JP6483434B2 - 光電変換装置 - Google Patents
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Description
上記構成の従来の光電変換装置は、以下のように動作をして、発生する光電流に応じた出力信号を出力する。
入射光量に応じた光電流を流すフォトダイオードと、フォトダイオードの寄生容量をリセット電圧に充電するリセット回路と、フォトダイオードの寄生容量の電圧を所定の電圧より低下するのを防止する電圧リミット回路と、フォトダイオードの寄生容量の電圧を出力する出力回路と、を備えた光電変換装置とした。
フォトダイオード105は、リセット信号がリセット信号入力端子112に入力されると、N型電極の電圧をリセット電圧Vresにリセットされる。このため、フォトダイオード105は、自ら持つ寄生容量にリセット電圧が充電される。その後、フォトダイオード105は、自らが光電変換で発生させた光電流で、自ら持つ寄生容量に充電されたリセット電圧を放電する。そして、フォトダイオード105は、再度リセット電圧に再リセットされる。リミット回路102は、フォトダイオード105の電圧が、リミット電圧入力端子110に入力されたリミット電圧Vlimから、NMOSトランジスタ111のしきい値電圧を引いた値を下回ると機能し始める。機能し始めたリミット回路は、フォトダイオード105のN型端子のさらなる電圧低下を防止する。一方、再リセットされたフォトダイオード105のリセット電圧と、フォトダイオード105の放電後の放電電圧は、ソースフォロア回路104のPMOSトランジスタの115のソース電圧に変換され、出力端子の入力端子117に入力される。出力回路106はソースフォロア回路104から出力されるフォトダイオード105のリセット電圧と放電電圧に基づく電圧を比較しそれら電圧の電圧差を抽出する。抽出された電圧差は、出力回路106でさらに所定倍率で増幅され、出力回路106の出力端子118から、出力電圧Voutとして出力される。上記本実施形態の光電変換装置は、電源電圧3.3Vで使用される場合を想定している。この場合、リセット電圧Vresは2.2Vに設定し、検出が必要な最大の光量が入射された場合で、リセット電圧から0.5V程度低下するよう設計されている。これは、放電電圧を0.5Vよりも増加させると、フォトダイオードのジャンクション部分の寄生容量が急激に増加し、入射光量変化に対する出力電圧の変化が線形で無くなるからである。従って、本実施形態の光電変換装置は、想定される範囲の光量を読み取る場合は、フォトダイオードの電圧がリセット電圧から最大でも0.5V程度しか低下しないため、フォトダイオードの寄生容量が増大しない。一方、本実施形態の光電変換装置に想定範囲外の強い光量が入射された場合、フォトダイオードの放電電圧が想定される電圧未満に低下し、さらに低下しようとするが、リミット回路が機能し始めるため、フォトダイオードの放電電圧はリミット回路により設定されたリミット電圧以上にリミットされる。このため、本実施形態の光電変換装置は、想定範囲外の強い光量が入射された場合でも、フォトダイオードの放電電圧がリミット回路により、設定されたリミット電圧以上にリミットされる。従って、本実施形態の光電変換装置は、フォトダイオードの寄生容量の増加が無く、この寄生容量をリセット電圧Vresまで充電する際に必要なリセット時間が長くなるのを防止できる。
フォトダイオード105は、P基板領域201とNウェル領域202とN型領域203とP型領域204とロコス酸化膜204と、を有している。ロコス酸化膜204は、中央の四角領域のみ無い状態で基板上面に形成される。深さが浅いN型領域203は、ロコス酸化膜203が無い基板上面に形成される。深さの深いNウェル領域202は、N型領域203の周囲を囲む様に形成される。深さの浅いP型領域は、ロコス酸化膜204の下に形成される。P基板領域201とP型領域204には、GND端子が接続され、N型領域203にフォトダイオード電圧が入力される。
103 リセット回路
104 ソースフォロア回路
105 フォトダイオード
106 出力回路
Claims (2)
- 入射光量に応じた光電流を流すフォトダイオードと、
前記フォトダイオードに接続され、前記フォトダイオードの寄生容量をリセット電圧に充電するリセット回路と、
前記フォトダイオードに接続され、前記フォトダイオードの寄生容量の電圧を所定の電圧より低下するのを防止する電圧リミット回路と、
前記フォトダイオードに接続され、前記フォトダイオードの前記寄生容量の電圧を出力する出力回路と、を備え
前記フォトダイオードは、
P型基板と、
前記P型基板内に設けられたN型ウェル領域と、
前記N型ウェル領域の表面の一部に設けられたN型領域と、
前記N型領域を取り囲むように前記N型ウェル領域の表面及び前記P型基板の表面の一部に連続して設けられ、前記P型基板と電気的に接続されたP型領域とを有し、
前記所定の電圧は、前記P型基板から伸びる空乏層と前記P型領域から伸びる空乏層とが接している電圧である
ことを特徴とする光電変換装置。 - 前記電圧リミット回路は、ゲートにリミット電圧が入力されたNMOSトランジスタを有し、
前記寄生容量の電圧が所定の電圧より低下した際に、前記NMOSトランジスタが前記光電流に応じた電流を流す、
ことを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
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