JP2001304838A - 表面検査装置及び表面検査方法 - Google Patents

表面検査装置及び表面検査方法

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JP2001304838A
JP2001304838A JP2000126371A JP2000126371A JP2001304838A JP 2001304838 A JP2001304838 A JP 2001304838A JP 2000126371 A JP2000126371 A JP 2000126371A JP 2000126371 A JP2000126371 A JP 2000126371A JP 2001304838 A JP2001304838 A JP 2001304838A
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Takashi Fuse
貴史 布施
Yoshitaka Oshima
美隆 大嶋
Yoji Nishiyama
陽二 西山
Fumiyuki Takahashi
文之 高橋
Hiroyuki Tsukahara
博之 塚原
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気ディスク表面のうねり形状を光の照射に
よって計測する場合に、微小領域の表面状態を計測する
ことを可能とするとともに、計測分解能を高めることを
可能とする。 【解決手段】 検査対象13に向けて射出したビーム1
0を部分遮光板3によって所定形状に整形して検査対象
13の表面の微小領域bに対して照射し、検査対象13
からの反射光をレンズ6,7によって拡大して位置検出
器9で検出することにより、検査対象13表面のうねり
を検出するようにしている。射出した光線が所定形状に
整形されて検査対象13の一部領域に集中して照射され
るため、微小領域のうねりを検出することが可能となる
とともに、反射光を拡大することにより、検査対象とレ
ンズとの間の距離を大きくとらなくても、検査対象物表
面の微小領域におけるうねりを確実且つ高い分解能で検
出することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、平滑な媒体の表面
のうねりを計測する表面検査装置及び表面検査方法に関
し、特に高い精度で平坦性が要求される磁気ディスク等
の媒体表面のうねりを検出する表面検査装置及び表面検
査方法に適用して好適である。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気ディスクの大容量化、小型化
に伴って記録密度も高密度化しており、記録密度を向上
させるために磁気ディスクと磁気ディスクヘッド間の距
離が益々縮小化されている。このような磁気ディスクヘ
ッドの低浮上量化により、磁気ディスク媒体の平滑化が
ますます求められており、磁気ディスク等の媒体の表面
状態を計測する手段の重要性が高まりつつある。このた
め、磁気ディスク等の媒体表面の微小なうねりを検知す
る方法や手段が模索されている。一方で磁気ディスク等
の媒体からのデータを読み出す際には、媒体の表面を傷
つけることがないように非接触で検出することは必要不
可欠である。こうした状況から、磁気ディスク等の媒体
表面のうねり形状を非接触でより精密に計測する必要が
生じている。
【0003】以下、図6〜図8を参照しながら、従来の
磁気ディスクの表面状態の計測方法について説明する。
図6は、ハードディスクドライブの構造を示す斜視図で
ある。ディスク媒体101上にヘッド部102が位置し
ており、このヘッド部102がディスク媒体101の回
転とともに浮上し、非接触でデータの記録再生を行う。
しかし、ディスク媒体101表面に、ヘッド部102が
追随できないような小さいうねりの凹凸部が形成されて
いる場合、ヘッド102とディスク媒体101間の距離
が大きくなり、正確な記録、再生を行うことができなく
なる虞がある。従って、正確に記録、再生を行うために
は、磁気ディスクの表面のうねりを測定して、うねりが
許容レベルを超えないように表面形状を平滑化しておく
必要がある。
【0004】磁気ディスク媒体等の表面のうねりを測定
する手法として、例えば図7に示すようなオートコリメ
ータによる表面傾き角度の測定方法が知られている。レ
ーザ103から出た平行光は、レンズ104により図7
中の一点aで結像する。結像した光線はビームスプリッ
タ107を透過して、aの位置から焦点距離だけ離れた
位置に配置されたレンズ105により平行ビームとさ
れ、磁気ディスク媒体等の検査対象106を照射する。
検査対象106の表面が図7に示すように水平から角度
θだけ傾いているとすると、検査対象106での反射光
は角度2θの反転角度で反射する。反射した光はビーム
スプリッタ107で光路を曲げられ、焦点位置に置かれ
た位置検出器108に結像する。位置検出器108では
反射角度2θに応じて焦点位置が変位して検出され、こ
