(ja)
|
2014-12-25 |
2019-03-13 |
エイブリック株式会社 |
光電変換装置
|
|
DE112016000496B4
(de)
|
2015-01-27 |
2022-06-30 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Insassenschutzvorrichtung
|
|
US9685476B2
(en)
*
|
2015-04-03 |
2017-06-20 |
Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. |
Imaging device and electronic device
|
|
KR101782429B1
(ko)
*
|
2016-07-11 |
2017-10-23 |
전승익 |
엑스레이 검출 장치용 엑스레이 검출 패널 및 그의 제조 방법
|
|
US9935150B2
(en)
|
2016-08-30 |
2018-04-03 |
Seung Ik Jun |
X-ray detection panel of X-ray detector and method of manufacturing the same
|
|
JP6953023B2
(ja)
*
|
2017-01-10 |
2021-10-27 |
国立大学法人北海道大学 |
電子回路及びイメージング回路並びに検出／受光方法
|
|
JP2019220685A
(ja)
*
|
2018-06-19 |
2019-12-26 |
シャープ株式会社 |
放射線検出器
|
|
JP2021027192A
(ja)
*
|
2019-08-06 |
2021-02-22 |
株式会社東芝 |
受光装置、受光装置の製造方法及び距離計測装置
|
|
CN114485928A
(zh)
*
|
2021-08-20 |
2022-05-13 |
荣耀终端有限公司 |
光检测方法、光检测电路、显示屏及电子设备
|