の変位量d1を測定することにより検査対象106の傾
き角度θが算出される。
【0005】他の方法としては、図8に示すような光て
こによる傾き角度の測定法が知られている。レーザ10
9から出た平行光は、ビームスプリッタ112を通過し
て、レンズ110により検査対象106上で結像する。
検査対象106の表面が水平から角度θだけ傾いている
とすると、図7の場合と同様、検査対象106での反射
光は角度2θの反射角度で反射する。
【0006】反射した光はレンズ110によって平行光
とされ、ビームスプリッタ112で光路を曲げられ、位
置検出器113に入射する。位置検出器113では反射
角度2θに応じて入射する平行光の位置が変位し、この
変位量d2を測定することにより検査対象106の傾き
角度θが算出される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示すような原理の光学系においては、レンズ105と検
査対象106との距離を大きくすることにより検査対象
106表面の微小角度の変位をある程度正確に測定する
ことはできるが、検査対象106に対して平行ビームを
照射する必要があり、角度測定領域を小さく絞ることが
できない。従って、検査対象106上の微小領域におけ
るうねりを検出することはできなかった。
【0008】また、図8に示すような原理の光学系にお
いては、光を検査対象106上に集光するため、角度測
定領域を小さく絞ることができ、より微小な範囲の角度
変位を測定することはできる。しかし、反射光が平行光
ではないため、レンズ110と検査対象106との距離
を大きくすることは位置検出器113のサイズとの兼ね
合いもあって限界があり、微小角度の測定の分解能の向
上には限界があった。
【0009】このように、検査対象106の表面のうね
りを測定する場合において、傾き角度の測定分解能を優
先すると角度測定領域を大きくとる必要が生じて微小領
域の検査が困難となる一方、微小領域のうねりを検出し
ようとすると測定分解能が犠牲になるという問題が生じ
ていた。
【0010】本発明はこのような問題を解決するために
成されたものであり、磁気ディスク等の媒体の表面のう
ねり形状を光の照射によって計測する場合に、検査対象
物表面の微小領域のうねりを検出することを可能とする
とともに、測定分解能を高精度に保って検出することの
できる表面検査装置、表面検査方法を提供することを目
的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の表面検査装置
は、検査対象物の表面のうねりを検査する表面検査装置
を対象とし、前記検査対象物に向けて射出した光線を前
記検査対象物の表面の微小領域に対して照射する照射手
段と、前記検査対象物に向けて射出された光線を所定形
状に整形する整形手段と、前記検査対象物からの反射光
を拡大する拡大手段とを備えている。
【0012】また、本発明の表面検査装置の一態様例に
おいて、前記整形手段は、少なくとも1つの直線部を有
する遮光板を備え、前記射出した光線の略中心を前記直
線部が通るように前記遮光板を配置することによって前
記光線を所定形状に整形し、前記光線に前記直線部に対
応したエッジ部を形成するようにしている。
【0013】本発明の表面検査方法は、検査対象物の表
面のうねりを検査する表面検査方法であって、前記検査
対象物に向けて射出した光線を所定形状に整形して前記
検査対象物の表面の微小領域に対して照射し、前記検査
対象物からの反射光を拡大して検出することにより、前
記検査対象物表面のうねりを検出するようにしている。
【0014】
【作用】本発明は上記技術手段より成るので、射出した
光線が検査対象物の微小領域に集中して照射され、その
反射光に基づいてうねりの検査が行われることとなる。
また、反射光を拡大して検出することにより、検査対象
物までの距離を大きくとらなくても検査対象物表面の微
小なうねりの変位量を拡大して検出することができる。
更に、光線を所定形状に整形することにより、検査対象
からの反射光が拡大されてもうねりの高精度な検出を行
うことが可能となる。
【0015】また、本発明の他の特徴によれば、射出し
た光線を整形してエッジ部を形成し、シリンドリカルレ
ンズによってエッジ部が延在する方向と垂直となる方向
のみに反射光を拡大することによって、エッジ部の変位
量を高分解能で検出することが可能となる。また、エッ
ジ部の延在する方向には拡大が成されないことから、反
射光密度を高く保って信頼性の高い検出を行うことが可
能となる。
【0016】
【発明の実施の形態】(第1の実施形態)以下、図面を
参照しながら、本発明の第1の実施形態に係る表面検査
装置及び表面検査方法について説明する。図1は、第1
の実施形態に係る表面検査装置の構成を示す模式図であ
る。
【0017】図1に示すように、第1の実施形態に係る
表面検査装置は、平行ビーム10を射出するレーザ1、
射出された平行ビーム10のビーム径を拡大するビーム
エキスパンダ2、拡大したビーム10の一部を遮光して
ビーム10の形状にエッジ部10aを形成する部分遮光
板3、部分遮光板3により整形したビーム10を検査対
象13上に結像させ、検査対象13から反射したビーム
10を屈折させて平行光とする対物レンズ5、反射した
ビーム10の方向を可変するハーフミラー4、ビーム1
0のビーム径を拡大するレンズ6,7、拡大したビーム
10のうちうねり検出に必要な領域のみを取り出すアパ
ーチャ8、取り出されたビーム10に応じて検査対象1
3のうねりを検出する位置検出器9を有して構成されて
いる。磁気ディスク、ウェハ等の検査対象13は対物レ
ンズ5の下方に配置される。なお、図1では、レーザ1
とビームエキスパンダ2との間に反射板11を設けてい
るが、レーザ1からビームエキスパンダ2に向かって直
接ビーム10を照射するようにしてもよい。また、ビー
ムエキスパンダ2におけるビーム10の拡大倍率を変更
可能とし、対物レンズ5の焦点距離を変更可能とするこ
とにより、検査対象13において集光されたビーム10
の大きさを可変することができる。
【0018】レーザ1から射出された平行ビーム10は
反射板11によってビームエキスパンダ2の方向へ反射
される。ビームエキスパンダ2では、平行ビーム10を
適当な大きさの径のビーム10に拡大する。
【0019】拡大されたビーム10の一部は、部分遮光
板3によって遮られる。部分遮光板3は、図1に示すよ
うに直線部3aがビーム10の略中心位置を通るように
配置されている。
【0020】これにより、透過板12に映しだされたよ
うに、ビーム10の形状にはエッジ部10aが形成さ
れ、ビーム10の形状は半円状となる。なお、透過板1
2は部分遮光板3によって整形したビーム10の形状を
示すために図示した構成部材であって、本実施形態の表
面検査装置に必須の構成部材ではない。
【0021】その後、エッジ部10aが形成されたビー
ム10はハーフミラー4を透過し、対物レンズ5によっ
て検査対象13上に結像されて、検査対象13上の微小
領域bを照射する。ここで、ビーム10のエッジ部10
aが微小領域bにおいて検査対象13上で検査対象13
の周方向と平行な方向に位置するように予め部分遮光板
3の直線部3aの方向を規定しておく。
【0022】微小領域bを照射したビーム10は検査対
象13の表面で反射するが、照射された微小領域bのう
ねり角度に応じた量だけビーム10の位置が変位して反
射する。エッジ部10aが検査対象13上で検査対象1
3の周方向と平行な方向に位置しているため、周方向に
変位するうねりについてはエッジ部10aは、うねりが
ない場合の基準位置から殆ど変位しないが、周方向と垂
直方向のうねりによってエッジ部10aは変位する。反
射したビーム10は対物レンズ5を再び通過することに
よって平行光となり、ハーフミラー4で反射されて、図
1の左方向、すなわちレンズ6の方向に向かって進む。
【0023】ハーフミラー4で反射した光は、レンズ
6,7を通って拡大される。同時に微小領域bのうねり
角度に応じたエッジ部10aの変位量も拡大される。従
って、位置検出器9によってエッジ部10aを検出する
と、微小なうねりであっても高い分解能で検出すること
が可能となる。この光線はレンズ7の通過後には平行光
とされ、この平行光束をアパーチャ8で整形して位置検
出器9で受光する。位置検出器9においては、整形され
たビーム10のエッジ部10aが検出されるが、上述の
通りビーム10のエッジ部10aは検査対象13の周方
向に向かって延在しているため、主として周方向と垂直
な方向へのエッジ部10aの基準位置からの変位を高い
精度で検出することが可能となる。
【0024】アパーチャ8での光線の整形は、位置検出
器9の形状に応じて行うことが望ましい。位置検出器9
としては、CCD(Charge Coupled Devise)、PD(P
hotoDetector)、PSD(Position Sensitive Detecto
r)等の素子を用いることが可能である。CCDを用い
た場合には、画像処理を行うことにより、部分遮光板3
によって整形したエッジ部10a自体を検出することが
できる。また、PDを用いた場合には、アパーチャ8を
通過した後の明るさ変化を検出してうねり角度を算出し
ても良い。また、PSDを用いた場合、明るさ変化に加
えて光の重心位置を検出してうねり角度を算出してもよ
い。なお、CCDを用いた場合には、アパーチャ8を設
ける必要はなく、光線をCCDへ直接入射させることが
可能である。
【0025】以上説明したように、本発明の第1の実施
形態によれば、レーザ1から照射したビーム10に対し
て直線部3aを有する部分遮光板3を用いて遮光を行っ
て、エッジ部10aを形成するようにしたため、位置検
出器9においてエッジ部10aを検出することによって
反射光の位置を確実に検出することが可能となる。ま
た、レンズ6及びレンズ7を用いて反射したビーム10
を拡大することにより、検査対象13と対物レンズ5と
の間の距離を大きくとらなくてもエッジ部10aの変位
量の検出の分解能を高めることが可能となる。従って、
検査対象13上に形成されたうねりの検出を高精度に行
うことが可能となる。更に、検査対象13上に対物レン
ズ5によって集光したビームを照射するようにしている
ため、検査対象13の微小領域のうねりを検出すること
が可能となる。
【0026】また、対物レンズ5とは別にビーム10を
拡大するためのレンズ6,7を設けたため、検査対象1
3からの反射光は光路長が大きくなるに従って拡大ある
いは拡散していくが、ビーム10の中心部分にあるエッ
ジ部10aは検査対象13のうねりの角度に応じた量で
変位することとなり、この変位量を検出することにより
検査対象上の微小領域の微小角度を簡便に検出できる。
【0027】なお、図1に示した光学系は同軸落射光学
系であるが、ビームを斜めから検査対象に向かって照射
して、反射光を対物レンズを通さずにそのままレンズ6
以降に導いて角度を算出してもよい。
【0028】また、図1に示すような同軸落射の場合で
あっても、別のハーフミラーを対物レンズ5と検査対象
13の間に設けて、検査対象13からの反射光をハーフ
ミラーからレンズ6以降に導いて角度を算出してもよ
い。
【0029】(第2の実施形態)次に、本発明の第2の
実施形態に係る表面検査装置及び表面検査方法について
説明する。図2は、第2の実施形態に係る表面検査装置
の構成を示す模式図である。
【0030】図2に示すように、第2の実施形態に係る
表面検査装置は、平行ビーム10を射出するレーザ1、
射出した平行ビーム10のビーム径を拡大するビームエ
キスパンダ2、拡大したビーム10の一部を遮光してビ
ーム10の形状にエッジ部10b,10cを形成する部
分遮光板14、部分遮光板14により整形したビーム1
0を検査対象13上に結像させ、検査対象13から反射
したビーム10を屈折させて平行光とする対物レンズ
5、反射したビーム10の方向を可変するハーフミラー
4、ビーム10を拡大するレンズ6,7、拡大したビー
ム10のうちうねり検出に必要な領域のみを取り出すア
パーチャ8、取り出されたビーム10に応じて検査対象
13のうねりを検出する位置検出器9を有して構成され
ている。
【0031】第2の実施形態に係る表面検査装置では、
部分遮光板14に2つの直線部14a,14bが形成さ
れている点で第1の実施形態と相違する。その他の構成
部材については、第1の実施形態と同様である。なお、
図2においては、第1の実施形態と同一の機能を有する
構成部材については、同一の符号を記して説明を一部省
略する。
【0032】図2に示すように、部分遮光板14に形成
された直線部14aと直線部14bは互いに直交するよ
うに形成されている。このような形状の部分遮光板14
によってビーム10を遮光することにより、ビーム10
の形状には互いに直交する2箇所のエッジ部10b,1
0cが形成されることになる。ここで、エッジ部10
b,10cの方向は、ビーム10が集光した微小領域b
における検査対象13の周方向及び径方向に対応するよ
うに予め部分遮光板14における直線部14a,14b
の位置を設定しておく。また、直線部10bと直線部1
0cの交点はビーム10の中心近傍に位置するように部
分遮光板14の位置を設定しておく。
【0033】2箇所のエッジ部10b,10cを有する
ビーム10は、対物レンズ5によって検査対象13の微
小領域bに結像した後、反射して対物レンズ5によって
平行光に戻される。微小領域bにおいては、検査対象1
3のうねりの角度に応じた量だけビーム10の位置が変
位して反射する。そして、反射光をレンズ6,7によっ
てビーム10を拡大し、位置検出器9で検出すると、エ
ッジ部10b,10cの両方を検出することができる。
従って、微小領域bにおける検査対象13の周方向と径
方向のうねりを同時に検出することができる。
【0034】以上説明したように、本発明の第2の実施
形態によれば、直線部14a,14bを有する部分遮光
板14によってビーム10を遮光することによりビーム
10の形状にエッジ部10b,10cを形成し、検査対
象13での反射光をレンズ6,7によって拡大して位置
検出器9に入射させることにより、検査対象13表面に
おける2方向のうねりを検出することが可能となる。
【0035】(第3の実施形態)次に、本発明の第3の
実施形態に係る表面検査装置及び表面検査方法について
説明する。図3は、第3の実施形態に係る表面検査装置
の構成を示す模式図である。
【0036】第3の実施形態に係る表面検査装置は、平
行ビーム10を射出するレーザ1、射出した平行ビーム
10のビーム径を拡大するビームエキスパンダ2、拡大
したビーム10の一部を遮光してビーム10の形状にエ
ッジ部10aを形成する部分遮光板3、部分遮光板3に
より整形したビーム10を検査対象13上に結像させ、
検査対象13から反射したビーム10を屈折させて平行
光とする対物レンズ5、反射したビーム10の方向を可
変するハーフミラー4、ビーム10の径を拡大するシリ
ンドリカルレンズ15,16、拡大したビーム10のう
ちうねり検出に必要な領域のみを取り出すアパーチャ
8、取り出されたビーム10に応じて検査対象13のう
ねりを検出する位置検出器9を有して構成されている。
【0037】第3の実施形態に係る表面検査装置は、図
1で説明したレンズ6,7の代わりにシリンドリカルレ
ンズ15,16を用いている点で第1の実施形態と相違
する。その他の構成部材については、第1の実施形態と
同様である。なお、図3においても、第1の実施形態と
同一の機能を有する構成部材については、同一の符号を
記して説明を一部省略する。
【0038】シリンドリカルレンズ15,16は、部分
遮光板3によって形成されたエッジ部10aの延在する
方向に対して垂直方向に光線を拡大するパワーを有する
レンズであり、検査対象13表面のうねりの角度変位方
向に拡大する曲率を持っている。シリンドリカルレンズ
15において屈折された光線は、シリンドリカルレンズ
16によって平行光に戻される。
【0039】シリンドリカルレンズ15,16によって
検査対象13からの反射光を拡大することにより、エッ
ジ部10aの延在する長手方向については反射光は拡大
されず、位置検出器9においては、エッジの長手方向の
反射光密度が第1の実施形態と比較するとより高密度に
保たれることになる。従って、位置検出器9によってエ
ッジを検出する際には、より確実に検出を行うことが可
能となる。また、エッジ部10aの長手方向と垂直な方
向については、シリンドリカルレンズ15の曲率によっ
てビーム10が拡大されるため、第1の実施形態と同様
に位置検出器9における検出の分解能を高めることが可
能となる。
【0040】以上説明したように、本発明の第3の実施
形態によれば、ビーム10のエッジ部10aの長手方向
と垂直な方向についてはシリンドリカルレンズ15,1
6を用いてビーム10を拡大するため、検査対象13か
ら反射したビーム10を分解能を高めて高精度に検出す
ることが可能となる。また、エッジ部10aの延在する
長手方向については、シリンドリカルレンズ15,16
の通過後においても対物レンズ5によって平行光とされ
た際の倍率を維持することができるため、位置検出器9
において反射光密度を高めた状態で検出を行うことが可
能となる。従って、位置検出器9におけるエッジ部10
aの変位量の検出を確実に行うことが可能となる。
【0041】(第4の実施形態)次に、本発明の第4の
実施形態に係る表面検査装置及び表面検査方法について
説明する。図4は、第4の実施形態に係る表面検査装置
の構成を示す模式図である。
【0042】第4の実施形態に係る表面検査装置は、平
行ビーム10を射出するレーザ1、射出した平行ビーム
10のビーム径を拡大するビームエキスパンダ2、拡大
したビーム10の一部を遮光してビーム10の形状にエ
ッジ部10b,10cを形成する部分遮光板14、部分
遮光板14により整形したビーム10を検査対象13上
に結像させ、検査対象13から反射したビーム10を屈
折させて平行光とする対物レンズ5、反射したビーム1
0の方向を可変するハーフミラー4、ビーム10を2方
向に分割するハーフミラー18、分割したビーム10の
一方を拡大するシリンドリカルレンズ20,21、シリ
ンドリカルレンズ21によって平行光とされたビーム1
0のうち、うねり検出に必要な領域のみを取り出すアパ
ーチャ22、ハーフミラー18で分割したビーム10の
もう一方を拡大するシリンドリカルレンズ23,24、
シリンドリカルレンズ24によって平行光とされたビー
ム10のうち、うねり検出に必要な領域のみを取り出す
アパーチャ25、アパーチャ22,25によって整形さ
れたビーム10のエッジを検出する位置検出器9,9’
を有して構成されている。なお、ハーフミラー18で反
射した光線の方向をシリンドリカルレンズ20に向かっ
て反射させるため、レンズ20の手前に反射板19が向
けられている。
【0043】第4の実施形態においては、第2の実施形
態と同様、部分遮光板14には2つの直線部14a,1
4bが形成されている。そして、直線部14a,14b
によって形成されるビーム10の2方向のエッジ部10
b,10cのそれぞれを拡大するために、検査対象13
で反射したビーム10を2方向に分割するハーフミラー
18が設けられ、分割したビーム10のそれぞれを拡大
するシリンドリカルレンズ20,21及びシリンドリカ
ルレンズ23,24を設けている。
【0044】すなわち、部分遮光板14によって検査対
象13の周方向及び直径方向に対応したエッジ部10
b,10cがビーム10に形成されるが、このうち、シ
リンドリカルレンズ20,21は直径方向のエッジ部1
0bをその長手方向に対して垂直となる方向へ拡大する
パワーを有するレンズである。一方、シリンドリカルレ
ンズ23,24は、周方向のエッジ部10cをその長手
方向に対して垂直となる方向に拡大するパワーを有する
レンズである。
【0045】従って、エッジ部10bについてはシリン
ドリカルレンズ20,21によってエッジの長手方向と
垂直な方向に拡大され、アパーチャ22を通過した後、
位置検出器9によって検出される。また、エッジ部10
cについてはシリンドリカルレンズ23,24によって
エッジの延在する長手方向と垂直な方向に拡大され、ア
パーチャ25を通過して位置検出器9’によって検出さ
れる。
【0046】図5は、図4に示した本実施形態の表面検
査装置に対し、検出したエッジ情報を処理する処理装置
及び検査対象13を支持する回転ステージ31を付加し
たものである。図5を参照しながら、本実施形態の表面
検査装置の具体的構成及び表面検査方法について説明す
る。
【0047】不図示のディスク媒体のハンドラから回転
ステージ31上に検査対象13であるディスク媒体が設
置される。設置されたことが制御手段29に出力される
と、制御手段29は光学系を所定位置まで動かして測定
準備を行う。
【0048】その後、検査対象13の表面のうねり計測
を開始する。レーザ1から射出されたビーム10は、ビ
ームエキスパンダ2で適当な大きさのビーム10に拡大
され、部分遮光板14を通過する。部分遮光板14は、
直線部14aと直線部14bの交点がビーム10の中心
を通るように配置されており、検査対象13上の微小領
域bにおいて照射位置の周方向と直径方向のそれぞれに
平行となるエッジ部10b,10cが生じるようにビー
ム10を遮る。
【0049】部分遮光板14で整形されたビーム10
は、ハーフミラー4を通過し、対物レンズ5で集光され
て検査対象13の微小領域bを照射する。照射された光
線は、微小領域bの傾きに応じて反射する。検査対象1
3からの反射光は、対物レンズ5により平行光とされ
る。このとき、部分遮光板14により遮られて形成され
た光束のエッジ部10b,10cは微小領域bにおける
うねりの角度に応じた量だけ移動している。平行光とさ
れたビーム10は、ハーフミラー18で光路を2方向へ
分割される。
【0050】そして、分割された光線の一方はシリンド
リカルレンズ20,21によってエッジ部10bの長手
方向と垂直方向に拡大される。シリンドリカルレンズ2
0は、紙面奥行き方向に曲率を持ったレンズであり、エ
ッジ10bの角度変位だけを拡大してシリンドリカルレ
ンズ21で平行光となる。平行光とされた光線は、アパ
ーチャ22により紙面縦方向のエッジ部10bの成分の
みが取り出されて位置検出器9に入射する。アパーチャ
22は、エッジ部10bの成分のみを取り出すことがで
きるように、ビーム10の中心から所定量シフトした位
置に開口22aが形成されたものである。位置検出器9
では、エッジ部10bを有するビーム10の基準位置か
らの変位量を検出する。
【0051】分割された光線の他方は、シリンドリカル
レンズ23,24によってエッジ部10cの長手方向と
垂直方向へ拡大される。シリンドリカルレンズ23は、
紙面縦方向に曲率を持ったレンズであり、エッジ10c
の角度変位だけを拡大してシリンドリカルレンズ24で
平行光となる。平行光とされた光線は、アパーチャ25
により紙面奥行き方向のエッジ部10cの成分のみが取
り出され、位置検出器9’へ入射する。アパーチャ25
も、エッジ部10cの成分のみを取り出すことができる
ように、ビーム10の中心から所定量シフトした位置に
開口25aが形成されたものである。位置検出器9’で
は、エッジ部10cを有するビーム10の基準位置から
の変位量を検出する。
【0052】なお、アパーチャ22,25の開口22
a,25aは、図4、図5に示すような円形に限定され
るものではなく、例えば矩形形状により構成することも
可能である。開口22a,25aを矩形形状とした場合
には、特に開口22a,25aの周辺部における光量を
増加させることができるというメリットがある。
【0053】検出したビーム10を処理するブロック
は、位置検出器9,9’において検出された信号を増幅
するアンプ26,27、アンプ26,27の出力からう
ねりの角度を算出する角度算出部28、角度算出部28
からの出力が入力され、うねり算出結果を出力手段30
に入力する制御手段29から成る。
【0054】位置検出器9,9’の出力は、アンプ2
6,27で増幅されて角度算出部28に入力される。角
度算出部28では、位置検出器9,9’に入射した光強
度、重心位置の検出結果から検査対象13表面のうねり
の角度を算出する。角度算出部28で算出された出力結
果が制御手段29のメモリに入力されると、例えば制御
手段29は回転ステージ31を次の測定点に移動する。
なお、回転ステージ31と光学系を適宜動かしておいて
測定点の角度変位を予め連続入力しておいて連続処理す
るようにしてもよい。制御手段29は、測定領域あるい
は測定媒体がなくなるまで上述の動作を繰り返す。
【0055】以上説明したように、本発明の第4の実施
形態によれば、ビーム10を整形して検査対象13の周
方向及び直径方向に延在するようにエッジ部10b,1
0cを形成し、検査対象13で反射したビーム10をハ
ーフミラー8によって分割して、分割したビーム10の
それぞれをシリンドリカルレンズ20,21及びシリン
ドリカルレンズ23,24を用いてエッジ部10b,1
0cの延在する長手方向と垂直方向に拡大するようにし
たため、エッジ部10b,10cの変位を分解能を高め
た状態で検出することができる。
【0056】ここで、位置検出器9においては、エッジ
部10bの長手方向と垂直方向にビーム10が拡大され
ているため、エッジ部10bの検出の分解能を高めるこ
とができる。また、シリンドリカルレンズ20,21
は、エッジ部10bの長手方向にはビーム10を拡大し
ないため、反射光密度が低下することが抑制され、高精
度な検出を行うことが可能となる。
【0057】同様に、位置検出器9’においては、エッ
ジ部10cの長手方向と垂直方向にビーム10が拡大さ
れているため、エッジ部10cの検出の分解能を高める
ことが可能となる。また、シリンドリカルレンズ23,
24はエッジ部10cの長手方向にはビーム10を拡大
しないため、反射光密度が低下することが抑止され、高
精度な検出を行うことが可能となる。
【0058】なお、本発明の特徴をまとめると以下に記
載の通りとなる。
【0059】(付記1)検査対象物の表面のうねりを検
査する表面検査装置であって、前記検査対象物に向けて
射出した光線を前記検査対象物の表面の微小領域に対し
て照射する照射手段と、前記検査対象物に向けて射出さ
れた光線を所定形状に整形する整形手段と、前記検査対
象物からの反射光を拡大する拡大手段とを備えたことを
特徴とする表面検査装置。
【0060】(付記2)前記整形手段は、少なくとも1
つの直線部を有する遮光板を備え、前記射出した光線の
略中心を前記直線部が通るように前記遮光板を配置する
ことによって前記光線を所定形状に整形し、前記光線に
前記直線部に対応したエッジ部を形成するようにしたこ
とを特徴とする付記1に記載の表面検査装置。
【0061】(付記3)前記整形手段は、略直交する2
つの直線部を有する遮光板を備え、前記射出した光線の
略中心を前記2つの直線部の交点が通るように前記遮光
板を配置することによって前記光線を所定形状に整形
し、前記光線に前記直線部に対応した2つのエッジ部を
形成するようにしたことを特徴とする付記1に記載の表
面検査装置。
【0062】(付記4)前記拡大手段は、所定方向のみ
に曲率を有するシリンドリカルレンズを備え、前記シリ
ンドリカルレンズによって前記エッジ部の長手方向に対
して垂直となる方向へ前記反射光を拡大するようにした
ことを特徴とする付記2に記載の表面検査装置。
【0063】(付記5)前記拡大手段は、所定方向のみ
に曲率を有するシリンドリカルレンズを2組備え、前記
2組のシリンドリカルレンズの各々を用いて前記2つの
エッジ部の長手方向に対して垂直となる方向へ前記反射
光のそれぞれを拡大するようにしたことを特徴とする付
記3に記載の表面検査装置。
【0064】(付記6)前記拡大手段によって拡大され
た反射光の位置を検出する検出器としてPD若しくはP
SDを備え、前記反射光の強度及び重心位置の少なくと
も一方を検出することにより、前記反射光の位置を検出
するようにしたことを特徴とする付記1に記載の表面検
査装置。
【0065】(付記7)前記拡大手段によって拡大され
た反射光の位置を検出する検出器としてCCDを備え、
前記整形手段により整形された所定形状におけるエッジ
を検出することにより、前記反射光の位置を検出するよ
うにしたことを特徴とする付記1に記載の表面検査装
置。
【0066】(付記8)前記検出器に入射する直前の前
記反射光を前記検出器の形状に合わせたアパーチャに通
過させるようにしたことを特徴とする付記6に記載の表
面検査装置。
【0067】(付記9)前記射出した光線をレンズを用
いて集光ビームとし、当該レンズの焦点距離とレンズに
入射するビーム径の大きさとにより前記微小領域の大き
さを任意に変更できるようにしたことを特徴とする付記
1に記載の表面検査装置。
【0068】(付記10)検査対象物の表面のうねりを
検査する表面検査方法であって、前記検査対象物に向け
て射出した光線を所定形状に整形して前記検査対象物の
表面の微小領域に対して照射し、前記検査対象物からの
反射光を拡大して検出することにより、前記検査対象物
表面のうねりを検出するようにしたことを特徴とする表
面検査方法。
【0069】(付記11)前記所定形状への整形を行う
ことにより、前記光線の略中心を通るエッジ部を前記光
線に形成することを特徴とする付記10に記載の表面検
査方法。
【0070】(付記12)前記所定形状への整形を行う
ことにより、前記光線の略中心を交点として略直交する
2つのエッジ部を前記光線に形成することを特徴とする
付記10に記載の表面検査方法。
【0071】(付記13)前記エッジ部の長手方向に対
して略垂直となる方向のみに前記反射光を拡大すること
を特徴とする付記11に記載の表面検査方法。
【0072】(付記14)前記反射光を2つの方向に分
割し、前記2つのエッジ部の長手方向に対して垂直とな
る方向のみに前記分割した反射光のそれぞれを拡大する
ことを特徴とする付記12に記載の表面検査方法。
【0073】
【発明の効果】本発明は上述したように、検査対象物に
向けて射出した光線を所定形状に整形して前記検査対象
物の表面の微小領域に対して照射し、検査対象物からの
反射光を拡大して検出することにより、検査対象物表面
のうねりを検出するようにしたので、検査対象物表面の
微小領域のうねりを高精度に検出することが可能となる
とともに、測定分解能を高精度に保ってうねりを検出す
ることができる。従って、磁気ディスク等の特に高い平
面性が要求される対象物の表面のうねり検出に関して、
測定分解能の高精度化と測定領域の微小化を両立させる
ことが可能となる。
【0074】また、本発明の他の特徴によれば、射出し
た光線を整形してエッジ部を形成し、シリンドリカルレ
ンズによってエッジ部が延在する方向と垂直となる方向
のみに反射光を拡大するようにしたため、エッジ部が延
在する方向と垂直な方向に対してはエッジ部の変位量を
高分解能で検出することができるとともに、エッジ部が
延在する方向に対しては反射光密度を高く保って信頼性
の高い検出を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る表面検査装置の
構成を示す模式図である。
【図2】本発明の第2の実施形態に係る表面検査装置の
構成を示す模式図である。
【図3】本発明の第3の実施形態に係る表面検査装置の
構成を示す模式図である。
【図4】本発明の第4の実施形態に係る表面検査装置の
構成を示す模式図である。
【図5】本発明の第4の実施形態に係る表面検査装置の
構成を具体的に示す模式図である。
【図6】ハードディスクドライブの構造を示す斜視図で
ある。
【図7】従来のオートコリメータによる傾き角度の測定
方法を示す模式図である。
【図8】従来の光てこによる傾き角度の測定方法を示す
模式図である。
【符号の説明】
1 レーザ 2 ビームエキスパンダ 3,14 部分遮光板 3a,14a,14b 直線部 4,18 ハーフミラー 5 対物レンズ 6,7 レンズ 8,22,25 アパーチャ 9,9’ 位置検出器 10 ビーム 10a,10b,10c エッジ部 11 反射板 12 透過板 13 検査対象 15,16,20,21,23,24 シリンドリカル
レンズ 19 反射板 22a,25a 開口 26,27 アンプ 28 角度算出部 29 制御手段 30 出力手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西山 陽二 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 高橋 文之 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 塚原 博之 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 2F065 AA31 AA49 BB03 CC03 DD03 FF04 FF44 GG04 HH04 HH13 JJ02 JJ03 JJ05 JJ16 JJ25 LL00 LL04 LL09 LL30 UU07 2G051 AA51 AA71 AB20 BA10 CA02 CA03 CB01 DA08 EA16 EB01 EB02 4M106 AA01 BA05 CA47 DB04 DB08 DB12 DB14 DJ06

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検査対象物の表面のうねりを検査する表
    面検査装置であって、 前記検査対象物に向けて射出した光線を前記検査対象物
    の表面の微小領域に対して照射する照射手段と、 前記検査対象物に向けて射出された光線を所定形状に整
    形する整形手段と、 前記検査対象物からの反射光を拡大する拡大手段とを備
    えたことを特徴とする表面検査装置。
  2. 【請求項2】 前記整形手段は、少なくとも1つの直線
    部を有する遮光板を備え、 前記射出した光線の略中心を前記直線部が通るように前
    記遮光板を配置することによって前記光線を所定形状に
    整形し、前記光線に前記直線部に対応したエッジ部を形
    成するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の表
    面検査装置。
  3. 【請求項3】 検査対象物の表面のうねりを検査する表
    面検査方法であって、 前記検査対象物に向けて射出した光線を所定形状に整形
    して前記検査対象物の表面の微小領域に対して照射し、 前記検査対象物からの反射光を拡大して検出することに
    より、前記検査対象物表面のうねりを検出するようにし
    たことを特徴とする表面検査方法。
JP2000126371A 2000-04-26 2000-04-26 表面検査装置及び表面検査方法 Withdrawn JP2001304838A (ja)

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Cited By (6)

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